JP2014209091A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体装置1Aは、主面101A、およびこの主面101Aから凹む凹部105Aを有し、かつ半導体材料からなる基板100Aと、基板100Aに形成された配線層200Aと、凹部105Aに収容された方位センサ素子311A,312A,313Aと、方位センサ素子311A,312A,313Aの少なくとも一部を覆う封止樹脂400Aと、を備える。
【選択図】 図3
Description
主面、およびこの主面から凹む凹部を有し、かつ半導体材料からなる基板と、
上記基板に形成された配線層と、
上記凹部に収容され、互いに異なる方向に沿う検出基準軸を有する3つの方位センサ素子と、
を備えることを特徴とする、半導体装置。
(付記2A)
上記凹部は、底面およびこの底面に対して傾いた傾斜側面を有しており、
上記3つの方位センサ素子の少なくともいずれか1つは、上記傾斜側面に支持されている、付記1Aに記載の半導体装置。
(付記3A)
上記凹部は、上記3つの方位センサ素子を収容し、第1底面および第1傾斜側面を有する第1凹部と、上記第1傾斜側面に繋がる第2底面およびこの第2底面および上記主面に繋がる第2傾斜側面を有する第2凹部と、を含んでいる、付記2Aに記載の半導体装置。
(付記4A)
上記3つの方位センサ素子の少なくとも1つが、上記第1底面に支持されている、付記3Aに記載の半導体装置。
(付記5A)
上記3つの方位センサ素子の少なくとも1つが、上記第1傾斜側面に支持されている、付記4Aに記載の半導体装置。
(付記6A)
上記基板は、半導体材料の単結晶からなる、付記3Aないし5Aのいずれかに記載の半導体装置。
(付記7A)
上記半導体材料は、Siである、付記6Aに記載の半導体装置。
(付記8A)
上記主面は、(100)面であり、
上記第1凹部は、4つの上記第1傾斜側面を有し、
上記第2凹部は、4つの上記第2傾斜側面を有する、付記7Aに記載の半導体装置。
(付記9A)
上記主面は、(110)面であり、
上記第1凹部は、上記第1底面を挟んで離間した2つの上記第1傾斜側面と、上記第1底面を挟んで離間し、かつ上記第1底面に対して直角である2つの第1起立側面と、を有し、
上記第2凹部は、上記第2底面を挟んで離間した2つの上記第2傾斜側面と、上記第2底面を挟んで離間し、かつ上記第2底面に対して直角である2つの第2起立側面と、を有する、付記7Aに記載の半導体装置。
(付記10A)
互いに異なる3方向の加速度を検出する加速度センサ素子をさらに備える、付記8Aまたは9Aに記載の半導体装置。
(付記11A)
上記加速度センサ素子は、上記第1凹部に収容されている、付記10Aに記載の半導体装置。
(付記12A)
上記加速度センサ素子は、上記第1底面に支持されている、付記11Aに記載の半導体装置。
(付記13A)
上記第2底面に支持され、かつ上記主面の法線方向視において上記第1凹部の少なくとも一部と重なる集積回路素子を備える、付記8Aないし12Aのいずれかに記載の半導体装置。
(付記14A)
上記集積回路素子は、少なくとも上記第2底面のうち上記第1凹部を挟む2つの部位によって支持されている、付記13Aに記載の半導体装置。
加速度センサ
(付記15A)
上記配線層は、上記主面に形成された複数の外部端子を有する、付記13Aまたは14Aに記載の半導体装置。
(付記16A)
上記配線層は、上記第2底面に形成され、上記集積回路素子を搭載するための複数の第2底面パッドを有する、付記15Aに記載の半導体装置。
(付記17A)
上記配線層は、上記第1底面に形成され、上記方位センサ素子を搭載するための複数の第1底面パッドを有する、付記16Aに記載の半導体装置。
(付記18A)
上記配線層は、上記第1傾斜側面に形成され、上記方位センサ素子を搭載するための複数の第1傾斜側面パッドを有する、付記17Aに記載の半導体装置。
(付記19A)
