JPS62260100A - 電気化学研磨および酸洗い方法並びに装置 - Google Patents

電気化学研磨および酸洗い方法並びに装置

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JPS62260100A
JPS62260100A JP62101166A JP10116687A JPS62260100A JP S62260100 A JPS62260100 A JP S62260100A JP 62101166 A JP62101166 A JP 62101166A JP 10116687 A JP10116687 A JP 10116687A JP S62260100 A JPS62260100 A JP S62260100A
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    • C25F1/00Electrolytic cleaning, degreasing, pickling or descaling
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、1個以上の陰極を、研磨および/または酸洗
いする陽極表面に対抗させて配置し、該陽極表面に沿っ
て電解液流を通過させる電気化学研磨および/または酸
洗い方法に関するものである。
また、本発明は、研磨および/または酸洗いする陽極表
面領域上に配置するに適合するケーシング(いわゆるク
ンボン)を備え、電解液用の入口と出口並びに1個以上
の陰極および上記表面領域に隣接し実質的に誘電体から
成る壁を有し、膣壁が電解液に対して透過性であり電解
液流に対する表面と一緒に加工間隙を画成する部分的電
気化学的研磨および/または酸洗い用装置に関するもの
である。
この種の方法および対応する装置は、西独国特許出願公
開第2937747号明細書から知られている。
既知電気化学的研磨および/または酸洗い方法では、系
の陰極および陽極領域に同じ電解液流を通過させる、言
い換えれば、電解液は、研磨する陰極および陽極表面の
両方を通過して流れる。
部分的電気化学装置および/または酸洗いにおいては、
ケーシング、いわゆるタンポンを処理すべき表面領域に
配置し、次いで、研磨または酸洗い処理を行う。次いで
、ハウジングを処理すべき別の表面領域に配置する。
特に、最初に研磨する表面に衝突する電解液流が陰極を
通過する既知方法および装置の欠点は、この電解液流が
、陰極で発生した水素ガスを同伴することである。電解
液中に含有されるこの水素ガスは、若干の欠点の原因で
あり、即ち電解液流の微小泡に同伴される水素ガスが電
解液に対する誘電体の透過性を減する。この理由のため
、先行技術の場合、ルーズな大孔性、不織物質を誘電体
として使用しなければならず、この物質は高温に対して
若干しか抵抗性がない以外に著しく摩耗を被り易い。従
って、既知方法および装置の場合誘電体をしばしば交換
せねばならず、これは多大な労力を要し、かつ高価であ
る。
この他、電解液流中の水素ガスの割合が大である結果、
電解液の温度が著しく上界する場合には、電解液が加工
間隙において膨張するガスによって置換されることであ
る。このようにして熱が放散されず、局部的な過熱を生
ずる。これは誘電体並びに加工すべき金属表面に損害を
与え得る。
従って先行技術では、電解液流に同伴される水素ガスは
、誘電体の選択を制限し、C=界価値以上温度が上昇す
ることを防ぐために処理中に印加される電流密度が同様
に制限される。
本発明のもとになっている先行技術の場合、陰極および
陽極で発生する気体、即ち水素および酸素が2=1の割
合で集められ、これにより危険な酸水素ガスが形成され
るので、爆発に対して対応する安全処理をとる必要があ
る。
従って、本発明の目的は序文で述べた方法並びに電気化
学的研磨または酸洗いを高い電流密度で効果的に行うこ
とができる対応する装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、先行技術により広い誘電体の選択
を許容し、研磨すべき金属表面に損害を与える危険を除
