JP2014043613A - 表面処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 表面処理装置の簡素化、小型化およびめっき品質の向上、めっき液量の少量化を図る。
【解決手段】 槽体１００は、板状ワーク１０を伝って落下した処理液Ｑを受けるための液受け部２と、板状ワーク１０に当てようとする処理液Ｑを滞留させるための液滞留部４と、液滞留部４から溢れ出て流下した処理液Ｑを板状ワーク１０に向かって流出させるための液流出部６とを備える。液流出部６は、液滞留部４の側壁４ａ（または液受け部２の側壁２ａ）との連結部５から先端６ａを突出させて構成される。
【選択図】 図３

Description

この発明は、プリント基板などの板状ワークに無電解めっきを行う技術に関するものである。

（i）従来は、図１６に示すように、ラックに収容された複数のワーク１０を、槽内に貯留した処理液Ｑ中に浸漬させて無電解めっき処理を行っていた（特許文献１）。ここで、無電解めっきとは、通電を行う電気めっきとは異なり、非処理物をめっき液に浸漬させるだけでめっきすることが可能なめっき方法である。無電解めっきにより、不導体（例えば、プラスチック、セラミックなどの絶縁物）に対しても、めっきすることが可能である。

（ii）また、図１７に示すような、板状ワーク１０に近接して配置した側壁Ｗ１、Ｗ２を備えた槽Ｖ内において、板状ワーク１０が側壁Ｗ１、Ｗ２に接触するのを防止するために上下方向の処理液Ｑの流れを作って板状ワーク１０を揺動させる電解めっき装置（特許文献２）や、板状ワーク１０が降下するときに処理液Ｑ中に円滑に引き込むために、槽Ｖの上方から処理液Ｑをテーパ状の開口から下方に流し込む電解めっき装置（特許文献３、４）も存在した。

（iii）その他にも、ワークを搬送するためのガイドレール上に突起を設けておき、搬送時にこの突起を乗り越えさせることで、ワークに衝撃を与えて水切りを行う技術も存在する（特許文献５の図６）。

特開２０１１−３２５３８号公報 実用新案登録第３１１５０４７号公報 特開２００６−１１８０１９号公報 特開２００４−３３９５９０号公報 特開２０１０−１８９７３６号公報

（i）しかし、図１６に示す特許文献１の技術では、ラックを浸漬させるための昇降機構が必要であるため、無電解めっき用の設備が複雑化、大型化するといった問題や、槽内に溜めた無電解めっき処理液Ｑの中に浸漬させる必要があるため、多くの処理液量が必要になるといった問題がある。

（ii）また、特許文献２〜４の技術を無電解めっきに用いた場合、処理液Ｑが槽Ｖ内の側面Ｗ１、Ｗ２を伝ってしまい、所望のめっき品質を得ることができないおそれがある。また、多量のめっき液が必要になるという問題もある。

（iii）さらに、特許文献５の技術では、搬送時に段差を通過した際に被処理物に一時的に衝撃を与えるだけであり、確実に水切りをすることができない。

（１）この発明の表面処理装置は、
被処理物を搬送する搬送用ハンガーと、
内部において、前記搬送用ハンガーにより搬送された前記被処理物に処理液を付着させるための槽体と、
前記搬送用ハンガーを、前記槽体内に搬送する搬送機構と、
を備えた表面処理装置であって、
前記槽体が、前記被処理物に当てられた処理液を受けるための液受け部と、前記液受け部よりも上方に設けられ、前記被処理物に当てようとする前記処理液を滞留させるための液滞留部と、前記液滞留部から溢れ出て流下した前記処理液を被処理物に向かって流出させるための液流出部であって、先端が前記液滞留部または前記液受け部との連結部から突出するように構成された液流出部と、を備えたこと、
を特徴とする。

これにより、突出部を用いて板状ワークに適量の処理液を当てて、無電解めっきをすることが可能となり、めっき品質の向上および処理液量の少量化が図られる。

（２）この発明の表面処理装置は、
前記搬送用ハンガーを略水平方向に搬送するためのガイドレールを備えており、
前記搬送用ハンガーが、前記ガイドレールに設けられた衝撃発生部の上を所定回数だけ往復移動するように制御部により制御されること、
を特徴とする。

これにより、板状ワークに衝撃を与えて、付着する気泡を除去することができる。

（３）この発明の表面処理装置は、
前記搬送用ハンガーを略水平方向に搬送するためのガイドレールを備えており、
前記搬送用ハンガーが、前記ガイドレールに設けられた複数の衝撃発生部の上を移動するように制御部により制御されること、
を特徴とする。

これにより、板状ワークに衝撃を与えて、付着する気泡を除去することができる。

（４）この発明の表面処理装置は、
前記搬送用ハンガーを略水平方向に搬送するためのガイドレールを複数備えており、
前記搬送用ハンガーを、前記複数のガイドレールに渡って取り付けられた支持部材に固定したこと、
を特徴とする。

これにより、板状ワークの振動を低減し、また、搬送機構を支える構造体（フレーム等）の歪みを低減することができる。

（５）この発明の表面処理装置は、
前記表面処理装置を、前記搬送方向に対して垂直方向に隣接して複数列配置し、
隣接する表面処理装置の間でガイドレールを共用したこと、
を特徴とする。