上記配線層は、上記外部端子、上記第2底面パッド、上記第1底面パッドおよび上記第1傾斜側面パッドのいずれかどうしを接続する連絡経路を有する、付記18Aに記載の半導体装置。
(付記20A)
上記連絡経路は、上記第2傾斜側面を経由している、付記19Aに記載の半導体装置。
(付記21A)
上記連絡経路は、上記第1傾斜側面を経由している、付記19Aまたは20Aに記載の半導体装置。
(付記22A)
上記3つの方位センサ素子を覆う封止樹脂を備える、付記15Aないし21Aのいずれかに記載の半導体装置。
(付記23A)
上記封止樹脂は、上記3つの方位センサ素子の少なくともいずれかを覆う第1封止樹脂と、上記集積回路素子の少なくとも一部を覆う第2封止樹脂と、からなる、付記22Aに記載の半導体装置。
(付記24A)
上記第2封止樹脂は、上記集積回路素子の全体を覆っている、付記23Aに記載の半導体装置。
(付記25A)
上記第2封止樹脂は、上記外部端子を露出させている、付記24Aに記載の半導体装置。
主面、およびこの主面から凹む凹部を有し、かつ半導体材料からなる基板と、
上記基板に形成された配線層と、
上記凹部に収容された1以上の素子と、
上記1以上素子の少なくとも一部を覆う追加の素子と、
を備えることを特徴とする、半導体装置。
(付記2B)
上記凹部は、上記1以上の素子を収容し、第1底面および第1傾斜側面を有する第1凹部と、上記第1傾斜側面に繋がる第2底面およびこの第2底面および上記主面に繋がる第2傾斜側面を有する第2凹部と、を含んでいる、付記1Bに記載の半導体装置。
(付記3B)
上記追加の素子は、上記第2底面に支持され、かつ上記主面の法線方向視において上記第1凹部の少なくとも一部と重なる、付記2Bに記載の半導体装置。
(付記4B)
上記追加の素子は、少なくとも上記第2底面のうち上記第1凹部を挟む2つの部位によって支持されている、付記3Bに記載の半導体装置。
(付記5B)
上記1以上の素子の少なくとも1つが、上記第1底面に支持されている、付記3Bまたは4Bに記載の半導体装置。
(付記6B)
上記1以上の素子の少なくとも1つが、上記第1傾斜側面に支持されている、付記3Bないし5Bのいずれかに記載の半導体装置。
(付記7B)
上記基板は、半導体材料の単結晶からなる、付記3Bないし6Bのいずれかに記載の半導体装置。
(付記8B)
上記半導体材料は、Siである、付記7Bに記載の半導体装置。
(付記9B)
上記主面は、(100)面であり、
上記第1凹部は、4つの上記第1傾斜側面を有し、
上記第2凹部は、4つの上記第2傾斜側面を有する、付記8Bに記載の半導体装置。
(付記10B)
上記主面は、(110)面であり、
上記第1凹部は、上記第1底面を挟んで離間した2つの上記第1傾斜側面と、上記第1底面を挟んで離間し、かつ上記第1底面に対して直角である2つの第1起立側面と、を有し、
上記第2凹部は、上記第2底面を挟んで離間した2つの上記第2傾斜側面と、上記第2底面を挟んで離間し、かつ上記第2底面に対して直角である2つの第2起立側面と、を有する、付記8Bに記載の半導体装置。
(付記11B)
上記1以上の素子は、互いに異なる方向に沿う検出基準軸を有する3つの方位センサ素子を含む、付記9Bまたは10Bに記載の半導体装置。
(付記12B)
上記1以上の素子は、互いに異なる3方向の加速度を検出する加速度センサ素子をさらに備える、付記11Bに記載の半導体装置。
(付記13B)
上記加速度センサ素子は、上記第1凹部に収容されている、付記12Bに記載の半導体装置。
(付記14B)
上記加速度センサ素子は、上記第1底面に支持されている、付記13Bに記載の半導体装置。
(付記15B)
上記配線層は、上記主面に形成された複数の外部端子を有する、付記9Bないし14Bのいずれかに記載の半導体装置。
(付記16B)
上記配線層は、上記第2底面に形成され、上記追加の素子を搭載するための複数の第2底面パッドを有する、付記15Bに記載の半導体装置。
(付記17B)
上記配線層は、上記第1底面に形成され、上記素子を搭載するための複数の第1底面パッドを有する、付記16Bに記載の半導体装置。
