JPH0397895A - 堅型電解処理装置 - Google Patents
堅型電解処理装置Info
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- JPH0397895A JPH0397895A JP23508889A JP23508889A JPH0397895A JP H0397895 A JPH0397895 A JP H0397895A JP 23508889 A JP23508889 A JP 23508889A JP 23508889 A JP23508889 A JP 23508889A JP H0397895 A JPH0397895 A JP H0397895A
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 68
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 68
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 21
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、竪型電解処理装置に関するものである,
(従来の技術と発明が解決しようとする課題)竪型電解
処理装置としては、第1図に示すごとく、金属f1を入
側通電ロール2を介してガイドロール3から出側通電ロ
ール2aへ通板し、タンク4内の金属帯1内側Aと外側
Bの両側に不溶性電極板5を配置し、該電極板5を陽極
とし、金属f1を陰極として、メッキ液6を介して通電
し、金属−1!:1の表面を電解処理するものである. 又、第2図に示すごとく、必要に応じて、金属帯1両端
部にエッヂマスク7を配設して金属帯1両端部の過剰処
理(エッチ部のオーバーコート等)を防止するものであ
る。
処理装置としては、第1図に示すごとく、金属f1を入
側通電ロール2を介してガイドロール3から出側通電ロ
ール2aへ通板し、タンク4内の金属帯1内側Aと外側
Bの両側に不溶性電極板5を配置し、該電極板5を陽極
とし、金属f1を陰極として、メッキ液6を介して通電
し、金属−1!:1の表面を電解処理するものである. 又、第2図に示すごとく、必要に応じて、金属帯1両端
部にエッヂマスク7を配設して金属帯1両端部の過剰処
理(エッチ部のオーバーコート等)を防止するものであ
る。
このようにして電解処理を施すと、金属f1が内側に配
置した電極板5に近接移動し、金属1F1表裏面の電解
処理に差異が生ずる(メッキの場合は差厚となる)、又
金属帯1巾方向においても不均一になる、更に金属帯1
が内側に配置した電極板5に接触し、スパークが発生し
、操業上重大な欠点となることもある。
置した電極板5に近接移動し、金属1F1表裏面の電解
処理に差異が生ずる(メッキの場合は差厚となる)、又
金属帯1巾方向においても不均一になる、更に金属帯1
が内側に配置した電極板5に接触し、スパークが発生し
、操業上重大な欠点となることもある。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の特徴とするところは、全面に開孔部を形成した
不溶性電極板を電解処理タンク内下向通板金属帯両側に
配置し、上部から下部に亘り開孔部を形成したエッヂマ
スクを上記タンク内上向通板金属帯両端部に配置した、
竪型電解処理装置、及び、全面に開孔部を形成した不溶
性it8i板を電解処理タンク内下向通板金属帯両側に
配置し、全面に開孔部を形成した不溶性電極板を電解処
理タンク内上向通板金属帯内側に、上部に開孔部を形成
した不溶性電極板を外側にそれぞれ配置した、竪型電解
処理装置である。
不溶性電極板を電解処理タンク内下向通板金属帯両側に
配置し、上部から下部に亘り開孔部を形成したエッヂマ
スクを上記タンク内上向通板金属帯両端部に配置した、
竪型電解処理装置、及び、全面に開孔部を形成した不溶
性it8i板を電解処理タンク内下向通板金属帯両側に
