CN207079292U - 一种电镀装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种电镀装置,包括轨道、天车、挂具、预处理槽和电镀槽;天车包括移动部和升降部,移动部沿轨道移动,升降部与移动部连接;挂具用于承载或夹持工件;多个预处理槽以长度方向沿轨道依次排列,工件在预处理槽沉置一定时间完成预处理,且在预处理时工件的长度方向与预处理槽的宽度方向平行;电镀槽设置有阳极和电镀液,电镀槽的长度方向与轨道传输方向平行;工件电镀时,挂具带动工件沿电镀槽以一定的速率依次通过,且在电镀时工件的长度方向与电镀槽的长度方向平行。预处理槽沿长度方向以轨道铺设方向排列,可以减少垂直于轨道方向上的长度,减少占地面积。工件直接依次通过电镀槽,可以保证各个工件电镀的一致性。
Description
技术领域
本实用新型涉及电镀的技术领域,尤其涉及一种电镀装置。
背景技术
目前,电镀的工序一般如图1所示,处理槽1′中容置有用于进行相应处理的溶液,工件5′在天车的带动下,沉入到溶液中进行静置一段时间,处理完毕后再提升进入下一个处理槽1′进行处理。此种处理方式可以一次处理多个工件5′,且在设有多个处理槽1′时,对于处理槽1′内已经处理好的工件5′可以直接通过天车移出,无需等待其他的工件5′处理完后统一运输,处理比较方便。但是,在电镀的工序时,在电镀槽中处于不同位置的工件5′处的溶液类物质的含量和此处的电流密度并不完全一致,因此,电镀槽中不同位置的工件5′电镀的效果不一致,容易造成工件5′电镀后的效果参差不齐,无法保持电镀效果的一致性。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提出一种电镀装置,可以兼顾占地面积和电镀效果一致性。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种电镀装置,包括轨道、天车、挂具、预处理槽和电镀槽,轨道与固定架固定,距离地面一定的高度且沿工件的传输方向铺设;天车包括移动部和升降部,移动部沿轨道移动,升降部与移动部连接;挂具用于承载或夹持工件,挂具与升降部连接,或挂具直接挂接于轨道;预处理槽位于轨道的下方,预处理槽容置有对工件进行预处理的溶液,多个预处理槽以长度方向沿轨道依次排列,工件在预处理槽沉置一定时间完成预处理,且在预处理时工件的长度方向与预处理槽的宽度方向平行;电镀槽位于轨道的下方且位于预处理槽沿工件的传输方向的后方,电镀槽设置有阳极和电镀液,电镀槽的长度方向与轨道传输方向平行;工件电镀时,挂具带动工件沿电镀槽以一定的速率依次通过,且在电镀时工件的长度方向与电镀槽的长度方向平行。
进一步的,轨道包括第一轨道和切换轨道,第一轨道处于位于预处理槽的上方;切换轨道位于第一轨道沿传输方向的后端且与第一轨道错位;电镀装置还包括旋转移位机构,用于连通第一轨道和切换轨道,旋转移位机构包括机架、旋转机构和移位机构,机架与轨道相对固定;旋转机构与机架连接,且与第一轨道对接,旋转机构的底部设置有可水平转动的转盘,转盘可承载挂具;移位机构与机架连接,且可沿水平方向移动,移位机构分别与旋转机构和切换轨道对接,移位机构设置可用于承载挂具的对接结构。
进一步的,移位机构包括平移轨道和沿平移轨道上滑动的移动件,平移轨道的两端分别与切换轨道和旋转机构对接,移动件上固定有可伸缩的伸缩机构,伸缩机构的伸缩方向与平移轨道的延伸方向垂直,伸缩机构的末端设置有拨叉,拨叉可从挂具的侧部伸入并承载挂具。
进一步的,在第一轨道上,挂具与升降部之间通过连接件连接,连接件的底部呈倒钩型,用于承载挂具,连接件的顶部设置下小上大的连接部,用于与升降部连接;转盘开设有对接槽,用于承载连接部。
进一步的,拨叉位于转盘的下方,与挂具的上部位置对应,拨叉从挂具的侧部伸入并承载挂具后,连接件与挂具脱离。