これにより、表面処理装置のコンパクト化を図りつつ、生産性を高めることができる。

（６）この発明の表面処理装置は、
前記液受け部と前記液滞留部とを循環ポンプを介して連通させたこと、
を特徴とする。

これにより、表面処理装置全体で使用される処理液の総量を少なくすることができる。

（７）この発明の表面処理装置は、
前記液受け部の側壁に、鉛直方向に延伸される切り欠きであって、前記搬送用ハンガーが移動した時に、前記被処理物が通過する切り欠きが設けられており、
前記液受け部に溜まった処理液の液面が、前記切り欠きの下端よりも下に位置するように、前記液滞留部に処理液が供給されること、
を特徴とする。

これにより、液受け部２に溜まった処理液Ｑが、液受け部の切り欠きから溢れ出すのを防止することができる。

（８）この発明の槽体は、
処理液を滞留させるための液滞留部と、
前記液滞留部から溢れ出て流下した前記処理液を被処理物に向かって流出させるための液流出部であって、先端が前記液滞留部との連結部から突出するように構成された液流出部と、
を備えたこと、を特徴とする。

これにより、板状ワークに適量の処理液を当てて、無電解めっきをすることが可能となることから、めっき品質の向上が図られる。

（９）この発明の槽体は、
前記槽体が、前記被処理物に当てられた処理液を受けるための液受け部を備えており、
前記液受け部の側壁に、鉛直方向に延伸される切り欠きであって、前記搬送用ハンガーが移動した時に、前記被処理物が通過する切り欠きが設けられていること、
を特徴とする。

これにより、搬送用ハンガーを水平方向に移動させるだけで、一連の無電解めっき処理を行うことが可能となり、昇降機構が不要となる等により、装置の構造を簡素化、小型化することができる。

（１０）この発明の槽体は、
前記液流出部の両端から間隔を空けて、前記切り欠きが設けられた前記液受け部の側壁を設けたこと、
を特徴とする。

これにより、スリットから処理液が漏れるのを防止することができる。

（１１）この発明の槽体は、
前記液流出部の先端が、前記液受け部または前記液滞留部との連結部から略水平方向に向けて、または水平方向より下向きに傾斜して設けられたこと、
を特徴とする。

これにより、液滞留部から溢れ出した処理液を、突出部の先端から板状ワークに向けて流出させることができる。

（１２）この発明の槽体は、
前記液流出部の上面に、前記被処理物に向かう方向に延伸される溝を成形したこと、
を特徴とする。

これにより、液滞留部から溢れ出した処理液が、表面張力によって突出部の中心付近に集まるのを防止して、板状ワークに対して均一の処理液量を当てるためである。

（１３）この発明の槽体は、
前記液流出部の先端付近における処理液の流量が、中央付近よりも両端部付近の方が大きくなるように、前記溝を成形したこと、
を特徴とする。

これにより、板状ワークに当てられた処理液が、板状ワークを伝っている間に、表面張力によって中心付近に集まるのを考慮して、板状ワークに対して均一の処理液量を与えることができる。

（１４）この発明の槽体は、
前記液滞留部および前記液流出部で構成される液流下機構を、前記槽体内に複数段配置したこと、
を特徴とする。

これにより、複数段の位置に設けられた突出部から、板状ワークに対して所望の処理液量を与えることができる。

（１５）この発明の槽体は、
処理液を滞留させるための液滞留部と、
前記液滞留部から溢れ出た処理液を流下させるように構成した液流下部材と、
被処理物に当てられた処理液を受けるための液受け部と、
を備えた、槽体であって、
前記液受け部の側壁に設けられる鉛直方向に延伸される切り欠きであって、前記搬送用ハンガーが移動した時に、前記被処理物が通過する切り欠きが前記液受け部に設けられおり、
前記液流下部材の両端から間隔を空けて、前記切り欠きが設けられた前記液受け部の側壁を設けたこと、
を特徴とする。

これにより、液滞留部から溢れ出した処理液を、突出部の先端から板状ワークに向けて流出させることができる。

表面処理装置３００を上方から見た配置図である。 表面処理装置３００をα方向から見た側面図である。 表面処理装置３００の一部である無電解銅めっき槽２００のβ−β断面図である。 無電解銅めっき槽２００を上方から見た状態を示す図である。 無電解銅めっき槽２００などに用いられる槽体１００の斜視図である。 図６Ａは、液流出部６の断面形状を示す図であり、図６Ｂは、液流出部６の先端６ａから流出させた処理液Ｑの状態を示す断面図である。 図７Ａは、搬送機構１８の移動動作を制御するための接続関係を示す図であり、図７Ｂは、第３水洗槽３１２と無電解銅めっき槽２００の間におけるガイドレール１４の断面を示す図である。 ２段の液流出機構（上段液流出機構３ａ、下段液流出機構３ｂ）設けた無電解銅めっき槽２００’を示す図である。 図９Ａは、無電解銅めっき槽２００’の上段の液流出部６’の断面形状を示す図であり、図９Ｂは、下段の液流出部６”の断面形状を示す図である。 他の実施形態における表面処理装置（隣接して複数列配置）の構成を示す図である。 他の実施形態における溝７’、７”の断面形状を示す図である。 他の実施形態における液流出部６の構成を示す図である。 他の実施形態における槽体の斜視図である。 他の実施形態における搬送用ハンガー１６’の構造を示す図である。 他の実施形態における搬送補助装置を示す図である。 従来技術における無電解めっき処理方法を示す図である。 従来技術における処理槽Ｖの構造を示す図である。 他の実施形態の表面処理装置３００’を上方から見た配置図である。 他の実施形態の無電解銅めっき槽２００のβ−β断面図（図１）である。 他の実施形態の無電解銅めっき槽２００を上方から見た状態を示す図である。