配置し、全面に開孔部を形成した不溶性電極板を電解処
理タンク内上向通板金属帯内側に、上部に開孔部を形成
した不溶性電極板を外側にそれぞれ配置した、竪型電解
処理装置である。
本発明者等が前記のごとき欠点について種々検討した結
果、その原因としては、下記のごとく明らかになった. 即ち第1図に示すごとく、竪型電解処理装置は、金属帯
1は電解処理タンク4内へ人側通電ロール2を介してガ
イドロール3までは下向通板金属i1a、ガイドロール
3から出側通電ロール2aまでは上向通板金属帯1bと
なり通板処理するものである。
果、その原因としては、下記のごとく明らかになった. 即ち第1図に示すごとく、竪型電解処理装置は、金属帯
1は電解処理タンク4内へ人側通電ロール2を介してガ
イドロール3までは下向通板金属i1a、ガイドロール
3から出側通電ロール2aまでは上向通板金属帯1bと
なり通板処理するものである。
しかして、下向通板金属帯1aは金属帯1aの下向移動
により金属fla近傍の処理液6が下向に随伴され下向
通板金属−i+1a近傍の処理液上部に陥没部ができ、
特に高速ラインにおいては著しく、金属帯両端部からの
急激な処理液流れ等により金属91aの処理液中での均
一保持が困難になり、金属i”laが一方の電極板5C
近接し、ときには、電極板に接触することもある. 特C第2図に示すごとく、エツヂマスク7を配設したと
きは顕著である。
により金属fla近傍の処理液6が下向に随伴され下向
通板金属−i+1a近傍の処理液上部に陥没部ができ、
特に高速ラインにおいては著しく、金属帯両端部からの
急激な処理液流れ等により金属91aの処理液中での均
一保持が困難になり、金属i”laが一方の電極板5C
近接し、ときには、電極板に接触することもある. 特C第2図に示すごとく、エツヂマスク7を配設したと
きは顕著である。
このようなことから下向通板金属fla両側に配置する
不溶性電極板5の全面に開孔部を形成する、例えば、ほ
ぼ均等間隔で丸形等適宜な形状で開孔部を全面に形成し
、この間孔部から処理液が金属帯1aと電極[5間へ絶
えず流入し、前記のごとき陥没部を解消して金属帯1a
の電極板5への近接を防止するものである。
不溶性電極板5の全面に開孔部を形成する、例えば、ほ
ぼ均等間隔で丸形等適宜な形状で開孔部を全面に形成し
、この間孔部から処理液が金属帯1aと電極[5間へ絶
えず流入し、前記のごとき陥没部を解消して金属帯1a
の電極板5への近接を防止するものである。
このように構戒することにより、金属帯1aの両端部に
エッヂマスクを配設しても確実に効果が得られるが、よ
り一層効果的にするためには、例えば、エッヂマスクの
背面、側面(両側または片側)の一方又は双方の上部か
ら下部に亘りほぼ均等間隔に開孔部を形成し、金RIF
1a両端部からの処理液流入を容易にする。
エッヂマスクを配設しても確実に効果が得られるが、よ
り一層効果的にするためには、例えば、エッヂマスクの
背面、側面(両側または片側)の一方又は双方の上部か
ら下部に亘りほぼ均等間隔に開孔部を形成し、金RIF
1a両端部からの処理液流入を容易にする。
一方ガイドロール3から出側通電ロール2aへ上向通板
される金属’llbは、ガイドロール3が金属帯1bの
通板方向に回転しており、金属帯1bの移a随伴力とあ
いまって、金属帯1bと外側B電極板5間に処理液6が
多量に流れ、金属帯1bと内側A電極板5間には、少量
の処理液が流れていることが計測結果で明らかになり、
このことから金属帯1bが外側Bから押され内側AtF
i板5へ近接することが明らかになった. 又第2図に示すごとき、エッヂマスク7を配置している
ときには、上記のごとく、金属帯1bが内側A電極板5
に近接するが、エッヂマスク7を撤去して操業すると金
属IF1の内側A電極板5への近接はほとんどなく、こ
の原因についても処理液流れを計測した結果、エッヂマ
スク7を撤去して操業した場合は、金属f1bの巾方向
両端部から処理液が金属f1bと内外側電極板5間へ流
れ込み金属帯1bと両側電極板間での処理液流れにほと
んど差がなくなり、金属帯1bが内側A電極板5へ近接
