JP2017505537A - 磁場に対する向上した応答を促すための改良されたシード層を備える磁気抵抗素子 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の一態様を理解するために有用な例によれば、磁気抵抗素子は、基材および基材の上に配置されたシード層構造を含む。シード層構造は、少なくとも強磁性シード層を含む。磁気抵抗素子はまた、シード層構造の上に配置されたフリー層構造を含む。強磁性シード層は結晶異方性を有し、結晶異方性は、所定の方向に沿った運動の存在下、かつ、同じ所定の方向を有する所定の磁場の存在下で、強磁性シード層の堆積によって誘起され、結晶異方性は、向上した優先磁気方向を有するフリー層構造をもたらす。
上記の磁気抵抗素子のいくつかの実施形態では、シード層構造は、強磁性シード層の上に近接して、または下に近接して配置された非磁性スペーサ層をさらに含む。
上記の磁気抵抗素子のいくつかの実施形態では、強磁性シード層は、NiFe、NiFeCr、CoFe、CoFeBまたはCoFeCrから構成される。
上記の磁気抵抗素子のいくつかの実施形態では、シード層構造は、
強磁性シード層の下に近接して配置された第1の非磁性スペーサ層と、
強磁性シード層の上に近接して配置された第2の非磁性スペーサ層と
をさらに含む。
上記の磁気抵抗素子のいくつかの実施形態では、第1および第2のスペーサ層は、それぞれTaから構成される。
いくつかの実施形態では、上記の磁気抵抗素子は、シード層構造の上およびフリー層構造の下に配置された反強磁性ピニング層(pinning layer)をさらに含む。
上記の磁気抵抗素子のいくつかの実施形態では、反強磁性ピニング層は、PtMn、IrMn、またはFeMnから構成される。
上記の磁気抵抗素子のいくつかの実施形態では、ピン層構造は、
反強磁性ピニング層の上に配置された第1の強磁性ピン層と、
第1のピン強磁性層の上に配置された第3のスペーサ層と、
第3のスペーサ層の上に配置された第2の強磁性ピン層と
を含む。
いくつかの実施形態では、上記の磁気抵抗素子は、ピン層構造とフリー層構造の間に配置された第4のスペーサ層をさらに含む。
上記の磁気抵抗素子のいくつかの実施形態では、フリー層構造は、
第4のスペーサ層の上に配置された第1の強磁性フリー層と、
第1の強磁性フリー層の上に配置された第2の強磁性フリー層とを含む。
上記の磁気抵抗素子のいくつかの実施形態では、フリー層構造は複数の磁区を含み、複数の磁区は、
第1の方向を向いた磁場を有する第1の複数の磁区と、
第1の方向とは異なる1つまたは複数の方向を向いた磁場を有する第2の複数の磁区であって、強磁性シード層が、選択された材料から構成され、選択された材料が、フリー層構造における第2の複数の磁区内の磁区の量の選択された減少をもたらす、第2の複数の磁区と
を含む。
本発明の別の態様を理解するのに有用な別の例によれば、磁気抵抗素子を作製する方法は、シード層構造を半導体基材の上に堆積させるステップを含む。シード層構造を堆積させるステップは、強磁性シード層を基材の上に少なくとも堆積させるステップを含む。方法は、フリー層構造をシード層構造の上に堆積させるステップであって、強磁性シード層を堆積させるステップが、所定の方向に沿った運動の存在下、かつ、同じ所定の方向を有する所定の磁場の存在下で、強磁性シード層を堆積させ、向上した結晶異方性を有する強磁性シード層をもたらし、向上した優先磁気方向を有するフリー層構造をもたらすステップをさらに含む。
上記の方法のいくつかの実施形態では、シード層構造を堆積させるステップは、
強磁性スペーサ層の上に近接、または下に近接して非磁性スペーサ層を堆積させるステップをさらに含む。
上記の方法のいくつかの実施形態では、強磁性シード層は、NiFe、NiFeCr、CoFe、CoFeB、またはCoFeCrから構成される。
上記の方法のいくつかの実施形態では、シード層構造を堆積させるステップは、
強磁性シード層の下に近接して第1の非磁性スペーサ層を堆積させるステップと、
強磁性シード層の上に近接して第2の非磁性スペーサ層を堆積させるステップと