(付記18B)
上記配線層は、上記第1傾斜側面に形成され、上記素子を搭載するための複数の第1傾斜側面パッドを有する、付記17Bに記載の半導体装置。
(付記19B)
上記配線層は、上記外部端子、上記第2底面パッド、上記第1底面パッドおよび上記第1傾斜側面パッドBのいずれかどうしを接続する連絡経路を有する、付記18Bに記載の半導体装置。
(付記20B)
上記連絡経路は、上記第2傾斜側面を経由している、付記19Bに記載の半導体装置。
(付記21B)
上記連絡経路は、上記第1傾斜側面を経由している、付記19Bまたは20Bに記載の半導体装置。
(付記22B)
上記1以上の素子および上記追加の素子の少なくとも一部ずつを覆う封止樹脂を備える、付記15Bないし21Bのいずれかに記載の半導体装置。
(付記23B)
上記封止樹脂は、上記1以上の素子の少なくともいずれかを覆う第1封止樹脂と、上記追加の素子の少なくとも一部を覆う第2封止樹脂と、からなる、付記22Bに記載の半導体装置。
(付記24B)
上記第2封止樹脂は、上記追加の素子の全体を覆っている、付記23Bに記載の半導体装置。
(付記25B)
上記第2封止樹脂は、上記外部端子を露出させている、付記24Bに記載の半導体装置。
主面、およびこの主面から凹む凹部を有し、かつ半導体材料からなる基板と、
上記基板に形成された配線層と、
上記凹部に収容され、かつ各々が面実装可能な面実装端子を有する個片状とされたディスクリート素子として分類される1以上の素子と、
を備えることを特徴とする、半導体装置。
(付記2C)
上記1以上の素子の少なくとも一部を覆う追加の素子を備える、付記1Cに記載の半導体装置。
(付記3C)
上記凹部は、上記1以上の素子を収容し、第1底面および第1傾斜側面を有する第1凹部と、上記第1傾斜側面に繋がる第2底面およびこの第2底面および上記主面に繋がる第2傾斜側面を有する第2凹部と、を含んでいる、付記2Cに記載の半導体装置。
(付記4C)
上記追加の素子は、上記第2底面に支持され、かつ上記主面の法線方向視において上記第1凹部の少なくとも一部と重なる、付記3Cに記載の半導体装置。
(付記5C)
上記追加の素子は、少なくとも上記第2底面のうち上記第1凹部を挟む2つの部位によって支持されている、付記4Cに記載の半導体装置。
(付記6C)
上記1以上の素子の少なくとも1つが、上記第1底面に支持されている、付記3Cないし5Cのいずれかに記載の半導体装置。
(付記7C)
上記1以上の素子の少なくとも1つが、上記第1傾斜側面に支持されている、付記3Cないし6Cのいずれかに記載の半導体装置。
(付記8C)
上記基板は、半導体材料の単結晶からなる、付記3Cないし7Cのいずれかに記載の半導体装置。
(付記9C)
上記半導体材料は、Siである、付記8Cに記載の半導体装置。
(付記10C)
上記主面は、(100)面であり、
上記第1凹部は、4つの上記第1傾斜側面を有し、
上記第2凹部は、4つの上記第2傾斜側面を有する、付記9Cに記載の半導体装置。
(付記11C)
上記主面は、(110)面であり、
上記第1凹部は、上記第1底面を挟んで離間した2つの上記第1傾斜側面と、上記第1底面を挟んで離間し、かつ上記第1底面に対して直角である2つの第1起立側面と、を有し、
上記第2凹部は、上記第2底面を挟んで離間した2つの上記第2傾斜側面と、上記第2底面を挟んで離間し、かつ上記第2底面に対して直角である2つの第2起立側面と、を有する、付記9Cに記載の半導体装置。
(付記12C)
上記1以上の素子は、互いに異なる方向に沿う検出基準軸を有する3つの方位センサ素子を含む、付記3Cないし11Cのいずれかに記載の半導体装置。
(付記13C)
上記1以上の素子は、互いに異なる3方向の加速度を検出する加速度センサ素子をさらに備える、付記12Cに記載の半導体装置。
(付記14C)
上記加速度センサ素子は、上記第1凹部に収容されている、付記13Cに記載の半導体装置。
(付記15C)
