JPH0610199A - 金属帯の電解処理装置 - Google Patents
金属帯の電解処理装置Info
- Publication number
- JPH0610199A JPH0610199A JP16737992A JP16737992A JPH0610199A JP H0610199 A JPH0610199 A JP H0610199A JP 16737992 A JP16737992 A JP 16737992A JP 16737992 A JP16737992 A JP 16737992A JP H0610199 A JPH0610199 A JP H0610199A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal strip
- electrolytic treatment
- metallic strip
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- electrolytic
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】金属帯と対極の間に液を保持して電解処理を行
う電解処理装置において、幅方向に均一な組成の電解液
が得られるようにする。 【構成】端面検出装置１１で検出した金属帯の側端面の
位置に応じて、演算制御発信装置１２はシリンダ１０に
制御信号を送る。この制御信号は金属帯１の側端面位置
に対して、電解装置の側壁８を、ある一定の距離を保っ
て追従させる。このとき、側壁８は同時に電解液供給ヘ
ッダ７の幅も調整する。 これにより、電解装置内の金
属帯の外側の液流速の小さい領域、すなわち電解液の更
新の行われにくい部分の容積をを最小限に維持し幅方向
に均一な液組成を得ることが可能になる。
う電解処理装置において、幅方向に均一な組成の電解液
が得られるようにする。 【構成】端面検出装置１１で検出した金属帯の側端面の
位置に応じて、演算制御発信装置１２はシリンダ１０に
制御信号を送る。この制御信号は金属帯１の側端面位置
に対して、電解装置の側壁８を、ある一定の距離を保っ
て追従させる。このとき、側壁８は同時に電解液供給ヘ
ッダ７の幅も調整する。 これにより、電解装置内の金
属帯の外側の液流速の小さい領域、すなわち電解液の更
新の行われにくい部分の容積をを最小限に維持し幅方向
に均一な液組成を得ることが可能になる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属帯の電解処理装置
に関し、特に高速処理に適した電解処理装置に関する。
に関し、特に高速処理に適した電解処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】金属帯の電解処理は、電気めっき、陽極
酸化処理等、広く実施されているが、近年、高速処理化
の要求はますます高まっている。最も一般的な電解処理
装置は図３に示すような縦型浸漬装置である。この装置
では、金属帯１は入口通電ロール３ａ及び出口通電ロー
ル３ｂに接して給電され、電解液２を収納しているめっ
きタンク５に入り対極４ａの間を通って下降し、めっき
タンク内のシンクロール６を廻って上昇し、対極４ｂの
間を通って電解液２の外に出る。金属帯は以上の工程で
電解処理される。
酸化処理等、広く実施されているが、近年、高速処理化
の要求はますます高まっている。最も一般的な電解処理
装置は図３に示すような縦型浸漬装置である。この装置
では、金属帯１は入口通電ロール３ａ及び出口通電ロー
ル３ｂに接して給電され、電解液２を収納しているめっ
きタンク５に入り対極４ａの間を通って下降し、めっき
タンク内のシンクロール６を廻って上昇し、対極４ｂの
間を通って電解液２の外に出る。金属帯は以上の工程で
電解処理される。
【０００３】このような装置で高速処理を行う場合、液
抵抗による金属帯の波打ちや、ばたつき現象が大きいた
め、金属帯１と対極４との間隔を大きくする必要があ
る。このため電解電圧が高くなる結果となり、電力コス
ト的に不利となる。また電流密度を高くすることができ
ないため設備が大型化するという欠点がある。また、シ
ンクロール６の部分の金属帯のグリップ力が電解液の巻
き込みにより低下するため、スリップが生じやすいとい
う問題点もある。
抵抗による金属帯の波打ちや、ばたつき現象が大きいた
め、金属帯１と対極４との間隔を大きくする必要があ
る。このため電解電圧が高くなる結果となり、電力コス
ト的に不利となる。また電流密度を高くすることができ
ないため設備が大型化するという欠点がある。また、シ
ンクロール６の部分の金属帯のグリップ力が電解液の巻
き込みにより低下するため、スリップが生じやすいとい
う問題点もある。
【０００４】これらの欠点を解決する手段として、めっ
きタンクに金属帯を浸漬させることなく、対極と金属帯
の間にのみ電解液を保持させる装置について種々の技術
開発がなされている。図４はその一例を示したものであ
る。図４の装置は、対極４によって金属帯１が通過する
平たい矩形断面の通路を形成し、この通路中を金属帯１
を通過させながら、電解液ヘッダ７から電解液を供給
し、通路中を電解液で充満させて、電解処理を行うよう
にしたものである。