进一步的,移动件和平移轨道之间通过齿轮齿条机构连接,移动件上固定有气缸,气缸的活塞杆形成伸缩机构。
进一步的,挂具的顶部向侧面凸出,且凸出部分向外连接有驱动齿轮,驱动齿轮和挂具的顶部的侧面之间形成挂接区,连接件的底部伸入挂接区,以承载挂具。
进一步的,轨道还包括第二轨道,第二轨道位于电镀槽上方,切换轨道和第二轨道上均铺设有与驱动齿轮配合的齿条。
进一步的,预处理槽包括沿工件的传输方向设置的除胶渣槽和化学沉铜槽,分别对工件进行除胶渣和化学沉铜处理。
有益效果:本实用新型提供了一种电镀装置,包括轨道、天车、挂具、预处理槽和电镀槽,轨道与固定架固定,距离地面一定的高度且沿工件的传输方向铺设;天车包括移动部和升降部,移动部沿轨道移动,升降部与移动部连接;挂具用于承载或夹持工件,挂具与升降部连接,或挂具直接挂接于轨道;预处理槽位于轨道的下方,预处理槽容置有对工件进行预处理的溶液,多个预处理槽以长度方向沿轨道依次排列,工件在预处理槽沉置一定时间完成预处理,且在预处理时工件的长度方向与预处理槽的宽度方向平行;电镀槽位于轨道的下方且位于预处理槽沿工件的传输方向的后方,电镀槽设置有阳极和电镀液,电镀槽的长度方向与轨道传输方向平行;工件电镀时,挂具带动工件沿电镀槽以一定的速率依次通过,且在电镀时工件的长度方向与电镀槽的长度方向平行。工件首先沉入在预处理槽中进行预处理,在完成预处理后,再依次通过电镀槽。预处理阶段采用化学方法进行处理,只要工件沉入时间较长,溶液循环流动,就可以获得比较好的预处理效果。在电镀阶段,工件依次从电镀槽中通过,所有的工件经历的电镀环境一致,工件的电镀效果可以保持较好的一致性。预处理槽沿长度方向以轨道铺设方向排列,可以减少垂直于轨道方向上的长度,减少占地面积。工件直接依次通过电镀槽,不作停留,因此,轨道沿电镀槽的长度方向设置以增加工件在电镀槽中的电镀时间,保证电镀效果。本实用新型的电镀装置在保证工件最终的电镀效果时,尽量减少占地面积。
附图说明
图1是现有技术的工件在电镀时的过程示意图。
图2是本实用新型的电镀装置的各个部分的排布图。
图3是图2的C处的局部放大图。
图4是本实用新型的预处理槽的断面图。
图5是本实用新型的电镀槽的断面图。
图6是图5的D处的局部放大图。
图7是本实用新型的旋转移位机构的结构示意图。
图8是本实用新型的移位机构、挂具和连接件的结构示意图。
其中:
11-第一轨道,12-第二轨道,2-天车,21-移动部,22-升降部,3-挂具,31-驱动齿轮,4-预处理槽,41-除胶渣槽,42-化学沉铜槽,43-支撑部,5-电镀槽,51-阳极,6-旋转移位机构,61-旋转机构,62-移位机构,621-平移轨道,622-移动件,7-连接件,71-连接部,8-工件,A-入口,B-出口;1′-处理槽,5′-工件。
具体实施方式
为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚,下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。
如图2-图8所示,本实用新型提供了一种电镀装置,包括轨道、天车2、挂具3、预处理槽4和电镀槽5。轨道与固定架固定,固定架支撑在地面上。轨道距离地面一定的高度且沿工件8的传输方向铺设。
天车2包括移动部21和升降部22,移动部21沿轨道移动,升降部22与移动部21连接。
挂具3用于承载或夹持工件8,在轨道的某些区域,挂具3与升降部22连接,通过天车在轨道上运行带动挂具沿轨道传输;在轨道的另一些区域,挂具3直接挂接于轨道,沿轨道传输。
预处理槽4位于轨道的下方,预处理槽4容置有对工件8进行预处理的溶液,多个预处理槽4以长度方向沿轨道依次排列,工件8在预处理槽4沉置一定时间完成预处理,且在预处理时工件8的长度方向与预处理槽4的宽度方向平行。
