JPH0453958B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

１ 弁作用金属を陽極酸化処理して得られた、電
解処理液に対して通電不能であつて導電材料に対
して通電可能な皮膜を電極に被覆し、 該電極を電解処理液に浸漬し、 導電材料から成る被処理材を前記皮膜に当接
し、 前記電極に通電して電解処理液に直接接触して
いる前記皮膜の部分を絶縁状態に保つと共に前記
被処理材が当接している前記皮膜の部分を前記被
処理材を介して電解処理液と通電させ、 前記被処理材を電解処理することを特徴とする
導電材料の電解処理方法。 ２ 通電用回転ドラムの外周に接して導電性の被
処理材を走行させ、この被処理材に対し所定の間
隔を保つて電極を配置すると共に被処理材と電極
との間に電解液を介して通電し、上記被処理材の
片面に電解処理を行う電解処理方法において、前
記回転ドラムをアノード分極することにより該回
転ドラム表面の弁作用金属を陽極酸化処理してア
ノード方向に導電性を持たない被膜を形成し、該
皮膜に前記被処理材の非電解処理面を接触させる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項の導電材
料の電解処理方法。 ３ 通電用回転ドラムの外周に接して導電性の被
処理材を走行させ、この被処理材に対し所定の間
隔を保つて電極を配置すると共に被処理材と電極
との間に電解液を介して通電し、上記被処理材の
片面に電解処理を行う電解処理方法に於いて、前
記回転ドラムの少なくとも表層部は弁作用金属か
ら構成され、該弁作用金属は陽極酸化処理されて
表面に、電解処理液に対して通電不能であつて導
電材料に対して通電可能な皮膜が被覆されている
ことを特徴とする導電材料の電解処理装置。

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明は導電材料の電解処理方法及び装置に係
り、特に、シート状又は帯状の導電材料を電解液
中に浸漬させながら通過させて材料表面に電解処
理を行なう導電材料の電解処理方法及び装置に関
する。 〔従来技術〕 アルミニウム、鉄などの導電材料の表面に電解
を応用する方法は、例えば鍍金処理、電解粗面化
処理、電解エツチング処理、陽極酸化処理、電解
着色、梨地処理、電解洗浄等広汎に実用化されて
いる。またこれらの処理の為に従来から種々の電
解処理装置が提案されている。 従来の第１の例として、導電性材料を縦方向又
は横方向にストレートに通板し、導電性材料の長
手方向に、通電ロール又は導電性の液体を介して
通電し、所定位置で電解液中の材料と対向する位
置に配設された電極との間で電解を行なつて材料
の表面を処理する例がある。 また、従来の第２の例として、特公昭46−7162
号公報に示すものがあり、電解液中に浸漬される
回転ドラムの約半周に導電性材料を巻回し、この
材料に回転ドラムを介して直接通電し、回転ドラ
ムに対向配置された電極との間で電解処理を行な
うものがある。この例では、被処理材料の非処理
面へ電解液が浸入するのを防止するため、回転ド
ラム導電性接触リング部と周囲密封バンドとで構
成している。また、従来の第３の例として特公昭
46−39441号公報に示す例があり、第１図は、こ
の特公昭46−39441号公報に記載の電解処理装置
の概略を示し、導電性表面１００とその両側に形
成される非導電性表面１０２を有する回転ドラム
１０４は軸１０６ａ、１０６ｂによつて、図示し
ない電解槽に設置されている。回転ドラム１０４
の下部の電解槽内には陰極１０８が設置される。
回転ドラム１０４の外周には、ガイドローラ１１
０を介して被処理材１１２が接触しながら通板
し、被処理材１１２の両縁部には、圧接バンド１
１４ａ、１１４ｂが設けられ、この圧接バンド１
１４ａ、１１４ｂによりドラム１０４と被処理材
１１２の〓間に電解液の浸入を防止する。 このような構成において、電解槽内に電解液を
注入し、回転ドラム１０４に正電圧を印加し、陰
極に負電圧を印加して被処理材１１２を通板する
と、被処理材１１２の陰極面側に電解処理が施さ
れる。 更に、第４の例として、特開昭48−1682号公報
に示す例があり、第３の例と同様に回転ドラムに
巻回させて電解処理を行なうと共に、回転ドラム
と被処理材との間に水層部を形成し、被処理材の
非処理面（ドラム側）に電解液が浸入しないよう
にしたものがある。第２図は、この特開昭48−
16820号公報に記載の電解処理装置の構成を示し、
第１図と同様に通板を行なうものであるが、陰極
を平板でなく回転ドラム１０４に対応した曲面を
有する陰極２００を設けると共に、この陰極２０
０を内壁面に装着した電解槽２０２を回転ドラム
１０４の下部に配設したものである。さらに、電
解処理中においては、図の方向Ｗより水を注入し
て水膜を形成する。第２図の従来例によれば、被
処理材の被処理面と回転ドラム間に水膜が形成さ
れ、電解液の浸入が阻止されるため、非処理面の
電解処理が防止される。 しかし、従来の電解処理装置においては、第１
の例の場合、被処理材の長手方向に通電する構成
がとられているため、高速処理、あるいは厚い処
理膜を生成する場合、大電流を流すと被処理材が
発熱する。この結果、被処理材に皺を生じ、この
皺によつて溶断する恐れがある他、被処理材自身
の電気抵抗によつて大きな電力ロスが生じる。ま
た、非処理面側に絶縁物を介在させても、電流の
回り込みが大きく、これによる電力ロスも大き
い。 また、第２の例では、非処理面を完全に密閉す
るためには被処理材料に非常に高い張力を必要と
し、従つて、薄物や強度の小さい被処理材に適用
することができない。また実際に使用する場合に
は、接触リング部と周囲密封バンドとの境界の構
造が非常に複雑となり、ドラムの保守に労力を要
する。更に第３の例では第１図に於いて被処理材
の処理面側から非導電体バンド１１４ａ、１１４
ｂで圧接するため、処理表面の両縁部並びに未処
理部分、非処理面の両縁部に電解汚れが生じるた
め、電解処理後に両縁部を切除する必要がある。
加えて、被処理材の幅寸法が異なるたびにバンド
１１４ａ、１１４ｂを再セツトしなければならな
い。この欠点は第４の例に於いても同様である。 更に、第４の例では、第２図に示したように、
被処理材１１２とドラム１０４間に水が介在する
ため、回転ドラムと非処理材との接触抵抗が不安
定となる。このため、大電流の通電時には、アー
クスポツトを発生する恐れがある他、電解液がド
ラム面の水によつて薄められるため、常に濃度調
整を行なう必要があり、このための設備の負荷が
大きい。更に第３の例と第４の例とで共通に問題
となるのは、被処理材の幅が小さくなるとドラム
側の環状の導電性材料が露出し、該導電性材料に
溶解、腐食等が生じると共に、陽極−陰極の短絡
により大きな電力ロスを生じる不都合がある。 〔発明の目的〕 本発明は前記従来技術の欠点に鑑みてなされた
ものであり、回転ドラムが溶損並びに腐食するこ
とはなく、被処理材の非処理面が汚損されず、更
に電力ロスを生じさせない導電材料の電解処理方
法及び装置の提供を目的とする。 〔発明の概要〕 本発明は、回転ドラムの表面を、Ta、Nb、
Zr、Ti等（弁作用金属）の薄板で形成し、さら
にアノード分極することにより、アノード方向に
導電性を持たない特性を有した皮膜を形成するこ
とを特徴としている。 〔実施態様〕 ここでアノード方向に導電性を持たない特性を
有した皮膜とは、金属の表面に生じた常態よりも
貴金属性を帯びた性質を有する透明水化酸化物の
膜を意味し、一般には耐食性と非導電性を示すと
されている。 本願発明は、この皮膜が選択的な導電性を持つ
ていることを発見し、本願発明を成すに至つた。
すなわち、本願発明において、この皮膜は導電材
料の電解処理において、直接面接触している導電
