JP3947232B2 - 凹凸パターンの形成方法および液晶表示装置用カラーフィルター製造におけるその使用 - Google Patents
凹凸パターンの形成方法および液晶表示装置用カラーフィルター製造におけるその使用 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3947232B2 JP3947232B2 JP50544399A JP50544399A JP3947232B2 JP 3947232 B2 JP3947232 B2 JP 3947232B2 JP 50544399 A JP50544399 A JP 50544399A JP 50544399 A JP50544399 A JP 50544399A JP 3947232 B2 JP3947232 B2 JP 3947232B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- resin layer
- layer
- substrate
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133519—Overcoatings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
本発明は凹凸パターンの形成方法に係り、特に凹部の厚みと凸部の厚みの制御が容易な、凹凸パターンの簡便な形成方法に関する。また本発明は、液晶表示装置用カラーフィルターの保護層及び柱状スペーサ部の形成のための上記方法の使用に関する。また、さらに、本発明は、スペーサとなる柱状凸部と保護層の厚みを高精度に制御された液晶表示装置用カラーフィルターに関する。
背景技術
基板上に凹凸パターンを形成したものとして、印刷用の凹版、凸版、レリーフホログラム形成用のホログラム原版、マイクロレンズアレー等、種々のものが使用されている。例えば、基板上にマイクロレンズを備えたマイクロレンズアレーは、近年普及しているバックライト方式のカラー液晶ディスプレイ(LCD)において、照明用光源からの光を効率良く画素部に集光するための手段として使用され、また、CCD等を使用したカラーイメージセンサーにおいて、有効開口率を上げるために各受光セルに対応して受光面に配設され使用されている。さらに、近年、光通信等で使用が増大している光ファイバにおいても、光の結合を行う場合にマイクロレンズが組み合わされて使用されている。
しかしながら、従来の凹凸パターンの形成方法は、ポジ型あるいはネガ型の感光性樹脂を使用し、所望のパターンで露光した後に現像して凹凸パターンを形成したり、あるいは、樹脂層上に所定のパターンでマスクを形成し、このマスクを介して樹脂層をエッチングすることにより凹凸パターンを形成するものであり、工程が煩雑であったり、凹凸パターンを構成する凹部および凸部の寸法精度が低いという問題があった。
近年、フラットディスプレイとして、カラー液晶表示装置が注目されている。カラー液晶表示装置の一例として、ブラックマトリックス、複数の色(通常、赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色)からなる着色層、透明導電層(共通電極)および配向層を備えたカラーフィルターと、薄膜トランジスタ(TFT素子)、画素電極および配向層を備えたTFTアレイ基板とを所定の間隙をもたせて向かい合わせ、この間隙部に液晶材料を注入して液晶層としたものがある。このようなカラー液晶表示装置では、間隙部が液晶層の厚みそのものであり、カラー液晶表示装置に要求される高速応答性、高コントラスト比、広視野角等の良好な表示性能を可能とするためには、液晶層の厚み、すなわち、カラーフィルターとTFTアレイ基板の間隙距離を厳密に一定に保持する必要がある。
近年、カラー液晶表示装置における液晶層の厚みを決定する方法として、カラーフィルターとTFTアレイ基板との間隙に、ガラスやアルミナ、プラスチック等からなるスペーサーと称する粒子あるいは棒状体を多数混合した液晶を注入する方法がある。そして、スペーサーの大きさをもって両基板の間隙部の大きさ、つまり、液晶層の厚みが決定される。
しかし、上述のようなカラーフィルターとTFTアレイ基板との間隙部を形成する方法では、カラー液晶表示装置の動作の上で次のような問題点が生じる。すなわち、基板面上に散在させるスペーサーの密度が適正で、かつ、基板面上にスペーサーが均一に分散されていなければ、カラー液晶表示装置の全面に亘って大きさが均一な間隙部は形成されない。一般に、スペーサーの散在量(密度)を増した場合、間隙部の厚みのばらつき偏差は少なくなるが、散在量(密度)が多くなると表示画素部上に存在するスペーサーの数も増し、表示画素部ではこのスペーサーが液晶材料の異物となる。そして、スペーサーの存在によって、配向膜で規制された液晶分子の配向に乱れが生じたり、スペーサー周辺の液晶だけは電圧のON、OFFによる配向制御が不能になる等の支障がみられ、コントラスト比等の表示性能が低下すとるいう問題があった。
このような問題を解消するために、間隙(液晶層の厚み)を決定するための柱状凸部を備えたカラーフィルターが提案されている(特開平4−318816号等)。しかしながら、このカラーフィルターでは、着色層を形成し、この着色層を覆うように保護層を形成した後に、光感光性樹脂を用いて再度フォトリソグラフィー工程により柱状凸部をブラックマトリックス上の所定箇所に形成するので、工程が煩雑である。
また、例えば、近年注目されているIPS(In-Plane Switching)液晶モードでは、TN液晶モードよりも精密な基板間隙の制御が要求されている。このような要求に応えるために、柱状凸部の高さの精度を±0.3μm以下とするには、感光性樹脂の高い塗布精度が要求され、スループット、歩留等が問題となっている。
発明の開示
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、工程が簡便であるとともに、寸法の制御精度が高い凹凸パターンの形成方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、液晶表示装置用カラーフィルターにおける透明保護層と柱状凸部の形成方法であって、高い寸法制御を可能とする、簡単な方法を提供することを目的とする。
また、さらに、本発明は、スペーサとなる柱状凸部と保護層の厚みを高精度に制御された液晶表示装置用カラーフィルターを提供することを目的とする。
上記目的を達成すべく、本発明は、第一の態様において、
基板上にアリカル不溶性樹脂およびネガ型感光性樹脂を含んで成る感光性樹脂層を形成する第1の工程、
所望の開口パターンを備えたフォトマスクを介して前記感光性樹脂層を露光する第2の工程、
前記感光性樹脂層をアルカリ性現像液で現像し硬化処理を施すことにより、露光領域である前記開口パターンに対応した凸部と、未露光領域に対応した凹部とからなる凹凸パターンを形成する第3の工程、を含んで成る凹凸パターンの形成方法を提供する。
また本発明は、第二の態様において、
基板上に熱硬化性樹脂およびネガ型感光性樹脂を含んで成る感光性樹脂層を形成した後、前記感光性樹脂層を、前記熱硬化性樹脂の少なくとも一部が硬化するように加熱処理する第1の工程、
所望の開口パターンを備えたフォトマスクを介して前記感光性樹脂層を露光する第2の工程、
前記感光性樹脂層を現像し硬化処理を施すことにより、露光領域である前記開口パターンに対応した凸部と、未露光領域に対応した凹部とからなる凹凸パターンを形成する第3の工程、を含んで成る凹凸パターンの形成方法を提供する。
更に本発明は、基板と、該基板上に所定のパターンで形成された複数色からなる着色層と、少なくとも前記着色層を覆うように形成された透明保護層と、前記基板上の複数の所定部位に形成され、前記透明保護層よりも突出した透明な柱状凸部とを備えてなり、前記透明保護層及び前記柱状凸部が上記何れかの方法により形成されたものである、液晶表示装置用カラーフィルターを提供する。
更に本発明は、基板と、該基板上に所定のパターンで形成された複数色からなる着色層と、少なくとも前記着色層を覆うように形成された透明保護層と、前記基板上の複数の所定部位に形成され、前記透明保護層よりも突出した透明な柱状凸部とを備えており、前記透明保護層はアルカリ不溶性樹脂または熱硬化性樹脂を主成分とし、前記柱状凸部は硬化されたネガ型感光性樹脂を主成分とする液晶表示装置用カラーフィルターを提供する。
特定の感光性樹脂組成物を使用する本発明の凹凸パターンの形成方法によれば、一回のフォトリソグラフィー工程で凹凸パターンを形成することができるので工程が簡便なものとなり、さらに、感光性樹脂層のアルカリ不溶性樹脂または熱硬化性樹脂とネガ型感光性樹脂との比率および/または露光量を適宜設定することにより、凹凸パターンを構成する凹部および凸部の厚みと凸部の高さ(凹部の深さ)とを同時に高い精度で制御することができる。従って、この方法を液晶表示装置用カラーフィルターにおける保護層と柱状凸部の形成に応用した場合、柱状凸部の高さと透明保護層の厚みとを同時に制御することができ、液晶層の厚み制御に高い精度を要求されるカラー液晶表示装置、例えば、IPS(In-Plane Switching)液晶モードのカラー液晶表示装置にも対応することができる。
【図面の簡単な説明】
図1は、本発明の凹凸パターンの形成方法の一例を説明するための工程図である。
図2は、本発明の液晶表示装置用カラーフィルターの一例を示す部分平面図である。
図3は、図2のA−A線における縦断面図である。
図4は、本発明の方法により形成された凹凸パターンの凹部の赤外吸収スペクトルを示す図である。
図5は、本発明の方法により形成された凹凸パターンの凸部の赤外吸収スペクトルを示す図である。
図6は、ポジ型感光性樹脂の赤外吸収スペクトルを示す図である。
図7は、ネガ型感光性樹脂の赤外吸収スペクトルを示す図である。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の最良の実施形態について図面を参照して説明する。
図1は本発明の凹凸パターンの形成方法の一実施形態を示す工程図である。
(第1の工程)
第1の態様による本発明の凹凸パターンの形成方法では、まず、基板1上にアルカリ不溶性樹脂およびネガ型感光性樹脂を所定の比率で含有した感光性樹脂層2を形成する(図1(A))。この感光性樹脂層2は、アルカリ不溶性樹脂およびネガ型感光性樹脂を所定の比率で含有した感光性樹脂組成物を、粘度の最適化を行った上で、スピンコータ、ロールコータ等の公知の手段により基板1上に塗布、乾燥して形成することができる。使用するアルカリ不溶性樹脂およびネガ型感光性樹脂は、凹凸パターンに要求される特性、例えば、光透過率、耐熱性、耐薬品性、機械的強度等を考慮して、公知のアルカリ不溶性樹脂およびネガ型感光性樹脂から選定することができる。使用できるアルカリ不溶性樹脂およびネガ型感光性樹脂の具体例として以下のものを挙げることができる。
アルカリ不溶性樹脂
本発明で使用されるアルカリ不溶性樹脂は、下記のようなポジ型感光性樹脂と非感光性樹脂に大別される。
(ポジ型感光性樹脂)
基本的には極性変化型の透明ポジ型感光性樹脂を使用することができ、下記に例示するような樹脂と光酸発生剤とを含有するポジ型感光性樹脂が使用可能である。
樹脂
・水酸基を保護基で保護したポリビニルフェノール
(式中、R1はt−ブトシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、テトラヒドロピラニル基、トリメチルシリル基またはt−ブトキシカルボニルメチル基を示す。)
・スチレン−マレイミド共重合体
(式中、R2は水素原子またはo−テトラヒドロピラニル基、R3はt−ブトキシカルボニル基、フェノール−o−t−ブトキシカルボニル基またはメチレンオキシアセチル基を示す。)
光酸発生剤
光酸発生剤は上記の樹脂から保護基を脱離させてアルカリ現像液に対して可溶とするための触媒であり、露光により酸を発生し得るものであれば特に限定されず、下記の▲1▼オニウム塩、▲2▼ハロゲン含有化合物、▲3▼スルホン化合物、▲4▼ニトロベンジル化合物、▲5▼スルホン酸化合物等が用いられる。
▲1▼オニウム塩
(式中、R4〜R6は互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、置換もしくは非置換のアルカル基またはアルコキシル基、XはSbF6、AsF6、PF6、BF4、CF3CO2、ClO4、CF3SO3、
(ただし、R7は水素原子、アミノ基、アニリノ基、置換もしくは非置換のアルキル基またはアルコキシル基、R8、R9は互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれ置換または非置換のアルコキシル基、R10は水素原子、アミノ基、アニリノ基、置換もしくは非置換のアルキル基またはアルコキシル基)を示す。)
(式中、YはSbF6、AsF6、PF6またはBF4を示す。)
▲2▼ハロゲン含有化合物
ハロゲン含有化合物として、ハロアルキル基含有炭化水素系化合物、ハロアルキル基含有ヘテロ環状化合物等を挙げることができ、好ましくは下記の化合物を挙げることができる。
(式中、R4、R5、Xは上記と同様。)
(式中、R12は水素原子またはメチル基、R13はCnH2n+1(n=8、10、11、12、14、15、16または18)、YはSbF6またはPF6を示す。)
(式中、R4〜R6、Xは上記と同様。)
(式中、R14はトリクロロメチル基、フェニル基、メトキシフェニル基、ナフチル基またはメトキシナフチル基を示す。)
(式中、R15〜R17は互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基または水酸基を示す。)
▲3▼スルホン化合物
スルホン化合物としては、β−ケトスルホン、β−スルホニルスルホン等を挙げることができ、好ましくは下記の化合物を挙げることができる。
(式中、R18〜R21は互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれ置換もしくは非置換のアルキル基またはハロゲン原子、Yは−CO−、または−SO2−を示し、uは0〜3の整数である。)
▲4▼ニトロベンジル化合物
ニトロベンジル化合物としては、ニトロベンジルスルホネート化合物、ジニトロベンジルスルホネート化合物等を挙げることができ、好ましくは下記の化合物を挙げることができる。
(式中、R22は置換または非置換のアルキル基、R23は水素原子またはメチル基、R24は
(ただし、R25は水素原子またはメチル基、R26、R27は互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれ置換または非置換のアルコキシル基)、
vは1〜3の整数を示す。)
▲5▼スルホン酸化合物
スルホン酸化合物としては、アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホナート等を挙げることができ、好ましくは下記の化合物を挙げることができる。
(式中、R28、R29は互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子または置換もしくは非置換のアルキル基、R30、R31は互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基またはアリール基を示す。)
(式中、R32は水素原子または置換もしくは非置換のアルキル基、R33、R34は互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれ置換もしくは非置換のアルキル基またはアリール基を示し、R33とR34は互いに結合して環構造を形成していてもよい。)
(式中、Zはフッ素原子または塩素原子を示す。)
(非感光性樹脂)
非感光性樹脂としては、以下の樹脂を使用することができる。
エポキシ樹脂とアクリル酸との共重合体のジヒドロキシアクリルエステルあるいはポリヒドロキシアクリルエステル、ビスフェノールA型エポキシ樹脂。
ネガ型感光性樹脂
下記に例示するような樹脂、重合開始剤、モノマーを含有するネガ型感光性樹脂が使用可能である。
樹脂
ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、ビスフェノール−F型エポキシ樹脂、ビスフェノール−S型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸、グリシジルエステル、ポリオールグリシジルエステル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ基と(メタ)アクリル酸を反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂:メタノール、エタノール、プロパノール等の低級アルコール、(ポリ)エチレングリコール、(ポリ)プロピレングリコール、グリセリン、メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の多価アルコールと(メタ)アクリル酸を反応させて得られるエステル化合物;N−メチロールメラミン、N−メチロールベンゾグアナミン、(ポリ)N−メチロール(メタ)アクリルアミド等と(メタ)アクリル酸を反応させて得られるエステル化合物;無水マレイン酸と共重合可能なモノマー類とを重合して得られるポリマーとヒドロキシエチル(メタ)アクリル酸との反応物等の1種または2種以上の組み合わせ
重合開始剤
下記の1種または2種以上の組み合わせ
・イルガキュアー369、イルガキュアー907(チバガイギー社製)
・カヤキュアーDETX(日本化薬(株)製)
・S−123(シンコー技研(株)製)
・2[2′(5″−メチルフリル)エチリデン]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン(三和ケミカル(株)製)
・2(2′フリルエチリデン)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン(三和ケミカル(株)製)
・TAZ−106(みどり化学(株)製)
モノマー
・ジペンタエリスリトールアクリレート
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート
感光性樹脂層2におけるアルカリ不溶性樹脂とネガ型感光性樹脂の比率は、形成する凹凸パターンの凹部の厚み、凸部の厚み、凸部の高さ(凹部の深さ)、後述する第2の工程での露光量を考慮して適宜設定することができる。例えば、ポジ型感光性樹脂とネガ型感光性樹脂の重量比を1:2〜1:10の範囲内で設定することができる。
感光性樹脂層2の厚みは、使用するアルカリ不溶性樹脂およびネガ型感光性樹脂、形成する凹凸パターンの凹部の厚み、凸部の厚み、凸部の高さ(凹部の深さ)等を考慮して適宜設定することができ、通常、1〜10μmの範囲内で設定することができる。
尚、感光性樹脂層2の形成に用いる感光性樹脂組成物には、アルカリ不溶性樹脂およびネガ型感光性樹脂の他に重合開始剤、感光架橋剤を1〜30重量%の範囲で含有させてもよい。
また、使用するポジ型感光性樹脂とネガ型感光性樹脂は、共通の感光波長を有するもの、感光波長が異なるもの、いずれであってもよい。
(第2の工程)
第2の工程では、感光性樹脂層2をパターン形成用のフォトマスク7を介して露光する(図1(B))。このフォトマスク7には、形成しようとする凹凸パターンの凸部に相当する開口部7aが形成されている。
アルカリ不溶性樹脂としてポジ型感光性樹脂を使用する場合、感光性樹脂層2の露光は、ポジ型感光性樹脂およびネガ型感光性樹脂が共通の感光波長を有するもの、両者の感光波長が異なるもの、いずれの場合も、両者の感光波長を含む光、あるいは、ネガ型感光性樹脂の感光波長を含む光による露光が行われる。アルカリ不溶性樹脂として非感光性樹脂を使用する場合には、ネガ型感光性樹脂の感光波長を含む光による露光が行われる。
露光量は、使用したネガ型感光性樹脂の硬化反応を十分に進めるのに必要な露光量、アルカリ不溶性樹脂とネガ型感光性樹脂の比率、形成する凹凸パターンの凹部の厚み、凸部の厚み、凸部の高さ(凹部の深さ)等を考慮して適宜設定することができる。通常、露光量は100〜700mJ〜cm2の範囲で設定するとができる。
これにより、感光性樹脂層2の凸部形成部位2a(フォトマスクを介しての露光部)ではネガ型感光性樹脂の硬化反応が進行するとともに、アルカリ不溶性樹脂としてポジ型感光性樹脂を使用し、この樹脂の感光波長を含む光で露光した場合には、ポジ型感光性樹脂の分解反応も進んだ状態となる。
(第3の工程)
本発明の凹凸パターンの形成方法の第3の工程では、アルカリ現像液により感光性樹脂層2の現像が行われる。アルカリ不溶性樹脂としてポジ型感光性樹脂を使用する場合、第2の工程において、上述のように凸部形成部位2aでネガ型感光性樹脂の硬化反応とポジ型感光性樹脂の分解反応が生じているため、この現像工程によって、凸部形成部位2aではポジ型感光性樹脂が現像液により溶解除去されてネガ型感光性樹脂を主成分(硬化処理を施されたネガ型感光性樹脂が凸部3aの50重量%を超える)とした凸部3aが形成される。アルカリ不溶性樹脂として非感光性樹脂を使用する場合には、第2の工程において、凸部形成部位2aでネガ型感光性樹脂の硬化反応が生じているため、この現像工程によって、凸部形成部位2aでは硬化されたネガ型感光性樹脂とアルカリ現像液に対して不溶性を示す非感光性樹脂を主成分(硬化処理を施されたネガ型感光性樹脂と非感光性樹脂が凸部3aの50重量%を超える)とした凸部3aが形成される。
一方、感光性樹脂層2の凸部形成部位2a以外の領域2bでは、未露光のネガ型感光性樹脂が現像液により溶解除去され、現像液に対して不溶性を示すアルカリ不溶性樹脂を主成分(アルカリ不溶性樹脂が凹部13bの50重量%を超える)とした凹部3bが形成され、その後、ポストベーク処理を行うことにより、凸部3aと凹部3bからなる凹凸パターンが得られる(図1(C))。
このような凹凸パターン3は、上述のように1回のフォトリソグラフィー工程において形成でき、形成された凹凸パターン3の凸部3aは、その表面が平坦で厚みT1が均一であり、また、形成された凹凸パターン3の凹部3bも、その表面が平坦で厚みT2が均一なものである。したがって、凸部3aの高さH(凹部3bの深さ)も均一なものとなる。そして、この凸部3aの厚みT1と凹部3bの厚みT2、および、凸部3aの高さH(凹部3bの深さ)は、感光性樹脂層2のポジ型感光性樹脂とネガ型感光性樹脂の比率および/または露光量を適宜設定することにより、任意に制御することができる。例えば、凸部3aの厚みT1は0.2〜5μmの範囲、凹部3bの厚みT2は0.1〜2μmの範囲、さらに、凸部3aの高さH(凹部3bの深さ)は0.1〜4.5μmの範囲で適宜設定することができる。また、凸部3a、凹部3bの最小幅の設定は8μm程度まで可能である。
次に、第二の態様による本発明の凹凸パターンの形成方法について説明する。第二の態様による本発明の凹凸パターンの形成方法は、1)感光性樹脂組成物として熱硬化性樹脂とネガ型感光性樹脂を含有するものを使用すること、および、2)第一工程における基板上への感光性樹脂層の形成後に熱硬化性樹脂成分の硬化処理を行うことを除けば、上述の第一の態様による凹凸パターンの形成方法と実質的に同一である。即ち、以下に述べる相違点以外は、第一の態様による本発明の凹凸パターンの形成方法に関する上述の記載がそのままあてはまる。
先ず、第1の工程において、基板1上に熱硬化性樹脂およびネガ型感光性樹脂を含有した感光性樹脂組成物を塗布、乾燥して感光性樹脂層2を形成する。熱硬化性樹脂としては、フェノール系樹脂、ノボラック系樹脂、尿素樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂等を用いることができる。ネガ型感光性樹脂としては上記と同様のものが使用される。熱硬化性樹脂とネガ型感光性樹脂の使用量比は、上述の第一の態様による本発明の方法と同様に、例えば1:2〜1:10の範囲内で適宜設定することができる。
基板上に形成された感光性樹脂層を、次に熱硬化性樹脂成分の少なくとも一部が硬化するように加熱処理する。この加熱処理は、基板の裏面(感光性樹脂層非形成面)からの熱板等の加熱手段による加熱により好ましく行われる。
第2の工程においては、上記熱処理後の感光性樹脂層2に対し、第一の態様の方法と同様に、ネガ型感光性樹脂の感光波長を含む光による露光が行われる。
引き続く第3の工程における現像も、既述の第一の態様による方法と同様である。現像液によって現像すると、熱硬化性樹脂成分自体はアルカリに不溶性または難溶性であるが、ネガ型感光性樹脂と混合することによって、未露光で未加熱の感光性樹脂層2はアルカリ現像液に対して溶解性を持つようになるので、基板に近接した部分の加熱によって硬化した樹脂は、現像液に溶解しないが、加熱が充分でなく、しかも未露光の感光性樹脂層部分は溶解除去されて、熱硬化性樹脂を主成分とする凹部3bが形成されるとともに、露光で硬化した部分は、ネガ型感光性樹脂を主成分とする凸部3aとして形成される。
上述の二態様の本発明の方法は、種々の凹凸パターンの形成に適用可能であり、例えば、印刷用の凹版、凸版、レリーフホログラム形成用のホロクラム原版、マイクロレンズアレー、カラーフィルターへの柱状凸部の形成等に好適に適用することができる。
本発明の凹凸パターンの形成方法の好適な適用例の一つである、液晶表示装置用カラーフィルターにおける透明保護層および柱状凸部の形成について次に説明する。
図2は液晶表示装置用カラーフィルターの一例を示す部分平面図であり、図3は図2のA−A線における縦断面図である。図2および図3において、カラーフィルター10は、基板1と、この基板1に形成されたブラックマトリックス4および着色層5を備えている。
基板1としては、石英ガラス、パイレックスガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。この中で特にコーニング社製7059ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルターに適している。
また、ブラックマトリックス4は、着色層5からなる表示画素部の間および着色層5の形成領域の外側に設けられている。このようなブラックマトリックス4は、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚み1000〜2000Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子、金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成したもの等、いずれであっもよい。
また、着色層5は、赤色パターン5R、緑色パターン5Gおよび青色パターン5Bが所望のパターン形状で配列されており、所望の着色材を含有した感光性樹脂を使用した顔料分散法により形成することができ、さらに、印刷法、電着法、転写法等の公知の方法により形成することができる。また、着色層5を、例えば、赤色パターン5Rが最も薄く、緑色パターン5G、青色パターン5Bの順に厚くすることにより、着色層5の各色ごとに最適な液晶層厚みを設定するようにしてもよい。
このような着色層およびブラックマトリックスを有する基板上に、上述の第一または第二の態様による本発明の凹凸パターンの形成方法に従い、凹部に相当する透明保護層3bおよび凸部に相当する柱状凸部3aを形成することができる。
透明保護層3bはカラーフィルター10の表面を平坦化するとともに、着色層5に含有される成分の液晶層への溶出を防止するために設けられるものである。この透明保護層3bの厚みは、使用される材料の光透過率、カラーフィルター10の表面状態等考慮して設定することができ、例えば、0.1〜2.0μmの範囲で設定することができる。このような透明保護層3bは、カラーフィルター10をTFTアレイ基板と貼り合わせたときに液晶層と接するような着色層5を少なくとも覆うように形成される。
透明保護層3bは既述のようにアルカリ不溶性樹脂または硬化後の熱硬化性樹脂を主成分とする(透明保護層3bの50重量%を超える)ものであり、アルカリ不溶性樹脂または熱硬化性樹脂は、透明保護層3bに要求される光透過率等を考慮して選定される。
また、柱状凸部3aは、カラーフィルター10をTFTアレイ基板と貼り合わせたときにスペーサーとして作用するものである。この柱状凸部3aは、上記の透明保護層3bよりも2〜10μm程度の範囲で突出するように一定の高さをもつものであり、突出量はカラー液晶表示装置の液晶層に要求される厚み等から適宜設定することができる。また、柱状凸部3aの形成密度は、液晶層の厚みムラ、開口率、柱状凸部3aの形状、材質等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、着色層5を構成する赤色パターン5R、緑色パターン5Gおよび青色パターン5Bの1組に1個の割合で必要十分なスペーサー機能を発現する。このような柱状凸部3aの形状は、図示例では円柱形状となっているが、これに限定されるものではなく、角柱形状、截頭錐体形状等であってもよい。
上記の柱状凸部3aは既述のように硬化後のネガ型感光性樹脂を主成分とした(柱状凸部3aの50重量%を超える)ものであり、ネガ型感光性樹脂としては、上述のネガ型感光性樹脂のなかから、柱状凸部3aとして要求される機械的強度、光透過率等を考慮して選定することができる。
上記の透明保護層3bと柱状凸部3aを備える本発明のカラーフィルター1に配向層を設けて配向処理(ラビング)した後、TFTアレイ基板と貼り合わせた場合、柱状凸部3aがカラーフィルター10とTFTアレイ基板との間に間隙を形成する。そして、柱状凸部3aは、R、G、Bの3色の着色層を積層して形成された柱状凸部にみられるような、レベリング現象による高さ精度不良、および、各色ごとの位置合わせ不良が生じないので、その高さ精度と位置精度が極めて高いものであり、したがって、両基板の間隙精度は極めて高いものとなる。また、仮に画素部分に柱状凸部の一部が存在したとしても、透明であるために表示品質に悪影響を及ぼすことがほとんどない。一方、透明保護層3bは、微細な凹凸が存在するカラーフィルター10の表面を平坦なものとし、液晶の配向に悪影響を与える表面粗さを低減するとともに、着色層に微量含まれるイオン性不純物等が液晶層へ溶出して表示品質に悪影響を及ぼすことを防止する。
次に、下記の実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
300mm×400mm、厚さ1.1mmのガラス基板(コーニング社製 7059ガラス)を準備し、この基板上に下記組成の3種の感光性樹脂組成物A−1、A−2、A−3を用いてスピンコート法により塗布し、それぞれ厚み5μmの感光性樹脂層を形成した。(以上、第1の工程)
感光性樹脂組成物A−1の組成(ポジ型:ネガ型=1:4)
・ポジ型感光性樹脂 …20重量部
東京応化工業(株)製TDUR−P007(感光波長254nm)
・下記組成のネガ型感光性樹脂(感光波長365nm) …80重量部
樹脂:ビスフェノールAクレゾールノボラックエポキシアクリレート …75重量部
モノマー:ジペンタエリスリトールテトラアクリレート …20重量部
重合開始剤:イルガキュアー369 … 5重量部
(チバガイギー社製)
(上記ネガ型感光性樹脂の固形分=35重量%)
感光性樹脂組成物A−2の組成(ポジ型:ネジ型=1:3)
・ポジ型感光性樹脂 …25重量部
東京応化工業(株)製TDUR−P007(感光波長254nm)
・上記組成のネガ型感光性樹脂(感光波長365nm) …75重量部
感光性樹脂組成物A−3の組成(ポジ型:ネジ型=1:2)
・ポジ型感光性樹脂 …33重量部
東京応化工業(株)製TDUR−P007(感光波長254nm)
・上記組成のネガ型感光性樹脂(感光波長365nm) …67重量部
次いで、超高圧水銀灯を露光光源とするプロキシミティ露光機にて、種々の線幅のストライプ状の開口部を設けたフォトマスクを介して300mJ/cm2の露光量で露光を行った。(以上、第2の工程)
次に、基板を0.05%水酸化カリウム水溶液に40秒間浸漬して現像を行い、洗浄後、クリーンオーブン中でベーキング(200℃、30分間)を行った。(以上、第3の工程)
このような一連の処理により、ストライプ状の凹凸パターンを形成することができ、各凹凸パターンの凸部の厚みT1、凹部の厚みT2、凸部の高さH、および、パターン形成可能な最小線幅は下記の表1に示されるものであった。このことから、感光性樹脂のポジ型感光性樹脂とネガ型感光性樹脂の比率を適宜設定することにより、凹凸パターンの凸部の厚み、凹部の厚み、凸部の高さを同時に制御することが可能であることが確認された。
また、フーリエ変換型顕微赤外測定装置((株)島津製作所製FT−IR−8200PC)にて、感光性樹脂組成物A−1を用いて作成した凹凸パターン(試料1)の凹部の赤外吸収スペクトルおよび凸部の赤外吸収スペクトルを測定し、図4および図5に示した。さらに、感光性樹脂組成物A−1を構成するポジ型感光性樹脂の赤外吸収スペクトルおよびネガ型感光性樹脂の赤外吸収スペクトルを測定し、図6および図7に示した。そして、図6に示されるようなポジ型感光性樹脂に特有の1146(cm-1)の吸収ピークと、図7に示されるようなネガ型感光性樹脂に特有の1191(cm-1)の吸収ピークに着目し、図4(凹部の赤外吸収スペクトル)において両吸収ピークの比率を比較すると、1146(cm-1)の吸収ピークが大きく出ており、一方、図5(凸部の赤外吸収スペクトル)において両吸収ピークの比率を比較すると、1191(cm-1)の吸収ピークが大きく出ていた。このことから、凹部は未反応(未露光)のポジ型感光性樹脂を主成分とし、凸部は硬化処理が施されたネガ型感光性樹脂を主成分としていることが確認された。
実施例2
実施例1の感光性樹脂組成物A−3を使用し、実施例1と同様にして、基板上に厚み4.5μmの感光性樹脂層を形成した。(以上、第1の工程)
次いで、超高圧水銀灯を露光光源とするプロキシミティ露光機にて、実施例1と同様のフォトマスクを介して下記の表2に示される4種の露光量で各感光性樹脂層の露光を行った。(以上、第2の工程)
次に、基板を0.05%水酸化カリウム水溶液に40秒間浸漬して現像を行い、洗浄後、クリーンオーブン中でベーキング(200℃、30分間)を行った。(以上、第3の工程)
このような一連の処理により、ストライプ状の凹凸パターンを形成することができ、各凹凸パターンの凸部の厚みT1、凹部の厚みT2、凸部の高さH、および、パターン形成可能な最小線幅は下記の表2に示されるものであった。このことから、露光量を適宜設定することにより、凹凸パターンの凸部の厚み、凹部の厚み、凸部の高さを同時に制御することが可能であることが確認された。
実施例3
実施例1と同様の基板上に下記組成の3種の感光性樹脂組成物B−1、B−2、B−3を用いてスピンコート法により塗布し、それぞれ厚み5μmの感光性樹脂層を形成した。(以上、第1の工程)
感光性樹脂組成物B−1の組成(ポジ型:ネガ型=1:2)
・下記組成のポジ型感光性樹脂(感光波長365nm) …33重量部
樹脂:t−ブトキシカルボニル基で保護されたポリビニルフェノール …90重量部
光酸発生剤:TFEトリアジン …10重量部
(三和ケミカル(株)製)
(上記ポジ型感光性樹脂の固形分=10重量%)
・下記組成のネガ型感光性樹脂(感光波長365nm) …67重量部
樹脂:ビスフェノールAクレゾールノボラックエポキシアクリレート …75重量部
モノマー:ジペンタエリスリトールテトラアクリレート …20重量部
重合開始剤:イルガキュアー369 … 5重量部
(チバガイギー社製)
(上記ネガ型感光性樹脂の固形分=35重量%)
感光性樹脂組成物B−2の組成(ポジ型:ネガ型=1:2.5)
・上記組成のポジ型感光性樹脂(感光波長365nm) …29重量部
・上記組成のネガ型感光性樹脂(感光波長365nm) …71重量部
感光性樹脂組成物B−3の組成(ポジ型:ネガ型=1:3)
・上記組成のポジ型感光性樹脂(感光波長365nm) …25重量部
・上記組成のネガ型感光性樹脂(感光波長365nm) …75重量部
次いで、ネガ型感光性樹脂の感光波長光を照射する超高圧水銀灯を露光光源としたプロキシミティ露光機にて、上記と同じフォトマスクを介して300mJ/cm2の露光量で露光を行った。(以上、第2の工程)
次に、基板を0.05%水酸化カリウム水溶液に40秒間浸漬して現像を行い、洗浄後、クリーンオーブン中でベーキング(200℃、30分間)を行った。(以上、第3の工程)
このような一連の処理により、ストライプ状の凹凸パターンを形成することができ、各凹凸パターンの凸部の厚みT1、凹部の厚みT2、凸部の高さH、および、パターン形成可能な最小線幅は下記の表3に示されるものであった。このことから、感光性樹脂層のポジ型感光性樹脂とネガ型感光性樹脂の比率を適宜設定することにより、凹凸パターンの凸部の厚み、凹部の厚み、凸部の高さを同時に制御することが可能であることが確認された。
実施例4
実施例3の感光性樹脂組成物B−2を使用し、実施例3と同様にして基板上に厚み4.5μmの感光性樹脂層を形成した。(以上、第1の工程)
次いで、ネガ型感光性樹脂の感光波長光を照射する超高圧水銀灯を露光光源とするプロキシミティ露光機による露光量を下記の表4に示される4種の露光量とした他は、実施例3と同様にして感光性樹脂層の露光を行った。(以上、第2の工程)
次に、基板を0.05%水酸化カリウム水溶液に40秒間浸漬して現像を行い、洗浄後、クリーンオーブン中でポストベーク(200℃、30分間)を行った。(以上、第3の工程)
このような一連の処理により、ストライプ状の凹凸パターンを形成することができ、各凹凸パターンの凸部の厚みT1、凹部の厚みT2、凸部の高さH、および、パターン形成可能な最小線幅は下記の表4に示されるものであった。このことから、露光量を適宜設定することにより、凹凸パターンの凸部の厚み、凹部の厚み、凸部の高さを同時に制御することが可能であることが確認された。
実施例5
レンズ用基板として10cm角の石英ガラス基板(厚み1.1mm、屈折率1.46)を準備し、実施例1の感光性樹脂組成物A−3を使用し、実施例1と同様にして、レンズ用基板上に厚み20μmの感光性樹脂層を形成した。(以上、第1の工程)
次いで、超高圧水銀灯を露光光源とするプロキシミティ露光機にて、100μm×100μmの開口が120μmピッチで形成されているフォトマスクを介して300mJ/cm2の露光量で露光を行った。(以上、第2の工程)
次に、基板を0.05%水酸化カリウム水溶液に40秒間浸漬して現像を行い、洗浄後、クリーンオーブン中でベーキング(200℃、30分間)を行った。(以上、第3の工程)
このような一連の処理により、約110μm角、焦点距離200μmのマイクロレンズが複数配列されたマイクロレンズアレーが得られた。
実施例6
厚さ1.1mmのガラス基板(コーニング社製7059ガラス)を準備し、この基板上に下記組成の3種の感光性樹脂組成物C−1、C−2、C−3を用いてスピンコート法により塗布し、それぞれ厚み5μmの感光性樹脂層を形成した。(以上、第1の工程)
感光性樹脂組成物C−1の組成(アルカリ不溶型:ネガ型=1:5)
・アルカリ不溶性樹脂 …17重量部
ビスフェノールA系樹脂(昭和高分子(株)製VR−60)
・下記組成のネガ型感光性樹脂(感光波長365nm) …83重量部
樹脂:ビスフェノールAクレゾールノボラックエポキシアクリレート …75重量部
モノマー:ジペンタエリスリトールテトラアクリレート …20重量部
重合開始剤:イルガキュアー369 …5重量部
(チバガイギー社製)
(上記ネガ型感光性樹脂の固形分=35重量%)
感光性樹脂組成物C−2の組成(アルカリ不溶型:ネガ型=1:7)
・上記アルカリ不溶性樹脂 …12.5重量部
・上記組成のネガ型感光性樹脂(感光波長365nm) …87.5重量部
感光性樹脂組成物C−3の組成(アルカリ不溶型:ネガ型=1:9)
・上記アルカリ不溶性樹脂 …10重量部
・上記組成のネガ型感光性樹脂(感光波長365nm) …90重量部
次いで、超高圧水銀灯を露光光源としたプロキシミティ露光機にて、種々の線幅のストライプ状の開口部を設けたフォトマスクを介して400mJ/cm2の露光量で露光を行った。(以上、第2の工程)
次に、基板を0.05%水酸化カリウム水溶液に40秒間浸漬して現像を行い、洗浄後、クリーンオーブン中でベーキング(200℃、30分間)を行った。(以上、第3の工程)
このような一連の処理により、ストライプ状の凹凸パターンを形成することができ、各凹凸パターンの凸部の厚みT1、凹部の厚みT2、凸部の高さH、および、パターン形成可能な最小線幅は下記の表5に示されるものであった。このことから、感光性樹脂層のアルカリ不溶性樹脂とネガ型感光性樹脂の比率を適宜設定することにより、凹凸パターンの凸部の厚み、凹部の厚み、凸部の高さを同時に制御することが可能であることが確認された。
実施例7
カラーフィルター用の基板として、実施例1と同じ300mm×400mm、厚さ1.1mmのガラス基板(コーニング社製7059ガラス)を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、基板の片側全面にスパッタリング法により金属クロムからなる遮光層(厚さ0.1μm)を成膜した。次いで、この遮光層に対して、通常のフォトリソグラフィー法によって感光性レジスト塗布、マスク露光、現像、エッンチング、レジスト層剥離を行ってブラックマトリックスを形成した。
次に、ブラックマトリックスが形成された基板全面に、赤色パターン用の感光性着色材料(富士フィルムオーリン(株)製カラーモザイクCR−7001)をスピンコート法により塗布して赤色感光性樹脂層を形成し、プレベーク(85℃、5分間)を行った。その後、所定の着色パターン用フォトマスクを用いて赤色感光性樹脂層をアライメント露光し、現像液(富士フィルムオーリン(株)製カラーモザイク用現像液CDの希釈液)にて現像を行い、次いで、ポストベーク(200℃、30分間)を行って、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に赤色パターン(厚み1.5μm)を形成した。
同様に、緑色パターン用の感光性着色材料(富士フィルムオーリン(株)製カラーモザイクCG−7001)を用いて、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に緑色パターン(厚み1.5μm)を形成した。さらに、青色パターン用の感光性着色材料(富士フィルムオーリン(株)製カラーモザイクCB−7001)を用いて、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に青色パターン(厚み1.5μm)を形成した。
次に、着色層が形成された基板上に実施例1で使用した3種の感光性樹脂組成物A−1、A−2、A−3を用いてスピンコート法により塗布し、それぞれ厚み5μmの感光性樹脂層を形成した。(以上、第1の工程)
形成された感光性樹脂層の各々に対し、実施例1と全く同様にして露光およびプレベーク(第2の工程)、現像およびポストベーク(第3の工程)を行った。
このような一連の処理により、図2および図3に示されるような構造のカラーフィルターを得ることができ、各カラーフィルターの透明保護層の厚み(T2)、透明な柱状凸部の突出高さ(H)、柱状凸部の厚み(T1)は上記の表1に示されるものであった。このことから、感光性樹脂層のポジ型感光性樹脂とネガ型感光性樹脂の比率を適宜設定することにより、柱状凸部の高さと透明保護層の厚みとを同時に制御することが可能であることが確認された。
実施例8
実施例1の感光性樹脂組成物A−3を使用し、実施例7と同様にして、ブラックマトリックスと着色層が形成された基板上に厚み5μmの感光性樹脂層を形成した。(以上、第1の工程)
次いで、実施例2と同様にして、超高圧水銀灯を露光光源とするプロキシミティ露光機にて、柱状凸部の形成位置に所定形状の開口部を設けたフォトマスクを介して上記の表2に示される4種の露光量で各感光性樹脂層の露光を行った。(以上、第2の工程)
次に、基板を0.05%水酸化カリウム水溶液に40秒間浸漬して現像を行い、洗浄後、クリーンオーブン中でベーキンク(200℃、30分間)を行った。(以上、第3の工程)
このような一連の処理により、図2および図3に示されるような構造のカラーフィルターを得ることができ、各カラーフィルターの透明保護層の厚み(T2)、透明な柱状凸部の突出高さ(H)、柱状凸部の厚み(T1)は上記の表2に示されるものであった。このことから、露光量を適宜設定することにより、柱状凸部の高さと透明保護層の厚みとを同時に制御することが可能であることが確認された。
実施例9
まず、実施例7と同様にして、基板上にブラックマトリックスを形成した。次に、実施例1と同様にして、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に赤色パターン、緑色パターンおよび青色パターンを形成した。
次に、着色層が形成された基板上に実施例3で使用した3種の感光性樹脂組成物B−1、B−2、B−3を用いてスピンコート法により塗布し、それぞれ厚み5μmの感光性樹脂層を形成した。(以上、第1の工程)
次いで、実施例3と同様に、超高圧水銀灯を露光光源とするプロキシミティ露光機にて、柱状凸部の形成位置に所定形状の開口部を設けたフォトマスクを介して300mJ/cm2の露光量で露光を行った。(以上、第2の工程)
次に、基板を0.05%水酸化カリウム水溶液に40秒間浸漬して現像を行い、洗浄後、クリーンオーブン中でベーキング(200℃、30分間)を行った。(以上、第3の工程)
このような一連の処理により、図2および図3に示されるような構造のカラーフィルターを得ることができ、各カラーフィルターの透明保護層の厚み(T2)、透明な柱状凸部の高さ(H)、柱状凸部の厚み(T1)は上記の表3に示されるものであった。このことから、感光性樹脂層のポジ型感光性樹脂とネガ型感光性樹脂の比率を適宜設定することにより、柱状凸部の高さと透明保護層の厚みとを同時に制御することが可能であることが確認された。
実施例10
実施例3の感光性樹脂組成物B−2を使用し、実施例7と同様にして、ブラックマトリックスと着色層が形成された基板上に厚み4.5μmの感光性樹脂層を形成した。(以上、第1の工程)
次いで、超高圧水銀灯を露光光源としたプロキシミティ露光機による露光量を上記の表4に示される4種の露光量とした他は、実施例1と同様にして感光性樹脂層の露光を行った。(以上、第2の工程)
次に、基板を0.05%水酸化カリウム水溶液に40秒間浸漬して現像を行い、洗浄後、クリーンオーブン中でベーキンク(200℃、30分間)を行った。(以上、第3の工程)
このような一連の処理により、図2および図3に示されるような構造のカラーフィルターを得ることができ、各カラーフィルターの透明保護層の厚み(T2)、透明な柱状凸部の突出高さ(H)、柱状凸部の厚み(T1)は上記の表4に示されるものであった。このことから、露光量を適宜設定することにより、柱状凸部の高さと透明保護層の厚みとを同時に制御することが可能であることが確認された。
実施例11
短辺300mm、長辺400mm、板厚1.1mmの7059ガラス(コーニング社製)にスパッタリングによって、厚さ0.2μmの酸化クロム/クロムの積層構造膜を形成した。ガラス面側から観察して低反射の光学濃度が4.0のものが得られた。
次いで、フォトレジスト(東京応化製OFPR−800)を0.5μmの厚さに塗布して、プリベークし所定のパターンを形成したマスクを用いて露光し、レジストの現像を行った後に酸化クロム/クロム膜をエッチング、レジストの剥離、線上、乾燥工程を経てブラックマトリックスを形成した。
次に、溶剤とラジカル重合型フォトポリマー(アクリル系)にサブミクロン粒径のアントラキノン系赤色顔料(CI:ピグメントレッド177とピグメントイエロー139の混合物)を分散し、ベンジルメタクリレート−メタクリル酸共重合体、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、および4−[P−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)]−2−6−ジ(トリクロロメチル)−S−トリアジンに溶剤として3−エトキシプロピオン酸エチルエステルを加えて、固形分20%、粘度6.5cP(25℃)に調整した感光性材料の組成物を、最後の熱処理終了後に1.6μmの厚さとなるように塗布した。
次いで、フタロシアニン系緑色顔料(CI:ピグメントグリーン7とピグメントイエロー83の混合物)を、赤色の感光性材料に用いたものと同様の組成物に分散した感光性材料を最後の熱処理終了後に1.8μmの厚さとなるように塗布した。
次いで、フタロシアニン系青色顔料(CI:ピグメントブルー15:3とピグメントバイオレット23の混合物)を、赤色の感光性材料に用いたものと同様の組成物に分散した感光性材料を最後の熱処理終了後に1.8μmの厚さとなるように塗布した。
次いで、透明保護層と柱状凸部を形成するために、
ネガ型感光性樹脂組成物として、
ビスフェノールAクレゾールノボラックエポキシアクリレート 75重量部
ジペンタエリスリトールテトラアクリレート 20重量部
重合開始剤(ヂバガイギー製イルガキュア369) 5重量部
に、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて固形分散濃度を20重量%に調整し、また、熱硬化性樹脂として、エポキシ基を側鎖に有するアクリレート系樹脂(日本合成ゴム製オプトマーSS6699G)を用いて、これらのネガ型感光性樹脂と熱硬化性樹脂を5:1の重量比で混合した混合樹脂組成物を、6.5μmの厚さに塗布し、基板面を熱板上に載置して150℃において、180秒間プリベークした後に、ブラックマトリックス部に柱状体を形成するためのパターンを有するフォトマスクを用いて紫外線で露光した。
次いで、濃度が0.05重量%の水酸化カリウム水溶液によって現像した後に、200℃において30分間ポストベークすることによって、高さ3.8μmの柱状体と、厚さ1.7μmの保護膜を一体に形成した。
Claims (8)
- 基板上にアルカリ不溶性樹脂およびネガ型感光性樹脂組成物を含んで成る感光性樹脂層を形成する第1の工程、
所望の開口パターンを備えたフォトマスクを介して前記感光性樹脂層を露光する第2の工程、
前記感光性樹脂層をアルカリ性現像液で現像し硬化処理を施すことにより、露光領域である前記開口パターンに対応し前記感光性樹脂層中の少なくともネガ型感光性樹脂成分が残存した凸部と、未露光領域に対応し前記感光性樹脂層中の少なくともアルカリ不溶性樹脂成分が残存した凹部とからなる凹凸パターンを形成する第3の工程、を含んで成る凹凸パターンの形成方法。 - 第1の工程において形成される感光性樹脂層におけるアルカリ不溶性樹脂とネガ型感光性樹脂組成物の重量比が1:2〜1:10の範囲である、請求項1に記載の方法。
- 基板上にポジ型感光性樹脂組成物およびネガ型感光性樹脂組成物を含んで成る感光性樹脂層を形成する第1の工程、
所望の開口パターンを備えたフォトマスクを介して前記感光性樹脂層を露光する第2の工程、
前記感光性樹脂層をアルカリ性現像液で現像し硬化処理を施すことにより、露光領域である前記開口パターンに対応し前記感光性樹脂層中の少なくともネガ型感光性樹脂成分が残存した凸部と、未露光領域に対応し前記感光性樹脂層中の少なくともポジ型感光性樹脂成分が残存した凹部とからなる凹凸パターンを形成する第3の工程、を含んで成る凹凸パターンの形成方法。 - 前記ポジ型感光性樹脂組成物および前記ネガ型感光性樹脂組成物は異なる感光波長をもち、第2の工程において、前記ネガ型感光性樹脂の感光波長を含む光による露光を行う、請求項3に記載の方法。
- 基板上に熱硬化性樹脂およびネガ型感光性樹脂組成物を含んで成る感光性樹脂層を形成した後、前記感光性樹脂層を、前記熱硬化性樹脂の少なくとも一部が硬化するように加熱処理する第1の工程、
所望の開口パターンを備えたフォトマスクを介して前記感光性樹脂層を露光する第2の工程、
前記感光性樹脂層を現像し硬化処理を施すことにより、露光領域である前記開口パターンに対応し前記感光性樹脂層中の少なくともネガ型感光性樹脂成分が残存した凸部と、未露光領域に対応し前記感光性樹脂層中の少なくとも熱硬化性樹脂成分が残存した凹部とからなる凹凸パターンを形成する第3の工程、を含んで成る凹凸パターンの形成方法。 - 第1の工程において形成される感光性樹脂層における熱硬化性樹脂とネガ型感光性樹脂組成物の重量比が1:2〜1:10の範囲である、請求項5に記載の方法。
- 基板が、所定のパターンで形成された複数色の着色層を有する、液晶表示装置用カラーフィルター基板である、請求項1〜6いずれか1項に記載の方法。
- 基板と、該基板上に所定のパターンで形成された複数色からなる着色層と、少なくとも前記着色層を覆うように形成された透明保護層と、前記基板上の複数の所定部位に形成され、前記透明保護層よりも突出した透明な柱状凸部とを備えてなり、前記透明保護層及び前記柱状凸部が請求項1〜6の何れかに記載の方法により形成されたものである、液晶表示装置用カラーフィルター。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18586597 | 1997-06-26 | ||
JP18586697 | 1997-06-26 | ||
JP32293997 | 1997-11-25 | ||
PCT/JP1998/002887 WO1999000705A1 (fr) | 1997-06-26 | 1998-06-26 | Procedes de formation de motifs creux et en relief et utilisation de ces motifs dans la fabrication de filtres de couleur d'ecrans a cristaux liquides |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006161398A Division JP4200168B2 (ja) | 1997-06-26 | 2006-06-09 | 液晶表示装置用カラーフィルター |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP3947232B2 true JP3947232B2 (ja) | 2007-07-18 |
Family
ID=27325639
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50544399A Expired - Fee Related JP3947232B2 (ja) | 1997-06-26 | 1998-06-26 | 凹凸パターンの形成方法および液晶表示装置用カラーフィルター製造におけるその使用 |
JP2006161398A Expired - Fee Related JP4200168B2 (ja) | 1997-06-26 | 2006-06-09 | 液晶表示装置用カラーフィルター |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006161398A Expired - Fee Related JP4200168B2 (ja) | 1997-06-26 | 2006-06-09 | 液晶表示装置用カラーフィルター |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6187485B1 (ja) |
EP (1) | EP0921440B1 (ja) |
JP (2) | JP3947232B2 (ja) |
KR (1) | KR100578605B1 (ja) |
DE (1) | DE69833550T2 (ja) |
TW (1) | TW581911B (ja) |
WO (1) | WO1999000705A1 (ja) |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4810713B2 (ja) * | 1999-06-07 | 2011-11-09 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
JP2001042339A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-02-16 | Minolta Co Ltd | 液晶光変調素子 |
JP3498020B2 (ja) * | 1999-09-29 | 2004-02-16 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | アクティブマトリックス基板及びその製造方法 |
US6738125B2 (en) | 1999-12-27 | 2004-05-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display apparatus and method for manufacturing same |
JP2001222107A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-17 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成用の感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ |
JP2001305557A (ja) * | 2000-04-21 | 2001-10-31 | Nec Corp | 液晶表示装置 |
KR100371175B1 (ko) * | 2000-10-07 | 2003-02-06 | 엘지전자 주식회사 | 액정 디스플레이의 홀로그램 디퓨저 및 그 제조방법 |
JP4153159B2 (ja) * | 2000-12-18 | 2008-09-17 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型感光性熱硬化性樹脂組成物、ネガ型感光性熱硬化性樹脂層転写材料、及びネガ型耐性画像形成方法 |
JP2002350864A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
JP4703045B2 (ja) * | 2001-07-10 | 2011-06-15 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
JP4703048B2 (ja) * | 2001-07-17 | 2011-06-15 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
KR100806182B1 (ko) * | 2001-09-28 | 2008-02-21 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 반사형 액정표시장치용 콜레스테릭 액정 컬러필터 및 그의제조방법 |
JP3929444B2 (ja) * | 2001-11-12 | 2007-06-13 | エルエス ケーブル リミテッド | トリアジン環を主鎖にする感光性高分子液晶配向剤とそれを用いた液晶配向膜、該配向膜を適用した液晶素子及び該配向膜を製造する方法 |
KR100863164B1 (ko) | 2002-05-17 | 2008-10-13 | 옵트렉스 가부시키가이샤 | 광반사성 구조체, 그 제조방법 및 표시장치 |
US7172922B2 (en) * | 2002-08-19 | 2007-02-06 | Tower Semiconductor Ltd. | CMOS image sensor array with black pixel using negative-tone resist support layer |
US6638786B2 (en) * | 2002-10-25 | 2003-10-28 | Hua Wei Semiconductor (Shanghai ) Co., Ltd. | Image sensor having large micro-lenses at the peripheral regions |
JP3990307B2 (ja) * | 2003-03-24 | 2007-10-10 | 株式会社クラレ | 樹脂成形品の製造方法、金属構造体の製造方法、チップ |
JP4608861B2 (ja) * | 2003-09-02 | 2011-01-12 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置および電子機器 |
KR101012778B1 (ko) * | 2003-09-15 | 2011-02-08 | 티피오 홍콩 홀딩 리미티드 | 발산 반사의 방향성을 가진 반사 구조와 이를 구비한 장치 |
KR101121211B1 (ko) * | 2004-02-17 | 2012-03-23 | 치 메이 옵토일렉트로닉스 코포레이션 | Lcd 장치, 컬러 필터 기판, 및 돌출 구조체, 및 이들의제조방법 |
US7012754B2 (en) * | 2004-06-02 | 2006-03-14 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for manufacturing tilted microlenses |
KR101066480B1 (ko) * | 2004-06-22 | 2011-09-21 | 엘지디스플레이 주식회사 | 컬러 필터 기판의 제조 방법 |
JP2006030650A (ja) * | 2004-07-16 | 2006-02-02 | Koninkl Philips Electronics Nv | カラーフィルタ及びその製造方法並びにカラーフィルタを用いた液晶表示装置 |
JP4244933B2 (ja) * | 2005-01-19 | 2009-03-25 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置 |
JP4396614B2 (ja) * | 2005-09-21 | 2010-01-13 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 液晶装置及び電子機器 |
JP5144055B2 (ja) * | 2005-11-15 | 2013-02-13 | 三星電子株式会社 | 表示基板及びこれを有する表示装置 |
KR101299693B1 (ko) * | 2006-06-29 | 2013-08-28 | 가부시키가이샤 아루박 | 액정 표시 장치용 컬러 필터 기판 및 그의 제조 방법 |
JP2008275691A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Sekisui Chem Co Ltd | 液晶配向用突起形成用ネガ型レジスト、液晶配向用突起、カラーフィルター、及び、液晶表示装置 |
JP2009008713A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ |
JP2009031778A (ja) * | 2007-06-27 | 2009-02-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性組成物、方法、硬化物及び液晶表示装置 |
JP4480740B2 (ja) * | 2007-07-03 | 2010-06-16 | シャープ株式会社 | 固体撮像素子およびその製造方法、電子情報機器 |
WO2011105117A1 (ja) | 2010-02-24 | 2011-09-01 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネル |
WO2015033645A1 (ja) * | 2013-09-06 | 2015-03-12 | 株式会社アスカネット | 平行配置された光反射部を備えた光制御パネルの製造方法 |
CN112083594A (zh) * | 2019-06-13 | 2020-12-15 | 夏普株式会社 | 彩色滤光片基板及其制造方法、以及液晶显示装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6145224A (ja) * | 1984-08-10 | 1986-03-05 | Alps Electric Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
US5055439A (en) * | 1989-12-27 | 1991-10-08 | International Business Machines Corporation | Photoacid generating composition and sensitizer therefor |
JPH04170547A (ja) * | 1990-11-01 | 1992-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JPH04180066A (ja) * | 1990-11-15 | 1992-06-26 | Sanyo Chem Ind Ltd | カラーフィルター保護材および保護層の形成法 |
JP3148429B2 (ja) * | 1992-02-04 | 2001-03-19 | 新日本製鐵株式会社 | 光重合性不飽和化合物及びアルカリ現像型感光性樹脂組成物 |
JPH05295080A (ja) * | 1992-04-15 | 1993-11-09 | Nippon Kayaku Co Ltd | 樹脂組成物、透明薄膜の形成法及び透明薄膜 |
TW353858B (en) * | 1994-07-07 | 1999-03-01 | Morton Int Inc | Method of forming a multilayer printed circuit board and product thereof |
JP3427508B2 (ja) * | 1994-08-31 | 2003-07-22 | ジェイエスアール株式会社 | 着色ミクロパターンの形成方法 |
US5631120A (en) * | 1994-09-02 | 1997-05-20 | Motorola, Inc. | Method of forming a pattern with step features in a photopolymer |
JPH0894824A (ja) * | 1994-09-29 | 1996-04-12 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
JP3478353B2 (ja) * | 1994-10-11 | 2003-12-15 | 住友ベークライト株式会社 | 樹脂組成物、永久レジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 |
JP3540436B2 (ja) * | 1995-06-02 | 2004-07-07 | 株式会社東芝 | 感光性組成物 |
-
1998
- 1998-06-26 TW TW087110482A patent/TW581911B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-06-26 DE DE69833550T patent/DE69833550T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-06-26 WO PCT/JP1998/002887 patent/WO1999000705A1/ja active IP Right Grant
- 1998-06-26 US US09/242,956 patent/US6187485B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-06-26 KR KR1019997001495A patent/KR100578605B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-06-26 EP EP98929725A patent/EP0921440B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-06-26 JP JP50544399A patent/JP3947232B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-06-09 JP JP2006161398A patent/JP4200168B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69833550T2 (de) | 2006-08-10 |
EP0921440A1 (en) | 1999-06-09 |
KR100578605B1 (ko) | 2006-05-24 |
DE69833550D1 (de) | 2006-04-27 |
JP2006338032A (ja) | 2006-12-14 |
US6187485B1 (en) | 2001-02-13 |
JP4200168B2 (ja) | 2008-12-24 |
KR20000068331A (ko) | 2000-11-25 |
EP0921440B1 (en) | 2006-02-22 |
EP0921440A4 (en) | 1999-10-06 |
WO1999000705A1 (fr) | 1999-01-07 |
TW581911B (en) | 2004-04-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3947232B2 (ja) | 凹凸パターンの形成方法および液晶表示装置用カラーフィルター製造におけるその使用 | |
KR100298824B1 (ko) | 칼라필터의제조방법,이에의해제조된칼라필터및이칼라필터를이용한액정디스플레이장치 | |
US9046771B2 (en) | Photosensitive composition for display device, black matrix having the composition, and method of forming black matrix using the composition | |
JP5686134B2 (ja) | カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 | |
JP4208356B2 (ja) | スペーサー付カラーフィルタとその製造方法 | |
JP4774567B2 (ja) | パターン形成方法とカラーフィルタの製造方法および液晶表示装置 | |
KR101543802B1 (ko) | 흑색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치 | |
KR101705360B1 (ko) | 흑색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 이를 구비한 액정 표시 장치 | |
JP4473394B2 (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
JP2002341128A (ja) | カラーフィルターおよび液晶表示素子の製造方法 | |
JP2016138992A (ja) | 液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物 | |
JP2008165092A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
JP4369543B2 (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
JPH10282333A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
JPH10221522A (ja) | ブラックマトリックスの形成方法 | |
JP4810713B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
KR20040104799A (ko) | 컬러필터 기판의 제조공정이 개선된 액정표시장치 및 그제조방법 | |
JP2001083525A (ja) | スペーサー付カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 | |
JP2007171330A (ja) | カラーフィルタ用フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタ及びその製造方法及び液晶表示素子 | |
CN114609816B (zh) | 显示面板及其制作方法 | |
JP2001235614A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
JP2007079331A (ja) | 光学部品及びマイクロレンズアレイ基板並びにそれらの製造方法 | |
JPH11160525A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
KR101979012B1 (ko) | 블랙매트릭스 패턴 형성용 감광성 조성물, 블랙 매트릭스의 패턴 형성 방법 | |
JP2001108814A (ja) | スペーサー付カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050530 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060411 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060609 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061205 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070201 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070410 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070413 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110420 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110420 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120420 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130420 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140420 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |