JPS6052595A - 電解処理方法並びにその装置 - Google Patents
電解処理方法並びにその装置Info
- Publication number
- JPS6052595A JPS6052595A JP16166583A JP16166583A JPS6052595A JP S6052595 A JPS6052595 A JP S6052595A JP 16166583 A JP16166583 A JP 16166583A JP 16166583 A JP16166583 A JP 16166583A JP S6052595 A JPS6052595 A JP S6052595A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strip
- gap
- electrolytic
- electrolytic treatment
- rotating drum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電解処理方法並びにその装置に係り、特に走行
するストリップの表面に均一な速度で電解液を流すこと
ができるラジアルセル型電解処理方法並びにその装置に
関する。
するストリップの表面に均一な速度で電解液を流すこと
ができるラジアルセル型電解処理方法並びにその装置に
関する。
アルミニウム、鉄などの金属ストリップの表面に電解を
応用する方法は、例えば鍍金処理、電解粗面化処理、電
解エツチング処理、陽極酸化処理、電解着色、梨地処理
等広汎に実用化されている。またこれらの処理の為に従
来から種々の電解処理装置が提案されている。例えば第
１図に示すように通電用回転ドラム１０の一部を電解液
１２が入った電解槽１４内に浸漬し、ストリップ１６を
回転ドラム１０に密着させて走行させる。電解槽１４内
には電極１８が配置されており、この回転ドラム１０と
電極１８との間で電解液１２を介して過電させ、ストリ
ップ１６に電解処理が施される。しかしながら第１図に
示す電解処理装置はストリップ１６の表面の電解液の流
れを調整できない欠点がある。
応用する方法は、例えば鍍金処理、電解粗面化処理、電
解エツチング処理、陽極酸化処理、電解着色、梨地処理
等広汎に実用化されている。またこれらの処理の為に従
来から種々の電解処理装置が提案されている。例えば第
１図に示すように通電用回転ドラム１０の一部を電解液
１２が入った電解槽１４内に浸漬し、ストリップ１６を
回転ドラム１０に密着させて走行させる。電解槽１４内
には電極１８が配置されており、この回転ドラム１０と
電極１８との間で電解液１２を介して過電させ、ストリ
ップ１６に電解処理が施される。しかしながら第１図に
示す電解処理装置はストリップ１６の表面の電解液の流
れを調整できない欠点がある。
第２図では別のｔｉＬ来の電ｈ１！処理装置が示されて
いる。第２図に示す従来の電量！処理装置においては回
転ドラム２０の外周側にこの回転ドラム２０と半径方向
のギャップＧを隔てて電極２２が設けられ、この回転ド
ラム２０と電極２２との間の間隙には管２４から上方に
向りて電解液が流される。ストリップ２６は回転ドラム
２０の外周に接触しながら走行し、電解処理が施される
。しかしながら第２図に示す従来例においてば電解液の
流速は変化させることができるものの、下方から」二方
に向けて電解液を流しているため、ストリップのアンプ
バス部とダウンパス部とでは液の相対速度が異なる。こ
の為アップパス部とダウンパス部とでは流量が異なり、
均一な電解処理を施すことができない不具合がある。ま
た第１図、第２図に示す従来の電解処理装置では回転ド
ラム１０．２０の側面と電解槽との間に電解液が流れ込
み、電解液の流れる方向がストリップの中央部と側縁部
とで異なってくる。このように電解液の流れる方向が異
なると均一な電解処理が得られない欠点となる。
いる。第２図に示す従来の電量！処理装置においては回
転ドラム２０の外周側にこの回転ドラム２０と半径方向
のギャップＧを隔てて電極２２が設けられ、この回転ド
ラム２０と電極２２との間の間隙には管２４から上方に
向りて電解液が流される。ストリップ２６は回転ドラム
２０の外周に接触しながら走行し、電解処理が施される
。しかしながら第２図に示す従来例においてば電解液の
流速は変化させることができるものの、下方から」二方