をさらに含む。
上記の方法のいくつかの実施形態では、第1および第2のスペーサ層の一方がRuから構成され、かつ第1および第2のスペーサ層の他方がTaから構成されるか、第1と第2のスペーサ層の両方がRuから構成されるか、または第1および第2のスペーサ層の両方がTaから構成される。
反強磁性ピニング層をシード層構造の上に堆積させるステップと、
強磁性シード層を堆積させるステップにおいて使用される所定の磁場の所定の方向に平行な主方向を有するアニール磁場を使用して、反強磁性ピニング層をアニールするステップと
をさらに含む。
上記の方法のいくつかの実施形態では、所定の磁場は約20〜150エルステッドである。
反強磁性ピニング層とフリー層構造の間にピン層構造を堆積させるステップをさらに含む。
本発明の上記の特徴、さらには本発明自体が、図面についての以下の詳細な説明によってより深く理解され得る。
曲線102は、理想的なGMR素子の伝達関数、すなわち、GMR素子が受ける磁場対抵抗を表したものである。伝達関数102は、上の飽和点102bと下の飽和点102cの間に直線領域102aを有する。領域102d、102eは飽和状態にある。直線領域102aは理想的な直線領域であることを理解されたい。さらに、理想的なGMR素子は、過去の磁気に依存しない所与の磁場についての抵抗と同じ値を示す。すなわち、理想的なGMR素子にはヒステリシスがない。
これまでの従来技術であるGMR素子200の層の厚さの例はナノメートルで示されている。これまでの従来技術であるGMR素子の層の材料の例は原子記号によって示されている。
図3の左側では、各層が機能的名称によって識別されている。右側または(or)図3には、機能層を形成することができる下位層の磁気特性が示されている。
強磁性シード層302bは、所定の磁場の存在下で、所定の温度(温度)および所定の真空度で強磁性シード層302bを堆積させることによって、一貫性、方向性、および明瞭性の向上した結晶軸を有することができ、この磁場は、基材の表面と平行でもある反強磁性ピニング層304の磁化に垂直な主方向をもつGMR素子に対する静的方向を有する。たとえば、強磁性シード層302bは、加熱なしで(たとえば、室温で)、約1×10−8ミリバールの基礎真空状態において、約20〜150エルステッドの磁場の存在下で堆積させられ得る。しかしながら、他の温度、真空、および磁場が可能なこともある。
矩形のGMR素子を作製するとき、シード層の堆積中に印加される磁場の方向は長方形の長軸に沿い、シード層構造302の(または強磁性シード層302bのみの)堆積中にウェーハ(または堆積機器)が移動する直線方向でもあり得る。図3の断面図およびそこに示した矢印に関して、そのような長方形の長軸はページから外に出ることになろう。
一部の層の中には、GMR素子300が外部磁場の影響を受けていないときに層の磁場を示すまたは指示する矢印が示されている。ページから出る矢印は円の中に黒丸として示され、ページに入ってくる矢印は円の中に十字として示される。
したがって、いくつかの実施形態では、非磁性シード層302aはRuまたはTaから構成され、強磁性シード層302bはNiFe(あるいは、NiFeCr、CoFe、CoFeB、またはCoFeCr合金)から構成され、第1の非磁性スペーサ層302cはRuまたはTaから構成され、反強磁性層ピニング304はPtMnから構成され、第1のピン強磁性層306aはCoFeから構成され、第2の非磁性スペーサ層306bはRuから構成され、第2のピン強磁性層306cはCoFeから構成され、第3の非磁性スペーサ層308はCu(あるいは、Au、またはAg)から構成され、第1の強磁性フリー層310aはCoFeから構成され、第2の強磁性フリー層310bはNiFeから構成され、キャップ層312はTaから構成される。ただし、他の材料も可能である。