１．表面処理装置３００の構成
まず、図１および図２を用いて、本発明の表面処理装置３００の構成について説明する。なお、図１は、表面処理装置３００を上方から見た配置図である。図２は、図１に示す表面処理装置３００をα方向から見た側面図である。なお、図１では、図２に示す搬送用ハンガー１６および搬送機構１８は省略している。

図１に示すように、表面処理装置３００には、被処理物である板状ワーク１０（図２）の搬送方向Ｘに沿って、ロード部３０２、第１水洗槽３０４、デスミア槽３０６、第２水洗槽３０８、前処理槽３１０、第３水洗槽３１２、無電解銅めっき槽２００、水洗槽３１４、アンロード部３１６が順に設けられており、その順で、無電解銅めっきに必要な各工程が行われる。各槽には、図２に示す搬送用ハンガー１６の通路を形成する切り欠き８（図１）が設けられている。なお、各工程の詳細については、後述する。

表面処理装置３００は、さらに、図２に示すクランプ１５で板状ワーク１０を把持して搬送する搬送用ハンガー１６と、搬送用ハンガー１６を搬送する搬送機構１８とを備えている。なお、図２は、板状ワーク１０がロード部３０２で搬送用ハンガー１６に取り付けられた状態を示している。

ロード部３０２で板状ワーク１０が取り付けられた後、搬送機構１８は、水平方向Ｘへの移動を開始し、それによって、板状ワーク１０が各槽内（無電解銅めっき槽２００等）を通過する。その後、搬送機構１８は、最終的に、アンロード部３１６において停止し、めっき処理が施された板状ワーク１０が搬送用ハンガー１６から取り外されることになる。

図３は、表面処理装置３００の一部を構成する無電解銅めっき槽２００（図１）のβ−β断面図である。図４は、図３に示す無電解銅めっき槽２００を上方から見た状態を示す図である。なお、図３および図４は、搬送用ハンガー１６および搬送機構１８が無電解銅めっき槽２００（図１および図２）内まで到達したときの状態を示している。

図３に示す無電解銅めっき槽２００は、フレーム５６の上に載置された槽体１００と、槽体１００内の処理液Ｑ（無電解銅めっき液）を循環させるための循環ポンプ５０とを備えている。

槽体１００は、板状ワーク１０を伝って落下した処理液Ｑを受けるための液受け部２と、板状ワーク１０に当てようとする処理液Ｑを滞留させるための液滞留部４と、液滞留部４から溢れ出て流下した処理液Ｑを板状ワーク１０に向かって流出させるための液流出部６とを備えている。液流出部６は、図３に示すように、液滞留部４の側壁４ａ（または液受け部２の側壁２ａ）との連結部５から先端６ａを突出させて構成されている。この槽体１００の内部において、搬送用ハンガー１６により把持された板状ワーク１０に、処理液Ｑ（無電解銅めっき液）が当てられる。

このように、図３に貯留した処理液Ｑの中に板状ワーク１０を浸漬させずに、循環させた処理液Ｑを板状ワーク１０に伝わせる方式を採用したことで、表面処理装置３００全体で使用される処理液Ｑの総量を少なくすることができる。

搬送機構１８は、ガイドレール１２、１４、支持部材２０および搬送ローラー２２、２４で構成される。

図３に示す支持部材２０の底部には、搬送機構１８がガイドレール１２、１４の上を移動するための搬送ローラー２２、２４が取り付けられている。搬送ローラー２２、２４はモーター（図示せず）によって駆動される。なお、ガイドレール１２、１４は、それぞれフレーム５２、５４の上に固定されている。

図３に示すように、搬送用ハンガー１６は、２本のガイドレール１２、１４に渡って懸架するように取り付けられた支持部材２０の下方に固定されている。これにより、板状ワーク１０の振動を低減し、搬送機構１８を支える構造体（ガイドレール１２、１４、フレーム５２、５４等）の歪みを低減することができる。

また、図４に示すガイドレール１２、１４上の所定位置には複数の磁石２１が埋め込まれている。搬送機構１８は、ガイドレール１２、１４上の磁石２１を検知するための磁気センサー１９を備える。磁気センサー１９は、支持部材２０の下方（ガイドレール１４側の１カ所）に設けられている。

これにより、無電解銅めっき槽２００内に移動した搬送用ハンガー１６を、所定位置（例えば、図４に示す無電解銅めっき槽２００の中央位置）に停止させることができる。

各槽に設けられる循環ポンプ５０は、図３に示すように、液受け部２の底部に接続され、点線矢印で示すように、液受け部２と液滞留部４とは循環ポンプ５０を介して連通されている。これにより、液受け部２の底部に溜まった処理液Ｑが、循環ポンプ５０によって、再び液滞留部４に供給される。