去することにある。
方法に関しては、本発明のこの目的は、電解液流を少な
くとも2本の部分流、即ち前記陽極表面を通過して流れ
るが陰極を通過しない陽極部分流と陰極を通過して流れ
るが前記表面を通過しない陰極部分流とに分けることに
おいて満たされる。
基礎をなす目的を満たすように設計される木発明の装置
の場合、また、電解液流を陽極および陰極部分流に分け
る処理がとられる。
本発明において、誘電体壁と洗浄する表面を通過して流
れる電解液部分流は、このようにいかなる水素ガスをも
運ばず、最初に述べた先行技術の欠点を除去する。陰極
で発生する水素ガスは、加工領域に達することなく代わ
りに直接排出される陰極部分流に専ら同伴する。
従って、高温および摩耗に抵抗性のある物質を誘電体と
して使用することができる。この理由は、誘電体壁(言
い換えれば誘電体)はガスを含まない電解液のみが通過
するからである。局部的な高温が同様に回避されるので
、著しく高い電流密度で加工を行うことができ、これに
よって、研磨または酸洗い効率が向上する。
更に、本発明において、陽極および陰極電解液流に分離
することによって危険な酸水素ガスの発生が回避される
。水素と酸素の化学量論比(2:1)の結果として、金
属表面の加工領域におけるガスの割合は、本発明の方法
および対応する装置の場合、従来技術の状態に比較して
2/3まで減する(水素ガスは処理領域に達しない。)
従って、上昇した温度の場合、金属表面における電解液
が置換される危険は低減する。このように電解液は、金
属表面における冷却液としてその機能を果たすに一層好
適であり、金属表面の損害を引起し得る金属表面の局部
的な過熱の危険を最小限に減する。
ポリテトラフルオロエチレン織布が、誘電体として特に
好適で有効であることを説明した。
他の好適な誘電体物質はガラス繊維織物および高温、酸
および摩耗に対して抵抗性がある他の物質である。
また、本発明の装置を高効率で溶接継目の陽極酸洗いに
使用することができる。
クロムとニッケルまたはクロムを含有する鋼を加工する
場合、溶接継目における熱処理した領域を酸洗いするこ
とによって洗浄して酸化物被覆を除去し物質の耐蝕性を
向上しなければならない。
かかる溶接継目を、酸の混合物、特に硝酸/フッ化水素
酸または硝酸/塩酸で処理することによって酸洗いする
ことが知られている。本発明の装置および方法は、危険
性が著しく少ない酸、硝酸、りん酸等の水溶液を用いる
ことによって、いかなるかかる酸化物被膜をも効果的に
除去することを可能にする。酸濃度を変化させ光学的に
乱れる酸洗いの縞が形成されないようにすることにより
、各々の表面全体に対して、得られる輝きの程度を、適
合させることができることが本発明の他の利点である。
本発明により提供されるケーシング(タンポン)は寸法
が制限される。しかし、任意所望の数のかかるケーシン
グを組合せて大きな研磨および酸洗い装置を形成して任
意所望の配置、例えば、水平、垂直、または「さかさ」
の配置で高い効率および高品質で、大きな面積を有する
加工片を処理することができる。
以下、本発明を図面を参照して実施例により説明する。
第1図に示す如く、鋼またはアルミニウム製の本体10
の表面10′を電気化学的に研磨または酸洗いする。ケ
ーシング(タンポン)12を処理すべき表面部分上に配
置する。電解液を人口14を介してケーシング12に導
入し、出口16を介して部分的に排出する。入口14を
介して流入する電解液流18を陽極部分流20と陰極部
分流22に分ける。
陰極部分流22は、陰極24を通過して流れ、研磨また
は酸洗いする表面10′に達することなく出口16を介
してケーシング12を出る。従って、陰極24において
発生する水素ガスは、陰極部分流22でケーシング12
の外へ運ばれる。
研磨または酸洗いすべき表面10′ に隣接するケーシ
ング12は誘電体壁32を備える。使用する誘電体物質
を、一方向性電磁鋼板の製造方法えば、ポリテトラフル
オロエチレン織布またはガラス繊維織物とすることがで
きる。陽極部分流20は水素ガスを同伴することなく誘
電体壁32を介して流れる。
誘電体壁32を通過すると、電解液の陰極部分流は、誘