NiFeから構成される強磁性シード層302bは、GMR素子300に、特定の構造上の、したがって作用上の特性を与える。具体的には、上記の堆積技術によって、NiFe(あるいは、NiFeCr、CoFe、CoFeB、またはCoFeCr合金)は、これまでの非磁性シード層、たとえば、図2のこれまでのRuまたはTaシード層202の結晶化に比べて、高い程度の一貫性、方向性、および明瞭性をもつ結晶軸を有することが理解されよう。強磁性シード層302bの高結晶化は、後続の層に伝搬して、強磁性シード層302bより上の層での高い程度の結晶化を生じさせる。具体的には、これはフリー層構造310の優先磁気方向軸を誘起する。
磁場センサ400は、少なくともリング磁石の回転速度を示す出力信号を生成するように構成され得る。構造によっては、リング磁石402は、標的物体、たとえばエンジン内のカムシャフトに結合され、リング磁石402の検知された回転速度は、標的物体の回転速度を示す。
単一のピン止めされたGMR素子が図3に関連して上に記載されているが、図3のシード層構造302は、二重ピン止め構造またはピニング層および/もしくはピン層をさらに含んだ構造の一部におけるシード層構造であり得ることを理解されたい。
本特許の主題である種々の概念、構造および技術を示す働きをする好ましい実施形態を説明したことで、これらの概念、構造および技術を組み込んだ他の実施形態が使用されてもよいことが明らかになろう。したがって、本特許の範囲は、説明した実施形態に限定すべきではなく、添付の特許請求の範囲の趣旨および範囲によってのみ限定されるべきであると述べる。
Claims (34)
- 基材と、
前記基材の上に配置されたシード層構造であって、少なくとも強磁性シード層を含むシード層構造と、
前記シード層構造の上に配置されたフリー層構造であって、前記強磁性シード層が結晶異方性を有し、前記結晶異方性が、所定の方向に沿った運動の存在下、かつ、同じ所定の方向を有する所定の磁場の存在下で、前記強磁性シード層の堆積によって誘起され、前記結晶異方性が、向上した優先磁気方向を有する前記フリー層構造をもたらす、フリー層構造と
を含む、磁気抵抗素子。 - 前記シード層構造が、前記強磁性シード層の上に近接して、または下に近接して配置された非磁性スペーサ層をさらに含む、請求項1に記載の磁気抵抗素子。
- 前記強磁性シード層が、NiFe、NiFeCr、CoFe、CoFeB、またはCoFeCrから構成される、請求項2に記載の磁気抵抗素子。
- 前記強磁性シード層が、NiFe、NiFeCr、CoFe、CoFeBまたはCoFeCrから構成される、請求項1に記載の磁気抵抗素子。
- 前記所定の磁場が約20〜150エルステッドである、請求項4に記載の磁気抵抗素子。
- 前記シード層構造が、
前記強磁性シード層の下に近接して配置された第1の非磁性スペーサ層と、
前記強磁性シード層の上に近接して配置された第2の非磁性スペーサ層と
をさらに含む、請求項1に記載の磁気抵抗素子。 - 前記第1および第2のスペーサ層が、それぞれRuから構成される、請求項6に記載の磁気抵抗素子。
- 前記第1および第2のスペーサ層が、それぞれTaから構成される、請求項6に記載の磁気抵抗素子。
- 前記第1および第2のスペーサ層の一方がRuから構成され、前記第1および第2のスペーサ層の他方がTaから構成される、請求項6に記載の磁気抵抗素子。
- 前記シード層構造の上および前記フリー層構造の下に配置された反強磁性ピニング層をさらに含む、請求項1に記載の磁気抵抗素子。
- 前記反強磁性ピニング層がPtMnから構成される、請求項10に記載の磁気抵抗素子。
- 前記反強磁性ピニング層が、PtMn、IrMn、またはFeMnから構成される、請求項10に記載の磁気抵抗素子。
- 前記反強磁性ピニング層の上、および前記フリー層構造の下に配置されたピン層構造をさらに含む、請求項10に記載の磁気抵抗素子。
- 前記ピン層構造が、
前記反強磁性ピニング層の上に配置された第1の強磁性ピン層と、
前記第1のピン強磁性層の上に配置された第3のスペーサ層と、
前記第3のスペーサ層の上に配置された第2の強磁性ピン層と
を含む、請求項13に記載の磁気抵抗素子。 - 前記第1および第2の強磁性ピン層がCoFeから構成され、前記第3のスペーサ層がRuから構成される、請求項14に記載の磁気抵抗素子。
- 前記ピン層構造と前記フリー層構造の間に配置された第4のスペーサ層をさらに含む、請求項13に記載の磁気抵抗素子。
