JPS60211093A - 導電材料の電解処理方法及び装置 - Google Patents
導電材料の電解処理方法及び装置Info
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- JPS60211093A JPS60211093A JP6857384A JP6857384A JPS60211093A JP S60211093 A JPS60211093 A JP S60211093A JP 6857384 A JP6857384 A JP 6857384A JP 6857384 A JP6857384 A JP 6857384A JP S60211093 A JPS60211093 A JP S60211093A
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- drum
- rotating drum
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- electrolytic treatment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は導電材料の電解処理方法及び装置に係り、特に
、シート状又は帯状の導電材料を電解液中に浸漬させな
がら通過させて材料表面に電解処理を行なう導電材料の
電解処理方法及び装置に関する。
、シート状又は帯状の導電材料を電解液中に浸漬させな
がら通過させて材料表面に電解処理を行なう導電材料の
電解処理方法及び装置に関する。
アルミニウム、鉄などの導電材料の表面に電解を応用す
る方法は、例えば鍍金処理、電解粗面化処理、電解エツ
チング処理、陽極酸化処理、電解着色、梨地処理、電解
洗浄等広汎に実用化されている。またこれらの処理の為
に従来から種々の電解処理装置が提案されている。
る方法は、例えば鍍金処理、電解粗面化処理、電解エツ
チング処理、陽極酸化処理、電解着色、梨地処理、電解
洗浄等広汎に実用化されている。またこれらの処理の為
に従来から種々の電解処理装置が提案されている。
従来の第１の例として、導電性材料を縦方向又は横方向
にストレートに通板し、導電性材料の長手方向に、通電
ロール又は導電性の液体を介して通電し、所定位置で電
解液中の材料と対向する位置に配設された電極との間で
電解を行なって材料の表面を処理する例がある。
にストレートに通板し、導電性材料の長手方向に、通電
ロール又は導電性の液体を介して通電し、所定位置で電
解液中の材料と対向する位置に配設された電極との間で
電解を行なって材料の表面を処理する例がある。
また、従来の第２の例として、特公昭４６−７１６２号
公報に示すものがあり、電解液中に浸漬される回転ドラ
ムの約半周に導電性材料を巻回し、この材料に回転ドラ
ムを介して直接通電し、回転ドラムに対向配置された電
極との間で電解処理を行なうものがある。この例では、
被処理材料の非処理面へ電解液が浸入するのを防止する
ため、回転ドラムを導電性接触リング部と周囲密封バン
ドとで構成している。また、従来の第３の例として特公
昭４６−３９４４１号公報に示す例があり、第１図は、
この特公昭４６−３９４４１号公報に記載の電解−処理
装置の概略を示し、導電性表面１００とその両側に形成
される非導電性表面１０２を有する回転ドラム１０４は
軸１０６ａ、１０６ｂによって、図示しない電解槽に設
置されている。回転ドラム１０４の下部の電解槽内には
陰極１０８が設置される。回転ドラム１０４の外周には
、ガイドローラ１１０を介して被処理材１１２が接触し
ながら通板し、被処理ＪＩＡ１１２の両縁部には、圧接
バンド１１４ａ、１１４ｂが設けられ、この圧接バンド
１１４ａ、１１４ｂによりドラム１０４と被処理材１１
２の隙間に電解液の浸入を防止する。
公報に示すものがあり、電解液中に浸漬される回転ドラ
ムの約半周に導電性材料を巻回し、この材料に回転ドラ
ムを介して直接通電し、回転ドラムに対向配置された電
極との間で電解処理を行なうものがある。この例では、
被処理材料の非処理面へ電解液が浸入するのを防止する
ため、回転ドラムを導電性接触リング部と周囲密封バン
ドとで構成している。また、従来の第３の例として特公
昭４６−３９４４１号公報に示す例があり、第１図は、
この特公昭４６−３９４４１号公報に記載の電解−処理
装置の概略を示し、導電性表面１００とその両側に形成
される非導電性表面１０２を有する回転ドラム１０４は
