JPS6354798B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電解処理方法並びにその装置に係り、
特に走行するストリツプの表面に均一な速度で電
解液を流すことができるラジアルセル型電解処理
方法並びにその装置に関する。

アルミニウム、鉄などの金属ストリツプの表面
に電解を応用する方法は、例えば鍍金処理、電解
粗面化処理、電解エツチング処理、陽極酸化処
理、電解着色、梨地処理等広汎に実用化されてい
る。またこれらの処理の為に従来から種々の電解
処理装置が提案されている。例えば第１図に示す
ように通電用回転ドラム１０の一部を電解液１２
が入つて電解槽１４内に侵漬し、ストリツプ１６
を回転ドラム１０に密着させて走行させる。電解
槽１４内には電極１８が配置されており、この回
転ドラム１０と電極１８との間で電解液１２を介
して過電させ、ストリツプ１６に電解処理が施さ
れる。しかしながら第１図に示す電解処理装置は
ストリツプ１６の表面の電解液の流れを調整でき
ない欠点がある。

第２図では別の従来の電解処理装置が示されて
いる。第２図に示す従来の電解処理装置において
は回転ドラム２０の外周側にこの回転ドラム２０
と半径方向のギヤツプＧを隔てて電極２２が設け
られ、この回転ドラム２０と電極２２との間の間
隙には管２４から上方に向けて電解液が流され
る。ストリツプ２６は回転ドラム２０の外周に接
触しながら走行し、電解処理が施される。しかし
ながら第２図に示す従来例においては電解液の流
速は変化させることができるものの、下方から上
方に向けて電解液を流しているため、ストリツプ
のアツプパス部とダウンパス部とでは液の相対速
度が異なる。この為アツプパス部とダウンパス部
とでは異なる電解処理が行われ、均一な電解処理
を施すことができない不具合がある。また第１
図、第２図に示す従来の電解処理装置では回転ド
ラム１０，２０の側面と電解槽との間に電解液が
流れ込み、電解液の流れる方向がストリツプの中
央部と側縁部とで異なつてくる。このように電解
液の流れる方向が異なると均一な電解処理が得ら
れない欠点となる。

本発明はこのような事情に鑑みて為されたもの
で、ストリツプのアツプパス部とダウンパス部と
において電解液の流速を均一にし、しかも電解液
の流れる方向もストリツプの全巾に亘つて同一に
し、均一な電解処理が得られる電解処理方法並び
にその装置を提案とすることを目的としている。

本発明は前記目的を達成するために、通電用回
転ドラムの外周に接しその回転と同期して走行す
るストリツプと、このストリツプに対し半径方向
のギヤツプを隔てる電極との間で該ギヤツプに導
入した電解液を介し通電して上記ストリツプに電
解処理を行なうラジアル型電解処理方法におい
て、前記回転ドラムの前記ストリツプ侵入側に給
液槽を設け、かつ前記ラジアルセル内部の前記ス
トリツプ幅方向両端部に、回転ドラム側面とラジ
アルセル側面との隙間に対向する邪魔板を設け、
給液槽に供給した電解液の液面をストリツプ出口
側の電解液排出口より高くし、該電解液を該スト
リツプの走行方向に同一方向に相対速度0.5〜
1.5m／secの範囲で流すことを特徴としている。
また本発明は通電用回転ドラムの外周に接しその
回転と同期して走行するストリツプと、このスト
リツプに対し半径方向のギヤツプを隔てる電極と
の間で該ギヤツプに導入した電解液を介し通電し
て上記ストリツプに電解処理を行なうラジアル型
電解処理装置において、該通電用回転ドラムの該
ストリツプ侵入側に給液槽を設け、且つ該ラジア
ルセル内部の該ストリツプ巾方向両端部に回転ド
ラム側面とラジアルセル側面との隙間に対向する
邪魔板を設けたことを特徴としている。

以下添付図面に従つて本発明に係る電解処理方
法並びにその装置の好ましい実施例を詳説する。

第３図では本発明に係る実施例の構造が示さ
れ、第４図は第３図上―線に沿う断面図であ
る。第３図、第４図において２８は回転ドラム、
３０はこの回転ドラム２８の下半分外周側に位置
し回転ドラム２８と半径方向のギヤツプＧを保つ
て配置された電極３０であり、３２は入側ガイド
ロール、３４は出側ガイドロールである。ストリ
ツプ３６は入側ガイドロール３２から回転ドラム
２８外周面に接触し、出側ガイドロール３４にガ
イドされて送られる。ストリツプ３６は回転ドラ
ム２８に接触している間に電極３０から電解液を
介して通電され、電解処理される。第３図におい
て３８は給液槽を示し、この給液槽３８には給水
管４０、整流板４２を介して電解液が送られる。
給液槽３８からヘツド差により電解液は回転ドラ
ム２８と電極３０とのギヤツプＧを通つて廃水部
４４に送られるようになつている。

第４図に示すように回転ドラム２８と電解槽の
側板４６との間には間隙ｇが形成されており、こ
の間隙ｇと対向するように邪魔板４８，４８が配
設される。邪魔板４８，４８は第３図に示すよう
に半リング状に形成され、回転ドラム２８と電極
３０とのギヤツプＧに位置している。また回転ド
ラム２８の第３図上で左上側にも同様に1/4円周
に相当する邪魔板５０，５０が配され、側板４６
と回転ドラム２８の側面との間の隙間ｇに多量の
電解液が流れ込まないようにしている。