に向けて電解液を流しているため、ストリップのアンプ
バス部とダウンパス部とでは液の相対速度が異なる。こ
の為アップパス部とダウンパス部とでは流量が異なり、
均一な電解処理を施すことができない不具合がある。ま
た第１図、第２図に示す従来の電解処理装置では回転ド
ラム１０．２０の側面と電解槽との間に電解液が流れ込
み、電解液の流れる方向がストリップの中央部と側縁部
とで異なってくる。このように電解液の流れる方向が異
なると均一な電解処理が得られない欠点となる。
本発明はこのような事情に鑑みて為されたもので、スト
リップのアップパス部とダウンパス部とにおいて電解液
の流速を均一にし、しかも電解液の流れる方向もストリ
ップの全中に亘って同一にし、均一な電解処理が得られ
る電解処理方法並びにその装置を提案とすることを目的
としている。
リップのアップパス部とダウンパス部とにおいて電解液
の流速を均一にし、しかも電解液の流れる方向もストリ
ップの全中に亘って同一にし、均一な電解処理が得られ
る電解処理方法並びにその装置を提案とすることを目的
としている。
本発明は前記目的を達成するために、通電用回転ドラム
の外周に接しその回転と同期して走行するストリップと
、このストリップに対し半径方向のギャップを隔てる電
極との間で該ギヤツブに導入した電解液を介し通電して
上記ストリップに電解処理を行なうラジアル型電解処理
方法において、該電解液を該ストリップの走行方向に同
一方向に相対速度０．５〜１．５ ｍ／ｓｅｃの範囲で
流すことを特徴としている。また本発明は通電用回転ド
ラムの外周に接しその回転と同期して走行するストリッ
プと、このストリップに対し半径方向のギャップを隔て
る電極との間で該ギャップに導入した電解液を介し通電
して−に記ストリップに電解処理を行なうラジアル型電
解処理装置において、該通電用回転ドラムの該ストリッ
プ侵入側に給液槽を設け、■、つ該ラジアルセル内部の
該ストリップ中方向両端部に回転ドラム側面とラジアル
セル側面との隙間に対向する邪魔板を設けたことを特徴
としている。
の外周に接しその回転と同期して走行するストリップと
、このストリップに対し半径方向のギャップを隔てる電
極との間で該ギヤツブに導入した電解液を介し通電して
上記ストリップに電解処理を行なうラジアル型電解処理
方法において、該電解液を該ストリップの走行方向に同
一方向に相対速度０．５〜１．５ ｍ／ｓｅｃの範囲で
流すことを特徴としている。また本発明は通電用回転ド
ラムの外周に接しその回転と同期して走行するストリッ
プと、このストリップに対し半径方向のギャップを隔て
る電極との間で該ギャップに導入した電解液を介し通電
して−に記ストリップに電解処理を行なうラジアル型電
解処理装置において、該通電用回転ドラムの該ストリッ
プ侵入側に給液槽を設け、■、つ該ラジアルセル内部の
該ストリップ中方向両端部に回転ドラム側面とラジアル
セル側面との隙間に対向する邪魔板を設けたことを特徴
としている。
以下添付図面に従って本発明に係る電解処理方法並びに
その装置の好ましい実施例を詳説する。
その装置の好ましい実施例を詳説する。
第３図では本発明に係る実施例の構造が示され、第４図
は第３図ＪＪ−ＩＶ線に沿う断面図である。第３図、第
４図において２８は回転ドラム、３０ばこの回転ドラム
２８の下半分外周側に位置し回転ドラム２８と半径方向
のギヤツブＧを保って配置された電極３０であり、３２
は入側ガイドロール、３４は出側ガイドロールである。
は第３図ＪＪ−ＩＶ線に沿う断面図である。第３図、第
４図において２８は回転ドラム、３０ばこの回転ドラム
２８の下半分外周側に位置し回転ドラム２８と半径方向
のギヤツブＧを保って配置された電極３０であり、３２
は入側ガイドロール、３４は出側ガイドロールである。
ストリップ３６ば入側ガイドロール３２から回転ドラム
２８外周面に接触し、出側ガイドロール３４にガイドさ
れて送られる。ストリップ３６は回転ドラム２８に接触
している間に電極３０から電解液を介して通電され、電
解処理される。第３図において３８は給液槽を示し、こ
の給液槽３８には給水管４０、整流板４２を介して電解
液が送られる。給液槽３８からヘッド差により電解液は
回転ドラム２８と電極３０とのギヤツブＧを通って廃水
部４４に送られるようになっている。
２８外周面に接触し、出側ガイドロール３４にガイドさ
