JPS5985890A - 金属ストリツプの水平型流体支持電解処理方法及び装置 - Google Patents
金属ストリツプの水平型流体支持電解処理方法及び装置Info
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- JPS5985890A JPS5985890A JP57195361A JP19536182A JPS5985890A JP S5985890 A JPS5985890 A JP S5985890A JP 57195361 A JP57195361 A JP 57195361A JP 19536182 A JP19536182 A JP 19536182A JP S5985890 A JPS5985890 A JP S5985890A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属ストリップの電気めっき、表面清浄化処理
等の電解処理方法及びその装置、特にストリップを水平
姿勢にて流体支持しながら電解処理方法及び装置に関す
るものである。
等の電解処理方法及びその装置、特にストリップを水平
姿勢にて流体支持しながら電解処理方法及び装置に関す
るものである。
例えば、鋼板の連続的電気めっき方法として近年、水平
にストリップを走行させて横型のめつきセル内を通過さ
せ、セル内の電極とストリップ間に電解液を流動させて
電気めっきを行う方式が採用されている。通常、電気め
っき方法において効率の良い操業でかつ品質的に優れた
製品を得るためには、高電流密度で金属を電析出来かつ
低電圧操業を可能とする構成が要求される。高電流密度
化の方策は（１）式で示されるように限界電流密度堵を
大きくすることである。
にストリップを走行させて横型のめつきセル内を通過さ
せ、セル内の電極とストリップ間に電解液を流動させて
電気めっきを行う方式が採用されている。通常、電気め
っき方法において効率の良い操業でかつ品質的に優れた
製品を得るためには、高電流密度で金属を電析出来かつ
低電圧操業を可能とする構成が要求される。高電流密度
化の方策は（１）式で示されるように限界電流密度堵を
大きくすることである。
（Ａ／ｉ）
ｎ −金属イオンの荷電数
Ｆ −ファラデ一定数
Ｄ−金属イオンの拡散
係数（”／式）
Ｃ−金属イオン濃度
δ −拡散層の厚さ
そのためには、溶液面の改良策として、金属イオンの濃
度アップ、浴温アップ等が提案出来る。
度アップ、浴温アップ等が提案出来る。
一方、拡散層δは、電解面のめつき液の移動速度即ち、
攪拌や流速アップによって小さくなることが知られてお
り、スｌ−ＩＪツブの全幅にわたって均一な流速効果を
与えられる電解槽が望ましい。又、低電圧操業に対して
は（２）式で表わされるように、ストリップ抵抗、液抵
抗およびガス溜りによる電圧アップを考慮する必要があ
る。
攪拌や流速アップによって小さくなることが知られてお
り、スｌ−ＩＪツブの全幅にわたって均一な流速効果を
与えられる電解槽が望ましい。又、低電圧操業に対して
は（２）式で表わされるように、ストリップ抵抗、液抵
抗およびガス溜りによる電圧アップを考慮する必要があ
る。
Ｖ＝ ＝ ｖｄ 十ｖｓ ＋Ｍ ＋ｖｇ −−−−−
（２）ｖＴ−極間電圧 Ｖｄ−分解電圧 ＶＳ ＝ストリップ抵抗Ｒｓによる電圧。コンダクタ−
ロールから陽極迄の有効長りに比例。
（２）ｖＴ−極間電圧 Ｖｄ−分解電圧 ＶＳ ＝ストリップ抵抗Ｒｓによる電圧。コンダクタ−
ロールから陽極迄の有効長りに比例。
二 ■ ・ Ｒｓ ａ Ｌ
Ｖｌ ＝液抵抗Ｒｅによる電圧。極間比ｐ＃Ｈに比例。
＝ Ｉ ａ Ｒｅ ＠ Ｈ
Ｖｇ−ガス溜りによる電圧。
前記の（２）式から明らかな如く低電圧操業を達成する
ためのメツキセル設計は極間距離を出来るだけ短縮出来
ること、陽極で発生する酸素ガスを出来るだけすみやか
に電極間から除去出来ることにポイントを置かねばなら
ない。
ためのメツキセル設計は極間距離を出来るだけ短縮出来
ること、陽極で発生する酸素ガスを出来るだけすみやか
に電極間から除去出来ることにポイントを置かねばなら
ない。
上記の条件を満足する電気めっき技術が従来でも種々提
案されているが、より一層高効率で確実なめっきを実施
し得るめっき方法及び装置は見い出せなかった。例えば
、特公昭５０−８０２０号公報では、ストリップの上下