电镀槽5位于轨道的下方且位于预处理槽4沿工件8的传输方向的后方,电镀槽5设置有阳极51和电镀液,电镀槽5的长度方向与轨道传输方向平行;工件8电镀时,挂具3带动工件8沿电镀槽5以一定的速率依次通过,且在电镀时工件8的长度方向与电镀槽5的长度方向平行。
在图2中,A为工件8的入口,在A处设置有上料处,上料处和传输车对接,B为工件8的出口,在B处设置有下料处,有下料平台与轨道对接。工件8的处理过程为:工件8从A处进入后,经过左侧的传输车,转接到天车2上,沿着箭头的方向经过预处理槽4进行预处理,再经过右侧的传输车,依次从电镀槽5中通过,完成电镀过程,最后从B处下料集中到下料平台上。
本实用新型的电镀装置对工件8进行处理时,主要分为预处理阶段和电镀阶段,其中,预处理阶段一般以化学处理为主,比如,将工件8依次进行膨胀、除胶、中和、化学沉铜等。膨胀可以将钻污的树脂除去,分解为小分子单体。除胶在除胶渣槽41中处理,主要通过高锰酸钾在碱性环境中的强氧化性将孔壁表面树脂氧化。经过除胶后的工件8再通过具酸性和还原的中和剂处理,比如草酸等,将高锰酸钾的强氧化性和除胶中的强碱性处理液中和。经过中和处理后的工件8再通过微蚀刻、预浸、活化和加速等处理,再在化学沉铜槽42中进行化学沉铜处理,逐渐沉积出0.3-0.5μm的铜,为后续电镀铜做好准备。工件8在完成预处理后,再依次通过电镀槽5进行电镀。工件进行预处理的过程如图4所示,其中虚线框表示位于虚线框上方的工件8和挂具3共同向下移动,到达虚线框的区域,此时工件8沉入到预处理的溶液中。
预处理阶段主要采用化学方法进行处理,只要工件8沉入时间较长,溶液循环流动,就可以获得比较好的预处理效果。但是电镀时由于电流分布的影响,在电镀槽中的不同位置的电流有较大的差别,沉入式处理容易导致不同位置的工件8的表面的电镀效果差异较大。因此,本实用新型的电镀设备在工件8的电镀阶段,工件8依次从电镀槽5中通过,所有的工件8从一端进入到另一端移出,经历的电镀环境一致,工件8的电镀效果可以保持较好的一致性。由于预处理采用沉入式处理的方式,在预处理阶段,可以将预处理槽4的长度方向与轨道延伸方向保持平行,可以使得整个电镀装置在垂直于轨道铺设方向的尺寸减少,降低电镀装置本身的占地面积。同时,将工件8与轨道保持垂直,即工件8的长度方向设置为与预处理槽4的宽度方向平行,可以使得工件在预处理槽4中的排布密度增大,也便于天车沿着轨道输送工件8。
工件在电镀槽5中进行电镀时如图5所示,工件8直接依次通过电镀槽5,不作停留,电镀槽5的长度方向与轨道传输方向平行,以增加工件8在电镀槽5中的电镀时间,保证电镀效果。
通过上述结构设计,本实用新型的电镀装置在保证工件8最终具有较好的电镀效果时,可以尽量减少整个电镀装置的占地面积。
本实用新型中,轨道包括第一轨道11和切换轨道,第一轨道11处于位于预处理槽4的上方,切换轨道位于第一轨道11沿传输方向的后端且与第一轨道11错位。电镀装置还包括旋转移位机构6,用于连通第一轨道11和切换轨道,旋转移位机构6包括机架、旋转机构61和移位机构62,机架与轨道相对固定,旋转机构61与机架连接,且与第一轨道11对接,旋转机构61的底部设置有可水平转动的转盘,转盘可承载挂具3。移位机构62与机架连接,且可沿水平方向移动,移位机构62分别与旋转机构61和切换轨道对接,移位机构62设置可用于承载挂具3的对接结构。
由于在预处理槽4内,工件8的长度方向与预处理槽41的宽度方向平行,与轨道延伸方向垂直,而在电镀槽5内,工件8的长度方向与电镀槽5的长度方向平行,延伸方向平行,因此,电镀装置利用旋转移位机构6调整工件8的方向。
如图7所示,具体而言,在第一轨道11上,天车2带动挂具5移动到第一轨道11的端部,天车2将挂具5移动到旋转机构61的转盘后,天车脱离挂具5。旋转机构61的转盘带动挂具5和工件8水平旋转90°,使得工件8的长度方向与轨道11的延伸方向保持平行,为后续电镀准备。调整完方向后再通过移位机构62移动挂具3和工件8的位置,将挂具3移动到切换轨道上,完成轨道切换过程。通过旋转移位机构,可以实现挂具3和工件8的姿态变化和轨道切换,进入到电镀前的准备状态。图8中,左侧的虚线框表示挂具3和工件8从右侧的位置被移动到左侧的虚线框的区域内,和切换轨道对接。