上記加速度センサ素子は、上記第1底面に支持されている、付記14Cに記載の半導体装置。
(付記16C)
上記配線層は、上記主面に形成された複数の外部端子を有する、付記3Cないし15Cのいずれかに記載の半導体装置。
(付記17C)
上記配線層は、上記第2底面に形成され、上記追加の素子を搭載するための複数の第2底面パッドを有する、付記16Cに記載の半導体装置。
(付記18C)
上記配線層は、上記第1底面に形成され、上記素子を搭載するための複数の第1底面パッドを有する、付記17Cに記載の半導体装置。
(付記19C)
上記配線層は、上記第1傾斜側面に形成され、上記素子を搭載するための複数の第1傾斜側面パッドを有する、付記18Cに記載の半導体装置。
(付記20C)
上記配線層は、上記外部端子、上記第2底面パッド、上記第1底面パッドおよび上記第1傾斜側面パッドCのいずれかどうしを接続する連絡経路を有する、付記19Cに記載の半導体装置。
(付記21C)
上記連絡経路は、上記第2傾斜側面を経由している、付記20Cに記載の半導体装置。
(付記22C)
上記連絡経路は、上記第1傾斜側面を経由している、付記20Cまたは21Cに記載の半導体装置。
(付記23C)
上記1以上の素子および上記追加の素子の少なくとも一部ずつを覆う封止樹脂を備える、付記16Cないし22Cのいずれかに記載の半導体装置。
(付記24C)
上記封止樹脂は、上記1以上の素子の少なくともいずれかを覆う第1封止樹脂と、上記追加の素子の少なくとも一部を覆う第2封止樹脂と、からなる、付記23Cに記載の半導体装置。
(付記25C)
上記第2封止樹脂は、上記追加の素子の全体を覆っている、付記24Cに記載の半導体装置。
(付記26C)
上記第2封止樹脂は、上記外部端子を露出させている、付記25Cに記載の半導体装置。
主面、およびこの主面から凹み傾斜側面を具備する凹部を有し、かつ半導体材料の単結晶からなる基板と、
上記基板に形成された配線層と、
上記凹部に収容された1以上の素子と、
を備えることを特徴とする、半導体装置。
(付記2D)
上記半導体材料は、Siである、付記1Dに記載の半導体装置。
(付記3D)
上記凹部は、上記1以上の素子を収容し、第1底面および第1傾斜側面を有する第1凹部と、上記第1傾斜側面に繋がる第2底面およびこの第2底面および上記主面に繋がる第2傾斜側面を有する第2凹部と、を含んでいる、付記2Dに記載の半導体装置。
(付記4D)
上記主面は、(100)面であり、
上記第1凹部は、4つの上記第1傾斜側面を有し、
上記第2凹部は、4つの上記第2傾斜側面を有する、付記3Dに記載の半導体装置。
(付記5D)
上記主面は、(110)面であり、
上記第1凹部は、上記第1底面を挟んで離間した2つの上記第1傾斜側面と、上記第1底面を挟んで離間し、かつ上記第1底面に対して直角である2つの第1起立側面と、を有し、
上記第2凹部は、上記第2底面を挟んで離間した2つの上記第2傾斜側面と、上記第2底面を挟んで離間し、かつ上記第2底面に対して直角である2つの第2起立側面と、を有する、付記3Dに記載の半導体装置。
(付記6D)
上記1以上の素子の少なくとも一部を覆う追加の素子を備える、付記4Dまたは5Dに記載の半導体装置。
(付記7D)
上記追加の素子は、上記第2底面に支持され、かつ上記主面の法線方向視において上記第1凹部の少なくとも一部と重なる、付記6Dに記載の半導体装置。
(付記8D)
上記追加の素子は、少なくとも上記第2底面のうち上記第1凹部を挟む2つの部位によって支持されている、付記7Dに記載の半導体装置。
(付記9D)
上記1以上の素子の少なくとも1つが、上記第1底面に支持されている、付記6Dないし8Dのいずれかに記載の半導体装置。
(付記10D)
上記1以上の素子の少なくとも1つが、上記第1傾斜側面に支持されている、付記6Dないし9Dのいずれかに記載の半導体装置。
(付記11D)
上記1以上の素子は、互いに異なる方向に沿う検出基準軸を有する3つの方位センサ素子を含む、付記6Dないし10Dのいずれかに記載の半導体装置。