図４に示すように、液流出部６の両端から間隔を空けて、板状ワーク１０および搬送用ハンガー１６の通路を形成する切り欠き８を有する液受け部２の側壁２ｂが設けられている。スリット８から処理液Ｑが漏れるのを防止するためである。

［槽体１００の構造］
図５に、槽体１００の斜視図を示す。なお、槽体１００は、図１に示す無電解銅めっき槽２００以外の各槽にも用いられる。各槽の構造は同じであり、用いられる処理液（めっき液、デスミア液、洗浄水など）の種類だけが異なる点が異なる。

槽体１００は、前述のように、液受け部２と、液滞留部４と、液流出部６とによって構成されており、これらは、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）などの素材を加工、接着などして組み立てることにより、一体の部材として成形することができる。

液受け部２は、被処理物である板状ワーク１０（図５に点線で示す）に当てられた処理液を下方で受けるために器状の部材で構成される。液受け部２の側壁２ａ（液滞留部４の側壁４ａと同じ面）は、連結部５で液流出部６に連結されている。

液滞留部４は、板状ワーク１０に当てようとする処理液Ｑを滞留させるために器状の部材で構成されており、液受け部２よりも上方に設けられている。処理液Ｑを滞留させるために、液滞留部４は、供給を受けた処理液Ｑを滞留させるための空間を内部に有しており、その上部には、開口４ａが設けられている。

処理液Ｑが供給され続け、供給された処理液Ｑの液面が液滞留部４の開口４ａを越えるとオーバーフロー状態となって、長縁４ｂから液流出部６の方に処理液Ｑが溢れ出すことになる。なお、両サイドの短縁４ｃから溢れ出た処理液Ｑは液受け部２に落ちた後、循環ポンプ５０によって再び液滞留部４に供給されることになる。

液流出部６は、液滞留部４から溢れ出た処理液Ｑが板状ワーク１０に向かって流下するように、端部を液滞留部４の長縁４ｂに連結した板状の部材によって構成されている。また、液流出部６の先端６ａは、図３に示すように、液滞留部４の側壁４ａ（または液受け部２の側壁２ａ）との連結部５から板状ワーク１０に向かって突出させられている。このため、処理液Ｑが、液受け部２の側壁２ａを伝うのを防止することができる。

さらに、処理液Ｑを、液流出部６の先端６ａから勢い良く流出させるために、液流出部６および液流出部６の先端６ａは、液受け部２の側壁２ａから水平方向より下向きに傾斜して設けられている。

図６Ａに、液流出部６の断面形状を示す。図６Ａに示すように、液流出部６の上面には、板状ワーク１０（図５に点線で示す）に向かう方向に平行して延びる多数の溝７が、所定間隔で成形されている。液流出部６に溝７を設けたのは、液滞留部４から溢れ出た処理液Ｑが、表面張力によって液流出部６の中心付近に集まるおそれがあり、これを防止するためである。例えば、溝７の深さを１ｍｍ、幅長さを２ｍｍ、配置間隔を２ｍｍ程度に設定することができる。

以上のような構成により、液滞留部４をオーバーフロー状態として、液滞留部４の長縁４ｂから溢れ出させた処理液Ｑを、図６Ｂに示すように、液流出部６を伝って板状ワーク１０に向かって流下させ、さらに、処理液Ｑを液流出部６の先端６ａから勢い良く流出させて板状ワーク１０の両面（表面および裏面）に直接当てることができる。これにより、例えば、無電解銅めっき槽２００内で行われる無電解めっき処理の品質向上、使用する処理液の少量化を図ることができる。

板状ワーク１０のどの位置に処理液Ｑが当たるかは、図６Ｂに示す液流出部６の先端６ａから板状ワーク１０までの距離Ｄや、液流出部６の角度（水平方向に対する流出角度）θ、液滞留部４の開口４ａ（長縁４ｂ）と液流出部６の先端６ａとの高低差ｈなどの条件によって変わる。すなわち、距離Ｄが大き過ぎたり、流出角度θが大き過ぎたり、高低差ｈが小さ過ぎると、処理液Ｑが板状ワーク１０に当たらない（届かない）可能性がある（図６Ｂの流れ(b)）。

一方で、板状ワーク１０と液流出部６の先端６ａの距離Ｄが小さ過ぎると、搬送時に板状ワーク１０が液流出部６に接触したり、処理液Ｑが板状ワーク１０と液流出部６の間に留まってしまう可能性ある。また、流出角度θが小さ過ぎたり、高低差ｈが大き過ぎると、板状ワーク１０に当たる衝撃で泡が発生する等の問題が生じる可能性がある。このため、図６Ｂの流れ(a)に示すように、処理液Ｑが所望の位置に、所望の勢いで当たるように、板状ワーク１０までの距離Ｄ、流出角度θ、高低差ｈを設計する。例えば、液流出部６の角度（水平方向に対する流出角度）θは、水平方向に対して下方に３０°〜６０°に設計することがより好ましく、水平方向に対して下方に４５°とするのが最適である。

また、図５に示す液受け部２の側壁２ｂには、鉛直方向に延伸される切り欠きであるスリット８が成形されている。これにより、搬送用ハンガー８が搬送された時に、板状ワーク１０がスリット８を通過することができる。なお、スリット８の下端８ａを低くし過ぎると、液受け部２に溜まった処理液Ｑが溢れ出し、外部に流出するおそれがある。

このため、液受け部２に溜まった処理液Ｑの液面Ｈ（図３）が、常にスリット８の下端８ａよりも下に位置するように、処理液Ｑの供給量を調整する必要がある。この実施形態では、液受け部２に溜まった処理液Ｑの液面Ｈ（図３）がスリット８の下端８ａよりも下に位置するように、使用する処理液Ｑの総量を決定し、かつ、循環ポンプ５０を介して液受け部２と液滞留部４とを連通させることによって、かかる問題を解消している。

２．表面処理装置３００における各工程の内容
図７などを用いて、表面処理装置３００において行われる各工程の内容について説明する。なお、この実施形態では、表面処理装置３００の各槽内で使用される処理液Ｑは、各槽の循環ポンプ５０によって常時循環されていることとする。

図７Ａは、搬送機構１８の動作を制御する制御部の接続関係を示す図である。図７Ａに示すように、磁気センサー１９（図４）は、ＰＬＣ３０に接続されており、ガイドレール１４の上に配置された磁石の上部に達したことを検知する。磁気センサー１９が検知した信号は、ＰＬＣ３０に与えられる。信号を受けたＰＬＣ３０は、モーター２８をオン／オフして、搬送ローラー２２、２４の動作（前進、後退、停止など）を制御する。

まず、図１に示すロード部３０２において、作業者または取付装置（図示せず）によって、めっき処理の対象である板状ワーク１０が搬送用ハンガー１６に取り付けられる（図２に示す状態）。

その後、作業者が搬送スイッチ（図示せず）を押下すると、搬送用ハンガー１６は、ガイドレール１２、１４に沿って、第１水洗槽３０４内に移動する。すなわち、ＰＬＣ３０が、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。

つぎに、第１水洗槽３０４では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第１水洗槽３０４で所定時間だけ停止し、その後、デスミア槽３０６内に移動する。

例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９から第１水洗槽３０４の中央に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を１分間だけ停止させる。その後、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。なお、第２水洗槽３０８、第３水洗槽３１２、第４水洗槽３１４でも同様の制御が行われる。

デスミア槽３０６で、搬送用ハンガー１６は、所定時間（例えば、５分間）だけ停止し、板状ワーク１０に表裏両面からデスミア処理液（膨潤液、レジンエッチング液、中和液等）が当てられる。ここで、デスミア処理とは、板状ワーク１０に孔を開ける等の際に残った加工時のスミア（樹脂）を除去する処理である。

例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９からデスミア槽３０６の中央に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を５分間だけ停止させる。その後、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。以下の前処理槽３１０でも同様の制御が行われる。

つぎに、第２水洗槽３０８では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第２水洗槽３０８で所定時間（例えば、１分間）だけ停止し、その後、前処理槽３１０内に移動する。

前処理槽３１０で、搬送用ハンガー１６は所定時間（例えば、５分間）だけ停止し、板状ワーク１０に表裏両面から前処理液が当てられる。

つぎに、第３水洗槽３１２では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第３水洗槽３１２で所定時間（例えば、１分間）だけ停止する。

その後、無電解銅めっき槽２００（図３、図４）内に移動するまでに、以下に示す往復移動を所定回数だけ行う。板状ワーク１０にスルホール等の孔が開けられている場合、そこに空気（気泡）がたまって処理液Ｑが板状ワーク１０に付着しないおそれがあるため、無電解銅めっき処理を行う前に、空気（気泡）を確実に除去する必要があるからである。

図７Ｂに、第３水洗槽３１２と無電解銅めっき槽２００（図１）の間におけるガイドレール１４の断面図を示す。図７Ｂおよび図１に示すように、ガイドレール１４には、衝撃発生部である凸部２６が１つ設けられている。搬送ローラー２４が、この凸部２６を乗り越えた衝撃により、処理液Ｑの水切りをすることができる。

例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９から図７Ｂに示す磁石２１が中央に到達したこと（すなわち、搬送ローラー２４が凸部２６を乗り越えたこと）を示す信号を受けてから、搬送ローラー２２、２４を所定距離だけ後退駆動させるようにモーター２８を制御する（図７Ｂに示すＹ１方向）。その後、再び磁石２１を検知するまで搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる（図７Ｂに示すＹ２方向）。上記前後移動を所定回数（例えば、３回往復）だけ繰り返した後、無電解銅めっき槽２００内の中央位置（図４）に停止する。

無電解銅めっき槽２００で、搬送用ハンガー１６は所定時間だけ停止し、板状ワーク１０に表裏両面から無電解銅めっき液が当てられる。

例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９から無電解銅めっき槽２００の中央に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を５分間だけ停止させる。その後、モーター２８をオンして搬送ローラー２２、２４を前進駆動させる。

つぎに、第４水洗槽３１４では、板状ワーク１０に表裏両面から水を当てることにより、水洗い処理が行われる。搬送用ハンガー１６は、第４水洗槽３１４で所定時間（例えば、１分間）だけ停止し、その後、アンロード部３１６に移動する。