電体壁32と表面10′ に画成され加工間隙34に入
る。ここは、電気化学研磨または酸洗いが行われる場所
である。発生する酸素ガスは、陽極部分流20と一緒に
矢印の方向に加工間隙34から外へ運ばれる。
第2図は電解液回路の全体を示し、第1図に示した装置
に対応する構造部材を同じ引用番号で記し上述の記載を
参照できるようにした。加工間隙34を出た陽極部分流
20を、電解液容器30に導入する。また、陰極部分流
22は、制御弁28を介して電解液容器30に再循環さ
せるが、研磨すべき表面10”とは接触しない。電解液
容器30からの新鮮な電解液を、ポンプ26によって入
口14を介してケーシング12に補充する。次いで、入
口14を介してケーシング12に流入する電解液流18
を、上述の如く陽極および陰極部分流に分ける。
【図面の簡単な説明】
第1図は、電気化学的研磨および/または酸洗い用装置
の部分断面図、 第2図は、電解液回路全体を備える第1図の装置の断面
図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、1個以上の陰極(24)を、研磨および/または酸
    洗いする陽極表面(10′)に対向させて配置し、電解
    液流を表面(10′)に沿って通過させて電気化学研磨
    および/または酸洗いするに当たり、電解液流(18)
    を少なくとも2つの部分流、即ち、表面(10′)を通
    過して流れるが、陰極(24)を通過しない陽極部分流
    (20)と陰極(24)を通過して流れるが表面(10
    ′)を通過しない陰極部分流(22)とに分けることを
    特徴とする電気化学的研磨および/または酸洗い方法。 2、溶接継目、特に、ステンレス鋼(精錬鋼)の陽極酸
    洗いに使用する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、研磨および/または酸洗いする陽極表面領域(10
    ′)上に配置するに適合するケーシング(いわゆるタン
    ポン)(12)を備え、電解液用の入口(14)と出口
    (16)並びに1個以上の陰極(24)および表面領域
    (10′)に隣接し実質的に誘電体から成る壁(32)
    を有し、該壁が電解液に対して透過性であり、表面(1
    0′)と一緒に電解液流に関する加工間隙(34)を画
    成する部分的電気化学的研磨および/または酸洗い用装
    置において、ケーシング(12)中で陽極部分流(20
    )が誘電体壁(32)を通過して流れるが陰極(24)
    を通過せず、陰極部分流(22)が陰極(24)を通過
    して流れるが誘電体壁(32)を通過しないように電解
    液流(18)を分けるように構成したことを特徴とする
    部分的電気研磨および/または酸洗い用装置。 4、誘電体壁(32)が少なくとも部分的にポリテトラ
    フルオロエチレン織布で作製された特許請求の範囲第3
    項記載の装置。 5、誘電体壁(32)が少なくとも部分的にガラス繊維
    織物で作製された特許請求の範囲第3または4項に記載
    の装置。 6、各々、ケーシング(12)および加工間隙(34)
    を通過した陰極および陽極部分流(各々、22および2
    0)を、電解液容器(30)に再循環する特許請求の範
    囲第3〜5項のいずれか1つの項に記載の装置。 7、ケーシング(12)中への電解液用の入口(14)
    を陰極(24)と誘電体壁(32)との間に配置し、出
    口(16)を、誘電体壁(32)から離間した陰極(2
    4)側に配置した特許請求の範囲第3〜6項のいずれか
    1つの項に記載の装置。 8、溶接継目、特に、ステンレス鋼(精錬鋼)の陽極酸
    洗いに使用する特許請求の範囲第3〜7鋼のいずれか1
    つの項に記載の装置。
JP62101166A 1986-04-25 1987-04-25 電気化学研磨および酸洗い方法並びに装置 Expired - Lifetime JP2573220B2 (ja)

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