きタンクに金属帯を浸漬させることなく、対極と金属帯
の間にのみ電解液を保持させる装置について種々の技術
開発がなされている。図４はその一例を示したものであ
る。図４の装置は、対極４によって金属帯１が通過する
平たい矩形断面の通路を形成し、この通路中を金属帯１
を通過させながら、電解液ヘッダ７から電解液を供給
し、通路中を電解液で充満させて、電解処理を行うよう
にしたものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような装置によっ
て、工業的に電解処理を行う場合、処理すべき金属帯の
幅は様々であるし、また、高速処理を行う際、金属帯の
多少の蛇行は不可避であるため、電解処理装置の幅は、
金属帯の幅に対して余裕をもたせた寸法となっているの
が通例である。
て、工業的に電解処理を行う場合、処理すべき金属帯の
幅は様々であるし、また、高速処理を行う際、金属帯の
多少の蛇行は不可避であるため、電解処理装置の幅は、
金属帯の幅に対して余裕をもたせた寸法となっているの
が通例である。
【０００６】この場合、電解液の幅方向の均一性が問題
となる。すなわち、金属帯の中央部に相対する電解液は
金属帯の走行速度に応じた液流速を持ち、常にフレッシ
ュな電解液が供給されるが、金属帯の側端部及びその外
側にある電解液は複雑な液流動の影響を受ける。このた
め、金属帯の側端部に相対する電解液は液組成が不均一
になりやすく、例えば、サージェントクロメート浴中の
硫酸のように、微量な濃度変化が電解処理に重大な影響
を与える場合には、金属帯の側端部に表面欠陥を発生さ
せる原因になる。
となる。すなわち、金属帯の中央部に相対する電解液は
金属帯の走行速度に応じた液流速を持ち、常にフレッシ
ュな電解液が供給されるが、金属帯の側端部及びその外
側にある電解液は複雑な液流動の影響を受ける。このた
め、金属帯の側端部に相対する電解液は液組成が不均一
になりやすく、例えば、サージェントクロメート浴中の
硫酸のように、微量な濃度変化が電解処理に重大な影響
を与える場合には、金属帯の側端部に表面欠陥を発生さ
せる原因になる。
【０００７】本発明は、上記問題点を解決するため、電
解液の組成が不均一になることを防止し、上記欠陥の発
生を防止することを目的としたものである。
解液の組成が不均一になることを防止し、上記欠陥の発
生を防止することを目的としたものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、金属帯と対極
の間に液を保持して電解処理を行う電解処理装置に適用
されるものである。本発明は、金属帯の幅を検出する検
出装置を備え、電解処理装置の側壁面の幅及び電解液供
給口の幅を前記金属帯の幅に追従するように移動する幅
調整装置を備えたことを特徴とする金属帯の電解処理装
置を提供するものである。
の間に液を保持して電解処理を行う電解処理装置に適用
されるものである。本発明は、金属帯の幅を検出する検
出装置を備え、電解処理装置の側壁面の幅及び電解液供
給口の幅を前記金属帯の幅に追従するように移動する幅
調整装置を備えたことを特徴とする金属帯の電解処理装
置を提供するものである。
【０００９】
【作用】金属帯と対極の間に液を保持して電解処理を行
う電解処理装置は、従来、種々の幅の金属帯に対して汎
用性をもたせるために、幅方向に余裕を取った寸法にな
っている。このため、特に、幅の狭い金属帯を処理する
場合に、金属帯に接する部分の電解液と、金属帯の側部
の金属帯に接しない部分の電解液とに液組成上の差異が
生じる。
う電解処理装置は、従来、種々の幅の金属帯に対して汎
用性をもたせるために、幅方向に余裕を取った寸法にな
っている。このため、特に、幅の狭い金属帯を処理する
場合に、金属帯に接する部分の電解液と、金属帯の側部
の金属帯に接しない部分の電解液とに液組成上の差異が
生じる。
【００１０】本発明は、この欠点を除去するため、電解
処理装置の金属帯通過通路の側壁面の幅及び電解液供給
口の幅を変更可能にし、金属帯の幅に応じて幅決めする
ことができるようにした。このことにより、金属帯の側
部の金属帯に接しない部分の電解液の量を制限し、上記
電解液に液組成上の差異が生じるのを防止することがで
きる。
処理装置の金属帯通過通路の側壁面の幅及び電解液供給
口の幅を変更可能にし、金属帯の幅に応じて幅決めする
ことができるようにした。このことにより、金属帯の側
部の金属帯に接しない部分の電解液の量を制限し、上記
電解液に液組成上の差異が生じるのを防止することがで
きる。
【００１１】
【実施例】本発明について図面にしたがって実施例を詳
細に説明する。図１、図２は実施例を示した断面図及び
平面図である。金属帯１は電解液２を充満した対極４の
間の通路を通って電解処理される。この装置では対極４
の間の通路の側壁８は、通路の幅を変更可能なように可
変となっている。すなわち、側壁８は対極４の内面にシ
ール装置９を介して摺動自在に嵌合しており、シリンダ
１０は側壁８を前進後退させる。装置内へ金属帯が進入
する前に金属帯の側端面を検出する端面検出装置１１が
配設されており、金属帯の左右の位置を検出する。端面
検出装置１１で検出した金属帯の側端面の位置に応じ
て、演算制御発信装置１２はシリンダ１０に制御信号を
送る。この制御信号は金属帯１の側端面位置に対して、
電解装置の側壁８を、ある一定の距離を保って追従させ
る。このとき、側壁８は同時に電解液供給ヘッダ７の幅
も調整する。
細に説明する。図１、図２は実施例を示した断面図及び
平面図である。金属帯１は電解液２を充満した対極４の
間の通路を通って電解処理される。この装置では対極４
の間の通路の側壁８は、通路の幅を変更可能なように可
変となっている。すなわち、側壁８は対極４の内面にシ
ール装置９を介して摺動自在に嵌合しており、シリンダ
１０は側壁８を前進後退させる。装置内へ金属帯が進入
する前に金属帯の側端面を検出する端面検出装置１１が
配設されており、金属帯の左右の位置を検出する。端面
検出装置１１で検出した金属帯の側端面の位置に応じ
て、演算制御発信装置１２はシリンダ１０に制御信号を
送る。この制御信号は金属帯１の側端面位置に対して、
電解装置の側壁８を、ある一定の距離を保って追従させ
る。このとき、側壁８は同時に電解液供給ヘッダ７の幅
も調整する。
【００１２】これにより、電解装置内の金属帯の外側の
液流速の小さい領域、すなわち電解液の更新の行われに
くい部分の容積をを最小限に維持し幅方向に均一な液組
成を得ることが可能になる。
液流速の小さい領域、すなわち電解液の更新の行われに
くい部分の容積をを最小限に維持し幅方向に均一な液組
成を得ることが可能になる。
【００１３】
【発明の効果】本発明の方法により、高速、高電流密度
操業に適した、金属帯と対極間の液保持方式の電解処理
装置において、幅方向に均一な組成の電解液が得られる
ようになった。また電解装置の壁面が対極の遮蔽板とし
ての作用を持つため、金属帯側端部の電流集中及び反対
面への廻り込みを防止する効果もある。
操業に適した、金属帯と対極間の液保持方式の電解処理
装置において、幅方向に均一な組成の電解液が得られる
ようになった。また電解装置の壁面が対極の遮蔽板とし
ての作用を持つため、金属帯側端部の電流集中及び反対
面への廻り込みを防止する効果もある。
【図１】実施例装置の正面図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】従来技術を示した図である。
【図４】従来技術を示した図である。
１ 金属帯 ２ 電解液 ３（３ａ，３ｂ）通電ロール ４ 対極 ５ めっきタンク ６ シンクロー
ル ７ 電解液供給ヘッダ ８ 側壁 ９ シール装置 １０ シリンダ １１ 端面検出装置 １２ 演算制御
発信装置
ル ７ 電解液供給ヘッダ ８ 側壁 ９ シール装置 １０ シリンダ １１ 端面検出装置 １２ 演算制御
発信装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青木 文男 千葉市中央区川崎町１番地 川崎製鉄株式 会社千葉製鉄所内 (72)発明者 赤岡 靖夫 千葉市中央区川崎町１番地 川崎製鉄株式 会社千葉製鉄所内
Claims (1)
- 【請求項１】 金属帯と対極の間に液を保持して電解処
理を行う電解処理装置において、金属帯の幅を検出する
検出装置を備え、電解処理装置の側壁面の幅及び電解液
供給口の幅を前記金属帯の幅に追従するように移動する
幅調整装置を備えたことを特徴とする金属帯の電解処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16737992A JPH0610199A (ja) | 1992-06-25 | 1992-06-25 | 金属帯の電解処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16737992A JPH0610199A (ja) | 1992-06-25 | 1992-06-25 | 金属帯の電解処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0610199A true JPH0610199A (ja) | 1994-01-18 |
Family
ID=15848628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16737992A Withdrawn JPH0610199A (ja) | 1992-06-25 | 1992-06-25 | 金属帯の電解処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0610199A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014043613A (ja) * | 2012-08-27 | 2014-03-13 | C Uyemura & Co Ltd | 表面処理装置 |
-
1992
- 1992-06-25 JP JP16737992A patent/JPH0610199A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014043613A (ja) * | 2012-08-27 | 2014-03-13 | C Uyemura & Co Ltd | 表面処理装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990831 |