最後に、アンロード部３１６に移動した搬送用ハンガー１６を停止させる。例えば、ＰＬＣ３０は、磁気センサー１９からアンロード部３１６に到達したことを示す信号を受けてから、モーター２８を停止させる。その後、作業者などにより、板状ワーク１０が搬送用ハンガーから取り外される。これにより、無電解めっき処理の一連の工程が終了する。

３．２段式の液流出機構（液滞留部４および液流出部６）
なお、上記実施形態では、槽体１００内に、液滞留部４および液流出部６で構成される液流出機構（図３）を１つだけ設けたが、液流出機構を複数段設けるようにしてもよい。図８に、２段の液流出機構（上段液流出機構３ａ、下段液流出機構３ｂ）を鉛直方向に設けた無電解銅めっき槽２００’の例を示す。

図８に示すように、上段の液流出機構３ａによって、板状ワーク１０の上方に処理液Ｑ１を当てつつ、下段の液流出機構３ｂによって、下方の位置に処理液Ｑ２を当てることができる。

図９Ａは、無電解銅めっき槽２００’の上段の液流出部６’の断面図であり、図９Ｂは、下段の液流出部６”の断面図である。

上段の液流出部６’には、図６Ａに示す液流出部６と同様に、多数の溝７が、所定間隔で全体に成形されている。一方、下段の液流出部６”には、中央付近以外の部分にだけ溝７を設けている。

これは、上段の液流出部６’から流出して板状ワーク１０に当たった処理液が、板状ワーク１０を伝って下方に移動する間に、表面張力によって板状ワーク１０の中心付近に集まるおそれがあることを考慮したためである。すなわち、板状ワーク１０を伝って下方に移動する間に処理液Ｑが薄くなった両端付近（中心付近以外の部分）に下段の液流出部６”から流出した処理液Ｑを多く当てることにより、めっき品質の向上を図ることができる。

また、図８に示す無電解銅めっき槽２００’では、１つの循環ポンプ５０’によって、上段の液滞留部４’および下段の液滞留部４”に処理液Ｑを供給する構成ととしたが、上段の液滞留部４’および下段の液滞留部４”それぞれに処理液Ｑを供給する別個の循環ポンプを液受け部２に接続して設けてもよい。これにより、例えば、上段に供給する処理液Ｑ１の量を多くし、下段に供給する処理液Ｑ２の量を少なくする等、供給する処理液Ｑ１、Ｑ２の量を状況によって変化させることができる。

４．その他の実施形態
なお、上記実施形態では、複数の槽（図１に示す第１水洗槽３０４、デスミア槽３０６、前処理槽３１０、無電解銅めっき槽２００など）を表面処理装置３００が備える構成としたが、表面処理装置３００が少なくとも１の槽を備える構成としてもよい。

なお、上記実施形態では、表面処理装置３００を搬送方向Ｘに１列に配置したが、図１０に示すように、表面処理装置３００’、３００”を隣接して複数列配置してもよい。また、図１０に示すように、これら隣接する表面処理装置３００’、３００”の間でガイドレール１４’を共用してもよい。

なお、上記実施形態では、表面処理装置３００を構成する複数の槽を直線上に配置したが、トラバーサー等の移動機構を設けて、複数の槽をコの字型、ロの字型又はＬ字型などに並べて配置してもよい。

なお、上記実施形態では、液受け部２、液滞留部４、液流出部６を一体の部材として構成したが（図５）、これらを分離して構成してもよい。例えば、図１９に示すように、液受け部２を、液滞留部４および液流出部６（液流出機構）から分離して構成してもよい。

なお、上記実施形態では、液流出部６の上面全体に溝７を設けたが（図６Ａ）、液流出部６の中央付近以外（すなわち、両端部付近）にだけ溝７を設けてもよい（図９Ｂを参照）。そうすると、液流出部６の先端６ａ付近（図６Ｂ）における処理液Ｑの流量が均一とならず、中央付近よりも両端部付近の方が大きくなる。その結果、処理液Ｑが伝った板状ワーク１０の下方位置において、処理液の均一化を図ることができる。板状ワーク１０を伝って下方に移動する間に、板状ワーク１０上の処理液Ｑが表面張力により中心付近に集まるためである。

なお、上記実施形態では、液流出部６の上面に矩形の溝７を設けたが（図６Ａ）、図１１Ａに示す丸形の溝を設けたり、図１１Ｂに示す三角形の溝を設ける等、他の形状の溝を設けてもよい。

なお、上記実施形態では、液流出部６の先端６ａを、液受け部２の側壁２ａから板状ワーク１０に向かって水平方向より下向きに傾斜して設けるようにしたが（図６Ｂ）、図１２Ａに示すように、液流出部６を、連結部５から略水平方向（水平方向より少し上向きを含む）に向けて設けるようにしてもよい。

液流出部６を水平方向に向けても、図１２Ａに示すように、液滞留部４から流下したことによる慣性力が十分大きければ、液流出部６の先端６ａから勢いよく処理液Ｑを流出させることができる。

また、上記実施形態では、液滞留部４の長縁４ｂを接合部５から離れた位置に設けたが（図６Ｂ）、図１２Ｂに示すように、液滞留部４の長縁４ｂを、接合部５と同じ位置に設けて構成してもよい。

また、上記実施形態では、液受け部２の側壁２ａと、液滞留部４の側壁４ａとを同じ面としたが、図１２Ｃに示すように、液滞留部４の側壁４ａを液受け部２の側壁２ａと分離して構成してもよい。

なお、上記実施形態では、液流出部６の幅長さを、板状ワーク１０の横幅と同じ程度に設計したが、図１３に示すように、複数の板状ワーク１０に対して同時に、槽体１００内において処理液Ｑを当てることができるように、液流出部６の幅長さを設計してもよい。

なお、上記実施形態では、スリット８からの処理液Ｑの漏れ防止のために、液受け部２の側壁２ｂを液流出部６の両端から間隔を空けて設けるようにしたが（図４）、液受け部２の側壁２ｂを液流出部６の両端に近接させて設けるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、液滞留部４の側壁４ａ（または液受け部２の側壁２ａ）との連結部５から、板状ワーク１０に向かって液流出部６の先端６ａを突出させる構成とすると共に、液受け部２の側壁２ｂを液流出部６の両端から間隔を空けて設けるようにした（図４）。しかしながら、図２０に示すように、液滞留部４の側壁４ａ（または液受け部２の側壁２ａ）との連結部５から板状ワーク１０に向かって液流出部６の先端６ａを突出させない構成（液流下部材６’）とし、液受け部２の側壁２ｂを液流下部材６’の両端から間隔を空けて設けるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、片側のガイドレール１４だけに凸部２６（図７Ｂ）を設けることとしたが、両側のガイドレール１２、１４に凸部２６を設けるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、ガイドレール１４に凸部２６（図７Ｂ）を設けて衝撃を発生させることとしたが、その他の構造（例えば、凹部を設ける等）により衝撃を発生させるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、ガイドレール１４に１つの凸部２６（図７Ｂ）を設けることとしたが、図１８に示すように、ガイドレール１４に複数の凸部２６’を設けるようにしてもよい。また、第３水洗槽３１２と無電解銅めっき槽２００（図１）の間に凸部２６（図７Ｂ）を設けることとしたが、他の位置に凸部２６を設けてもよい。

なお、上記実施形態では、搬送ローラー２４が凸部２６（図７Ｂ）の上を往復動作するように制御したが、往復動作せず、単に凸部２６の上を通過するように制御してもよい。例えば、搬送ローラー２４（図７Ｂ）がガイドレール１４に設けられた複数の凸部２６の上を一直線に移動するように制御してもよい。

なお、上記実施形態では、搬送ローラー２４が凸部２６の上を３往復するように制御することとしたが、一定の条件を満たす（例えば、スミアや気泡が板状ワーク１０から確実に除去されたことを、カメラ撮影して画像認識する等して検知する）まで往復動作させるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、循環ポンプ５０を常時作動させて、液流出部６から処理液Ｑを常に流したままの状態で、板状ワーク１０を槽体１００内に搬送し、または槽体１００外に搬出するようにしたが、例えば、板状ワーク１０の停止中には、循環ポンプ５０の電源をオンして液流出部６から処理液Ｑを流し、板状ワーク１０の移動中には、循環ポンプ５０の電源をオフして液流出部６から処理液Ｑを流さないように制御してもよい。

なお、上記実施形態では、槽体１００の素材としてＰＶＣを用いたが、その他の素材（例えば、ＰＰ、ＦＲＰ、ＰＰＳ樹脂、ＰＴＦＥ、ステンレスなど）を用いるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、表面処理装置３００によって、板状ワーク１０に無電解銅めっきを行うこととしたが、板状ワーク１０にその他の無電解めっき（例えば、無電解ニッケルめっき、無電解スズめっき、無電解金めっきなど）を行うようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、板状ワーク１０の上端のみを搬送用ハンガー１６で把持するようにしたが（図２）、板状ワーク１０の下部に重りを取り付けたり、図１４に示すように枠体１７を備えた搬送用ハンガー１６’によって板状ワーク１０の上端クランプ１５’および下端クランプ１５”で把持して搬送するようにしてもよい。また、図１５に示すように、板状ワーク１０の動きを制限する回転ローラー立設体７０、７２を槽体１００内のスリット８付近に補助的に配置して、搬送時における板状ワーク１０の揺れを防止しつつ搬送してもよい。

なお、上記実施形態では、搬送機構１８の搬送ローラー２２、２４をモーターで駆動することにより搬送用ハンガー１６を搬送することとしたが、プッシャ、チェーン、リニアモーター式の搬送機構等の駆動方法を用いて搬送用ハンガー１６を搬送してもよい。

なお、上記実施形態では、板状ワーク１０の表裏両面に処理液Ｑを当てることとしたが（図６Ｂ）、板状ワーク１０の片側だけに処理液Ｑを当てるようにしてもよい。

なお、上記実施形態では、磁気センサーを用いてガイドレール１２、１４上の所定位置を検知することとしたが、その他のセンサー（バーコードリーダー等）を用いて所定位置を検知してもよい。