軸１０６ａ、１０６ｂによって、図示しない電解槽に設
置されている。回転ドラム１０４の下部の電解槽内には
陰極１０８が設置される。回転ドラム１０４の外周には
、ガイドローラ１１０を介して被処理材１１２が接触し
ながら通板し、被処理ＪＩＡ１１２の両縁部には、圧接
バンド１１４ａ、１１４ｂが設けられ、この圧接バンド
１１４ａ、１１４ｂによりドラム１０４と被処理材１１
２の隙間に電解液の浸入を防止する。
このような構成において、電解槽内に電解液を注入し、
回転ドラム１０４に正電圧を印加し、陰極に負電圧を印
加して被処理材１１２を通板すると、被処理材１１２の
陰極面側に電解処理が施される。被処理材１１２の両側
部がバンド１１４ａ及び１１４ｂによってドラム面に圧
接され、電解液の被処理面への浸入が防止される。
回転ドラム１０４に正電圧を印加し、陰極に負電圧を印
加して被処理材１１２を通板すると、被処理材１１２の
陰極面側に電解処理が施される。被処理材１１２の両側
部がバンド１１４ａ及び１１４ｂによってドラム面に圧
接され、電解液の被処理面への浸入が防止される。
更に、第４の例として、特開昭４８−１６８２０号公報
に示す例があり、第３の例と同様に回転ドラムに巻回さ
せて電解処理を行なうと共に、回転ドラムと被処理材と
の間に水層部を形成し、被処理材の非処理面（ドラム側
）に電解液が浸入しないようにしたものがある。第２図
は、この特開昭４８−１６８２０号公報に記載の電解処
理装置の構成を示し、第１図と同様に通板を行なうもの
であるが、陰極を平板でなく回転ドラム１０４に対応し
た曲面を有する陰極２００を設けると共に、この陰極２
００を内壁面に装着した電解槽２０２を回転ドラム１０
４の下部に配設したものである。さらに、電解処理中に
おいては、図の方向Ｗより水を注入して水膜を形成する
。第２図の従来例によれば、被処理材の被処理面と回転
ドラム間に水膜が形成され、電解液の浸入が阻止される
ため、非処理面の電解加工が防止される。
に示す例があり、第３の例と同様に回転ドラムに巻回さ
せて電解処理を行なうと共に、回転ドラムと被処理材と
の間に水層部を形成し、被処理材の非処理面（ドラム側
）に電解液が浸入しないようにしたものがある。第２図
は、この特開昭４８−１６８２０号公報に記載の電解処
理装置の構成を示し、第１図と同様に通板を行なうもの
であるが、陰極を平板でなく回転ドラム１０４に対応し
た曲面を有する陰極２００を設けると共に、この陰極２
００を内壁面に装着した電解槽２０２を回転ドラム１０
４の下部に配設したものである。さらに、電解処理中に
おいては、図の方向Ｗより水を注入して水膜を形成する
。第２図の従来例によれば、被処理材の被処理面と回転
ドラム間に水膜が形成され、電解液の浸入が阻止される
ため、非処理面の電解加工が防止される。
しかし、従来の電解処理装置においては、第１の例の場
合、被処理材の長手方向に通電する構成がとられている
ため、高速処理、あるいは厚い処理膜を生成する場合、
大電流を流すと被処理材が発熱する。この結果、被処理
材に皺を生じ、この皺によって溶断する恐れがある他、
被処理材自身の電気抵抗によって大きな電力ロスが生し
る。また、非処理面側に絶縁物を介在させても、電流の
回り込みが大きく、これによる電力ロスも大きいまた、
第２の例では、非処理面を完全に密閉するためには被処
理材料に非常に高い張力を必要とし、従って、薄物や強
度の小さい被処理材に適用することができない。また実
際に使用する場合には、接触リング部と周囲密封バンド
との境界の構造が非常に複雑となり、ドラムの保守に労
力を要する。更に第３の例では第１図に於いて被処理材
の処理面側から非導電体バンド１１４ａ、１１４ｂで圧
接するため、処理表面の両縁部に電解汚れが生じるため
、電解処理後に両縁部を切除する必要がある。加えて、
被処理材の幅寸法が異なるたびにバンド１１４ａ、１１
４ｂを再セットしなければならない。この欠点は第４の
例に於いても同様である。
合、被処理材の長手方向に通電する構成がとられている
ため、高速処理、あるいは厚い処理膜を生成する場合、
大電流を流すと被処理材が発熱する。この結果、被処理
材に皺を生じ、この皺によって溶断する恐れがある他、
被処理材自身の電気抵抗によって大きな電力ロスが生し
る。また、非処理面側に絶縁物を介在させても、電流の
回り込みが大きく、これによる電力ロスも大きいまた、
第２の例では、非処理面を完全に密閉するためには被処
理材料に非常に高い張力を必要とし、従って、薄物や強
度の小さい被処理材に適用することができない。また実
