JPH063819B2 - 半導体装置の実装構造および実装方法 - Google Patents
半導体装置の実装構造および実装方法Info
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- JPH063819B2 JPH063819B2 JP1095262A JP9526289A JPH063819B2 JP H063819 B2 JPH063819 B2 JP H063819B2 JP 1095262 A JP1095262 A JP 1095262A JP 9526289 A JP9526289 A JP 9526289A JP H063819 B2 JPH063819 B2 JP H063819B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、フィルムキャリアを用いた半導体装置の実装
構造および実装方法に関するものである。
構造および実装方法に関するものである。
[従来の技術] 半導体装置は、一般にリードフレームに設けたダイパッ
ドに半導体チップを取付け、半導体チップの外部電極と
リードフレームの端子とをそれぞれワイヤで接続し、こ
れをエポキシ樹脂の如き熱硬化性樹脂でパッケージした
のち各端子を切断し、製造している。
ドに半導体チップを取付け、半導体チップの外部電極と
リードフレームの端子とをそれぞれワイヤで接続し、こ
れをエポキシ樹脂の如き熱硬化性樹脂でパッケージした
のち各端子を切断し、製造している。
ところで、最近では電子機器の小形化、薄形化に伴な
い、これに使用する半導体装置も高密度実装するため、
薄くかつ小形の半導体装置の出現が望まれている。この
ような要請に答えるべく、フィルムキャリアのデバイス
ホールに半導体チップを配設し、半導体チップの電極
(パッド)とフィルムキャリアのフィンガーに設けたバ
ンプとを直接接続し、これに液状の樹脂(例えばエポキ
シ樹脂)からなる封止材を印刷あるいはポッティングし
てパッケージした方式の半導体装置が使用されるように
なった。
い、これに使用する半導体装置も高密度実装するため、
薄くかつ小形の半導体装置の出現が望まれている。この
ような要請に答えるべく、フィルムキャリアのデバイス
ホールに半導体チップを配設し、半導体チップの電極
(パッド)とフィルムキャリアのフィンガーに設けたバ
ンプとを直接接続し、これに液状の樹脂(例えばエポキ
シ樹脂)からなる封止材を印刷あるいはポッティングし
てパッケージした方式の半導体装置が使用されるように
なった。
第3図はフィルムキャリアを用いた半導体装置を説明す
るための平面図である。図において、1は長さ方向に等
間隔に、後述の半導体チップ6,6a,6b,…の表面
積より大きい面積のデバイスホール2,2a,2b,…
が設けられた厚さ75〜100μm程度のフィルムキャリア
(以下フィルムという)である。3はフィルム1に設け
られた銅の如き導電率の高い厚さ30〜40μm、幅50〜30
0μm程度の金属箔からなる多数のフィンガーで、その
一部はデバイスホール2内に突出して自由端となってお
り、先端部下面には半導体チップ6〜6bのパッドと接続
する端子(バンプ)4が設けられている。5はフィルム
1を搬送するためのスプロケット穴である。
るための平面図である。図において、1は長さ方向に等
間隔に、後述の半導体チップ6,6a,6b,…の表面
積より大きい面積のデバイスホール2,2a,2b,…
が設けられた厚さ75〜100μm程度のフィルムキャリア
(以下フィルムという)である。3はフィルム1に設け
られた銅の如き導電率の高い厚さ30〜40μm、幅50〜30
0μm程度の金属箔からなる多数のフィンガーで、その
一部はデバイスホール2内に突出して自由端となってお
り、先端部下面には半導体チップ6〜6bのパッドと接続
する端子(バンプ)4が設けられている。5はフィルム
1を搬送するためのスプロケット穴である。
