JP2016096307A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
エミッタ領域61が、第1トレンチ間領域31内の少なくとも1つのセル領域40には形成されており、中間トレンチ間領域33には形成されておらず、第2トレンチ間領域32内の少なくとも1つのセル領域40には形成されている。エミッタ領域61が、第1トレンチ10に接しない一方においてセル領域40を区画する2本の第2トレンチ20に接する位置に形成されている。
【選択図】図1
Description
以下、実施例について添付図面を参照して説明する。第1実施例に係る半導体装置1は、図1〜図3に示すように、半導体基板2、表面電極6および裏面電極7を備えている(なお、図1では、図面を見易くするために表面電極6および裏面電極7を示していない。)。
上記の実施例では、第1トレンチ間領域31と第2トレンチ間領域32の間に1つの中間トレンチ間領域33が配置されていたが、この構成に限定されるものではない。第2実施例では、図6に示すように、第1トレンチ間領域31と第2トレンチ間領域32の間に複数の中間トレンチ間領域33が配置されていてもよい。第1トレンチ間領域31と第2トレンチ間領域32の間に、少なくとも1つの中間トレンチ間領域33が配置されていればよい。このような構成によっても、局所的な電流の集中を抑制しつつ電子の注入量を抑制できる。
上記実施例では、第1トレンチ間領域31と第2トレンチ間領域32の間の中間トレンチ間領域33に第2トレンチ20が形成されていたが、この構成に限定されるものではない。第3実施例では、図7に示すように、第1トレンチ間領域31と第2トレンチ間領域32の間の中間トレンチ間領域33に第2トレンチ20が形成されていなくてもよい。このような構成によっても、局所的な電流の集中を抑制しつつ電子の注入量を抑制できる。
上記実施例では、第1トレンチ間領域31と第2トレンチ間領域32の間の中間トレンチ間領域33に形成された第2トレンチ20の両端部が、第2方向に隣り合う第1トレンチ10にそれぞれ接していたが、この構成に限定されるものではない。第4実施例では、図8に示すように、第1トレンチ間領域31と第2トレンチ間領域32の間の中間トレンチ間領域33に形成された第2トレンチ20の両端部が、第2方向に隣り合う第1トレンチ10にそれぞれ接していなくてもよい。第1トレンチ間領域31と第2トレンチ間領域32の間の中間トレンチ間領域33において、各第2トレンチ20は、第1トレンチ10から離間している。このような構成によっても、局所的な電流の集中を抑制しつつ電子の注入量を抑制できる。
上記実施例では、第1トレンチ10と第2トレンチ20によって囲まれたセル領域40に一対のエミッタ領域61が形成されていたが、この構成に限定されるものではない。第5実施例では、図9に示すように、セル領域40に1つのエミッタ領域61が形成されている。1つのエミッタ領域61は、第1方向に延びている。1つのエミッタ領域61の一端部は、第1方向に隣り合う第2トレンチの一方の第2トレンチ20に接し、エミッタ領域61の他端部は、第1方向に隣り合う第2トレンチの他方の第2トレンチ20に接している。このような構成によっても、局所的な電流の集中を抑制しつつ電子の注入量を抑制できる。
2 :半導体基板
6 :表面電極
7 :裏面電極
8 :層間絶縁膜
10 :第1トレンチ
11 :第1ゲート絶縁膜
12 :第1ゲート電極
20 :第2トレンチ
21 :第2ゲート絶縁膜
22 :第2ゲート電極
30 :トレンチ間領域
31 :第1トレンチ間領域
32 :第2トレンチ間領域
33 :中間トレンチ間領域
40 :セル領域
61 :エミッタ領域
61a :エミッタ領域
61b :エミッタ領域
62 :ボディ領域
63 :ドリフト領域
64 :コレクタ領域
121 :ボディコンタクト領域
122 :低濃度ボディ領域
Claims (4)
- 半導体基板に半導体素子が形成されている半導体装置であって、
前記半導体基板を断面視したときに前記半導体基板の一部に形成されているp型のボディ領域と、
前記半導体基板を断面視したときに前記ボディ領域の下に形成されているn型のドリフト領域と、
前記ボディ領域によって前記ドリフト領域から分離されているとともに前記半導体基板の上面に露出しているn型のエミッタ領域と、
前記半導体基板を断面視したときに前記半導体基板の上面から前記ボディ領域を貫通して前記ドリフト領域に達しているトレンチと、
前記トレンチの内面に形成されているゲート絶縁膜と、
前記トレンチの内部に配置されているゲート電極と、を備えており、
前記トレンチが、前記半導体基板を上面視したときに、第1方向に延びているとともに前記第1方向と交差する第2方向に間隔を開けて並んでいる複数本の第1トレンチと、前記第2方向に延びているとともに前記第1方向に間隔を開けて並んでいる複数本の第2トレンチで構成されており、
隣接する2本の前記第1トレンチの間の領域をトレンチ間領域とし、複数個のトレンチ間領域のうちの一つを第1トレンチ間領域とし、前記第1トレンチ間領域から前記第2方向に少なくとも1つの前記トレンチ間領域を挟んで離れたトレンチ間領域を第2トレンチ間領域とし、前記第1トレンチ間領域と前記第2トレンチ間領域の間に挟まれているトレンチ間領域を中間トレンチ間領域とし、隣接する2本の前記第1トレンチと隣接する2本の前記第2トレンチによって区画される範囲をセル領域としたときに、
前記エミッタ領域が、前記第1トレンチ間領域内の少なくとも1つのセル領域には形成されており、前記中間トレンチ間領域には形成されておらず、前記第2トレンチ間領域内の少なくとも1つのセル領域には形成されており、
前記エミッタ領域が、前記第1トレンチに接しない一方において前記セル領域を区画する2本の前記第2トレンチに接する位置に形成されている、半導体装置。 - 前記セル領域に、一対の前記エミッタ領域が形成されており、
一対の前記エミッタ領域の一方は、前記セル領域を区画する2本の前記第2トレンチの一方に接し、一対の前記エミッタ領域の他方は、前記セル領域を区画する2本の前記第2トレンチの他方に接している、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記中間トレンチ間領域の少なくとも1つに、前記第2トレンチが形成されている、請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記第1トレンチ間領域と前記第2トレンチ間領域における前記第2トレンチの前記第1方向の両側に前記エミッタ領域が接している、請求項1から3のいずれかの一項に記載の半導体装置。
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