面に対向する側を不溶性陽極で構成した断面矩形の筒状
めつき槽中を、ストリップの進行方向に対し向流的に電
解液を噴流し、陽極から発生する気泡を除去する方法を
開示している。しかしながら、この方法では水平に走行
するストリップに対する適切な保持手段が存在しないこ
とから、ストリップにカテナリー、Ｃ反り（幅方向の反
り）、ツイスト（幅方向の傾き）が生じ易く、又これら
の矯正機能も有しない。
案されているが、より一層高効率で確実なめっきを実施
し得るめっき方法及び装置は見い出せなかった。例えば
、特公昭５０−８０２０号公報では、ストリップの上下
面に対向する側を不溶性陽極で構成した断面矩形の筒状
めつき槽中を、ストリップの進行方向に対し向流的に電
解液を噴流し、陽極から発生する気泡を除去する方法を
開示している。しかしながら、この方法では水平に走行
するストリップに対する適切な保持手段が存在しないこ
とから、ストリップにカテナリー、Ｃ反り（幅方向の反
り）、ツイスト（幅方向の傾き）が生じ易く、又これら
の矯正機能も有しない。
一方、電解液の噴流の衝突圧でストリップの支持力を得
る手段（動圧支持）として特公昭５２−３６０４号公報
が挙げられるが、この方式ではストリップと噴出口との
距離による圧力の減衰が少く、ストリップのＣ反り、ツ
イストの矯正力、カテナリーのセンターリングの復元力
を生じない。
る手段（動圧支持）として特公昭５２−３６０４号公報
が挙げられるが、この方式ではストリップと噴出口との
距離による圧力の減衰が少く、ストリップのＣ反り、ツ
イストの矯正力、カテナリーのセンターリングの復元力
を生じない。
このようなストリップのカテナリー等の通板時に生ずる
不安定な挙動を防止し安定な通板状態を保持するため、
ストリップを電解液の静圧で支持する試みが提案されて
おり、良好な作用効果が得られることが判明している（
特願昭５７−１８８３６号）。この特願昭５７−１８８
３６号はストリップの水平型流体支持電解槽に係るもの
で、ス） ＩＪツブと対向する電極面の一部に、電解液
噴射用でかつストリップ面に静圧を発生させるだめのス
リットノズルを有する静圧流体支持パッドを上下対称に
設けることを特徴としている。
不安定な挙動を防止し安定な通板状態を保持するため、
ストリップを電解液の静圧で支持する試みが提案されて
おり、良好な作用効果が得られることが判明している（
特願昭５７−１８８３６号）。この特願昭５７−１８８
３６号はストリップの水平型流体支持電解槽に係るもの
で、ス） ＩＪツブと対向する電極面の一部に、電解液
噴射用でかつストリップ面に静圧を発生させるだめのス
リットノズルを有する静圧流体支持パッドを上下対称に
設けることを特徴としている。
しかして、ストリップの水平型電解処理方法に上記の静
圧支持パッドを実際に適用する場合、該支持パッドの噴
出口の配置及び形状等が問題となる。すなわち、静圧流
体支持パッドの配置は、その静圧力によってストリップ
のカテナリーを少くしてストリップを安定保持すると共
に、従来法に比べて電極間の電解液の流れを改善し、イ
オンの安定供給及びガスの除去に有効であることは明ら
かであるが、最近の生産性向上を目的としたラインスピ
ードの高速化は、前記静圧支持≠特バッドの機能をより
一層高度に発揮することが求められている。特に、ライ
ンスピードのアップによって電解液の流れが影響を受け
、今まで用いていたスリットノズルの配置及び形状の静
圧パッドでは、電極設置範囲全体にわたって均一な液流
れとならず、イオン濃度にバラツキが生じガス除去も困
難となる。
圧支持パッドを実際に適用する場合、該支持パッドの噴
出口の配置及び形状等が問題となる。すなわち、静圧流
体支持パッドの配置は、その静圧力によってストリップ
のカテナリーを少くしてストリップを安定保持すると共
に、従来法に比べて電極間の電解液の流れを改善し、イ
オンの安定供給及びガスの除去に有効であることは明ら
かであるが、最近の生産性向上を目的としたラインスピ
ードの高速化は、前記静圧支持≠特バッドの機能をより
一層高度に発揮することが求められている。特に、ライ
ンスピードのアップによって電解液の流れが影響を受け
、今まで用いていたスリットノズルの配置及び形状の静
圧パッドでは、電極設置範囲全体にわたって均一な液流
れとならず、イオン濃度にバラツキが生じガス除去も困
難となる。