際に使用する場合には、接触リング部と周囲密封バンド
との境界の構造が非常に複雑となり、ドラムの保守に労
力を要する。更に第３の例では第１図に於いて被処理材
の処理面側から非導電体バンド１１４ａ、１１４ｂで圧
接するため、処理表面の両縁部に電解汚れが生じるため
、電解処理後に両縁部を切除する必要がある。加えて、
被処理材の幅寸法が異なるたびにバンド１１４ａ、１１
４ｂを再セットしなければならない。この欠点は第４の
例に於いても同様である。
更に、第４の例では、第２図に示したように、被処理材
１１２とドラム１０４間に水が介在するため、接触抵抗
が不安定となる。このため、大電流の通電時には、アー
クスポットを発生する恐れがある他、電解液がドラム面
の水によって薄められるため、常に濃度調整を行なう必
要があり、このための設備の負荷が大きい。更に第３の
例と第４の例とで共通に問題となるのは、被処理材の幅
が小さくなるとドラム側の環状の導電性材料が露出し、
該導電性材料に溶解、腐食等が生じると共に、陽極−陰
極の短絡により大きな電力ロスを生じる不都合がある。
１１２とドラム１０４間に水が介在するため、接触抵抗
が不安定となる。このため、大電流の通電時には、アー
クスポットを発生する恐れがある他、電解液がドラム面
の水によって薄められるため、常に濃度調整を行なう必
要があり、このための設備の負荷が大きい。更に第３の
例と第４の例とで共通に問題となるのは、被処理材の幅
が小さくなるとドラム側の環状の導電性材料が露出し、
該導電性材料に溶解、腐食等が生じると共に、陽極−陰
極の短絡により大きな電力ロスを生じる不都合がある。
本発明は前記従来技術の欠点に鑑みてなされたものであ
り、回転ドラムが溶損並びに腐食することはなく、被処
理材の非処理面が汚損されず、更に電力ロスを生じさせ
ない導電材料の電解処理方法及び装置の提供を目的とす
る。
り、回転ドラムが溶損並びに腐食することはなく、被処
理材の非処理面が汚損されず、更に電力ロスを生じさせ
ない導電材料の電解処理方法及び装置の提供を目的とす
る。
本発明は、回転ドラムの表面を、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚ ｒ
−、Ｔ を等（弁作用金属）の薄板で形成し、さらに酸
性電解液中で通電してアノード酸化し、アノード方向に
導電性を持たない特性を有した不動態膜を形成すること
を特徴とし°Ｃいる。
−、Ｔ を等（弁作用金属）の薄板で形成し、さらに酸
性電解液中で通電してアノード酸化し、アノード方向に
導電性を持たない特性を有した不動態膜を形成すること
を特徴とし°Ｃいる。
第３図及び第４図は本発明の一実施態様を示す正面図及
び側面断面図である。
び側面断面図である。
周面の所定域にアルミ等の導電材料の被処理材１０が張
架される回転ドラム１２は、電解処理槽１４に回転可能
に設置される。回転ドラム１２の外周面に沿って所定の
間隔を保って断面が略半円状の陰極１６が対向配置され
る。この陰極１６は円筒を半分割した形状を有すると共
に、両側部が電解処理槽１４に絶縁して固定される。陰
極１６の下部には、電解液１８を回転ドラム１２と陰極
１６の間の隙間に供給するための液注入口２０が設けら
れる。また、電解処理槽１４の底部に陰極１６の上縁部
より溢れ出て電解処理槽１４の底面に落下した電解液を
槽外に排出するための液排出口２２が設けられている。
架される回転ドラム１２は、電解処理槽１４に回転可能
に設置される。回転ドラム１２の外周面に沿って所定の
間隔を保って断面が略半円状の陰極１６が対向配置され
る。この陰極１６は円筒を半分割した形状を有すると共
に、両側部が電解処理槽１４に絶縁して固定される。陰
極１６の下部には、電解液１８を回転ドラム１２と陰極
１６の間の隙間に供給するための液注入口２０が設けら
れる。また、電解処理槽１４の底部に陰極１６の上縁部
より溢れ出て電解処理槽１４の底面に落下した電解液を
槽外に排出するための液排出口２２が設けられている。
回転ドラム１２の一方の軸端１３には、電源２４の出力
電圧を回転ドラム１２に印加するための給電装置２６が
設けられている。電源２４の負側出力電圧は陰極１６に
印加され、正側出力電圧は給電装置２６に印加される。
電圧を回転ドラム１２に印加するための給電装置２６が
設けられている。電源２４の負側出力電圧は陰極１６に
印加され、正側出力電圧は給電装置２６に印加される。
また、被処理材ｌＯを回転ドラム１２の外周の大部分に