材料に対してのみ顕著な導電性を示す反面、電解
処理液に対しては殆ど導電性を示さないことが実
験的に確認された。 従つて、直接面接触している導電材料をアノー
ドとして電解処理を行えば上記した目的が達成さ
れるのである。 第３図及び第４図は本発明の一実施例態様を示
す正面図及び側面断面図である。 周面の所定域にアルミ等の導電材料の被処理材
１０が張架される回転ドラム１２は、電解処理槽
１４に回転可能に設置される。回転ドラム１２の
外周面に沿つて所定の間隔を保つて断面が略半円
状の陰極１６が対向配置される。この陰極１６は
円筒を半分割した形状を有すると共に、両側部が
電解処理槽１４に絶縁して固定される。陰極１６
の下部には、電解液１８を回転ドラム１２と陰極
１６の間の〓間に供給するための液注入口２０が
設けられる。また、電解処理槽１４の底部に陰極
１６の上縁部より溢れ出て電解処理槽１４の底面
に落下した電解液を槽外に排出するための液排出
口２２が設けられている。回転ドラム１２の一方
の軸端１３には、電源２４の出力電圧を回転ドラ
ム１２に印加するための給電装置２６が設けられ
ている。電源２４の負側出力電圧は陰極１６に印
加され、正側出力電圧は給電装置２６に印加され
る。また、被処理材１０を回転ドラム１２の外周
の大部分に張架させるために、ドラム上方位置に
一対のガイドロール２８が設けられている。 回転ドラム１２は、十分な強度を有する導電金
属（例えばステンレス）を用いて構成される筒状
の芯金３０及び該芯金３０の表面に弁作用金属
（Nb、Ta、Zr、Ti等）の薄板３２がライニング
される。即ち、第５図に示すように芯金３０の外
側に薄板３２Ａを複数のシーム線３３により溶接
し、側面に円板３２Ｂを同心円状に溶接した後更
に円筒状薄板３２Ｃを軸部１３にかぶせて溶接
後、ドラム１２の周面は研磨仕上げされる。この
ようにドラム１２の芯金３０を強固で低価格のス
テンレス等で形成すると共に芯金３０の表面に
Nb等の皮膜生成金属で形成してドラム１２を２
重構造にしたので、ドラム１２が強固に形成され
ると共にドラム１２の製作費も低減できる。組立
の完了後に酸性の電解液を（硫酸、硝酸、その他
の鉱酸）を液注入口２０から注入し、回転ドラム
１２を回転させると共に10V〜100V程度の化成
電圧を印加してアノード分極し、前述したアノー
ド方向に導電性を持たない特性の皮膜を形成す
る。この形成の後に実際の使用に供される。化成
電圧としては、皮膜に破壊が生じない範囲であれ
ば任意に選択することができるが、短時間で化成
するためには、高めの電圧にするのがよい。 以上の構成において、ガイドロール２８を介
し、回転ドラム１２を周回させ、更にガイドロー
ル２８を介して被処理材１０（本実施例ではアル
ミ材）を通板し、液注入口２０より連続に電解液
を供給すると共に、電源２４を動作させ、正電圧
を回転ドラム１２に印加し、負電圧を陰極１６に
印加し、陽極酸化を行なう。回転ドラム１２に供
給された電流は、表面に形成されている被膜の
為、電解液１８に直接に接触するドラム１２表面
からは殆んど電流が流れず、ドラム１２表面に当
接することによつて陽極となる被処理材１０の電
解液１８に接触する部分のみから陰極１６に向つ
て電流が流出する。この場合、ドラム１２表面と
被処理材１０との接触面での電気抵抗が殆んど零
であるため、ほとんど電圧降下を生じることなく
給電される。また、皮膜は、アノード電流に対し
て非常に安定であるので、電解処理時に、ドラム
１２と被処理材１０の接触面間に電解液１８が浸
入しても、回転ドラム１２に溶解及び腐食を生じ
ることはなく、また被処理材１０が汚損される恐
れはない。 なお、被処理材１０の幅が種々異なる場合で
も、以上の構成のままで適用できると共に、Sb、
Bi、Mg、Zn、Cd、Sn等の導電材料に対しても、
応用可能である。 第６図は本発明の第２実施態様を示す断面図で
ある。本実施例は、陰極３４を第３図の断面半円
形状から、平板状に形成すると共に、電解液１８
を第４図の溢流方式に変えて電解処理槽１４内の
所定レベルまで満たすようにしたものである。第
２実施態様は第１実施態様に比べ、構造を簡略化
することができる。 〔実施例〕 幅300mm、厚み0.24mmの脱脂済の帯状アルミニ
ウム板を被処理材とし、20％硫酸を電解液として
陽極酸化処理を次の仕様及び第３図及び第４図の
構成に従つて実施した。 回転通電ドラム１２： 芯金３０をSUS316で構成すると共に表面にNb
板をライニングし（第５図）、予めアノード分極
を行なつて前記特性を有した皮膜を化成した（化
成に用いた電解液は被処理材の酸化処理に用いる
ものと同一品を使用）。 電源２４： サイリスタ制御により整流出力される直流電圧
の正極を回転ドラムに印加し、負極をアルミニウ
ムを用いた陰極に印加した。 被処理材の搬送速度： ６ｍ／分。 この結果、被処理材の陰極に対向する面には、
３ｇ／m²の酸化膜の生成が確認されたが、回転ド
ラムに接した面（非処理面）は、殆んど酸化膜の
生成が認められず、良好なアルミニウム片面処理
が行なわれたことが確かめられた。しかも、陽極
側すなわち回転ドラムに表面の溶解も全く認めら
れず、酸化膜生成効率から判断して陽極−陰極間
に短絡流が生じなかつたと考えられる。因みに、
前述した従来の第２例の構成において、接触リン
グに銅を用いて実施を試みたところ、陽極に溶解
が生じ、連続操業が不可能な状態となつた。 なお、本実施例の構成において、非処理面（被
処理材の回転ドラムと接する面）へ電解液が浸入
するのを更に防止するため、被処理材の両側部か
ら密封バンドでドラム側へ圧接するようにするこ
ともできる。 また、陽極への給電は、芯金３０への給電装置
２６を介して行なうものとしたが、薄板３２の皮
膜が形成されていない部分へ直接に給電するよう
にしてもよい。この場合には、芯金３０と薄板３
２との境界面の接触抵抗を小さくする為の配慮が
不要となる。 更に、ドラム１２の本発明に係る皮膜の生成は
使用の前に予め生成してもよいし、酸化皮膜を形
成しない純粋の金属面のまま電解処理を開始し、
電解処理中に電解液接触部に本発明に係る皮膜を
生成してもよい。 前記実施例では回転ドラム方式の電解処理装置
について説明したがこれに限定されるものではな
い。例えばシート状導電材料を対象とした懸架式
の電解処理装置やストレート通板方式の電解処理
装置に於いても適用することができる。 〔発明の効果〕 以上より明らかなように本発明によれば、回転
ドラムに電解処理液に対して通電不能であつて導
電材料に対して通電可能な皮膜を生成し、これを
陽極としたため、被処理材と回転ドラム間に電解
液が浸入しても、ドラムの溶解及び腐食が生ぜ
ず、陽極と陰極間の短絡電流も防止できる。この
ため、被処理材の長手方向に電流を流さない回転
ドラム方式の実用化が可能となり、電力の大幅削
減及び大電流通電による電解処理が実現できる。
更に、被処理材の非処理面側の不要酸化皮膜も大
幅に削減できる。また、被処理材の幅が異なつて
も、両側部のマスキングが不必要であるため、装
置構成を簡略にでき、トリミング等による得率低
下を生じない。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の電解処理装置の構成を示す斜視
図、第２図は他の電解処理装置の断面図、第３図
及び第４図は本発明の一実施態様を示す正面図及
び側面図、第５図は本発明に係る実施例で用いら
れるドラムの説明図、第６図は本発明の第２実施
態様を示す正面図及び断面図である。 １０……被処理材、１２……回転ドラム、１４
……電解処理層、１６……陰極、１８……電解
液、２０……液注入口、２２……液排出口、２４
……電源、２６……給電装置、２８……ガイドロ
ール、３０……水平支持ドラム、３２……薄板、
３４……陰極。