本発明の目的は電解液を通板時にストリップ及び電極間
全体にわたって均一な分配流として流動させ、ガス溜り
をなくし良好な電解処理を行うことが出来る電解処理方
法を提供することにある。
全体にわたって均一な分配流として流動させ、ガス溜り
をなくし良好な電解処理を行うことが出来る電解処理方
法を提供することにある。
他方、本発明は上記方法を効果的に実施することが出来
かつ極間距離を可及的に小さく出来ると共にストリップ
の安定保持とＣ反り、ツイスト等の矯正力を発揮し得る
電解処理装置を提供することを別の目的とする。
かつ極間距離を可及的に小さく出来ると共にストリップ
の安定保持とＣ反り、ツイスト等の矯正力を発揮し得る
電解処理装置を提供することを別の目的とする。
以下本発明の詳細を図面に基づいて説明する。
第１図は電気めっき設備を例にした基本的構成を示す。
第１図（イ）に示す如く、矢印方向に水平状態に走行さ
れるス） ＩＪツブ３の上下面に対向する陽極１を内蔵
した箱型槽２を、ストリップ進行方向に沿って配置する
。該箱型槽２の長手方向中央部には対向する流体パッド
１２が組み込まれており、該流体パッド１２の背部に連
結したヘッダー１０よりめっき液はパッド内に供給され
、該パッド１２のストリップ対向面に設けたスリット１
６よりストリップ面に向って噴出される。めっき液はス
トリップ３の進行方向（並行流）とストリップと逆方向
（対向流）に分流され、排出口８．９より流出する。
れるス） ＩＪツブ３の上下面に対向する陽極１を内蔵
した箱型槽２を、ストリップ進行方向に沿って配置する
。該箱型槽２の長手方向中央部には対向する流体パッド
１２が組み込まれており、該流体パッド１２の背部に連
結したヘッダー１０よりめっき液はパッド内に供給され
、該パッド１２のストリップ対向面に設けたスリット１
６よりストリップ面に向って噴出される。めっき液はス
トリップ３の進行方向（並行流）とストリップと逆方向
（対向流）に分流され、排出口８．９より流出する。
排出口８．９にはめつき液流出量制御板１１があり、該
制御板１１を上下に移動してストリップとの間隙をコン
トロールして流量を制御する。流出口８．９より流出し
ためつき液は、コンダクタ−ロール６およびバックアッ
プロール７にてせきとめられ受槽４に受は止められめっ
き液取出し口５より図示していないが循環タンクに入り
、ポンプによってヘッダー１０に強制循環する。給電は
コンダクタ−ロール６からストリップへ、又ブスバーを
介して陽極にそれぞれ行う。矢印の記号で電極間の液の
流れの様子を図示した。
制御板１１を上下に移動してストリップとの間隙をコン
トロールして流量を制御する。流出口８．９より流出し
ためつき液は、コンダクタ−ロール６およびバックアッ
プロール７にてせきとめられ受槽４に受は止められめっ
き液取出し口５より図示していないが循環タンクに入り
、ポンプによってヘッダー１０に強制循環する。給電は
コンダクタ−ロール６からストリップへ、又ブスバーを
介して陽極にそれぞれ行う。矢印の記号で電極間の液の
流れの様子を図示した。
なお、スリット１６を設ける流体パッド１２のストリッ
プ対向部は、電極１と同一材質で作り通電しても、又電
極とは異なる材質で製作し通電しなくともよい。
プ対向部は、電極１と同一材質で作り通電しても、又電
極とは異なる材質で製作し通電しなくともよい。
第１図（ロ）、（ハ）は上記した装置の横断面図（Ａ−
Ａ、Ｂ−Ｂ）であり、図示の如く必要に応じてストリッ
プ３の端部にシーリング機構、例えば水平方向に移動自
在な支持具】８に接続したエツジマスク１７を設けるこ
とができる。又、エツジマスク１７を用いない場合ある
いは支持具Ｊ８が槽内に収まる場合には、側壁は一体化
してもよい。
Ａ、Ｂ−Ｂ）であり、図示の如く必要に応じてストリッ
プ３の端部にシーリング機構、例えば水平方向に移動自
在な支持具】８に接続したエツジマスク１７を設けるこ
とができる。又、エツジマスク１７を用いない場合ある
いは支持具Ｊ８が槽内に収まる場合には、側壁は一体化
してもよい。
本発明において使用する静圧流体支持パッド１２におけ
る噴出口は、第２図（イ）に示すように、少くともスト
リップの幅方向、進行方向いずれもスリット１６で周辺
を囲った形状とするが、（イ）の如く完全に一本のスリ
ットが閉ループをなす形状に限ることなく、例えば複数
本のスリットで実質的に閉ループ状を形成していればよ
い。又、パッドの噴出口は第２図（ロ）に示す如く、ス
リットでなく多数の孔（角形孔あるいは円形孔でもよい
）を近接して配置し噴出液が実質的に閉力−テンを形成
するように噴出口１６Ａを構成することも可能である。
る噴出口は、第２図（イ）に示すように、少くともスト
リップの幅方向、進行方向いずれもスリット１６で周辺
を囲った形状とするが、（イ）の如く完全に一本のスリ
ットが閉ループをなす形状に限ることなく、例えば複数
本のスリットで実質的に閉ループ状を形成していればよ
い。又、パッドの噴出口は第２図（ロ）に示す如く、ス
リットでなく多数の孔（角形孔あるいは円形孔でもよい
）を近接して配置し噴出液が実質的に閉力−テンを形成
するように噴出口１６Ａを構成することも可能である。
要はスリット又は孔によって実質的に閉ループを形成で
きかつ噴出された液が連続した状態になればよい。さら
に好ましくは上記１つの閉ループ内にス） ＩＪツブの
進行方向に延びる２対以上の噴出口を設けるのが良い。
きかつ噴出された液が連続した状態になればよい。さら
に好ましくは上記１つの閉ループ内にス） ＩＪツブの
進行方向に延びる２対以上の噴出口を設けるのが良い。
次に、本発明においては静圧パッド１２からのストリッ
プ３面に対する電解液噴射方向に特色をもっている。す
なわち、静圧パッド１２のスリット１６又は噴出口１６
Ａのうちストリップ３の幅方向にそったスリット又は噴
出口（以下スリット等という）を、ストリップ３の進行
方向と反対する方向に傾斜させる。特に、静圧パッド１
２においてストリプ幅方向に延びるスリット等のうち少
なくとも出側のスリット等は、必らずストリップ進行方
向と逆方向に傾斜させると共に、この出側スリット等以
外のスリット等はストリップ面に対しほぼ垂直か又はス
トリップ進行方向と逆方向に傾斜させる。
プ３面に対する電解液噴射方向に特色をもっている。す
なわち、静圧パッド１２のスリット１６又は噴出口１６
Ａのうちストリップ３の幅方向にそったスリット又は噴
出口（以下スリット等という）を、ストリップ３の進行
方向と反対する方向に傾斜させる。特に、静圧パッド１
２においてストリプ幅方向に延びるスリット等のうち少
なくとも出側のスリット等は、必らずストリップ進行方
向と逆方向に傾斜させると共に、この出側スリット等以
外のスリット等はストリップ面に対しほぼ垂直か又はス
トリップ進行方向と逆方向に傾斜させる。
従来の静圧パッドにおけるストリップ幅方向に延びるス
リットの向きは、すべてストリップ面に対しほぼ垂直か
又は互いに内方に対称的な角度に傾斜しているが、この
スリット配置では一方向へストリップが進行するため、
該ストリップにより電解液の流れが偏り、パッドの前後
において電解液の分配流量差が生じる。つまりパッドの
位置で前後方向に電解液を均等に噴出しても、ストリッ
プによって進行方向に液が搬出され、上述した流量差が
生じ、均一な電解作用の妨げとなる。特に、この傾向は
ストリップの速度が早くなる程、又ストリップと電極間
の距離が小さくなる程（近接化）顕著となる。
リットの向きは、すべてストリップ面に対しほぼ垂直か
又は互いに内方に対称的な角度に傾斜しているが、この
スリット配置では一方向へストリップが進行するため、
該ストリップにより電解液の流れが偏り、パッドの前後
において電解液の分配流量差が生じる。つまりパッドの
位置で前後方向に電解液を均等に噴出しても、ストリッ
プによって進行方向に液が搬出され、上述した流量差が
生じ、均一な電解作用の妨げとなる。特に、この傾向は
ストリップの速度が早くなる程、又ストリップと電極間
の距離が小さくなる程（近接化）顕著となる。
そこで、本発明では前記の如くス） ＩＪツブの進行方
向とは逆方向に電解液を多く流すものである。
向とは逆方向に電解液を多く流すものである。
例えば、第３図（イ）の例ではパッド１２のストＩＪツ
ブ３幅方向に延びる１対のスリットのうち出側のスリッ
ト１６Ｂをストリップ３の進行方向とは反対する方向に
傾斜させると共に、入側のスリン） １６Ｃはストリッ
プ３面に対し垂直に形成し、該スリット１６Ｂ 、 １
．６Ｃではさまれたストリップ３およびパッド面間の空
間２０に静圧を発生せしめる。
ブ３幅方向に延びる１対のスリットのうち出側のスリッ
ト１６Ｂをストリップ３の進行方向とは反対する方向に
傾斜させると共に、入側のスリン） １６Ｃはストリッ
プ３面に対し垂直に形成し、該スリット１６Ｂ 、 １
．６Ｃではさまれたストリップ３およびパッド面間の空
間２０に静圧を発生せしめる。
又、第３図（ロ）に示すパッドでは、ストリップ速度が
より早くなるか及び／又は電極・パッドの距離がより近
い場合に有効なもので、１対のスリット１６Ｄ、 １６
Ｅのいずれもス） ＩＪツブ３の進行方向と反対方向に
傾斜させている。更に、ストリップ速度が極めて早くな
るか及び／又は電極・パッドの距離が極めて小さくなっ
た場合には、第３図（ハ）に示す如く、ストリップ３の
進行とは逆向きの傾斜スリン） １６Ｆ、１６Ｇ、 １
６Ｈの数を増せばよい。
より早くなるか及び／又は電極・パッドの距離がより近
い場合に有効なもので、１対のスリット１６Ｄ、 １６
Ｅのいずれもス） ＩＪツブ３の進行方向と反対方向に
傾斜させている。更に、ストリップ速度が極めて早くな
るか及び／又は電極・パッドの距離が極めて小さくなっ
た場合には、第３図（ハ）に示す如く、ストリップ３の
進行とは逆向きの傾斜スリン） １６Ｆ、１６Ｇ、 １
６Ｈの数を増せばよい。
このようにして電極範囲全体にわたって電解液の流量を
均一にし、良好な電解処理を行う。
均一にし、良好な電解処理を行う。
上記の如く少ともストリップ出側スリットをストリップ
進行とは逆に傾けかつそれ以外のスリットは出側スリッ
トと同方向に傾斜するかあるいはほぼ垂直にしているた
め、電解液の均一分配を計れると同時に、静圧の作用す
る有効面積をそれ程狭めることにはならないので、スト
リップの安定保持には伺ら支障はない。
進行とは逆に傾けかつそれ以外のスリットは出側スリッ
トと同方向に傾斜するかあるいはほぼ垂直にしているた
め、電解液の均一分配を計れると同時に、静圧の作用す
る有効面積をそれ程狭めることにはならないので、スト
リップの安定保持には伺ら支障はない。
次に、本発明において用いる静圧支持パッドの復元力に
ついて説明する。第３図に示したスリットを有するパッ
ドを用いてストリップ面に対して電解液を噴射せしめる
と、パッドとストリップ間に静圧が発生し、ストリップ
を一定位置に保持すると共に、ストリップにＣ反りある
いはツイスト現象が生じたときにこれを矯正する作用が
あることは知られている。第４図にストリップのＣ反り
やツイストをより確実かつ迅速に矯正させ得る、強力な
復元力をもつ静圧パッドの例を示す。
ついて説明する。第３図に示したスリットを有するパッ
ドを用いてストリップ面に対して電解液を噴射せしめる
と、パッドとストリップ間に静圧が発生し、ストリップ
を一定位置に保持すると共に、ストリップにＣ反りある
いはツイスト現象が生じたときにこれを矯正する作用が
あることは知られている。第４図にストリップのＣ反り
やツイストをより確実かつ迅速に矯正させ得る、強力な
復元力をもつ静圧パッドの例を示す。
すなわち、第４図（イ）〜（ハ）はいずれもパッド本体
に形成する周辺スリ′ット等におけるストリップ長手方
向スリット等を、幅方向に２以上に分割したものである
。まず、第４図（イ）の例はストリップ３の幅方向に２
対のスリット２６を対称的に配置したもの、第４図（ロ
）の例は（イ）に中心スリットを付加したもの、第４図
（ハ）の例はストリップ幅方向の端部寄りのスリットを
４対のスリット３６に分割したものである。
に形成する周辺スリ′ット等におけるストリップ長手方
向スリット等を、幅方向に２以上に分割したものである
。まず、第４図（イ）の例はストリップ３の幅方向に２
対のスリット２６を対称的に配置したもの、第４図（ロ
）の例は（イ）に中心スリットを付加したもの、第４図
（ハ）の例はストリップ幅方向の端部寄りのスリットを
４対のスリット３６に分割したものである。
次に本発明の詳細な説明する。
第５図はストリップ３に対し垂直の噴出角度をもつ静圧
パッドＪ２を用いて電解液を噴射した場合のラインスピ
ードと流量分配比の関係を表わす。
パッドＪ２を用いて電解液を噴射した場合のラインスピ
ードと流量分配比の関係を表わす。
Ｃは対向流、Ｐは並行流を示す。ラインスピードが増大
すると対向流の流速は減少して流量分配比は下がると共
に、電解セル１内のガス滞留が著しく増加する。その結
果第６図に示すように電圧上昇が起こりめっきが不可能
となる。なお、第５図から極間距離Ｈが広がればライン
スピード増大に応じ分配比が下がる傾向にある。
すると対向流の流速は減少して流量分配比は下がると共
に、電解セル１内のガス滞留が著しく増加する。その結
果第６図に示すように電圧上昇が起こりめっきが不可能
となる。なお、第５図から極間距離Ｈが広がればライン
スピード増大に応じ分配比が下がる傾向にある。
そこで、第７図に示すようにストリップ幅方向に延びる
ノズルのストリップ面に対する角度を変更した静圧パッ
ドをつくり、対向流への液分配比を検討し、その結果を
第８図に示す。第７図においてθ１はストリップ進行方
向の入側のノズル角度、θ２は出側のノズル角度であり
、（イ）はθ１−９０°、θ２＝４５°、（ロ）はθ１
−９０°、θ２＝３０°、（ハ）はθ１−６０°、θ２
＝４５°、に）はθ、 ＝ １３５°、θ２−４５°、
（ホ）はθ１−９０°、θ２ニ９０°であり、（イ）〜
（ハ）は本発明例、に）及び（ホ）は比較例である。
ノズルのストリップ面に対する角度を変更した静圧パッ
ドをつくり、対向流への液分配比を検討し、その結果を
第８図に示す。第７図においてθ１はストリップ進行方
向の入側のノズル角度、θ２は出側のノズル角度であり
、（イ）はθ１−９０°、θ２＝４５°、（ロ）はθ１
−９０°、θ２＝３０°、（ハ）はθ１−６０°、θ２
＝４５°、に）はθ、 ＝ １３５°、θ２−４５°、
（ホ）はθ１−９０°、θ２ニ９０°であり、（イ）〜
（ハ）は本発明例、に）及び（ホ）は比較例である。
第８図かられかるように、少なくともストリップ出側の
ノズル角度０２をストＩＪツブ進行方向と反対方向へ傾
斜させると共に、その他のノズル角度をス） ＩＪツブ
面に垂直力しくけストリップの進行方向と反対方向に傾
斜させることにより、ラインスピード２００ ｍ ／
１ｎｌＴ１においてもほぼ等しい液分配が可能であるこ
とがわかった。これに対し比較例の如きノズル角度の組
合せでは均等な液分配が不可能である。
ノズル角度０２をストＩＪツブ進行方向と反対方向へ傾
斜させると共に、その他のノズル角度をス） ＩＪツブ
面に垂直力しくけストリップの進行方向と反対方向に傾
斜させることにより、ラインスピード２００ ｍ ／
１ｎｌＴ１においてもほぼ等しい液分配が可能であるこ
とがわかった。これに対し比較例の如きノズル角度の組
合せでは均等な液分配が不可能である。
ｔ〜だがって、実際の電解装置を製作する場合には、設
定ラインスピードに合せて適切な角度０を選択すれば、
対向流の流速を減少させることなく、迅速なガス除去が
可能と々る。
定ラインスピードに合せて適切な角度０を選択すれば、
対向流の流速を減少させることなく、迅速なガス除去が
可能と々る。
このように本発明の電解処理方法によれば、電解液のパ
ッド両側への分配がほぼ等しく行われかつス） ＩＪツ
ブの保持力が大きいので、極間距離の近接化を計ること
ができ、極めて効率のよい電解処理を行うことが可能と
なる。また、ストリップのＣ反り、ツイストに対する矯
正力も期待でき、ス） ＩＪツブの安定走行、又良好な
処理操作に寄与する。他方、本発明の電解処理装置に」
：れば、上記方法を効果的に実施することができ、設備
面での有利性も大きい。
ッド両側への分配がほぼ等しく行われかつス） ＩＪツ
ブの保持力が大きいので、極間距離の近接化を計ること
ができ、極めて効率のよい電解処理を行うことが可能と
なる。また、ストリップのＣ反り、ツイストに対する矯
正力も期待でき、ス） ＩＪツブの安定走行、又良好な
処理操作に寄与する。他方、本発明の電解処理装置に」
：れば、上記方法を効果的に実施することができ、設備
面での有利性も大きい。
第１図（イ）は電気めっき設備の全体構成を示す概略断
面図、（ロ）は（イ）図の八−Ａ断面図、（ハ）はＣイ
）図のＢ−Ｂ断面図である。第２図（イ）、（０）は静
圧流体支持パッドに設ける流体噴出口の構成を示す平面
図である。第３図（イ）、（ロ）、（ハ）は電解液の噴
出方向の種々の態様を示す断面図、第４図Ｃイ）、（ロ
）、（ハ）はパッド本体に形成するノズル（スリット）
パターン例を示す平面説明図である。第５図は垂直ノズ
ルを有するパッドを用いた場合のラインスピードと液量
分配比の関係を示すグラフ、第６図は第５図におけるラ
インスピードと電解電圧の関係を示すグラフ、第７図（
イ）〜（ホ）は実施例に用いたノズル角度の種々の例を
示す断面図、第８図は第７図による検討の結果をライン
スピードと液量分配比の関係で表わしたグラフである。 １・・陽極、２・・電解槽、３・・ストリップ、１２・
・流体パッド、 １６ 、２６・・スリット。 特許出願人 代理人 弁理士 矢葺知之 （はか１名） １７− 第１図
面図、（ロ）は（イ）図の八−Ａ断面図、（ハ）はＣイ
）図のＢ−Ｂ断面図である。第２図（イ）、（０）は静
圧流体支持パッドに設ける流体噴出口の構成を示す平面
図である。第３図（イ）、（ロ）、（ハ）は電解液の噴
出方向の種々の態様を示す断面図、第４図Ｃイ）、（ロ
）、（ハ）はパッド本体に形成するノズル（スリット）
パターン例を示す平面説明図である。第５図は垂直ノズ
ルを有するパッドを用いた場合のラインスピードと液量
分配比の関係を示すグラフ、第６図は第５図におけるラ
インスピードと電解電圧の関係を示すグラフ、第７図（
イ）〜（ホ）は実施例に用いたノズル角度の種々の例を
示す断面図、第８図は第７図による検討の結果をライン
スピードと液量分配比の関係で表わしたグラフである。 １・・陽極、２・・電解槽、３・・ストリップ、１２・
・流体パッド、 １６ 、２６・・スリット。 特許出願人 代理人 弁理士 矢葺知之 （はか１名） １７− 第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 間に電解液を流動せしめて電解処理を行うに際し、前記
電極におけるス） ＩＪツブ進行方向中央部に設けた静
圧流体支持パッドからストリップ面に向って電解液を噴
出させると共に、前記静圧パッドのス） ＩＪツブ幅方
向に延びるスリット又は噴出口のうちストリップ出側の
スリット又は噴出口からは電解液をストリップの進行方
向と反対方向に斜めに噴射させ、その他のスリット又は
噴出口からはストリップ面に垂直に、若し７くはストリ
ップの進行方向と反対方向に斜めに電解液を噴射させる
ことを特徴とする金属ス） ＩＪツブの水平型流体支持
電解処理方法。 （２）水平に通過する金属ス） ＩＪツブの上下面に対
向して電極を配置し、該電極のストリップ進行方向中央
部に、ス） ＩＪツブ面に向って電解液を噴出させるス
リット又は実質的に連続する噴出口を有する静圧流体支
持パッドを設け、該静圧パッドのストリップ幅方向に延
在するスリット又は噴出口のうちストリップ出側のスト
リップ幅方向スリット又は噴出口は、ス） ＩＪツブの
進行方向と反対方向に傾斜させ、その他のスリット又は
噴出口はストリップ面に対して垂直に、若しくはストリ
ップの進行方向と反対方向に傾斜させて構成することを
特徴とする金属ストリップの水平型流体支持電解処理装
置。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57195361A JPS5985890A (ja) | 1982-11-09 | 1982-11-09 | 金属ストリツプの水平型流体支持電解処理方法及び装置 |
| AU10969/83A AU540287B2 (en) | 1982-02-10 | 1983-02-03 | Continuous electrolytic treatment of metal strip using horizontal electrodes |
| US06/463,835 US4491506A (en) | 1982-02-10 | 1983-02-04 | Process and apparatus for the continuous electrolytic treatment of a metal strip using horizontal electrodes |
| CA000421258A CA1227450A (en) | 1982-02-10 | 1983-02-09 | Electrolytic treatment of strip using closed channel slit nozzles in narrow treating space |
| EP83300671A EP0086115B1 (en) | 1982-02-10 | 1983-02-10 | Process and apparatus for the continuous electrolytic treatment of a metal strip using horizontal electrodes |
| DE8383300671T DE3372992D1 (en) | 1982-02-10 | 1983-02-10 | Process and apparatus for the continuous electrolytic treatment of a metal strip using horizontal electrodes |
| ES519686A ES519686A0 (es) | 1982-02-10 | 1983-02-10 | Procedimiento y aparato para el tratamiento electrolitico continuo de una banda metalica |
| AT83300671T ATE28906T1 (de) | 1982-02-10 | 1983-02-10 | Verfahren und vorrichtung fuer die kontinuierliche elektrolytische behandlung eines metallbandes unter verwendung horizontaler elektroden. |
| KR1019830000538A KR890003409B1 (ko) | 1982-02-10 | 1983-02-10 | 수평전극을 사용하여 금속스트립을 연속적으로 전해처리하는 방법 및 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57195361A JPS5985890A (ja) | 1982-11-09 | 1982-11-09 | 金属ストリツプの水平型流体支持電解処理方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5985890A true JPS5985890A (ja) | 1984-05-17 |
| JPS6122040B2 JPS6122040B2 (ja) | 1986-05-29 |
Family
ID=16339892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57195361A Granted JPS5985890A (ja) | 1982-02-10 | 1982-11-09 | 金属ストリツプの水平型流体支持電解処理方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5985890A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62260100A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-12 | ポリグラト―ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 電気化学研磨および酸洗い方法並びに装置 |
| JP2011225923A (ja) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Nippon Steel Engineering Co Ltd | 水平型流体支持めっき装置 |
-
1982
- 1982-11-09 JP JP57195361A patent/JPS5985890A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62260100A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-12 | ポリグラト―ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 電気化学研磨および酸洗い方法並びに装置 |
| JP2011225923A (ja) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Nippon Steel Engineering Co Ltd | 水平型流体支持めっき装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6122040B2 (ja) | 1986-05-29 |
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