しなくなることが明らかになった。
される金属’llbは、ガイドロール3が金属帯1bの
通板方向に回転しており、金属帯1bの移a随伴力とあ
いまって、金属帯1bと外側B電極板5間に処理液6が
多量に流れ、金属帯1bと内側A電極板5間には、少量
の処理液が流れていることが計測結果で明らかになり、
このことから金属帯1bが外側Bから押され内側AtF
i板5へ近接することが明らかになった. 又第2図に示すごとき、エッヂマスク7を配置している
ときには、上記のごとく、金属帯1bが内側A電極板5
に近接するが、エッヂマスク7を撤去して操業すると金
属IF1の内側A電極板5への近接はほとんどなく、こ
の原因についても処理液流れを計測した結果、エッヂマ
スク7を撤去して操業した場合は、金属f1bの巾方向
両端部から処理液が金属f1bと内外側電極板5間へ流
れ込み金属帯1bと両側電極板間での処理液流れにほと
んど差がなくなり、金属帯1bが内側A電極板5へ近接
しなくなることが明らかになった。
従って、エツヂマスク7を金属帯1bの両端部へ配設し
て操業する場合は、エツヂマスクの上部から下部に亘り
、例えば、マスクの背面、側面(一側又は両側)の何れ
か又は双方に連続的又は断続的に開孔部を設け、該開孔
部から処理液を金属i1bと両電極板5間へ流れ込むよ
うにすることにより、大巾な金属−llF1bの内側A
電極板5への近接を確実じ防止することができる。又内
側A電極板5の全面にほぼ均等間隔で開孔部を形成し、
外側B電極板5の上部にほぼ均等間隔で開孔部を形戒す
ることにより、内側A電極板5の下部開孔部からも金属
帯1bへ向って処理液が流入し、一部は上部開孔部から
流出する、一方外側B電極板5は上部開孔部から処理液
が多量に流出し下部は開孔部を形成しないか、又は上部
開孔部より下部開孔部を小とするか、或は同面積の開孔
郎で上部に比べ下部開孔部を少なくする、即ち上部開孔
部面積に比べ下部開孔部面積を小とし、ガイドロール3
の回転によるIA埋液の金属fibと両電極板5間への
流入差がほぼ均等になり、金属IF1bの揺動がほとん
どなくなり、内側A電極板5への近接を確実に防止する
ことができる。
て操業する場合は、エツヂマスクの上部から下部に亘り
、例えば、マスクの背面、側面(一側又は両側)の何れ
か又は双方に連続的又は断続的に開孔部を設け、該開孔
部から処理液を金属i1bと両電極板5間へ流れ込むよ
うにすることにより、大巾な金属−llF1bの内側A
電極板5への近接を確実じ防止することができる。又内
側A電極板5の全面にほぼ均等間隔で開孔部を形成し、
外側B電極板5の上部にほぼ均等間隔で開孔部を形戒す
ることにより、内側A電極板5の下部開孔部からも金属
帯1bへ向って処理液が流入し、一部は上部開孔部から
流出する、一方外側B電極板5は上部開孔部から処理液
が多量に流出し下部は開孔部を形成しないか、又は上部
開孔部より下部開孔部を小とするか、或は同面積の開孔
郎で上部に比べ下部開孔部を少なくする、即ち上部開孔
部面積に比べ下部開孔部面積を小とし、ガイドロール3
の回転によるIA埋液の金属fibと両電極板5間への
流入差がほぼ均等になり、金属IF1bの揺動がほとん
どなくなり、内側A電極板5への近接を確実に防止する
ことができる。
更に前記のごとく、エッヂマスクに開孔部を形成すると
ともに、上記のごとく電極板に開孔部を形成することに
より、一層処理液の偏流を防止でき金属帯の揺動を一層
確実に防止できる. このようtt本発明は、錫、亜鉛、アルミニウム、クロ
ム等・・・の電気メッキ装置、クロム酸化物、亜鉛系酸
化物等を析出する竪型電解処理装置に有利に適用するこ
とができる。
ともに、上記のごとく電極板に開孔部を形成することに
より、一層処理液の偏流を防止でき金属帯の揺動を一層
確実に防止できる. このようtt本発明は、錫、亜鉛、アルミニウム、クロ
ム等・・・の電気メッキ装置、クロム酸化物、亜鉛系酸
化物等を析出する竪型電解処理装置に有利に適用するこ
とができる。
(実 施 例)
次に本発明の実施例を挙げる.