本实用新型中,如图7和图8所示,移位机构62包括平移轨道621和沿平移轨道621上滑动的移动件622,平移轨道621的两端分别与切换轨道11和旋转机构61对接,移动件622上固定有可伸缩的伸缩机构,伸缩机构的伸缩方向与平移轨道621的延伸方向垂直,伸缩机构的末端设置有拨叉,拨叉可从挂具3的侧部伸入并承载挂具3。拨叉的端部呈V字型等,可以在伸入时卡住挂具3顶端的卡接区,实现对挂接3的承载。伸缩机构在挂具3处承载挂具3后,移动件622沿平移轨道621移动,带动挂具3移动到平移轨道621的末端,并将挂具移动到切换轨道中。通过上述的移位机构62可以非常方便将工件8和挂具3从旋转机构处转移到切换轨道上。
具体而言,移动件622和平移轨道621之间可以通过齿轮齿条机构连接,齿条可以直接沿着平移轨道621铺设,结构简单,控制方便。当然,移动件622和平移轨道621之间也可以通过其他直线运动机构连接,比如丝杆螺母机构与等。移动件622上固定有气缸,气缸的活塞杆形成伸缩机构,气缸的伸缩过程控制方便,且气缸直接通过气管连接,气管可以跟随气缸沿轨道移动,使用方便。
如图4和图8所示,在第一轨道11上,挂具3与升降部22之间通过连接件7连接,连接件7的底部呈倒钩型,用于承载挂具3,连接件7的顶部设置下小上大的连接部71,用于与升降部22连接。预处理槽4的上方还设置有支撑部43,用于承载连接件7。在预处理阶段,天车在第一轨道11上与连接件7连接,带动连接件7到达预设位置时,升降部22下沉,直至连接件7被放置于支撑架43上,升降部7继续下沉一定距离与连接件7脱离。预处理完成后,与上述过程相反,升降部22从连接件7的底部将连接件7托起,将工件8脱离预处理槽后移动到旋转机构61处。本实用新型中,转盘开设有对接槽,用于承载连接部71。工件8到达旋转机构61处时,升降部22下沉,连接部71被放置于转盘上,升降部22继续下沉与连接件7脱离。拨叉可以设置于转盘的下方,与挂具3的上部位置对应,利用拨叉从挂具3的侧部伸入,承载挂具3并沿平移轨道621移动,挂具3与连接件7分离。
连接件7在工件的预处理阶段可以与天车2连接,可以与支撑部43连接,与旋转机构61连接,从而使得挂具3和工件8跟随连接件7移动。在旋转机构61处,利用拨叉,可以非常方便地将连接件7和挂具3分离,便于挂具3转移到切换轨道上。
为了更好的与连接件7连接,挂具3的顶部向侧面凸出,且凸出部分向外连接有驱动齿轮31,驱动齿轮31和挂具3的顶部的侧面之间形成挂接区,连接件7的底部伸入挂接区,以承载挂具3。
如图5和图6所示,本实施例中,轨道还包括第二轨道12,第二轨道12位于电镀槽5上方,切换轨道和第二轨道12上均铺设有与驱动齿轮31配合的齿条。挂具3可以直接挂在第二轨道12和切换轨道上,通过驱动齿轮31和齿条的配合,挂具3可以沿齿条移动,而不再需要天车2和连接件7带动挂具3移动。
电镀装置还包括电源模组,为电镀过程提供电能,以及控制电镀时的相关参数,如图5所示,电镀槽5沿长度方向的两侧分别设置有阳极51,阳极51与电源模组的正极输出端电连接,挂具3与电源模组的负极输出端电连接,以使得夹持于第二挂具3上的工件8形成阴极。两侧的阳极51可以分别使得工件8的正反侧均能具有比较好的电镀效果。
以上内容仅为本实用新型的较佳实施例,对于本领域的普通技术人员,依据本实用新型的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
Claims (9)
1.一种电镀装置,其特征在于,包括:
轨道,与固定架固定,距离地面一定的高度且沿工件(8)的传输方向铺设;