本発明において電解液としては例えば硝酸、塩
酸、硫酸等が用いられる。

前記の如く構成された本発明に係る電解エツチ
ングの実施例の作用は次の通りである。まず被エ
ツチング材料であるストリツプ３６は入口側ガイ
ドロール３２にガイドされて回転ドラム２８に接
触し、回転ドラム２８と同期して走行しながら出
側ガイドロール３４によつて送られる。また電解
液は給液槽３８からヘツド差により回転ドラム２
８と電極３０との間のギヤツプＧを通り、廃水部
４４に送られる。この場合、一定量の電解液が一
定の流速でギヤツプＧを通過するストリツプ３６
と電解液との相対速度は0.5〜1.5m／secに設定さ
れる。その相対速度が0.5m／sec以下であると液
中の水素ガスが大となりエツチング効率が低下
し、また相対速度が1.5m／sec以上になると液流
の乱れが増加しエツチングが不均一になる不具合
があるからである。更に給液槽３８から邪魔板４
８，４８，５０，５０の作用により電解液が回転
ドラム２８と側板４６との間隙ｇに多量に流れる
ことはない。邪魔板４８，４８並びに邪魔板５
０，５０の作用について第５図並びに第６図にお
いて説明する。第５図ではストリツプ上を流れる
電解液の流れ方向を示しており、第５図Ａでは邪
魔板４８，５０を設けない従来の電解処理装置の
電解液の流れを示し、入口（図上で下側）から出
た流れは一端ストリツプの巾方向に向かつて流
れ、出口（図上で上側）側に向かうにつれて再び
中央部に向けて流れるようになる。また第５図Ｂ
では邪魔板４８，４８のみが設けられた電解処理
装置の電解液の流れを示し、電解液の流れは出口
側直前までストリツプ走行方向と同一方向に流
れ、出口側において中央部に向けて曲がるように
なる。第５図Ｃでは邪魔板４８，４８と邪魔板５
０，５０とを両方設けた場合が示されており、図
に示すように入口側から出口側にかけて電解液の
流れはストリツプ走行方向と同方向に流れるよう
になる。第５図Ａ，Ｂ，Ｃから判るように邪魔板
４８，４８，５０，５０を設けると電解液の流れ
は回転ドラムの側面と側板４６との間隙ｇの影響
を受けず、ストリツプ走行方向と同方向に流れる
ようになる。

更に第６図では電解槽の出口部の流量分布を示
しており、Ａで示す曲線は邪魔板４８，５０を設
けない従来の電解処理装置を示し、Ｂで示す曲線
は邪魔板４８，４８のみを設けた電解処理槽を示
し、Ｃで示す曲線は邪魔板４８，４８と邪魔板５
０，５０とを設けた場合の電解処理槽の出口部の
流量分布を示している。第６図から判るように邪
魔板４８，５０を設けない従来の電解処理装置で
は流量は巾方向の中央部が多く、両端に行くに従
つて急激に少なくなつている。このため従来の電
解処理装置では均一なエツチング処理を得ること
が困難である。ところが本実施例に係る曲線Ｂ、
曲線Ｃにおいては中央部から両端にかけて流量分
布は略同一となり、均一なエツチング処理が得ら
れる。

以上説明したように本発明に係る電解処理方法
においては、給液槽を介して、電解液をストリツ
プの走行方向と同一方向に相対速度0.5〜1.5m／
secの範囲で一定量、一定流速で流すので、液中
のガス比を低くおさえられ、効率が悪化するよう
なこともなく処理が均一に行なわれる。また本発
明に係る電解処理装置によれば、回転ドラムと側
板とのギヤツプに対向して邪魔板を設けたので回
転ドラムと側板とのギヤツプが電解液の流れに悪
影響を与えるようなことはなく、ストリツプ走行
方向と同一方向に流れ、従つて均一な電解処理を
得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図はで従来の電解処理装置の構造
を示す断面図、第３図は本発明の実施例の構造を
示す断面図、第４図は第３図上で―線に沿う
断面図、第５図は従来例と本発明の実施例の電解
液の流れ方向を示す説明図、第６図は従来例と本
発明の実施例の電解槽出口部の流量分布を示す説
明図である。 ２８……回転ドラム、３０……電極、３６……
ストリツプ、３８……給液槽、４６……側板、４
８……邪魔板、５０……邪魔板。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 回転ドラムの外周に接しその回転と同期して
   走行するストリツプと、このストリツプに対し半
   径方向のギヤツプを隔てる電極との間で、該ギヤ
   ツプに導入した電解液を介し通電して上記ストリ
   ツプに電解処理を行うラジアル型電解処理方法に
   おいて、前記回転ドラムの前記ストリツプ侵入側
   に給液槽を設けると共に、前記給液槽に供給した
   電解液の液面をストリツプ出口側の電解液排出口
   より高くし、且つ該ラジアルセル内部の該ストリ
   ツプ巾方向両端部に、回転ドラム側面とラジアル
   セル側面との隙間に対向する邪魔板を設け、該電
   解液を該ストリツプの走行方向と同一方向にスト
   リツプに対し相対速度0.5〜1.5m／secの範囲で均
   一に流すことを特徴とする電解処理方法。 ２ 回転ドラムの外周に接しその回転と同期して
   走行するストリツプと、このストリツプに対し半
   径方向のギヤツプを隔てる電極との間で、該ギヤ
   ツプに導入した電解液を介し通電して上記ストリ
   ツプに電解処理を行うラジアル型電解処理装置に
   おいて、該回転ドラムの該ストリツプ侵入側に電
   解液面をストリツプ出口側の電解液排出口より高
   く出来る給液槽を設け、かつ該ラジアルセル内部
   の該ストリツプ巾方向両端部に、回転ドラム側面
   とラジアルセル側面との隙間に対向する邪魔板を
   設けたことを特徴とする電解処理装置。