(付記12D)
上記1以上の素子は、互いに異なる3方向の加速度を検出する加速度センサ素子をさらに備える、付記11Dに記載の半導体装置。
(付記13D)
上記加速度センサ素子は、上記第1凹部に収容されている、付記12Dに記載の半導体装置。
(付記14D)
上記加速度センサ素子は、上記第1底面に支持されている、付記13Dに記載の半導体装置。
(付記15D)
上記配線層は、上記主面に形成された複数の外部端子を有する、付記6Dないし14Dのいずれかに記載の半導体装置。
(付記16D)
上記配線層は、上記第2底面に形成され、上記追加の素子を搭載するための複数の第2底面パッドを有する、付記15Dに記載の半導体装置。
(付記17D)
上記配線層は、上記第1底面に形成され、上記素子を搭載するための複数の第1底面パッドを有する、付記16Dに記載の半導体装置。
(付記18D)
上記配線層は、上記第1傾斜側面に形成され、上記素子を搭載するための複数の第1傾斜側面パッドを有する、付記17Dに記載の半導体装置。
(付記19D)
上記配線層は、上記外部端子、上記第2底面パッド、上記第1底面パッドおよび上記第1傾斜側面パッドDのいずれかどうしを接続する連絡経路を有する、付記18Dに記載の半導体装置。
(付記20D)
上記連絡経路は、上記第2傾斜側面を経由している、付記19Dに記載の半導体装置。
(付記21D)
上記連絡経路は、上記第1傾斜側面を経由している、付記19Dまたは20Dに記載の半導体装置。
(付記22D)
上記1以上の素子および上記追加の素子の少なくとも一部ずつを覆う封止樹脂を備える、付記15Dないし21Dのいずれかに記載の半導体装置。
(付記23D)
上記封止樹脂は、上記1以上の素子の少なくともいずれかを覆う第1封止樹脂と、上記追加の素子の少なくとも一部を覆う第2封止樹脂と、からなる、付記22Dに記載の半導体装置。
(付記24D)
上記第2封止樹脂は、上記追加の素子の全体を覆っている、付記23Dに記載の半導体装置。
(付記25D)
上記第2封止樹脂は、上記外部端子を露出させている、付記24Dに記載の半導体装置。
主面、およびこの主面から凹み傾斜側面を具備する凹部を有し、かつ半導体材料からなる基板と、
上記基板に形成された配線層と、
上記凹部の上記傾斜側面に支持された1以上の素子と、
を備えることを特徴とする、半導体装置。
(付記2E)
上記配線層は、上記凹部の上記傾斜側面に形成された部分を有する、付記1Eに記載の半導体装置。
(付記3E)
上記1以上の素子の少なくとも一部を覆う追加の素子を備える、付記1Eまたは2Eに記載の半導体装置。
(付記4E)
上記凹部は、上記1以上の素子を収容し、第1底面および第1傾斜側面を有する第1凹部と、上記第1傾斜側面に繋がる第2底面およびこの第2底面および上記主面に繋がる第2傾斜側面を有する第2凹部と、を含んでいる、付記3Eに記載の半導体装置。
(付記5E)
上記追加の素子は、上記第2底面に支持され、かつ上記主面の法線方向視において上記第1凹部の少なくとも一部と重なる、付記4Eに記載の半導体装置。
(付記6E)
上記追加の素子は、少なくとも上記第2底面のうち上記第1凹部を挟む2つの部位によって支持されている、付記5Eに記載の半導体装置。
(付記7E)
上記1以上の素子の少なくとも1つが、上記第1底面に支持されている、付記4Eないし6Eのいずれかに記載の半導体装置。
(付記8E)
上記1以上の素子の少なくとも1つが、上記第1傾斜側面に支持されている、付記4Eないし7Eのいずれかに記載の半導体装置。
(付記9E)
上記基板は、半導体材料の単結晶からなる、付記4Eないし8Eのいずれかに記載の半導体装置。
(付記10E)
上記半導体材料は、Siである、付記9Eに記載の半導体装置。
(付記11E)
上記主面は、(100)面であり、
上記第1凹部は、4つの上記第1傾斜側面を有し、
上記第2凹部は、4つの上記第2傾斜側面を有する、付記10Eに記載の半導体装置。
(付記12E)
上記主面は、(110)面であり、
上記第1凹部は、上記第1底面を挟んで離間した2つの上記第1傾斜側面と、上記第1底面を挟んで離間し、かつ上記第1底面に対して直角である2つの第1起立側面と、を有し、
上記第2凹部は、上記第2底面を挟んで離間した2つの上記第2傾斜側面と、上記第2底面を挟んで離間し、かつ上記第2底面に対して直角である2つの第2起立側面と、を有する、付記10Eに記載の半導体装置。
(付記13E)
上記1以上の素子は、互いに異なる方向に沿う検出基準軸を有する3つの方位センサ素子を含む、付記4Eないし12Eのいずれかに記載の半導体装置。
(付記14E)
上記1以上の素子は、互いに異なる3方向の加速度を検出する加速度センサ素子をさらに備える、付記13Eに記載の半導体装置。
(付記15E)
上記加速度センサ素子は、上記第1凹部に収容されている、付記14Eに記載の半導体装置。
(付記16E)
上記加速度センサ素子は、上記第1底面に支持されている、付記15Eに記載の半導体装置。
(付記17E)
上記配線層は、上記主面に形成された複数の外部端子を有する、付記4Eないし16Eのいずれかに記載の半導体装置。
(付記18E)
上記配線層は、上記第2底面に形成され、上記追加の素子を搭載するための複数の第2底面パッドを有する、付記17Eに記載の半導体装置。
(付記19E)
上記配線層は、上記第1底面に形成され、上記素子を搭載するための複数の第1底面パッドを有する、付記18Eに記載の半導体装置。
(付記20E)
上記配線層は、上記第1傾斜側面に形成され、上記素子を搭載するための複数の第1傾斜側面パッドを有する、付記19Eに記載の半導体装置。
(付記21E)
上記配線層は、上記外部端子、上記第2底面パッド、上記第1底面パッドおよび上記第1傾斜側面パッドEのいずれかどうしを接続する連絡経路を有する、付記20Eに記載の半導体装置。
(付記22E)
上記連絡経路は、上記第2傾斜側面を経由している、付記21Eに記載の半導体装置。
(付記23E)
上記連絡経路は、上記第1傾斜側面を経由している、付記21Eまたは22Eに記載の半導体装置。
(付記24E)
上記1以上の素子および上記追加の素子の少なくとも一部ずつを覆う封止樹脂を備える、付記17Eないし23Eのいずれかに記載の半導体装置。
(付記25E)
上記封止樹脂は、上記1以上の素子の少なくともいずれかを覆う第1封止樹脂と、上記追加の素子の少なくとも一部を覆う第2封止樹脂と、からなる、付記24Eに記載の半導体装置。
(付記26E)
上記第2封止樹脂は、上記追加の素子の全体を覆っている、付記25Eに記載の半導体装置。
(付記27E)
上記第2封止樹脂は、上記外部端子を露出させている、付記26Eに記載の半導体装置。
100A〜100E 基板
101A〜101E 主面
102A〜102E 裏面
103A〜103E 基材
104A〜104E 絶縁層
105A〜105E 凹部
110A〜110E 第1凹部
120A〜120E 第2凹部
200A〜200E 配線層
211A 第1底面パッド
212A 第1傾斜側面パッド
213A 第2底面パッド
221A〜221E 外部端子
231A〜231E 連絡経路
232A〜232E 連絡経路
234A〜234E 連絡経路
235A〜235E 連絡経路
236A〜236E 連絡経路
311A〜311C 方位センサ素子
312A〜312C 方位センサ素子
313A〜313C方位センサ素子
314A〜314C,315A〜315C,316A〜316C 磁心
320B 加速度センサ素子
330A〜330D 集積回路素子
331E CCD撮像素子
332E 撮像面
333E ドライバIC
341D,341E チップ抵抗器
342D コイル
343D コンデンサ
344D ヒューズ
351A〜351E はんだ
400A〜400E 封止樹脂
410A〜410E 第1封止樹脂
420A〜430E 第2封止樹脂
Claims (25)
- 主面、およびこの主面から凹む凹部を有し、かつ半導体材料からなる基板と、
上記基板に形成された配線層と、
上記凹部に収容された1以上の素子と、
上記1以上の素子の少なくとも一部を覆う封止樹脂と、
を備えることを特徴とする、半導体装置。 - 上記1以上の素子の少なくとも一部を覆う追加の素子を備える、請求項1に記載の半導体装置。
- 上記凹部は、上記1以上の素子を収容し、第1底面および第1傾斜側面を有する第1凹部と、上記第1傾斜側面に繋がる第2底面およびこの第2底面および上記主面に繋がる第2傾斜側面を有する第2凹部と、を含んでいる、請求項2に記載の半導体装置。
- 上記追加の素子は、上記第2底面に支持され、かつ上記主面の法線方向視において上記第1凹部の少なくとも一部と重なる、請求項3に記載の半導体装置。
- 上記追加の素子は、少なくとも上記第2底面のうち上記第1凹部を挟む2つの部位によって支持されている、請求項4に記載の半導体装置。
- 上記1以上の素子の少なくとも1つが、上記第1底面に支持されている、請求項3ないし5のいずれかに記載の半導体装置。
- 上記1以上の素子の少なくとも1つが、上記第1傾斜側面に支持されている、請求項3ないし5のいずれかに記載の半導体装置。
- 上記基板は、半導体材料の単結晶からなる、請求項3ないし7のいずれかに記載の半導体装置。
- 上記半導体材料は、Siである、請求項8に記載の半導体装置。
- 上記主面は、(100)面であり、
上記第1凹部は、4つの上記第1傾斜側面を有し、
上記第2凹部は、4つの上記第2傾斜側面を有する、請求項9に記載の半導体装置。 - 上記主面は、(110)面であり、
上記第1凹部は、上記第1底面を挟んで離間した2つの上記第1傾斜側面と、上記第1底面を挟んで離間し、かつ上記第1底面に対して直角である2つの第1起立側面と、を有し、
上記第2凹部は、上記第2底面を挟んで離間した2つの上記第2傾斜側面と、上記第2底面を挟んで離間し、かつ上記第2底面に対して直角である2つの第2起立側面と、を有する、請求項9に記載の半導体装置。 - 上記1以上の素子は、互いに異なる方向に沿う検出基準軸を有する3つの方位センサ素子を含む、請求項3ないし11のいずれかに記載の半導体装置。
- 上記1以上の素子は、互いに異なる3方向の加速度を検出する加速度センサ素子をさらに備える、請求項12に記載の半導体装置。
- 上記加速度センサ素子は、上記第1凹部に収容されている、請求項13に記載の半導体装置。
- 上記加速度センサ素子は、上記第1底面に支持されている、請求項14に記載の半導体装置。
- 上記配線層は、上記主面に形成された複数の外部端子を有する、請求項3ないし15のいずれかに記載の半導体装置。
- 上記配線層は、上記第2底面に形成され、上記追加の素子を搭載するための複数の第2底面パッドを有する、請求項16に記載の半導体装置。
- 上記配線層は、上記第1底面に形成され、上記素子を搭載するための複数の第1底面パッドを有する、請求項17に記載の半導体装置。
- 上記配線層は、上記第1傾斜側面に形成され、上記素子を搭載するための複数の第1傾斜側面パッドを有する、請求項18に記載の半導体装置。
- 上記配線層は、上記外部端子、上記第2底面パッド、上記第1底面パッドおよび上記第1傾斜側面パッドのいずれかどうしを接続する連絡経路を有する、請求項19に記載の半導体装置。
- 上記連絡経路は、上記第2傾斜側面を経由している、請求項20に記載の半導体装置。
- 上記連絡経路は、上記第1傾斜側面を経由している、請求項20または21に記載の半導体装置。
- 上記封止樹脂は、上記1以上の素子の少なくともいずれかを覆う第1封止樹脂と、上記追加の素子の少なくとも一部を覆う第2封止樹脂と、からなる、請求項16ないし22のいずれかに記載の半導体装置。
- 上記第2封止樹脂は、上記追加の素子の全体を覆っている、請求項16ないし23のいずれかに記載の半導体装置。
- 上記第2封止樹脂は、上記外部端子を露出させている、請求項24に記載の半導体装置。
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