なお、上記実施形態では、被処理物を矩形の板状ワーク１０としたが、被処理物をその他の形状（例えば、棒状、立方体など）としてもよい。

Claims (15)

1. 被処理物を搬送する搬送用ハンガーと、
   内部において、前記搬送用ハンガーにより搬送された前記被処理物に処理液を付着させるための槽体と、
   前記搬送用ハンガーを、前記槽体内に搬送する搬送機構と、
   を備えた表面処理装置であって、
   前記槽体が、前記被処理物に当てられた処理液を受けるための液受け部と、前記液受け部よりも上方に設けられ、前記被処理物に当てようとする前記処理液を滞留させるための液滞留部と、前記液滞留部から溢れ出て流下した前記処理液を被処理物に向かって流出させるための液流出部であって、先端が前記液滞留部または前記液受け部との連結部から突出するように構成された液流出部と、を備えたこと、
   を特徴とする表面処理装置。
2. 請求項１の表面処理装置において、さらに、
   前記搬送用ハンガーを略水平方向に搬送するためのガイドレールを備えており、
   前記搬送用ハンガーが、前記ガイドレールに設けられた衝撃発生部の上を所定回数だけ往復移動するように制御部により制御されること、
   を特徴とする表面処理装置。
3. 請求項１の表面処理装置において、さらに、
   前記搬送用ハンガーを略水平方向に搬送するためのガイドレールを備えており、
   前記搬送用ハンガーが、前記ガイドレールに設けられた複数の衝撃発生部の上を移動するように制御部により制御されること、
   を特徴とする表面処理装置。
4. 請求項１〜３のいずれかの表面処理装置において、
   前記搬送用ハンガーを略水平方向に搬送するためのガイドレールを複数備えており、
   前記搬送用ハンガーを、前記複数のガイドレールに渡って取り付けられた支持部材に固定したこと、
   を特徴とする表面処理装置。
5. 請求項１〜４のいずれかの表面処理装置において、
   前記表面処理装置を、前記搬送方向に対して垂直方向に隣接して複数列配置し、
   隣接する表面処理装置の間でガイドレールを共用したこと、
   を特徴とする表面処理装置。
6. 請求項１〜５のいずれかの表面処理装置において、
   前記液受け部と前記液滞留部とを循環ポンプを介して連通させたこと、
   を特徴とする表面処理装置。
7. 請求項１〜６のいずれかの表面処理装置において、
   前記液受け部の側壁に、鉛直方向に延伸される切り欠きであって、前記搬送用ハンガーが移動した時に、前記被処理物が通過する切り欠きが設けられており、
   前記液受け部に溜まった処理液の液面が、前記切り欠きの下端よりも下に位置するように、前記液滞留部に処理液が供給されること、
   を特徴とする表面処理装置。
8. 処理液を滞留させるための液滞留部と、
   前記液滞留部から溢れ出て流下した前記処理液を被処理物に向かって流出させるための液流出部であって、先端が前記液滞留部との連結部から突出するように構成された液流出部と、
   を備えたこと、を特徴とする槽体。
9. 請求項１〜８のいずれかの表面処理装置または槽体において、さらに、
   前記槽体が、前記被処理物に当てられた処理液を受けるための液受け部を備えており、
   前記液受け部の側壁に、鉛直方向に延伸される切り欠きであって、前記搬送用ハンガーが移動した時に、前記被処理物が通過する切り欠きが設けられていること、
   を特徴とする表面処理装置または槽体。
10. 請求項９の表面処理装置または槽体において、
    前記液流出部の両端から間隔を空けて、前記切り欠きが設けられた前記液受け部の側壁を設けたこと、
    を特徴とする表面処理装置または槽体。
11. 請求項１〜１０のいずれかの表面処理装置または槽体において、
    前記液流出部の先端が、前記液受け部または前記液滞留部との連結部から略水平方向に向けて、または水平方向より下向きに傾斜して設けられたこと、
    を特徴とする表面処理装置または槽体。
12. 請求項１〜１１のいずれかの表面処理装置または槽体において、
    前記液流出部の上面に、前記被処理物に向かう方向に延伸される溝を成形したこと、
    を特徴とする表面処理装置または槽体。
13. 請求項１２の表面処理装置または槽体において、
    前記液流出部の先端付近における処理液の流量が、中央付近よりも両端部付近の方が大きくなるように、前記溝を成形したこと、
    を特徴とする表面処理装置または槽体。
14. 請求項１〜１３のいずれかの表面処理装置または槽体において、
    前記液滞留部および前記液流出部で構成される液流下機構を、前記槽体内に複数段配置したこと、
    を特徴とする表面処理装置または槽体。
15. 処理液を滞留させるための液滞留部と、
    前記液滞留部から溢れ出た処理液を流下させるように構成した流下部材と、
    被処理物に当てられた処理液を受けるための液受け部と、
    を備えた、槽体であって、
    前記液受け部の側壁に設けられる鉛直方向に延伸される切り欠きであって、前記搬送用ハンガーが移動した時に、前記被処理物が通過する切り欠きが前記液受け部に設けられおり、
    前記流下部材の両端から間隔を空けて、前記切り欠きが設けられた前記液受け部の側壁を設けたこと、
    を特徴とする槽体。

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