張架させるために、ドラム上方位置に一対のガイドロー
ル２８が設けられている。
張架させるために、ドラム上方位置に一対のガイドロー
ル２８が設けられている。
回転ドラム−１２は、充分な強度を有する導電金属（例
えばステンレス）を用いて構成される筒状の芯金３０及
び該芯金３０の表面に弁作用金属（Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、
Ｔ ｉ等）の薄板３２がライニングされる。即ち、第５
図に示すように芯金３０の外側薄板３２Ａを複数のシー
ム線３３により溶接し、側面に円板３２Ｂを同心円状に
溶接した後更に円筒状薄板３２Ｇを軸部１３にかぶせて
溶接後、ドラム１２の周面はサングー仕上げされる。
えばステンレス）を用いて構成される筒状の芯金３０及
び該芯金３０の表面に弁作用金属（Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、
Ｔ ｉ等）の薄板３２がライニングされる。即ち、第５
図に示すように芯金３０の外側薄板３２Ａを複数のシー
ム線３３により溶接し、側面に円板３２Ｂを同心円状に
溶接した後更に円筒状薄板３２Ｇを軸部１３にかぶせて
溶接後、ドラム１２の周面はサングー仕上げされる。
このようにドラム１２の芯金３０を強固で低価格のステ
ンレス等で形成すると共に芯金３０の表面にＮｂ等の不
動態膜生成金属で形成してドラム１２を２重構造にした
ので、ドラム１２が強固に形成されると共にドラム１２
の製作費も低減できる。組立の完了後に酸性の電解液を
（硫酸、硝酸、その他の鉱酸）を液注入口２０から注入
し、回転ドラム１２を回転させると共にｌＯ■〜１００
Ｖ程度の化成電圧を印加し、アノード酸化して不動態膜
を形成する。この形成の後に実際の使用に供される。化
成電圧としては、皮膜に破壊が生じない範囲であれば任
意に選択することができるが、短時間で化成するために
は、高めの電圧にするのがよい。
ンレス等で形成すると共に芯金３０の表面にＮｂ等の不
動態膜生成金属で形成してドラム１２を２重構造にした
ので、ドラム１２が強固に形成されると共にドラム１２
の製作費も低減できる。組立の完了後に酸性の電解液を
（硫酸、硝酸、その他の鉱酸）を液注入口２０から注入
し、回転ドラム１２を回転させると共にｌＯ■〜１００
Ｖ程度の化成電圧を印加し、アノード酸化して不動態膜
を形成する。この形成の後に実際の使用に供される。化
成電圧としては、皮膜に破壊が生じない範囲であれば任
意に選択することができるが、短時間で化成するために
は、高めの電圧にするのがよい。
以上の構成において、ガイドロール２８を介し、回転ド
ラム１２を周回させ、更にガイドロール２８を介して被
処理材１０（本実施例ではアルミ材）を通板し、液注入
口２０より連続に電解液を供給すると共に、電源２４を
動作させ、正電圧を回転ドラム１２に印加し、負電圧を
陰極１６に印加し、陽極酸化を行なう。回転ドラム１２
に供給された電流は、表面に形成されている不ｖＪＢ膜
の為、電解液１８に直接に接触するドラム１２表面から
は殆んど電流が流れず、ドラム１２表面に当接すること
によって陽極となる被処理材ｌＯの電解液１８に接触す
る部分のみから陰極１６に向って電流が流出する。この
場合、ドラム１２表面と被処理材ｌＯとの接触面での電
気抵抗が殆んど零であるため、給電部２６から直接被処
理材ｌＯに給電するのと変わらず、電源電圧が電圧降下
を生じることなく給電される。また、不動態膜は、アノ
ード電流に対して非常に安定であるので、電解処理時に
、ドラム１２と被処理材１０の接触面間に電解液１８が
浸入しても、回転ドラム１２に溶解及び腐食を生じるこ
とはなく、また被処理材１０が汚損される恐れはない。
ラム１２を周回させ、更にガイドロール２８を介して被
処理材１０（本実施例ではアルミ材）を通板し、液注入
口２０より連続に電解液を供給すると共に、電源２４を
動作させ、正電圧を回転ドラム１２に印加し、負電圧を
陰極１６に印加し、陽極酸化を行なう。回転ドラム１２
に供給された電流は、表面に形成されている不ｖＪＢ膜
の為、電解液１８に直接に接触するドラム１２表面から
は殆んど電流が流れず、ドラム１２表面に当接すること
によって陽極となる被処理材ｌＯの電解液１８に接触す
る部分のみから陰極１６に向って電流が流出する。この
場合、ドラム１２表面と被処理材ｌＯとの接触面での電
気抵抗が殆んど零であるため、給電部２６から直接被処
理材ｌＯに給電するのと変わらず、電源電圧が電圧降下
を生じることなく給電される。また、不動態膜は、アノ
ード電流に対して非常に安定であるので、電解処理時に
、ドラム１２と被処理材１０の接触面間に電解液１８が
浸入しても、回転ドラム１２に溶解及び腐食を生じるこ
とはなく、また被処理材１０が汚損される恐れはない。
なお、被処理材１０の幅が種々異なる場合でも、以上の
構成のままで適用できると共に、ｓｂ、Ｂ ｌ５Ｍｇ、
ＺｎＳＣｄ、Ｓｎ等の導電材料に対しても、応用可能で
ある。
構成のままで適用できると共に、ｓｂ、Ｂ ｌ５Ｍｇ、
ＺｎＳＣｄ、Ｓｎ等の導電材料に対しても、応用可能で
ある。
第６図は本発明の第２実施態様を示す断面図である。本
実施例は、陰極３４を第３図の断面半円形状から、平板
状に形成すると共に、電解液１８を第４図の溢流方式に
変えて電解処理槽１４内の所定レベルまで満たすように
したものである。第２実施態様は第１実施態様に比べ、
構造を簡略化することができる。
実施例は、陰極３４を第３図の断面半円形状から、平板
状に形成すると共に、電解液１８を第４図の溢流方式に
変えて電解処理槽１４内の所定レベルまで満たすように
したものである。第２実施態様は第１実施態様に比べ、
構造を簡略化することができる。
幅３０ＯＮ、厚み０．２４龍の脱脂済の帯状アルミニウ
ム板を被処理材とし、２０％硫酸を電解液として陽極酸
化処理を次の仕様及び第３図及び第４図の構成に従って
実施した。
ム板を被処理材とし、２０％硫酸を電解液として陽極酸
化処理を次の仕様及び第３図及び第４図の構成に従って
実施した。
回転通電ドラム１２：
芯金３０を５ＵＳ３１６で構成すると共に表面にＮｂ板
をライニングしく第５図）、予めアノード酸化を行なっ
て不動態膜を化成した（化成に用いた電解液は被処理材
の酸化処理に用いるものと同一品を使用）。
をライニングしく第５図）、予めアノード酸化を行なっ
て不動態膜を化成した（化成に用いた電解液は被処理材
の酸化処理に用いるものと同一品を使用）。
電源２４：
サイリスク制御により整流出力される直流電圧の正極を
回転ドラムに印加し、負荷をアルミニウムを用いた陰極
に印加した。
回転ドラムに印加し、負荷をアルミニウムを用いた陰極
に印加した。
被処理材の搬送速度：
６ｍ／分。
この結果、被処理材の陰極に対向する面には、３ ｇ／
ｒｄの酸化膜の生成が確認されたが、回転ドラムに接し
た面（非処理面）は、殆んど酸化膜の生成が認められず
、良好なアルミニウム片面処理が行なわれたことが確め
られた。しかも、陽極側すなわち回転ドラムに表面の溶
解も全く認められず、酸化膜生成効率から判断して、陽
極−陰極間に短絡電流が生じなかったと考えられる。因
みに、前述した従来の第２例の構成において、接触リン
グに銅を用いて実施を試みたところ、陽極に溶解が生じ
、連続操業が不可能な状態となった。
ｒｄの酸化膜の生成が確認されたが、回転ドラムに接し
た面（非処理面）は、殆んど酸化膜の生成が認められず
、良好なアルミニウム片面処理が行なわれたことが確め
られた。しかも、陽極側すなわち回転ドラムに表面の溶
解も全く認められず、酸化膜生成効率から判断して、陽
極−陰極間に短絡電流が生じなかったと考えられる。因
みに、前述した従来の第２例の構成において、接触リン
グに銅を用いて実施を試みたところ、陽極に溶解が生じ
、連続操業が不可能な状態となった。
なお、本実施例の構成において、非処理面（被処理材の
回転ドラムと接する面）へ電解液が浸入するのを更に防
止するため、被処理材の両側部から密封バンドでドラム
側へ圧接するようにすることもできる。
回転ドラムと接する面）へ電解液が浸入するのを更に防
止するため、被処理材の両側部から密封バンドでドラム
側へ圧接するようにすることもできる。
また、陽極への給電は、芯金３０へ給電装置２６を介し
て行なうものとしたが、薄板３２の不動態膜が形成され
ていない部分へ直接に給電するようにしてもよい。この
場合には、芯金３０と薄板３２との境界面の接触抵抗を
小さくする為の配慮が不要となる。
て行なうものとしたが、薄板３２の不動態膜が形成され
ていない部分へ直接に給電するようにしてもよい。この
場合には、芯金３０と薄板３２との境界面の接触抵抗を
小さくする為の配慮が不要となる。
更に、ドラム１２の不動態膜の生成は使用の前に予め生
成してもよいし、酸化皮膜を形成しない純粋の金属面の
まま電解処理を開始し、電解処理中に電解液接触部に不
動態膜を生成してもよい。
成してもよいし、酸化皮膜を形成しない純粋の金属面の
まま電解処理を開始し、電解処理中に電解液接触部に不