実施例−1
第3図({).(口)に示すごとく、エッヂマスク7の
背面8と側面に図示のごとく、開孔部9を設け、該開孔
部9に連通する開孔部9aを設けるとともに側面に開孔
部9bを設けたエッヂマスク7を第2図に示すごとく、
上向通板金属帯1b両端部に配置し、下向通板金属i1
aの両側に第4図(イ)に示す全面に開孔部9を形成し
た不溶性電極板を配置する. 実施例−2 実施例において、下向通板金属帯1a両端部に第3図に
示すごとき、エッヂマスク7を配置する。
背面8と側面に図示のごとく、開孔部9を設け、該開孔
部9に連通する開孔部9aを設けるとともに側面に開孔
部9bを設けたエッヂマスク7を第2図に示すごとく、
上向通板金属帯1b両端部に配置し、下向通板金属i1
aの両側に第4図(イ)に示す全面に開孔部9を形成し
た不溶性電極板を配置する. 実施例−2 実施例において、下向通板金属帯1a両端部に第3図に
示すごとき、エッヂマスク7を配置する。
実施例−3
上向通板金属帯1bの内側Aに第4図(イ)に示す全面
に開孔部9を形成した不溶性電極板5を配置し、外側B
に第4図(ロ)に示す上部に開孔部9を形成した不溶性
電極板5を配置する、一方下向通板金属f1aの両側に
第4図(イ)に示す全面に開孔部9を形成した不溶性電
極板5を配置する。
に開孔部9を形成した不溶性電極板5を配置し、外側B
に第4図(ロ)に示す上部に開孔部9を形成した不溶性
電極板5を配置する、一方下向通板金属f1aの両側に
第4図(イ)に示す全面に開孔部9を形成した不溶性電
極板5を配置する。
実施例−4
実施例3において、下向通板金属i1a及び上向通板金
属flbのそれぞれ両端部に第3図に示すエッヂマスク
7を配設する。
属flbのそれぞれ両端部に第3図に示すエッヂマスク
7を配設する。
実施例−5
実施例3において、上向通板金属帯1bの外側に第4図
(ハ)に示すごとき、上部開孔部9に比べ下部開孔郎9
aを小さくした、いわゆる上部開孔部面積より下部開孔
部面積を小とした、不溶性電極板5を配置する。
(ハ)に示すごとき、上部開孔部9に比べ下部開孔郎9
aを小さくした、いわゆる上部開孔部面積より下部開孔
部面積を小とした、不溶性電極板5を配置する。
次に上記実施例装置に基く操業例を挙げる。
1)全面開孔部形成の不溶性電極板
(1)有効高さ; 150hm.巾; 1100mm(
2)開孔部;50mm径、等間隔に44個開孔2)上部
開孔部形成の不溶性電極板 (1)有効高さ; 1500mm,巾; 1100mm
(2)開孔部; 50mm径、上部高さ700l内に等
間隔で20個間孔(第4図(口)) (3)開孔部; 50mm径、上部高さ700mm以内
に等間隔で20個間孔し、下部に10mm径の開孔部5
個(第4図(ハ)) 3) エッヂマスク (1)有効高さ; 1800mm,巾; 50mm(2
)開孔部;背面;巾15mm、長さ150mmで50a
u++間隔に開孔、側面;該背面開孔部に連通ずる開孔
(第3図98)し、側面に第3図9bを巾30mn+,
長さ150mm 、ピッチ50mmを開孔した。
2)開孔部;50mm径、等間隔に44個開孔2)上部
開孔部形成の不溶性電極板 (1)有効高さ; 1500mm,巾; 1100mm
(2)開孔部; 50mm径、上部高さ700l内に等
間隔で20個間孔(第4図(口)) (3)開孔部; 50mm径、上部高さ700mm以内
に等間隔で20個間孔し、下部に10mm径の開孔部5
個(第4図(ハ)) 3) エッヂマスク (1)有効高さ; 1800mm,巾; 50mm(2
)開孔部;背面;巾15mm、長さ150mmで50a
u++間隔に開孔、側面;該背面開孔部に連通ずる開孔
(第3図98)し、側面に第3図9bを巾30mn+,
長さ150mm 、ピッチ50mmを開孔した。
4)電解処理条件
(1)金属帯(銅帯):厚み0.29m,巾900mm
、(2)通板速度; 420mpm、 金属帯張力; 1.5kg/im2 (3)不溶性電極板対金属帯距離; 30mm、(4)
ガイドロール径; 500mmφ(5)ガイドロール中
心から通電ロールまでの距[1 ; 2900+nm (6)ガイドロール中心から処理浴表面までの距離;
2100mm (7)電解処理;錫メッキ 上記のごとき条件で電解処理するに際し、前記不溶性電
極板、エツヂマスクを用いた操業例を挙げる。
、(2)通板速度; 420mpm、 金属帯張力; 1.5kg/im2 (3)不溶性電極板対金属帯距離; 30mm、(4)
ガイドロール径; 500mmφ(5)ガイドロール中
心から通電ロールまでの距[1 ; 2900+nm (6)ガイドロール中心から処理浴表面までの距離;
2100mm (7)電解処理;錫メッキ 上記のごとき条件で電解処理するに際し、前記不溶性電
極板、エツヂマスクを用いた操業例を挙げる。
注1=比較例のエッヂマスクは無間孔を使用.注2:f
i理液はタンク下部から0.8++’/分導入し、タン
ク上部からオーバーフローさせ循環使用。
i理液はタンク下部から0.8++’/分導入し、タン
ク上部からオーバーフローさせ循環使用。
(発明の効果)
かくすることにより、電解処理に際し、金属帯の電極板
間の片寄りを確実に防止することができ、操業が安定す
る。
間の片寄りを確実に防止することができ、操業が安定す
る。
又、金属帯表裏面の処理が均一にでき、歩留を向上する
とともに商品価値を向上することができる。更に金属帯
が電極板に接触するという設備事故による操業停止、復
旧工事が避けられる等の優れた効果が得られる。
とともに商品価値を向上することができる。更に金属帯
が電極板に接触するという設備事故による操業停止、復
旧工事が避けられる等の優れた効果が得られる。
第1図は竪型電解処理装置の側面説明図、第2図は同平
面による要部説明図、第3図はエッヂマスクの説明図で
(イ)は斜視図、(0)は横断面図、第4図({) ,
(0) , (八)は不溶性電極板の平面説明図であ
る。 1・・・金属帯 1a・・・下向通板金属帯1
b・・・上向通板金属帯 2・・・人側通電ロール 3・・・ガイドロール 5・・・不溶性電極板 7・・・エツヂマスク 9・・・開孔部 2a・・・出側通電ロール 4・・・電解処理タンク 6・・・処理液 8・・・エッヂマスク背面 他4名 2:人側通電ロール 2a:出側通電ロール 3:ガイドロール 4:電解処理タンク 7:エッジマスク (イ) 5・不溶性電極板 9:開孔部
面による要部説明図、第3図はエッヂマスクの説明図で
(イ)は斜視図、(0)は横断面図、第4図({) ,
(0) , (八)は不溶性電極板の平面説明図であ
る。 1・・・金属帯 1a・・・下向通板金属帯1
b・・・上向通板金属帯 2・・・人側通電ロール 3・・・ガイドロール 5・・・不溶性電極板 7・・・エツヂマスク 9・・・開孔部 2a・・・出側通電ロール 4・・・電解処理タンク 6・・・処理液 8・・・エッヂマスク背面 他4名 2:人側通電ロール 2a:出側通電ロール 3:ガイドロール 4:電解処理タンク 7:エッジマスク (イ) 5・不溶性電極板 9:開孔部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 全面に開孔部を形成した不溶性電極板を電解処理タ
ンク内下向通板金属帯両側に配置 し、上部から下部に亘り開孔部を形成した エッヂマスクを上記タンク内上向通板金属帯両端部に配
置した、竪型電解処理装置。 2 全面に開孔部を形成した不溶性電極板を電解処理タ
ンク内下向通板金属帯両側に配置 し、全面に開孔部を形成した不溶性電極板を電解処理タ
ンク内上向通板金属帯内側に、上部に開孔部を形成した
不溶性電極板を外側にそれぞれ配置した、竪型電解処理
装置。 3 上部から下部に亘り開孔部を形成せしめたエッヂマ
スクを電解処理タンク内下向通板金属帯両端部に配置し
た、請求項1または2に記載の竪型電解処理装置。 4 上部から下部に亘り開孔部を形成せしめたエッヂマ
スクを電解処理タンク内上向通板金属帯両端部に配置し
た請求項2に記載の竪型電解処理装置。 5 不溶性電極板の上部開孔面積に比べ下部開孔面積を
小とした不溶性電極板を上向通板金属帯外側に配置した
、請求項2に記載の竪型電解処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23508889A JPH0397895A (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 堅型電解処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP23508889A JPH0397895A (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 堅型電解処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0397895A true JPH0397895A (ja) | 1991-04-23 |
Family
ID=16980889
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP23508889A Pending JPH0397895A (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 堅型電解処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0397895A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1989
- 1989-09-11 JP JP23508889A patent/JPH0397895A/ja active Pending
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