- 前記第4のスペーサ層が、Cu、Au、またはAgから構成される、請求項16に記載の磁気抵抗素子。
- 前記フリー層構造が、
前記第4のスペーサ層の上に配置された第1の強磁性フリー層と、
前記第1の強磁性フリー層の上に配置された第2の強磁性フリー層と
を含む、請求項16に記載の磁気抵抗素子。 - 前記第1の強磁性フリー層がCoFeから構成され、前記第2の強磁性フリー層がNiFeから構成される、請求項18に記載の磁気抵抗素子。
- 前記フリー層構造が複数の磁区を含み、前記複数の磁区が、
第1の方向を向いた磁場を有する第1の複数の磁区と、
前記第1の方向とは異なる1つまたは複数の方向を向いた磁場を有する第2の複数の磁区であって、前記強磁性シード層が、選択された材料から構成され、前記選択された材料が、前記フリー層構造における前記第2の複数の磁区内の磁区の量の選択された減少をもたらす、第2の複数の磁区と
を含む、請求項1に記載の磁気抵抗素子。 - 前記強磁性シード層が、NiFe、NiFeCr、CoFeまたはCoFeCrから構成される、請求項20に記載の磁気抵抗素子。
- 磁気抵抗素子を作製する方法であって、
シード層構造を半導体基材の上に堆積させるステップを含み、前記シード層構造を前記堆積させるステップが、
強磁性シード層を前記基材の上に少なくとも堆積させるステップを含み、
前記方法が、
フリー層構造を前記シード層構造の上に堆積させるステップであって、前記強磁性シード層を前記堆積させるステップが、所定の方向に沿った運動の存在下、かつ、同じ所定の方向を有する所定の磁場の存在下で、前記強磁性シード層を堆積させ、向上した結晶異方性を有する前記強磁性シード層をもたらし、向上した優先磁気方向を有する前記フリー層構造をもたらすステップ
をさらに含む、方法。 - 前記シード層構造を前記堆積させるステップが、
前記強磁性スペーサ層の上に近接、または下に近接して非磁性スペーサ層を堆積させるステップをさらに含む、請求項22に記載の方法。 - 前記強磁性シード層が、NiFe、NiFeCr、CoFe、CoFeB、またはCoFeCrから構成される、請求項23に記載の方法。
- 前記強磁性シード層が、NiFe、NiFeCr、CoFe、CoFeB、またはCoFeCrから構成される、請求項22に記載の方法。
- 前記所定の磁場が約20〜150エルステッドである、請求項25に記載の方法。
- 前記シード層構造を前記堆積させるステップが、
前記強磁性シード層の下に近接して第1の非磁性スペーサ層を堆積させるステップと、
前記強磁性シード層の上に近接して第2の非磁性スペーサ層を堆積させるステップと
をさらに含む、請求項22に記載の方法。 - 前記強磁性シード層が、NiFe、NiFeCr、CoFe、CoFeB、またはCoFeCrから構成される、請求項27に記載の方法。
- 前記第1および第2のスペーサ層の一方がRuから構成され、かつ前記第1および第2のスペーサ層の他方がTaから構成されるか、前記第1と第2のスペーサ層の両方がRuから構成されるか、または前記第1と第2のスペーサ層の両方がTaから構成される、請求項28に記載の方法。
- 反強磁性ピニング層を前記シード層構造の上に堆積させるステップと、
前記強磁性シード層を前記堆積させるステップにおいて使用される前記所定の磁場の前記所定の方向に平行な主方向を有するアニール磁場を使用して、前記反強磁性ピニング層をアニールするステップと
をさらに含む、請求項22に記載の方法。 - 前記強磁性シード層が、NiFe、NiFeCr、CoFe、CoFeB、またはCoFeCrから構成される、請求項30に記載の方法。
- 前記所定の磁場が約20〜150エルステッドである、請求項31に記載の方法。
- 前記反強磁性ピニング層と前記フリー層構造の間にピン層構造を堆積させるステップをさらに含む、請求項30に記載の方法。
- 前記強磁性シード層が、NiFe、NiFeCr、CoFe、CoFeB、またはCoFeCrから構成される、請求項33に記載の方法。
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