動態膜を生成してもよい。
前記実施例では回転ドラム方式の電解処理装置について
説明したがこれに限定されるものではない。例えばシー
ト状導電材料を対象とした懸架式の電解処理装置やスト
レート通板方式の電解処理装置に於いても適用すること
ができる。
説明したがこれに限定されるものではない。例えばシー
ト状導電材料を対象とした懸架式の電解処理装置やスト
レート通板方式の電解処理装置に於いても適用すること
ができる。
以上より明らかなように本発明によれば、回転ドラムに
不動態膜を生成し、これを陽極としたため、被処理材と
回転ドラム間に電解液が浸入しても、ドラムの熔解及び
腐食が生ぜず、陽極と陰極間の短絡電流も防止できる。
不動態膜を生成し、これを陽極としたため、被処理材と
回転ドラム間に電解液が浸入しても、ドラムの熔解及び
腐食が生ぜず、陽極と陰極間の短絡電流も防止できる。
このため、被処理材の長手方向に電流を流さない回転ド
ラム方式の実用化が可能となり、電力の大幅削減及び大
電流通電による電解処理が実現できる。更に、被処理材
の非処理面側の不要酸化皮膜も大幅に削減できる。また
、被処理材の幅が異なっても、両側部のマスキングが不
必要であるため、装置構成を簡略にでき、トリミング等
による得率低下を生じない。
ラム方式の実用化が可能となり、電力の大幅削減及び大
電流通電による電解処理が実現できる。更に、被処理材
の非処理面側の不要酸化皮膜も大幅に削減できる。また
、被処理材の幅が異なっても、両側部のマスキングが不
必要であるため、装置構成を簡略にでき、トリミング等
による得率低下を生じない。
第１図は従来の電解処理装置の構成を示す斜視図、第２
図は他の従来の電解処理装置の断面図、第３図及び第４
図は本発明の一実施態様を示す正面図及び側面図、第５
図は本発明に係る実施例で用いられるドラムの説明図、
第６図は本発明の第２実施態様を示す正面図及び断面図
である。 ｌ〇−被処理材、 １２−＠転ドラム、 １４−電解処
理槽、 １６−陰極、１８−電解液、２０−液注入口、
２２−液排出口、２４−電源、 ２６−給電装置、
２８−ガイドロール、 ３０・−水平支持ドラム、３２
−薄板、 ３４−陰極。 代理人 弁理士 松 浦 憲 三 筒１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 手続補正書 ７゜ 昭和５９年１０月１５日 １、事件の表示 昭和５９年特許願６８５７３号 ２、発明の名称 導電材料の電解処理方法及び装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 神奈川県南足柄市中沼２１０番地名 称 （５
２０）富士写真フイＪレム株式会社代表者 大 西 實 ４、代理人 住 所 ■１７０東京都豊島区東池袋−丁目２０番地５
図面 補正の内容 ■特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 ■明細書第４頁第１６乃至１８行の「被処理材１１２・
・・浸入が防止される。」を削除する。 ■明細書第５頁第１５行の「電解加工」を「電解処理」
に改める。 ■明細書第６頁第１４行の「両縁部」の後に［並びに未
処理部分、非処理面の両縁部に」を挿入する。 ■明細書箱７頁第２行の「接触抵抗」の前に「回転ドラ
ムと非処理材との」を挿入する。 ■明細書第８第１行の「酸性電解液中で通電してアノー
ド酸化し」を［アノード分極することにより、」と改め
る。 ■明細書第９頁第１２行の「外側」の後に「に」を挿入
する■明細書第９頁１５行の「サングー仕上げ」を「研
磨仕上げ」と改める。 ■明細書第１Ｏ頁第４行の「アノード酸化」を「アノー
ド分極」と改める。 ［相］明細書第１１頁第４乃至５行の［給電部２６から
・・・電源電圧が」を「はとんど」と改める。 ■明細書第１２頁第１１行の「酸化」を「分極」と改め
る。 ＠明細書第１２頁第１６行の「負荷」を「負極」と改め
る。 Ｏ第５図を別紙の通り補正する。 特許請求の範囲 ＋１１電解処理槽中に浸漬する電極の接液部にアノード
′方向に導電性を持たない不動態膜を形成し、被処理材
である導電材料の非電解処理面を該電極の不動態膜と接
触して電解処理することを特徴とする導電材料の電解処
理方法。 （２）通電用回転ドラムの外周に接して導電性の被処理
材を走行させ、この被処理材に対し所定の間隔を保って
電極を配置すると共に被処理材と電極との間に電解液を
介して通電し、上記被処理材の片面に電解処理を行なう
電解処理方法において、前記回転ドラム アノ−゛ る
ことによ 呟回転ドラム表面にアノード方向に導電性を
持たない不動態膜を形成し、この不動態膜に被処理材の
非電解処理面を接触させることを特徴とする特許請求の
範囲第１項の導電材料の電解処理方法。 第５図
図は他の従来の電解処理装置の断面図、第３図及び第４
図は本発明の一実施態様を示す正面図及び側面図、第５
図は本発明に係る実施例で用いられるドラムの説明図、
第６図は本発明の第２実施態様を示す正面図及び断面図
である。 ｌ〇−被処理材、 １２−＠転ドラム、 １４−電解処
理槽、 １６−陰極、１８−電解液、２０−液注入口、
２２−液排出口、２４−電源、 ２６−給電装置、
２８−ガイドロール、 ３０・−水平支持ドラム、３２
−薄板、 ３４−陰極。 代理人 弁理士 松 浦 憲 三 筒１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 手続補正書 ７゜ 昭和５９年１０月１５日 １、事件の表示 昭和５９年特許願６８５７３号 ２、発明の名称 導電材料の電解処理方法及び装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 神奈川県南足柄市中沼２１０番地名 称 （５
２０）富士写真フイＪレム株式会社代表者 大 西 實 ４、代理人 住 所 ■１７０東京都豊島区東池袋−丁目２０番地５
図面 補正の内容 ■特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 ■明細書第４頁第１６乃至１８行の「被処理材１１２・
・・浸入が防止される。」を削除する。 ■明細書第５頁第１５行の「電解加工」を「電解処理」
に改める。 ■明細書第６頁第１４行の「両縁部」の後に［並びに未
処理部分、非処理面の両縁部に」を挿入する。 ■明細書箱７頁第２行の「接触抵抗」の前に「回転ドラ
ムと非処理材との」を挿入する。 ■明細書第８第１行の「酸性電解液中で通電してアノー
ド酸化し」を［アノード分極することにより、」と改め
る。 ■明細書第９頁第１２行の「外側」の後に「に」を挿入
する■明細書第９頁１５行の「サングー仕上げ」を「研
磨仕上げ」と改める。 ■明細書第１Ｏ頁第４行の「アノード酸化」を「アノー
ド分極」と改める。 ［相］明細書第１１頁第４乃至５行の［給電部２６から
・・・電源電圧が」を「はとんど」と改める。 ■明細書第１２頁第１１行の「酸化」を「分極」と改め
る。 ＠明細書第１２頁第１６行の「負荷」を「負極」と改め
る。 Ｏ第５図を別紙の通り補正する。 特許請求の範囲 ＋１１電解処理槽中に浸漬する電極の接液部にアノード
′方向に導電性を持たない不動態膜を形成し、被処理材
である導電材料の非電解処理面を該電極の不動態膜と接
触して電解処理することを特徴とする導電材料の電解処
理方法。 （２）通電用回転ドラムの外周に接して導電性の被処理
材を走行させ、この被処理材に対し所定の間隔を保って
電極を配置すると共に被処理材と電極との間に電解液を
介して通電し、上記被処理材の片面に電解処理を行なう
電解処理方法において、前記回転ドラム アノ−゛ る
ことによ 呟回転ドラム表面にアノード方向に導電性を
持たない不動態膜を形成し、この不動態膜に被処理材の
非電解処理面を接触させることを特徴とする特許請求の
範囲第１項の導電材料の電解処理方法。 第５図
Claims (3)
- （１）電解処理槽中に浸漬する電極の接液部にアノード
方向に導電性を持たない不動１！膜を形成し、被処理材
である導電材料の非電解処理面を該電極の不動態膜と接
触して電解処理することを特徴とする導電材料の電解処
理方法。 - （２）通電用回転ドラムの外周に接して導電性の被処理
材を走行させ、この被処理材に対し所定の間隔を保って
電極を配置すると共に被処理材と電極との間の電解液を
介して通電し、上記被処理材の片面に電解処理を行なう
電解処理方法において、前記回転ドラムに酸性溶液中で
通電して回転ドラム表面にアノード方向に導電性を持た
ない不動態膜を形成し、この不動態膜に被処理材の非電
解処理面を接触させることを特徴とする特許請求の範囲
第１項の導電材料の電解処理方法。 - （３）通電用回転ドラムの外周に接して導電性の被処理
材を走行させ、この被処理材に対し所定の間隔を保って
電極を配置すると共に被処理材と電極との間の電解液を
介して通電し、上記被処理材の片面に電解処理を行なう
電解処理装置に於いて、前記回転ドラムの少なくとも表
層部は弁作用金属から構成されていることを特徴とする