天车(2),包括移动部(21)和升降部(22),所述移动部(21)沿所述轨道移动,所述升降部(22)与所述移动部(21)连接;
挂具(3),用于承载或夹持工件(8),所述挂具(3)与所述升降部(22)连接,或所述挂具(3)直接挂接于所述轨道;
预处理槽(4),位于所述轨道的下方,所述预处理槽(4)容置有对工件(8)进行预处理的溶液,多个所述预处理槽(4)以长度方向沿所述轨道依次排列,所述工件(8)在所述预处理槽(4)沉置一定时间完成预处理,且在预处理时所述工件(8)的长度方向与所述预处理槽(4)的宽度方向平行;
电镀槽(5),位于所述轨道的下方且位于所述预处理槽(4)沿工件(8)的传输方向的后方,所述电镀槽(5)设置有阳极(51)和电镀液,所述电镀槽(5)的长度方向与所述轨道传输方向平行;所述工件(8)电镀时,所述挂具(3)带动所述工件(8)沿所述电镀槽(5)以一定的速率依次通过,且在电镀时所述工件(8)的长度方向与所述电镀槽(5)的长度方向平行。
2.如权利要求1所述的电镀装置,其特征在于,所述轨道包括:
第一轨道(11),处于位于所述预处理槽(4)的上方;和
切换轨道,位于所述第一轨道(11)沿传输方向的后端且与所述第一轨道(11)错位;
所述电镀装置还包括旋转移位机构(6),用于连通所述第一轨道(11)和所述切换轨道,所述旋转移位机构(6)包括:
机架,与所述轨道相对固定;
旋转机构(61),与所述机架连接,且与所述第一轨道(11)对接,所述旋转机构(61)的底部设置有可水平转动的转盘,所述转盘可承载所述挂具(3);和
移位机构(62),与所述机架连接,且可沿水平方向移动,所述移位机构(62)分别与所述旋转机构(61)和所述切换轨道对接,所述移位机构(62)设置可用于承载所述挂具(3)的对接结构。
3.如权利要求2所述的电镀装置,其特征在于,所述移位机构(62)包括平移轨道(621)和沿所述平移轨道(621)上滑动的移动件(622),所述平移轨道(621)的两端分别与所述切换轨道(11)和所述旋转机构(61)对接,所述移动件(622)上固定有可伸缩的伸缩机构,所述伸缩机构的伸缩方向与所述平移轨道(621)的延伸方向垂直,所述伸缩机构的末端设置有拨叉,所述拨叉可从所述挂具(3)的侧部伸入并承载所述挂具(3)。
4.如权利要求3所述的电镀装置,其特征在于,在所述第一轨道(11)上,所述挂具(3)与所述升降部(22)之间通过连接件(7)连接,所述连接件(7)的底部呈倒钩型,用于承载所述挂具(3),所述连接件(7)的顶部设置下小上大的连接部(71),用于与所述升降部(22)连接;
所述转盘开设有对接槽,用于承载所述连接部(71)。
5.如权利要求4所述的电镀装置,其特征在于,所述拨叉位于所述转盘的下方,与所述挂具(3)的上部位置对应,所述拨叉从所述挂具(3)的侧部伸入并承载所述挂具(3)后,所述连接件(7)与所述挂具(3)脱离。
6.如权利要求3所述的电镀装置,其特征在于,所述移动件(622)和所述平移轨道(621)之间通过齿轮齿条机构连接,所述移动件(622)上固定有气缸,所述气缸的活塞杆形成所述伸缩机构。
7.如权利要求4所述的电镀装置,其特征在于,所述挂具(3)的顶部向侧面凸出,且凸出部分向外连接有驱动齿轮(31),所述驱动齿轮(31)和所述挂具(3)的顶部的侧面之间形成挂接区,所述连接件(7)的底部伸入挂接区,以承载所述挂具(3)。
8.如权利要求7所述的电镀装置,其特征在于,所述轨道还包括第二轨道(12),所述第二轨道(12)位于所述电镀槽(5)上方,所述切换轨道和所述第二轨道(12)上均铺设有与所述驱动齿轮(31)配合的齿条。
9.如权利要求1所述的电镀装置,其特征在于,所述预处理槽(4)包括沿所述工件(8)的传输方向设置的除胶渣槽(41)和化学沉铜槽(42),分别对工件(8)进行除胶渣和化学沉铜处理。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |