JP2702012B2 - Icチップ用支持体 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は識別カードまたは他の
データ搬送媒体に組込まれるICモジュール用の支持体
に関する。 【0002】 【従来の技術】一般に、ICモジュールが組込まれた識
別カードを形成する場合、ICモジュールおよびその配
線用コンタクトを搭載した支持体がカード本体とは別個
に形成される。この支持体は、低温積層工程において、
複数の層により、例えば円形の箱状に形成される。 【0003】ICモジュール等の電子回路が組込まれた
識別カードまたは他のデータ搬送媒体は、通常の識別カ
ードと比較して、より大きな記憶容量をもち、かつ種々
の情報伝達にも使用できるという点で有利である。広範
囲の用途のために、多数のIC識別カードを製造するこ
とが要求される。従って、このような多数のIC識別カ
ードを製造する方法に使用可能なICモジュール用支持
体を製造することも非常に重要なことである。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】ここで注意すべきこと
は、この支持体の半導体ウェーファおよび配線用リード
が識別カードの製造中および使用時に非常に大きなスト
レスを受けるということである。更に、種々の用途に使
用されるために、機械的強度、耐久性、外部変化に対す
る適応性等の種々の要求がこの種識別カードに対して課
せられることになる。またこれらの要求はカードの構造
自体のみでなく、ICのコンタクト領域に対してもあて
はまることである。 【0005】この種IC識別カードの発展に伴ない、種
々のコンタクト方法、例えば電流的、容量的、光学的コ
ンタクト方法が知られるようになった。このコンタクト
方法の選択は用途やカードの製造技術等により決定され
る。従って、ここで問題となるのは、いかにして、多数
のカードを経済的に製造し、組込まれた半導体ウェーフ
ァを良好に保護し、かつ高度な技術を要することなく種
々の要求を満足するような調整を可能にするかというこ
とである。 【0006】 【課題を解決するための手段と作用】この発明におい
て、上記課題は半導体ウェーファを箔に結合した状態
で、所定の厚さに鋳型することにより解決される。従来
においては、例えばシリコン結晶層上に小さなコンタク
ト領域を形成することにより、半導体ウェーファに対す
るコンタクトを形成する方法が知られている。この場
合、シリコン結晶層のコンタクト領域は細い金線により
コンタクト金属領域の結線用リードに結合される。この
コンタクト金属領域は半導体ウェーファの支持体として
も使用されている。一列の方法において、この半導体ウ
ェーファは可撓性材料により支持される(例えば西独公
告公報第2414297号明細書に記載されている)。
例えば8ミリフィルムのように、等間隔で窓をもつ非導
電性の材料を使用し、この窓を通してコンタクト金属領
域からの導電性端部を延出させる。ウェーファ上のすべ
てのコンタクト領域はコンタクト金属領域に同時に結合
されるので、従来の方法と比較してこの方法は非常に効
果的である。同様の方法で、窓のないフィルム上に半導
体ウェーファを配置することも可能である。 【0007】この発明においては、このような従来の技
術を効果的に利用することにより良好なICモジュール
用支持体を得ている。また本発明においては鋳込技術を
利用しているので、用途に応じて支持体の特性を容易に
変更し得る。 【0008】 【実施例】以下、図面を参照してこの発明の実施例を説
明する。 【0009】 図1(a)および(b)はそれぞれフィ
ルムの窓内に形成された半導体ウェーファの上面図およ
び断面図を示す。図から明らかなように、フィルム3の
窓2内に配置された半導体ウェーファ1は、前工程にお
いて形成されたコンタクトリード4の端部に、適当なオ
ートメーション装置により結合される。フィルム3の搬
送はこのフィルム3に形成された透孔5により精度良く
制御される。 【0010】こうして得られた支持体を図2に示す。半
導体ウェーファが配置されたフィルム3が鋳込器6に向
けて搬送される。2つのモールド部6aおよび6bがフ
ィルム面に対して垂直方向に可動的に設けられている。
この鋳込器6内にはモールド材料が注入路を介して注入
される。通路8は鋳造工程において空気がこの鋳込ユニ
ット内にはいりこむのを阻止するために形成されてい
る。この種の鋳込器は通常良く知られているものであ
る。このモールド材料を適当に選択することにより、完
成した支持体の硬度を広範囲に変更することが可能であ
る。 【0011】図2に示すようにして得られた支持体は、
この鋳込工程後において、単体ユニット10として切出
される。この支持体は間接的コンタクト方法、例えば容
量的および光学的コンタクト方式に適している。 【0012】図3は電流的コンタクト方式に適した支持
体を示す。この支持体を形成するために、コンタクト領
域4a上には鋳込工程の前に例えば導電性の層7が形成
される。この層7をシリコンのような非導電性で、弾性
的な材料で形成してもよい。こうして形成された層7を
もつ支持体は鋳込器に送られて、前述したと同様にして
モールド成型された後に、導体ユニットとして切出され
る。またこの層7はモールド11よりもわずかに高めに
形成される。この支持体が識別カード本体に組込まれた
時に、この層7はカード本体の被膜と同一平面上に位置
することになる。層7が導電性材料により形成されてい
る場合には直接的コンタクト方式が使えるし、またこの
層7がシリコン等の非導電性材料により形成されている
場合には、このシリコン層を介して針がコンタクト領域
4aに突通される。この場合、コンタクト領域の外部環
境から保護され有利である。 【0013】 上述の実施例においては、半導体ウェー
ファは適当な結線リードによりフィルムの窓内に保持さ
れる。しかし、これではコンタクト領域間の間隔を狭く
できない。上述の実施例においては、コンタクト領域間
の最小間隔は窓および半導体ウェーファの寸法により決
定される。このコンタクト領域間の間隔を狭くするため
には、図4に示す実施例が有利である。図4において、
フィルム12の一方の面に配置されたコンタクト領域1
6は、フィルムの他方の面上に取り付けられた半導体ウ
ェーファ1と貫通導電方式により接続されている。 【0014】図5(a)および(b)は上述した方法に
より形成した支持体15の断面図および上面図を示す。
鋳込工程は前述したと同様にして実施される。図5
(b)に示すように、隣接するコンタクト領域間の間隔
を狭くすることができる。 【0015】図6は貫通導通されたフィルムを利用した
支持体を示す。この支持体は非常に頑丈な構造をもつ。
この支持体は導通された透孔をもつフィルム12と、ス
ペーサ用フィルム17と、裏面被膜18とを備えてい
る。この被膜18はモールド材料を通過させるための開
口部19を備えている。またスペーサ用フィルム17は
等間隔で半導体ウェーファ31を受入れるための空間2
0を限定している。 【0016】鋳込器6内において、この空間20にモー
ルド材料が注入される。この鋳込工程において、種々の
膜間にもモールド材料が侵入する。隣接する半導体ウェ
ーファ6において、膜12,17および18が適当な接
着剤25により相互に結合されている。このように、モ
ールド材料の侵入は容易にかつ限定された範囲で実行さ
れることになる。 【0017】複合被膜を鋳込器の側壁に押付けることに
より、モールド材料の侵入を制限することが可能であ
る。この支持体はグラスファイバにより補強されたエポ
キシ樹脂により形成された被膜を使用し、このフィルム
用樹脂と同じモールド材料を使用することにより更に頑
丈に構成される。この場合も、モールド材料は被膜間に
侵入し、支持体の構造を堅固にし、かつコンパクトにす
る。 【0018】図7(a)および(b)は更に別の実施例
を示す。この実施例において、半導体ウェーファ30は
通常のボンディング法によりコンタクト領域と結線され
る。このため、搬送フィルム31は一定間隔でパンチン
グされ、フィンガ部32aをもつリセス32が形成され
る。この後、このフィルム31上に導電膜33が取付け
られる。通常のエッチング技術により、支持体が完成さ
れた時にコンタクト領域として使用される領域34がこ
の導電膜33から形成される。 【0019】こうして得られたフィルムに、自動式ボン
ディングユニットにより半導体ウェーファが結合され
る。各半導体ウェーファがリセス32内に収容され、適
当な接着剤36により導電膜33上に取付けられる。こ
の後、半導体ウェーファ30の結線部が金線37により
コンタクト領域34と結合される。 【0020】図8は図7(a)および(b)に示す実施
例に基いて構成された支持体40を示す。ここではフィ
ンガ延長部32aをもつリセス32には鋳込器において
モールド材料が詰込まれる。この工程において、モール
ド材はエッチング処理により生じたコンタクト領域34
間の空間領域39内にも注入される。空洞部には必らず
しも樹脂を詰込む必要はない。例えば、図8に示すよう
に支持体の片側面を接着性フィルム38により密封され
た場合、空洞部に樹脂を詰込むのは容易なことである。
この接着性フィルムは、この支持体を更に処理する場合
に、はがされるものではあるが、この支持体を長期にわ
たって保存する場合等にはコンタクト領域を保護するた
めにも使用される。 【発明の効果】
データ搬送媒体に組込まれるICモジュール用の支持体
に関する。 【0002】 【従来の技術】一般に、ICモジュールが組込まれた識
別カードを形成する場合、ICモジュールおよびその配
線用コンタクトを搭載した支持体がカード本体とは別個
に形成される。この支持体は、低温積層工程において、
複数の層により、例えば円形の箱状に形成される。 【0003】ICモジュール等の電子回路が組込まれた
識別カードまたは他のデータ搬送媒体は、通常の識別カ
ードと比較して、より大きな記憶容量をもち、かつ種々
の情報伝達にも使用できるという点で有利である。広範
囲の用途のために、多数のIC識別カードを製造するこ
とが要求される。従って、このような多数のIC識別カ
ードを製造する方法に使用可能なICモジュール用支持
体を製造することも非常に重要なことである。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】ここで注意すべきこと
は、この支持体の半導体ウェーファおよび配線用リード
が識別カードの製造中および使用時に非常に大きなスト
レスを受けるということである。更に、種々の用途に使
用されるために、機械的強度、耐久性、外部変化に対す
る適応性等の種々の要求がこの種識別カードに対して課
せられることになる。またこれらの要求はカードの構造
自体のみでなく、ICのコンタクト領域に対してもあて
はまることである。 【0005】この種IC識別カードの発展に伴ない、種
々のコンタクト方法、例えば電流的、容量的、光学的コ
ンタクト方法が知られるようになった。このコンタクト
方法の選択は用途やカードの製造技術等により決定され
る。従って、ここで問題となるのは、いかにして、多数
のカードを経済的に製造し、組込まれた半導体ウェーフ
ァを良好に保護し、かつ高度な技術を要することなく種
々の要求を満足するような調整を可能にするかというこ
とである。 【0006】 【課題を解決するための手段と作用】この発明におい
て、上記課題は半導体ウェーファを箔に結合した状態
で、所定の厚さに鋳型することにより解決される。従来
においては、例えばシリコン結晶層上に小さなコンタク
ト領域を形成することにより、半導体ウェーファに対す
るコンタクトを形成する方法が知られている。この場
合、シリコン結晶層のコンタクト領域は細い金線により
コンタクト金属領域の結線用リードに結合される。この
コンタクト金属領域は半導体ウェーファの支持体として
も使用されている。一列の方法において、この半導体ウ
ェーファは可撓性材料により支持される(例えば西独公
告公報第2414297号明細書に記載されている)。
例えば8ミリフィルムのように、等間隔で窓をもつ非導
電性の材料を使用し、この窓を通してコンタクト金属領
域からの導電性端部を延出させる。ウェーファ上のすべ
てのコンタクト領域はコンタクト金属領域に同時に結合
されるので、従来の方法と比較してこの方法は非常に効
果的である。同様の方法で、窓のないフィルム上に半導
体ウェーファを配置することも可能である。 【0007】この発明においては、このような従来の技
術を効果的に利用することにより良好なICモジュール
用支持体を得ている。また本発明においては鋳込技術を
利用しているので、用途に応じて支持体の特性を容易に
変更し得る。 【0008】 【実施例】以下、図面を参照してこの発明の実施例を説
明する。 【0009】 図1(a)および(b)はそれぞれフィ
ルムの窓内に形成された半導体ウェーファの上面図およ
び断面図を示す。図から明らかなように、フィルム3の
窓2内に配置された半導体ウェーファ1は、前工程にお
いて形成されたコンタクトリード4の端部に、適当なオ
ートメーション装置により結合される。フィルム3の搬
送はこのフィルム3に形成された透孔5により精度良く
制御される。 【0010】こうして得られた支持体を図2に示す。半
導体ウェーファが配置されたフィルム3が鋳込器6に向
けて搬送される。2つのモールド部6aおよび6bがフ
ィルム面に対して垂直方向に可動的に設けられている。
この鋳込器6内にはモールド材料が注入路を介して注入
される。通路8は鋳造工程において空気がこの鋳込ユニ
ット内にはいりこむのを阻止するために形成されてい
る。この種の鋳込器は通常良く知られているものであ
る。このモールド材料を適当に選択することにより、完
成した支持体の硬度を広範囲に変更することが可能であ
る。 【0011】図2に示すようにして得られた支持体は、
この鋳込工程後において、単体ユニット10として切出
される。この支持体は間接的コンタクト方法、例えば容
量的および光学的コンタクト方式に適している。 【0012】図3は電流的コンタクト方式に適した支持
体を示す。この支持体を形成するために、コンタクト領
域4a上には鋳込工程の前に例えば導電性の層7が形成
される。この層7をシリコンのような非導電性で、弾性
的な材料で形成してもよい。こうして形成された層7を
もつ支持体は鋳込器に送られて、前述したと同様にして
モールド成型された後に、導体ユニットとして切出され
る。またこの層7はモールド11よりもわずかに高めに
形成される。この支持体が識別カード本体に組込まれた
時に、この層7はカード本体の被膜と同一平面上に位置
することになる。層7が導電性材料により形成されてい
る場合には直接的コンタクト方式が使えるし、またこの
層7がシリコン等の非導電性材料により形成されている
場合には、このシリコン層を介して針がコンタクト領域
4aに突通される。この場合、コンタクト領域の外部環
境から保護され有利である。 【0013】 上述の実施例においては、半導体ウェー
ファは適当な結線リードによりフィルムの窓内に保持さ
れる。しかし、これではコンタクト領域間の間隔を狭く
できない。上述の実施例においては、コンタクト領域間
の最小間隔は窓および半導体ウェーファの寸法により決
定される。このコンタクト領域間の間隔を狭くするため
には、図4に示す実施例が有利である。図4において、
フィルム12の一方の面に配置されたコンタクト領域1
6は、フィルムの他方の面上に取り付けられた半導体ウ
ェーファ1と貫通導電方式により接続されている。 【0014】図5(a)および(b)は上述した方法に
より形成した支持体15の断面図および上面図を示す。
鋳込工程は前述したと同様にして実施される。図5
(b)に示すように、隣接するコンタクト領域間の間隔
を狭くすることができる。 【0015】図6は貫通導通されたフィルムを利用した
支持体を示す。この支持体は非常に頑丈な構造をもつ。
この支持体は導通された透孔をもつフィルム12と、ス
ペーサ用フィルム17と、裏面被膜18とを備えてい
る。この被膜18はモールド材料を通過させるための開
口部19を備えている。またスペーサ用フィルム17は
等間隔で半導体ウェーファ31を受入れるための空間2
0を限定している。 【0016】鋳込器6内において、この空間20にモー
ルド材料が注入される。この鋳込工程において、種々の
膜間にもモールド材料が侵入する。隣接する半導体ウェ
ーファ6において、膜12,17および18が適当な接
着剤25により相互に結合されている。このように、モ
ールド材料の侵入は容易にかつ限定された範囲で実行さ
れることになる。 【0017】複合被膜を鋳込器の側壁に押付けることに
より、モールド材料の侵入を制限することが可能であ
る。この支持体はグラスファイバにより補強されたエポ
キシ樹脂により形成された被膜を使用し、このフィルム
用樹脂と同じモールド材料を使用することにより更に頑
丈に構成される。この場合も、モールド材料は被膜間に
侵入し、支持体の構造を堅固にし、かつコンパクトにす
る。 【0018】図7(a)および(b)は更に別の実施例
を示す。この実施例において、半導体ウェーファ30は
通常のボンディング法によりコンタクト領域と結線され
る。このため、搬送フィルム31は一定間隔でパンチン
グされ、フィンガ部32aをもつリセス32が形成され
る。この後、このフィルム31上に導電膜33が取付け
られる。通常のエッチング技術により、支持体が完成さ
れた時にコンタクト領域として使用される領域34がこ
の導電膜33から形成される。 【0019】こうして得られたフィルムに、自動式ボン
ディングユニットにより半導体ウェーファが結合され
る。各半導体ウェーファがリセス32内に収容され、適
当な接着剤36により導電膜33上に取付けられる。こ
の後、半導体ウェーファ30の結線部が金線37により
コンタクト領域34と結合される。 【0020】図8は図7(a)および(b)に示す実施
例に基いて構成された支持体40を示す。ここではフィ
ンガ延長部32aをもつリセス32には鋳込器において
モールド材料が詰込まれる。この工程において、モール
ド材はエッチング処理により生じたコンタクト領域34
間の空間領域39内にも注入される。空洞部には必らず
しも樹脂を詰込む必要はない。例えば、図8に示すよう
に支持体の片側面を接着性フィルム38により密封され
た場合、空洞部に樹脂を詰込むのは容易なことである。
この接着性フィルムは、この支持体を更に処理する場合
に、はがされるものではあるが、この支持体を長期にわ
たって保存する場合等にはコンタクト領域を保護するた
めにも使用される。 【発明の効果】
【図面の簡単な説明】
【図1】aおよびbは箔に結合された半導体ウェーファ
の上面および平面図である。 【図2】間接的コンタクト方式に適切な支持体の説明図
である。 【図3】貫通導通されたフィルムに取付けられた半導体
ウェーファの説明図である。 【図4】貫通導通されたフィルムに取付けられた半導体
ウェーファの説明図である。 【図5】aおよびbは貫通導通されたフィルムを使用し
た支持体の断面図および上面図である。 【図6】貫通導通されたフィルムおよび被膜を使用した
支持体の断面図である。 【図7】aおよびbは導電箔にボンディングされた半導
体ウェーファを備えた支持体の上面図および断面図であ
る。 【図8】図7aおよび図7bに示す支持体にモールド材
料を注入して得られた支持体の断面図を示す。 【符号の説明】 1…半導体ウェーファ(チップ)、2…まど、3…フィ
ルム、4…リード、10…モールド部。
の上面および平面図である。 【図2】間接的コンタクト方式に適切な支持体の説明図
である。 【図3】貫通導通されたフィルムに取付けられた半導体
ウェーファの説明図である。 【図4】貫通導通されたフィルムに取付けられた半導体
ウェーファの説明図である。 【図5】aおよびbは貫通導通されたフィルムを使用し
た支持体の断面図および上面図である。 【図6】貫通導通されたフィルムおよび被膜を使用した
支持体の断面図である。 【図7】aおよびbは導電箔にボンディングされた半導
体ウェーファを備えた支持体の上面図および断面図であ
る。 【図8】図7aおよび図7bに示す支持体にモールド材
料を注入して得られた支持体の断面図を示す。 【符号の説明】 1…半導体ウェーファ(チップ)、2…まど、3…フィ
ルム、4…リード、10…モールド部。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 1.識別カードや金融カードなどのデータ搬送媒体にI
Cチップを組み込むためのICチップ用支持体におい
て、 外部との交信に適するように複数個のコンタクト領域が
相互に離隔して配置されている支持フィルムと、 この支持フィルムに載置され、各コンタクト領域に電気
的に接続されているICチップと、 このICチップを完全に覆い、コンタクト領域相互の間
隙を埋める硬化性樹脂体により形成した注型品とを具備
し、 この注型品は支持フィルムに平行で平坦な面を有してい
て、この平坦な面に垂直な方向の厚さが均一であり、コ
ンタクト領域が注型品の必須不可欠な一部として注型品
の中に配置されていてICチップと外部との交信を可能
にしていることを特徴とするICチップ用支持体。 2.コンタクト領域が注型品に埋め込まれていて、非接
触型交信に適していることを特徴とする請求項1に記載
のICチップ用支持体。 3.コンタクト領域が注型品に埋め込まれていて、注型
品に埋め込まれている各コンタクト領域には支持体の一
方の平坦な表面にほぼ面一になるように形成された導電
性の突起部が設けられていて、この突起部がコンタクト
領域に電流電極を当てて行う交信に適していることを特
徴とする請求項1に記載のICチップ用支持体。 4.コンタクト領域が注型品に埋め込まれていて、注型
品に埋め込まれている各コンタクト領域には電流電極を
突き刺してコンタクト領域と交信をするのに適した柔軟
な非導電性材料で形成された突起部が設けられているこ
とを特徴とする請求項1に記載のICチップ用支持体。 5.支持フィルムが支持体の中央に配置されていること
を特徴とする請求項2、3、4のいずれか1項に記載の
ICチップ用支持体。
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