第4図は上記のようなフィルム1に半導体チップを取付
ける装置の一例を示す模式図で、チップ台8上に載置さ
れた半導体チップ6は、位置決めガイド9により所定の
位置に位置決めされる。一方、テープレール10にガイド
され、スプロケットにより紙面の垂直方向に送られたフ
ィルム1は、そのデバイスホール2が半導体チップ6上
に達した位置で停止し、半導体チップ6に設けた多数の
パッド(図示せず)と、各フィンガー3のバンプ4とを
それぞれ整合させる。ついで加熱されたボンディングツ
ール11を下降させて各フィンガー3を加圧し、所定の角
度にフォーミングして各バンプ4をそれぞれパッドに融
着させ、接続する。次に、フィルム1を移動してスキー
ジ印刷、、ポッティング等により半導体チップ6及びフ
ィンガー3の一部をシリカ等のフィラーの入っている粘
度の高い液状の封止用樹脂例えばエポキシ樹脂で封止樹
脂層7を形成して封止したのちフィンガー3を切断し
て、第5図に示すような半導体装置Dを製造する。
ける装置の一例を示す模式図で、チップ台8上に載置さ
れた半導体チップ6は、位置決めガイド9により所定の
位置に位置決めされる。一方、テープレール10にガイド
され、スプロケットにより紙面の垂直方向に送られたフ
ィルム1は、そのデバイスホール2が半導体チップ6上
に達した位置で停止し、半導体チップ6に設けた多数の
パッド(図示せず)と、各フィンガー3のバンプ4とを
それぞれ整合させる。ついで加熱されたボンディングツ
ール11を下降させて各フィンガー3を加圧し、所定の角
度にフォーミングして各バンプ4をそれぞれパッドに融
着させ、接続する。次に、フィルム1を移動してスキー
ジ印刷、、ポッティング等により半導体チップ6及びフ
ィンガー3の一部をシリカ等のフィラーの入っている粘
度の高い液状の封止用樹脂例えばエポキシ樹脂で封止樹
脂層7を形成して封止したのちフィンガー3を切断し
て、第5図に示すような半導体装置Dを製造する。
上記のようにして製造された半導体装置Dは、例えば第
6図に示すように、外部回路基板であるプリント配線基
板20上に、能動面を該プリント配線基板20側に向けて搭
載し、フィンガー3をプリント配線基板20の表面に形成
した導電パターン21にそれぞれはんだ付けしたのち、ス
キージ印刷やポッティング等によりフィンガー3を樹脂
等で封止樹脂部22を形成して封止する。
6図に示すように、外部回路基板であるプリント配線基
板20上に、能動面を該プリント配線基板20側に向けて搭
載し、フィンガー3をプリント配線基板20の表面に形成
した導電パターン21にそれぞれはんだ付けしたのち、ス
キージ印刷やポッティング等によりフィンガー3を樹脂
等で封止樹脂部22を形成して封止する。
[発明が解決しようとする課題] 上記のような従来の半導体装置Dではフィルム1に半導
体チップ6を配設し、該半導体チップ6に設けた電極に
フィルム1のフィンガー3のバンプ4をそれぞれ接続
し、その後、半導体チップ6及びフィンガー3の一部を
シリカ等のフィラーの入っている粘度の高い液状の封止
用樹脂で封止樹脂層7を形成して封止した後、フィンガ
ー3を切断して半導体装置Dを製造している。そして、
その半導体装置Dをプリント配線基板20に実装する場
合、半導体チップ6等の封止を行うための封止用樹脂
は、密着度を良好にし、プリント配線基板20との線膨脹
係数の差を少なくして信頼性を高めるためにシリカ等の
フィラーの入っている粘度の高いものを使用している
が、フィラーで半導体チップ6の能動面を傷付けるおそ
れがあり、また、封止樹脂層7の厚みが200μm以上と
なり、100μm以下にすることは不可能であるために、
半導体装置Dの実装の際にフィンガー3をフォーミング
しなければ実装できず、そのフォーミングを行うことは
フィンガー3の厚みが薄いことからリードフレームに比
べて非常に難しく、フォーミング時にフィンガー3が切
断するとかフォーミング後のフィンガー3の先端の高さ
のバラツキが大きくなり、導電パターン21との接合時に
浮きが生じる等の不具合があるという問題点があった。
体チップ6を配設し、該半導体チップ6に設けた電極に
フィルム1のフィンガー3のバンプ4をそれぞれ接続
し、その後、半導体チップ6及びフィンガー3の一部を
シリカ等のフィラーの入っている粘度の高い液状の封止
用樹脂で封止樹脂層7を形成して封止した後、フィンガ
ー3を切断して半導体装置Dを製造している。そして、
その半導体装置Dをプリント配線基板20に実装する場
合、半導体チップ6等の封止を行うための封止用樹脂
は、密着度を良好にし、プリント配線基板20との線膨脹
係数の差を少なくして信頼性を高めるためにシリカ等の
フィラーの入っている粘度の高いものを使用している
が、フィラーで半導体チップ6の能動面を傷付けるおそ
れがあり、また、封止樹脂層7の厚みが200μm以上と
なり、100μm以下にすることは不可能であるために、
半導体装置Dの実装の際にフィンガー3をフォーミング
しなければ実装できず、そのフォーミングを行うことは
フィンガー3の厚みが薄いことからリードフレームに比
べて非常に難しく、フォーミング時にフィンガー3が切
断するとかフォーミング後のフィンガー3の先端の高さ
のバラツキが大きくなり、導電パターン21との接合時に
浮きが生じる等の不具合があるという問題点があった。
また、樹脂封止層7が厚く、フィンガー3のフォーミン
グが必要なため、半導体装置Dの実装後の総厚が大きい
という問題点もあった。
グが必要なため、半導体装置Dの実装後の総厚が大きい
という問題点もあった。
更に、半導体チップ6の線膨脹係数が大体3.5×10
−6でありプリント配線基板20の線膨脹係数が大体1×
10−4であり、封止用樹脂もフィラーが入っていて線
膨脹係数を下げてはいるが、プリント配線基板20の線膨
脹係数に近く、半導体チップ6とプリント配線基板20等
との線膨脹係数の違いから、特に温度サイクル試験を行
った後に、熱ストレスが生じ、その熱ストレスによって
フィンガー3の導電パターン21との接合部分の外部露出
部分に応力が集中して、フィンガー3にクラックが生じ
たり、切断し、更に実装後も半導体チップ6自体の温度
変化によって、長期的にみて熱ストレスにより、フィン
ガー3にクラック、切断が生じるという問題点があっ
た。
−6でありプリント配線基板20の線膨脹係数が大体1×
10−4であり、封止用樹脂もフィラーが入っていて線
膨脹係数を下げてはいるが、プリント配線基板20の線膨
脹係数に近く、半導体チップ6とプリント配線基板20等
との線膨脹係数の違いから、特に温度サイクル試験を行
った後に、熱ストレスが生じ、その熱ストレスによって
フィンガー3の導電パターン21との接合部分の外部露出
部分に応力が集中して、フィンガー3にクラックが生じ
たり、切断し、更に実装後も半導体チップ6自体の温度
変化によって、長期的にみて熱ストレスにより、フィン
ガー3にクラック、切断が生じるという問題点があっ
た。
この発明は上記の問題点を解決するためになされたもの
で、半導体チップが接続されたフィンガーをフォーミン
グすることなく基板にフェースダウン実装でき、半導体
装置を基板に実装した後も熱ストレスによるフィンガー
にクラック不良が生じないようにした半導体装置の実装
構造および実装方法を得ることを目的としたものであ
る。
で、半導体チップが接続されたフィンガーをフォーミン
グすることなく基板にフェースダウン実装でき、半導体
装置を基板に実装した後も熱ストレスによるフィンガー
にクラック不良が生じないようにした半導体装置の実装
構造および実装方法を得ることを目的としたものであ
る。
[課題を解決するための手段] 本発明に係る半導体装置の実装構造は、フィルムキャリ
アに半導体チップを配設し、該半導体チップに設けた多
数の電極に前記フィルムキャリアのフィンガーをそれぞ
れ接続し、その後フィンガーを切断して形成された半導
体装置と、前記半導体装置の半導体チップの能動面に溶
剤分が30〜80%含まれたモールド樹脂剤で形成されたフ
ィンガー厚み程度の厚みを有する第1封止樹脂層と、導
電パターンが形成された基板と、前記基板上に第1封止
樹脂層が基板と対向するように取り付けられた前記半導
体装置の周囲にフィラーの入っているモールド樹脂剤で
形成された第2封止樹脂層とを有し、基板上の前記半導
体装置がこれら第1及び第2封止樹脂層によって封止さ
れるようにしたものである。
アに半導体チップを配設し、該半導体チップに設けた多
数の電極に前記フィルムキャリアのフィンガーをそれぞ
れ接続し、その後フィンガーを切断して形成された半導
体装置と、前記半導体装置の半導体チップの能動面に溶
剤分が30〜80%含まれたモールド樹脂剤で形成されたフ
ィンガー厚み程度の厚みを有する第1封止樹脂層と、導
電パターンが形成された基板と、前記基板上に第1封止
樹脂層が基板と対向するように取り付けられた前記半導
体装置の周囲にフィラーの入っているモールド樹脂剤で
形成された第2封止樹脂層とを有し、基板上の前記半導
体装置がこれら第1及び第2封止樹脂層によって封止さ
れるようにしたものである。
また、本発明に係る半導体装置の実装方法は、フィルム
キャリアに半導体チップを配設し、該半導体チップに設
けた多数の電極に前記フィルムキャリアのフィンガーを
それぞれ接続し、その後フィンガーを切断して半導体装
置を形成し、半導体装置の半導体チップの能動面に溶剤
分が30〜80%含まれたモールド樹脂剤を塗布し、その後
乾燥させてフィンガー厚み程度の厚みを有する第1封止
樹脂層を形成し、しかる後に導電パターンが形成された
基板上に第1封止樹脂層が基板と対向するように前記半
導体装置を取り付け、基板上に取り付けた半導体装置の
周囲にフィラーの入っているモールド樹脂剤を塗布し、
その後乾燥させて第2封止樹脂層を形成し、基板上の半
導体装置を封止するようにしたものである。
キャリアに半導体チップを配設し、該半導体チップに設
けた多数の電極に前記フィルムキャリアのフィンガーを
それぞれ接続し、その後フィンガーを切断して半導体装
置を形成し、半導体装置の半導体チップの能動面に溶剤
分が30〜80%含まれたモールド樹脂剤を塗布し、その後
乾燥させてフィンガー厚み程度の厚みを有する第1封止
樹脂層を形成し、しかる後に導電パターンが形成された
基板上に第1封止樹脂層が基板と対向するように前記半
導体装置を取り付け、基板上に取り付けた半導体装置の
周囲にフィラーの入っているモールド樹脂剤を塗布し、
その後乾燥させて第2封止樹脂層を形成し、基板上の半
導体装置を封止するようにしたものである。
[作用] 本発明においては、まず、半導体装置の半導体チップの
能動面に溶剤分が30〜80%含まれたモールド樹脂剤を塗
布し、乾燥させて半導体装置のフィンガー厚み程度を有
する厚みを有する第1封止樹脂層を形成し、しかる後に
導電パターンが形成された基板上に第1封止樹脂層が基
板と対向するように前記半導体装置を取り付け、基板上
に取り付けた半導体装置の周囲にフィラーの入っている
モールド樹脂剤を塗布し、乾燥させて第2封止樹脂層を
形成し、基板上の半導体装置を封止する。
能動面に溶剤分が30〜80%含まれたモールド樹脂剤を塗
布し、乾燥させて半導体装置のフィンガー厚み程度を有
する厚みを有する第1封止樹脂層を形成し、しかる後に
導電パターンが形成された基板上に第1封止樹脂層が基
板と対向するように前記半導体装置を取り付け、基板上
に取り付けた半導体装置の周囲にフィラーの入っている
モールド樹脂剤を塗布し、乾燥させて第2封止樹脂層を
形成し、基板上の半導体装置を封止する。
[実施例] 第1図は本発明の一実施例を示す断面図である。図にお
いて、1は厚さ75〜100μm程度のフィルムキャリア
(以下「フィルム」という)、3はフィルム1に設けら
れた銅の如き導電率の高い金属箔からなる多数のフィン
ガー、6は半導体チップである。その半導体チップ6に
設けた多数の電極とフィルムのフィンガー3のバンプ4
がそれぞれ接続され、その後にフィンガー3が切断され
て半導体装置Dが形成されている。20は導電パターン21
が形成された外部回路基板であるプリント配線基板であ
る。30は半導体装置Dの半導体チップ5の能動面に溶剤
分が30〜80%含まれたモールド樹脂剤で形成されたフィ
ンガー厚み程度の厚みを有する第1封止樹脂層、31はプ
リント配線基板20上に取り付けられた半導体装置Dの周
囲にフィラーの入っているモールド樹脂剤で形成された
第2封止樹脂層である。
いて、1は厚さ75〜100μm程度のフィルムキャリア
(以下「フィルム」という)、3はフィルム1に設けら
れた銅の如き導電率の高い金属箔からなる多数のフィン
ガー、6は半導体チップである。その半導体チップ6に
設けた多数の電極とフィルムのフィンガー3のバンプ4
がそれぞれ接続され、その後にフィンガー3が切断され
て半導体装置Dが形成されている。20は導電パターン21
が形成された外部回路基板であるプリント配線基板であ
る。30は半導体装置Dの半導体チップ5の能動面に溶剤
分が30〜80%含まれたモールド樹脂剤で形成されたフィ
ンガー厚み程度の厚みを有する第1封止樹脂層、31はプ
リント配線基板20上に取り付けられた半導体装置Dの周
囲にフィラーの入っているモールド樹脂剤で形成された
第2封止樹脂層である。
次に、本発明の実装方法の一例を説明する。
まず、フィルム1のデバイスホール(図示省略)の直下
に位置するように半導体チップ6を配設し、半導体チッ
プ6の多数の電極であるパッドと、各フィンガー3のバ
ンプ4とをそれぞれ整合させる。ついで、加熱されたボ
ンディングツール(図示省略)により各フィンガー3を
加圧・加熱して各バンプ4をそれぞれパッドに融着させ
て接続し、しかる後に、フィルム1を移動してそれぞれ
フィンガー3を切断して、半導体装置Dを製造する。
に位置するように半導体チップ6を配設し、半導体チッ
プ6の多数の電極であるパッドと、各フィンガー3のバ
ンプ4とをそれぞれ整合させる。ついで、加熱されたボ
ンディングツール(図示省略)により各フィンガー3を
加圧・加熱して各バンプ4をそれぞれパッドに融着させ
て接続し、しかる後に、フィルム1を移動してそれぞれ
フィンガー3を切断して、半導体装置Dを製造する。
次に、半導体装置Dの半導体チップ6の能動面に例えば
溶剤分を約30〜80%含んだエポキシ系樹脂を図示しない
ディスペンサーから塗出させて表面張力で盛り上がる位
に厚さ100μm以上に塗布し、その後乾燥炉によって乾
燥させ、溶剤を飛ばしてモールド厚が30〜80μmの第1
封止樹脂層30を形成する。
溶剤分を約30〜80%含んだエポキシ系樹脂を図示しない
ディスペンサーから塗出させて表面張力で盛り上がる位
に厚さ100μm以上に塗布し、その後乾燥炉によって乾
燥させ、溶剤を飛ばしてモールド厚が30〜80μmの第1
封止樹脂層30を形成する。
しかる後に、導電パターン21が形成されたプリント配線
基板20上に第1封止樹脂層30がプリント配線基板20と対
向するように半導体装置Dを搭載し、フィンガー3を導
電パターン21にそれぞれはんだ付けしてプリント配線基
板20に第1封止樹脂層30を有する半導体装置Dを取り付
ける。
基板20上に第1封止樹脂層30がプリント配線基板20と対
向するように半導体装置Dを搭載し、フィンガー3を導
電パターン21にそれぞれはんだ付けしてプリント配線基
板20に第1封止樹脂層30を有する半導体装置Dを取り付
ける。
最後に、プリント配線基板20上に取り付けた前記半導体
装置Dの周囲にフィラーの入っているモールド樹脂剤、
シリカ等のフィラーを含み、その含有率が20%で粘度が
180ポイズのエポキシ樹脂をディスペンサから塗出させ
て塗布する。このとき、エポキシ樹脂は毛細管現象で半
導体チップ6の能動面まで回り込む。その後乾燥させ
て、気泡のない第2封止樹脂層31を形成し、プリント配
線基板20上の半導体装置Dの封止を完成させる。
装置Dの周囲にフィラーの入っているモールド樹脂剤、
シリカ等のフィラーを含み、その含有率が20%で粘度が
180ポイズのエポキシ樹脂をディスペンサから塗出させ
て塗布する。このとき、エポキシ樹脂は毛細管現象で半
導体チップ6の能動面まで回り込む。その後乾燥させ
て、気泡のない第2封止樹脂層31を形成し、プリント配
線基板20上の半導体装置Dの封止を完成させる。
このように、本発明は、半導体装置Dの半導体装置の半
導体チップ6の能動面に溶剤分が30〜80%含まれたモー
ルド樹脂剤によってディスペンサー方式により第1封止
樹脂層30を形成したので、半導体チップ6の能動面を傷
付けることがなく、第1封止樹脂層30の厚みをフィンガ
ー厚み程度の厚みとすることができ、プリント配線基板
20上に半導体装置Dを第1封止樹脂層30がプリント配線
基板30と対向させて取り付けた場合にフィンガー3をフ
ォーミングすることなく、フェースダウン実装が行え、
フィンガー3の切断、プリント配線基板20に対する浮き
等の問題は生じなくなり、半導体装置Dの実装後の総厚
も薄くなった。
導体チップ6の能動面に溶剤分が30〜80%含まれたモー
ルド樹脂剤によってディスペンサー方式により第1封止
樹脂層30を形成したので、半導体チップ6の能動面を傷
付けることがなく、第1封止樹脂層30の厚みをフィンガ
ー厚み程度の厚みとすることができ、プリント配線基板
20上に半導体装置Dを第1封止樹脂層30がプリント配線
基板30と対向させて取り付けた場合にフィンガー3をフ
ォーミングすることなく、フェースダウン実装が行え、
フィンガー3の切断、プリント配線基板20に対する浮き
等の問題は生じなくなり、半導体装置Dの実装後の総厚
も薄くなった。
また、プリント配線基板20上に第1封止樹脂層30がプリ
ント配線基板20と対向するように取り付けられた半導体
装置Dの周囲にフィラーの入っているモールド樹脂剤の
第2封止樹脂層を形成し、プリント配線基板20上の半導
体装置Dを封止するようにしたので、第2封止樹脂層30
は半導体チップ6及びフィンガー3と密着して確実な封
止状態を維持しながら、導電パターン21の一部と導電パ
ターン21にはんだ付けされたフィンガー3全体を封止す
ることができ、、フィンガー3の導電パターン21との接
合部分の封止が第2封止樹脂層31を形成したときになさ
れ、これらの接合部分が外部に露出することがなくなっ
て、例えば温度サイクル試験等により熱ストレスが生じ
ても応力がフィンガー3全体にかかって分散されるため
に、フィンガー3におけるクラック発生及び切断が大幅
に減少することとなった。
ント配線基板20と対向するように取り付けられた半導体
装置Dの周囲にフィラーの入っているモールド樹脂剤の
第2封止樹脂層を形成し、プリント配線基板20上の半導
体装置Dを封止するようにしたので、第2封止樹脂層30
は半導体チップ6及びフィンガー3と密着して確実な封
止状態を維持しながら、導電パターン21の一部と導電パ
ターン21にはんだ付けされたフィンガー3全体を封止す
ることができ、、フィンガー3の導電パターン21との接
合部分の封止が第2封止樹脂層31を形成したときになさ
れ、これらの接合部分が外部に露出することがなくなっ
て、例えば温度サイクル試験等により熱ストレスが生じ
ても応力がフィンガー3全体にかかって分散されるため
に、フィンガー3におけるクラック発生及び切断が大幅
に減少することとなった。
下記の表は本実施例と従来例の温度サイクル試験の結果
を示すものである。
を示すものである。
この温度サイクル試験は、-20℃を30分の低温,室温20
℃〜30℃を10分の常温、85℃を30分の高温を一サイクル
として、メモリカードのプリント配線基板に8個の半導
体装置Dを実装し、このプリント配線基板20枚に対して
行ったものである。
℃〜30℃を10分の常温、85℃を30分の高温を一サイクル
として、メモリカードのプリント配線基板に8個の半導
体装置Dを実装し、このプリント配線基板20枚に対して
行ったものである。
表中、分母はプリント配線基板の枚数を示し、分子はク
ラック、切断等が発生して不良となったプリント配線基
板の数である。
ラック、切断等が発生して不良となったプリント配線基
板の数である。
この表を見ると、従来例に比べて本実施例ではクラッ
ク、切断等の発生による不良品が600サイクルまで生じ
ておらず、信頼性に優れた半導体装置の実装構造および
実装方法であることがわかる。
ク、切断等の発生による不良品が600サイクルまで生じ
ておらず、信頼性に優れた半導体装置の実装構造および
実装方法であることがわかる。
[発明の効果] この発明は以上説明したとおり、半導体装置の半導体チ
ップの能動面に溶剤分が30〜80%含まれたモールド樹脂
剤を塗布し、乾燥させて半導体装置のフィンガー厚み程
度を有する第1封止樹脂層を形成し、しかる後に導電パ
ターンが形成された基板上に第1封止樹脂層が基板と対
向するように前記半導体装置に取り付け、基板上に取り
付けた半導体装置の周囲にフィラーの入っているモール
ド樹脂剤を塗布し、乾燥させて第2封止樹脂層を形成
し、基板上の半導体装置を封止するようにしたので、半
導体チップの能動面には溶剤分が30〜80%含まれたモー
ルド樹脂剤をディスペンサー方式によって第1封止樹脂
層が形成されることとなり、半導体チップの能動面を傷
付けることなく、しかも第1封止樹脂層の厚みはフィン
ガー厚み程度であるため、半導体装置を第1封止樹脂層
が基板と対向するように取り付けた場合にフィンガーを
フォーミングすることなくフェースダウン実装が行え、
フィンガーの切断、基板に対する浮きが生じないと共に
半導体装置実装後の総厚も薄くなるという効果がある。
ップの能動面に溶剤分が30〜80%含まれたモールド樹脂
剤を塗布し、乾燥させて半導体装置のフィンガー厚み程
度を有する第1封止樹脂層を形成し、しかる後に導電パ
ターンが形成された基板上に第1封止樹脂層が基板と対
向するように前記半導体装置に取り付け、基板上に取り
付けた半導体装置の周囲にフィラーの入っているモール
ド樹脂剤を塗布し、乾燥させて第2封止樹脂層を形成
し、基板上の半導体装置を封止するようにしたので、半
導体チップの能動面には溶剤分が30〜80%含まれたモー
ルド樹脂剤をディスペンサー方式によって第1封止樹脂
層が形成されることとなり、半導体チップの能動面を傷
付けることなく、しかも第1封止樹脂層の厚みはフィン
ガー厚み程度であるため、半導体装置を第1封止樹脂層
が基板と対向するように取り付けた場合にフィンガーを
フォーミングすることなくフェースダウン実装が行え、
フィンガーの切断、基板に対する浮きが生じないと共に
半導体装置実装後の総厚も薄くなるという効果がある。
また、基板上に取り付けられた半導体装置の周囲はフィ
ラーの入っているモールド樹脂剤の第2封止樹脂層によ
って封止されているので、導電パターンの一部と導電パ
ターンにはんだ付けされたフィンガー全体が封止されて
フィンガーと導電パターンの接合部分が外部に露出しな
くなり、例えば温度サイクル試験等による温度変化によ
り熱ストレスが生じても応力がフィンガー全体にかかっ
て分散されるため、フィンガーのクラック,切断等が大
幅に減少するという効果がある。
ラーの入っているモールド樹脂剤の第2封止樹脂層によ
って封止されているので、導電パターンの一部と導電パ
ターンにはんだ付けされたフィンガー全体が封止されて
フィンガーと導電パターンの接合部分が外部に露出しな
くなり、例えば温度サイクル試験等による温度変化によ
り熱ストレスが生じても応力がフィンガー全体にかかっ
て分散されるため、フィンガーのクラック,切断等が大
幅に減少するという効果がある。
第1図は本発明の実施例を示す断面図、第2図(a)乃至
(d)は本発明に係る実装方法を示す断面図、第3図及び
第4図はフィルムキャリアを用いた従来の半導体装置の
製造例をそれぞれ示す説明図、第5図は従来の半導体装
置の断面図、第6図は同半導体装置の基板への実装例を
示す説明図である。 1…フィルム、3…フィンガー、6…半導体チップ、20
…プリント配線基板、21…導電パターン、30…第1封止
樹脂層、31…第2封止樹脂層、D…半導体装置。
(d)は本発明に係る実装方法を示す断面図、第3図及び
第4図はフィルムキャリアを用いた従来の半導体装置の
製造例をそれぞれ示す説明図、第5図は従来の半導体装
置の断面図、第6図は同半導体装置の基板への実装例を
示す説明図である。 1…フィルム、3…フィンガー、6…半導体チップ、20
…プリント配線基板、21…導電パターン、30…第1封止
樹脂層、31…第2封止樹脂層、D…半導体装置。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/31
Claims (2)
- 【請求項1】フィルムキャリアに半導体チップを配設
し、該半導体チップに設けた多数の電極に前記フィルム
キャリアのフィンガーをそれぞれ接続し、その後フィン
ガーを切断して形成された半導体装置と、 前記半導体装置の半導体チップの能動面に溶剤分が30〜
80%含まれたモールド樹脂剤で形成されたフィンガー厚
み程度の厚みを有する第1封止樹脂層と、 導電パターンが形成された基板と、 前記基板上に第1封止樹脂層が基板と対向するように取
り付けられた前記半導体装置の周囲にフィラーの入って
いるモールド樹脂剤で形成された第2封止樹脂層とを有
し、 前記基板上の前記半導体装置がこれら第1及び第2封止
樹脂層によって封止されていることを特徴とする半導体
装置の実装構造。 - 【請求項2】フィルムキャリアに半導体チップを配設
し、該半導体チップに設けた多数の電極に前記フィルム
キャリアのフィンガーをそれぞれ接続し、その後フィン
ガーを切断して半導体装置を形成し、 半導体装置の半導体チップの能動面に溶剤分が30〜80%
含まれたモールド樹脂剤を塗布し、その後乾燥させてフ
ィンガー厚み程度の厚みを有する第1封止樹脂層を形成
し、 しかる後に導電パターンが形成された基板上に第1封止
樹脂層が基板と対向するように前記半導体装置を取り付
け、 基板上に取り付けた半導体装置の周囲にフィラーの入っ
ているモールド樹脂剤を塗布し、その後乾燥させて第2
封止樹脂層を形成し、 基板上の半導体装置を封止してなることを特徴とする半
導体装置の実装方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1095262A JPH063819B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | 半導体装置の実装構造および実装方法 |
US07/508,246 US5107325A (en) | 1989-04-17 | 1990-04-11 | Structure and method of packaging a semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1095262A JPH063819B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | 半導体装置の実装構造および実装方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02273946A JPH02273946A (ja) | 1990-11-08 |
JPH063819B2 true JPH063819B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=14132851
Family Applications (1)
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