れて送られる。ストリップ３６は回転ドラム２８に接触
している間に電極３０から電解液を介して通電され、電
解処理される。第３図において３８は給液槽を示し、こ
の給液槽３８には給水管４０、整流板４２を介して電解
液が送られる。給液槽３８からヘッド差により電解液は
回転ドラム２８と電極３０とのギヤツブＧを通って廃水
部４４に送られるようになっている。
第４図に示すように回転ドラム２８と電解槽の側板４６
との間には間隙ｇが形成されており、この間隙ｇと対向
するように邪魔板４８．４８が配設される。邪魔板４８
．４８は第３図に示すように半リング状に形成され、回
転ドラム２８と電極３０とのギヤ・７プＧに位置してい
る。また回転ドラム２８の第３図上で左上側にも同様に
１／４円周に相当する邪魔板５０．５０が配され、側板
４６と回転ドラム２８の側面との間の隙間ｇに多量の電
解液が流れ込まないようにしている。
との間には間隙ｇが形成されており、この間隙ｇと対向
するように邪魔板４８．４８が配設される。邪魔板４８
．４８は第３図に示すように半リング状に形成され、回
転ドラム２８と電極３０とのギヤ・７プＧに位置してい
る。また回転ドラム２８の第３図上で左上側にも同様に
１／４円周に相当する邪魔板５０．５０が配され、側板
４６と回転ドラム２８の側面との間の隙間ｇに多量の電
解液が流れ込まないようにしている。
本発明において電解液としては例えば硝酸、塩酸、硫酸
等が用いられる。
等が用いられる。
前記の如く構成された本発明に係る電解エツチングの実
施例の作用は次の通りである。まず被エツチング材料で
あるストリップ３６は入口側ガイドロール３２にガイド
されて回転ドラム２８に接触し、回転ドラム２８と同期
して走行しながら出側ガイドロール３４によって送られ
る。また電解液は給液槽３８からヘッド差により回転ド
ラＪ２２８と電極３０との間のギャップＧを通り、廃水
部４４に送られる。ストリップ３６と電解液との相対速
度は０．５〜１．５ｍ／ｓｅｃに設定される。その相り
・１速度がＱ、５ｍ／ｓｅＣ以下であると水素ガスが発
生してエソヂング効率が低下し、また１、５ ｍ／ｓｅ
ｃ以上になるとエツチングが不均一になる不具合がある
からである。
施例の作用は次の通りである。まず被エツチング材料で
あるストリップ３６は入口側ガイドロール３２にガイド
されて回転ドラム２８に接触し、回転ドラム２８と同期
して走行しながら出側ガイドロール３４によって送られ
る。また電解液は給液槽３８からヘッド差により回転ド
ラＪ２２８と電極３０との間のギャップＧを通り、廃水
部４４に送られる。ストリップ３６と電解液との相対速
度は０．５〜１．５ｍ／ｓｅｃに設定される。その相り
・１速度がＱ、５ｍ／ｓｅＣ以下であると水素ガスが発
生してエソヂング効率が低下し、また１、５ ｍ／ｓｅ
ｃ以上になるとエツチングが不均一になる不具合がある
からである。
更に給液槽３８から邪魔板４８．４８．５０．５０の作
用により電解液が回転ドラム２８と側板４６との間隙ｇ
に多量に流れることはない。邪魔板４８．４８並びに邪
魔板５０．５０の作用について第５図並びに第６図にお
いて説明する。第５図ではストリップ上を流れる電解液
の流れ方向を示しており、第５図（Ａ）では邪魔板４８
．５０を設けない従来の電解処理装置の電解液の流れを
示し、入口（図上で下側）から出た流れは一端ストリッ
プの中方向に向かって流れ、出口（図上で上側）側に向
かうにつれて再び中央部に向けて流れるようになる。ま
た第５図（Ｂ）では邪魔板４８．４８のみが設けられた
電解処理装置の電解液の流れを示し、電解液の流れは出
口側直前までストリップ走行方向と同一方向に流れ、出
口側において中央部に向けて曲がるようになる。第５図
（Ｃ）では邪魔板４８．４８と邪魔板５０．５０とを両
方設けた場合が示されており、図に示すように入口側か
ら出口側にかけて電解液の流れはストリップ走行方向と
同方向に流れるようになる。第５図（Ａ）、（Ｂ）、（
Ｃ）から判るように邪魔板４８．４８．５０．５０を設
けると電解液の流れは回転ドラムの側面と側板４６との
間隙ｇの影響を受けず、ストリップ走行方向と同方向に
流れるようになる。
用により電解液が回転ドラム２８と側板４６との間隙ｇ
に多量に流れることはない。邪魔板４８．４８並びに邪
魔板５０．５０の作用について第５図並びに第６図にお
いて説明する。第５図ではストリップ上を流れる電解液
の流れ方向を示しており、第５図（Ａ）では邪魔板４８
．５０を設けない従来の電解処理装置の電解液の流れを
示し、入口（図上で下側）から出た流れは一端ストリッ
プの中方向に向かって流れ、出口（図上で上側）側に向
かうにつれて再び中央部に向けて流れるようになる。ま
た第５図（Ｂ）では邪魔板４８．４８のみが設けられた
電解処理装置の電解液の流れを示し、電解液の流れは出
口側直前までストリップ走行方向と同一方向に流れ、出
口側において中央部に向けて曲がるようになる。第５図
（Ｃ）では邪魔板４８．４８と邪魔板５０．５０とを両
方設けた場合が示されており、図に示すように入口側か
ら出口側にかけて電解液の流れはストリップ走行方向と
同方向に流れるようになる。第５図（Ａ）、（Ｂ）、（
Ｃ）から判るように邪魔板４８．４８．５０．５０を設
けると電解液の流れは回転ドラムの側面と側板４６との
間隙ｇの影響を受けず、ストリップ走行方向と同方向に
流れるようになる。
更に第６図では電解槽の出口部の流量分布を示しており
、Ａで示す曲線は邪魔板４８．５０を設けない従来の電
解処理装置を示し、Ｂで示す曲線は邪魔板４８．４８の
みを設けた電解処理槽を示し、Ｃで示す曲線は邪魔板４
８．４８と邪魔板５０．５０とを設けた場合の電解処理
槽の出口部の流量分布を示している。第６図から１１１
るように邪魔板４８．５０を設けない従来の電解処理装
置では流量は１１方向の中央部が多く、両端に行くに従
って急激に少なくなっている。このため従来の電解処理
装置では均一なエツチング処理を得ることが困難である
。ところが本実施例に係る曲線Ｂ、曲線Ｃにおいては中
央部から両端にかけて流量分布は略同−となり、均一な
エツチング処理が得られる。
、Ａで示す曲線は邪魔板４８．５０を設けない従来の電
解処理装置を示し、Ｂで示す曲線は邪魔板４８．４８の
みを設けた電解処理槽を示し、Ｃで示す曲線は邪魔板４
８．４８と邪魔板５０．５０とを設けた場合の電解処理
槽の出口部の流量分布を示している。第６図から１１１
るように邪魔板４８．５０を設けない従来の電解処理装
置では流量は１１方向の中央部が多く、両端に行くに従
って急激に少なくなっている。このため従来の電解処理
装置では均一なエツチング処理を得ることが困難である
。ところが本実施例に係る曲線Ｂ、曲線Ｃにおいては中
央部から両端にかけて流量分布は略同−となり、均一な
エツチング処理が得られる。
以上説明したように本発明に係る電解処理方法において
は、電解液をストリップの走行方向と同一方向に相対速
度０．５〜１．５ ｍ／ｓｅｅの範囲で流すので、ガス
が発生せず、効率が悪化するようなこともなく処理が均
一に行なわれる。また本発明に係る電解処理装置によれ
ば、回転ドラムと側板とのギャップに対向して邪魔板を
設けたので回転ドラムと側板とのギャップが電解液の流
れに悪影響を与えるようなことはなく、ストリップ走行
方向と同一方向に流れ、従って均一な電解処理を得るこ
とができる。
は、電解液をストリップの走行方向と同一方向に相対速
度０．５〜１．５ ｍ／ｓｅｅの範囲で流すので、ガス
が発生せず、効率が悪化するようなこともなく処理が均
一に行なわれる。また本発明に係る電解処理装置によれ
ば、回転ドラムと側板とのギャップに対向して邪魔板を
設けたので回転ドラムと側板とのギャップが電解液の流
れに悪影響を与えるようなことはなく、ストリップ走行
方向と同一方向に流れ、従って均一な電解処理を得るこ
とができる。
第１図、第２図はで従来の電解処理装置の構造を示す断
面図、第３図は本発明の実施例の構造を示す断面図、第
４図は第３図上でＩＶ−ＩＶ線に沿う断面図、第５図は
従来例と本発明の実施例の電解液の流れ方向を示す説明
図、第６図は従来例と本発明の実施例の電解槽出口部の
流量分布を示す説明図である。 ２８・・・回転ドラム、 ３０・・・電極、 ３６・・
・スト’Ｊ 、ｙプ、 ３８・・・給液槽、 ４６・・
・側板、 ４８・・・邪魔板、５０・・・邪魔板。 代理人 弁理士 松浦憲三 第５図 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） 第６図 槽暢万百 手続補正書 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１６１６６５号 ２、発明の名称 電解処理方法並びにその装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 神奈川県南足柄市中沼２ ］、 Ｏ番地名 称
（５２０）富士写真フィルム株式会社代表者 大 西
實 ４、代理人 住 所 東京都豊島区東池袋−丁目２０番地５自 宛 ７、補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 （２）明細書第３頁第１５行の「流量が異なり」を「異
なる電解処理が行われ」と補正する。 （３）明細書第７頁第８行の「水素ガスが発生して」を
「液中の水素ガスが大となり」と補正する。 （４）明細書第７頁第９行の［また１、、５ｍ／ｓｅｃ
Ｊを［また相対速度が１．５ｍ／ｓｅｃ Ｊと補正す
る。 （５）明細書第７頁第９行の「になると」の後に１液流
の乱れが増加し」を挿入する。 （６）明細書第７頁第１８行の１（図上で下側）」を１
（図上で下側）」と補正する。 （７）明細書第９頁第１２行の「ガスが発生せず」を「
液中のガス比を低くおさえられ」と補正する。 （８）図面のうち第３図を添付のものと取り替える。 特許請求の範囲 （１）珂斬上旦太の外周に接しその回転と同期して走行
するストリップと、このストリップに対し半径方向のギ
ャップを隔てる電極との間で、該ギャップに導入した電
解液を介し通電して上記ストリップに電解処理を行なう
ラジアル型電解処理方法において、該電解液を該スＩ・
リップの走行方向と同一方向にストリップに対し相対速
度０．５〜１．５ｍ／ｓｅｃの範囲で流すことを特徴と
する電解処理径方向のギャップを隔てる電極との間で、
該ギャップに導入した電解液を介し通電して上記ストリ
ップに電解処理を行なうラジアル型電解処理装置におい
て、該刊上工旦大の該ストリップ侵入側に給液槽を設け
、かつ該ラジアルセル内部の該ストリップ中方向両端部
に、回転ドラム側面とラジアルセル側面との隙間に対向
する邪魔板を設けたことを特徴とする電解処理装置。
面図、第３図は本発明の実施例の構造を示す断面図、第
４図は第３図上でＩＶ−ＩＶ線に沿う断面図、第５図は
従来例と本発明の実施例の電解液の流れ方向を示す説明
図、第６図は従来例と本発明の実施例の電解槽出口部の
流量分布を示す説明図である。 ２８・・・回転ドラム、 ３０・・・電極、 ３６・・
・スト’Ｊ 、ｙプ、 ３８・・・給液槽、 ４６・・
・側板、 ４８・・・邪魔板、５０・・・邪魔板。 代理人 弁理士 松浦憲三 第５図 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） 第６図 槽暢万百 手続補正書 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１６１６６５号 ２、発明の名称 電解処理方法並びにその装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 神奈川県南足柄市中沼２ ］、 Ｏ番地名 称
（５２０）富士写真フィルム株式会社代表者 大 西
實 ４、代理人 住 所 東京都豊島区東池袋−丁目２０番地５自 宛 ７、補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 （２）明細書第３頁第１５行の「流量が異なり」を「異
なる電解処理が行われ」と補正する。 （３）明細書第７頁第８行の「水素ガスが発生して」を
「液中の水素ガスが大となり」と補正する。 （４）明細書第７頁第９行の［また１、、５ｍ／ｓｅｃ
Ｊを［また相対速度が１．５ｍ／ｓｅｃ Ｊと補正す
る。 （５）明細書第７頁第９行の「になると」の後に１液流
の乱れが増加し」を挿入する。 （６）明細書第７頁第１８行の１（図上で下側）」を１
（図上で下側）」と補正する。 （７）明細書第９頁第１２行の「ガスが発生せず」を「
液中のガス比を低くおさえられ」と補正する。 （８）図面のうち第３図を添付のものと取り替える。 特許請求の範囲 （１）珂斬上旦太の外周に接しその回転と同期して走行
するストリップと、このストリップに対し半径方向のギ
ャップを隔てる電極との間で、該ギャップに導入した電
解液を介し通電して上記ストリップに電解処理を行なう
ラジアル型電解処理方法において、該電解液を該スＩ・
リップの走行方向と同一方向にストリップに対し相対速
度０．５〜１．５ｍ／ｓｅｃの範囲で流すことを特徴と
する電解処理径方向のギャップを隔てる電極との間で、
該ギャップに導入した電解液を介し通電して上記ストリ
ップに電解処理を行なうラジアル型電解処理装置におい
て、該刊上工旦大の該ストリップ侵入側に給液槽を設け
、かつ該ラジアルセル内部の該ストリップ中方向両端部
に、回転ドラム側面とラジアルセル側面との隙間に対向
する邪魔板を設けたことを特徴とする電解処理装置。
Claims (2)
- （１）通電用回転ドラムの外周に接しその回転と同期し
て走行するストリップと、このストリップに対し半径方
向のギャップを隔てる電極との間で、該ギャップに導入
した電解液を介し通電して上記ストリップに電解処理を
行なうラジアル型電解処理方法において、該電解液を該
ストリップの走行方向と同一方向にストリップに対し相
対速度０．５〜１．５ ｍ／ｓｅｃの範囲で流すことを
特徴とする電解処理方法。 - （２）通電用回転ドラムの外周に接しその回転と同期し
て走行するストリップと、このストリップに対し半径方
向のギャップを隔てる電極との間で、該ギャップに導入
した電解液を介し通電して上記ストリップに電解処理を
行なうラジアル型電解処理装置において、該通電用回転
ドラムの該ストリップ侵入側に給液槽を設け、かつ該ラ
ジアルセル内部の該ストリップ中方向両端部に、回転ド
ラム側面とラジアルセル側面との隙間に対向する邪魔板
を設けたことを特徴とする電解処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16166583A JPS6052595A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 電解処理方法並びにその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16166583A JPS6052595A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 電解処理方法並びにその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6052595A true JPS6052595A (ja) | 1985-03-25 |
| JPS6354798B2 JPS6354798B2 (ja) | 1988-10-31 |
Family
ID=15739501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16166583A Granted JPS6052595A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 電解処理方法並びにその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6052595A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT392090B (de) * | 1985-08-12 | 1991-01-25 | Sviluppo Materiali Spa | Vorrichtung zum elektroplattieren |
| CN105603502A (zh) * | 2016-03-17 | 2016-05-25 | 攀钢集团攀枝花钢铁研究院有限公司 | 一种金属板表面的脱脂方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0363694U (ja) * | 1989-10-26 | 1991-06-21 |
Citations (1)
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-
1983
- 1983-09-02 JP JP16166583A patent/JPS6052595A/ja active Granted
Patent Citations (1)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6354798B2 (ja) | 1988-10-31 |
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