導電材料の電解処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6857384A JPS60211093A (ja) | 1984-04-06 | 1984-04-06 | 導電材料の電解処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6857384A JPS60211093A (ja) | 1984-04-06 | 1984-04-06 | 導電材料の電解処理方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60211093A true JPS60211093A (ja) | 1985-10-23 |
| JPH0453958B2 JPH0453958B2 (ja) | 1992-08-28 |
Family
ID=13377645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6857384A Granted JPS60211093A (ja) | 1984-04-06 | 1984-04-06 | 導電材料の電解処理方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60211093A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01503631A (ja) * | 1987-06-26 | 1989-12-07 | コミユレクス | 溶融フッ化物媒体中での銅の不動態化陽極処理法及びフッ素電解槽の銅製部品保護への用途 |
| US5441627A (en) * | 1993-06-02 | 1995-08-15 | The Furukawa Electric Co., Ltd | Metal foil manufacturing method and an anodized film forming apparatus used therefor |
| EP3064618A1 (en) * | 2015-03-04 | 2016-09-07 | Rolls-Royce plc | Apparatus for use in an electroetching or electrodeposition process and an electroetching or electrodeposition process |
-
1984
- 1984-04-06 JP JP6857384A patent/JPS60211093A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01503631A (ja) * | 1987-06-26 | 1989-12-07 | コミユレクス | 溶融フッ化物媒体中での銅の不動態化陽極処理法及びフッ素電解槽の銅製部品保護への用途 |
| US5441627A (en) * | 1993-06-02 | 1995-08-15 | The Furukawa Electric Co., Ltd | Metal foil manufacturing method and an anodized film forming apparatus used therefor |
| EP3064618A1 (en) * | 2015-03-04 | 2016-09-07 | Rolls-Royce plc | Apparatus for use in an electroetching or electrodeposition process and an electroetching or electrodeposition process |
| US10184188B2 (en) | 2015-03-04 | 2019-01-22 | Rolls-Royce Plc | Apparatus for use in an electroetching or electrodeposition process and an electroetching or electrodeposition process |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0453958B2 (ja) | 1992-08-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |