JPH033758B2 - - Google Patents
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- JPH033758B2 JPH033758B2 JP13635883A JP13635883A JPH033758B2 JP H033758 B2 JPH033758 B2 JP H033758B2 JP 13635883 A JP13635883 A JP 13635883A JP 13635883 A JP13635883 A JP 13635883A JP H033758 B2 JPH033758 B2 JP H033758B2
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- Japan
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- workpiece
- plating liquid
- electrode
- anode
- plating
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- Expired
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- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 8
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 24
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はワークに電気めつき等の電解処理を施
すための電解装置に関する。
すための電解装置に関する。
例えば、めつき液に浸けた垂直なワークに対し
てノズルからめつき液を噴出させながらめつきを
行う場合、一般に従来の装置ではノズルがワーク
の上側又は下側に設けてあり、ノズルからのめつ
き液噴流がワークの表面に沿つて上下に流れるよ
うになつているので、ワーク表面に形成される陰
極フイルムをめつき液噴流により充分に破壊する
ことができない。又電極表面には陽極フイルムが
形成されるが、このフイルムを充分に破壊する工
夫も為されていない。そのために電荷の授受が円
滑に行なわれず、処理速度が遅いという問題があ
る。
てノズルからめつき液を噴出させながらめつきを
行う場合、一般に従来の装置ではノズルがワーク
の上側又は下側に設けてあり、ノズルからのめつ
き液噴流がワークの表面に沿つて上下に流れるよ
うになつているので、ワーク表面に形成される陰
極フイルムをめつき液噴流により充分に破壊する
ことができない。又電極表面には陽極フイルムが
形成されるが、このフイルムを充分に破壊する工
夫も為されていない。そのために電荷の授受が円
滑に行なわれず、処理速度が遅いという問題があ
る。
本発明は上記問題点に鑑み、ワークに向けて電
解液を噴射するようにすると共に、電極面上の電
解液の流速を上げるようにして、ワーク及び電極
の表面に形成されるフイルムを充分に破壊し、電
解処理速度を向上させることを目的としており、
次に図面に基づいて本発明を説明する。
解液を噴射するようにすると共に、電極面上の電
解液の流速を上げるようにして、ワーク及び電極
の表面に形成されるフイルムを充分に破壊し、電
解処理速度を向上させることを目的としており、
次に図面に基づいて本発明を説明する。
垂直断面略図である第1図において、タンク1
内のめつき液2に板状ワーク3が垂直な姿勢で浸
けられている。ワーク3は例えばハンガー式の保
持機構4により吊り下げられており、又ワーク3
には陰極電源5が接続している。6はワーク3の
表面に対向する1対のタンク側壁で、陽極電源7
に接続するアノード8は両方の側壁6の近傍にお
いてめつき液2に浸けられている。両方のアノー
ド8とワーク3の間には垂直なめつき液噴出パイ
プ10が設けてある。パイプ10の上端はワーク
3の上縁と略同じ高さにあり、下端はタンク底壁
11上のめつき液供給パイプ12に接続し、又パ
イプ10の外周にはワーク3側へ突出しためつき
液噴出ノズル13がパイプ10の略全長にわたつ
て設けてある。ノズル13に設けられためつき液
噴出口15はスリツト状で、上下長さlを有して
おり、ノズル13の略全長にわたつて延びてい
る。なおパイプ12はめつき液供給ポンプ(図示
せず)に接続している。両側のアノード8とパイ
プ10の間には調整壁16が垂直に設置されてい
る。壁16はめつき液2の水面より突出してタン
ク1内のめつき液2を分割しており、壁16の略
中央に形成された1又は2以上の孔17を介して
めつき液2が流通し得るようになつている。孔1
7はアノード8の略中央部に対向する位置に設置
されている。更にタンク1は外方よりカバー18
によつて覆われており、タンク1の上端部に形成
された切欠き19から溢出しためつき液2はタン
ク1とカバー18との間隙を流下し、上記供給ポ
ンプによつて再びパイプ12に送り込まれるよう
になつている。
内のめつき液2に板状ワーク3が垂直な姿勢で浸
けられている。ワーク3は例えばハンガー式の保
持機構4により吊り下げられており、又ワーク3
には陰極電源5が接続している。6はワーク3の
表面に対向する1対のタンク側壁で、陽極電源7
に接続するアノード8は両方の側壁6の近傍にお
いてめつき液2に浸けられている。両方のアノー
ド8とワーク3の間には垂直なめつき液噴出パイ
プ10が設けてある。パイプ10の上端はワーク
3の上縁と略同じ高さにあり、下端はタンク底壁
11上のめつき液供給パイプ12に接続し、又パ
イプ10の外周にはワーク3側へ突出しためつき
液噴出ノズル13がパイプ10の略全長にわたつ
て設けてある。ノズル13に設けられためつき液
噴出口15はスリツト状で、上下長さlを有して
おり、ノズル13の略全長にわたつて延びてい
る。なおパイプ12はめつき液供給ポンプ(図示
せず)に接続している。両側のアノード8とパイ
プ10の間には調整壁16が垂直に設置されてい
る。壁16はめつき液2の水面より突出してタン
ク1内のめつき液2を分割しており、壁16の略
中央に形成された1又は2以上の孔17を介して
めつき液2が流通し得るようになつている。孔1
7はアノード8の略中央部に対向する位置に設置
されている。更にタンク1は外方よりカバー18
によつて覆われており、タンク1の上端部に形成
された切欠き19から溢出しためつき液2はタン
ク1とカバー18との間隙を流下し、上記供給ポ
ンプによつて再びパイプ12に送り込まれるよう
になつている。
第1図の−断面拡大部分略図である第2図
の如く、パイプ12はワーク3の表面に沿つて水
平方向に長く延びており、各パイプ12上に多数
のパイプ10が一定間隔を隔てて設けてある。図
示の実施例においてワーク3の両側のパイプ1
0,10はワーク3を挾んで第2図で左右に対向
している。図示されていない機構により、各パイ
プ10はその中心線O(又は中心線Oと平行な垂
直線)を軸にしてその角度位置を矢印Rの如く調
整できるようになつている。パイプ10はいずれ
もノズル13を一方のタンク端壁20寄りに向け
た姿勢にあり、各ノズル13はワーク3の表面に
対して約45゜の角度Dで傾斜している。なおワー
ク表面に対するノズル13の傾斜角D(めつき液
の噴出角)は45゜±10゜が最適であることが実験等
により確認されている。
の如く、パイプ12はワーク3の表面に沿つて水
平方向に長く延びており、各パイプ12上に多数
のパイプ10が一定間隔を隔てて設けてある。図
示の実施例においてワーク3の両側のパイプ1
0,10はワーク3を挾んで第2図で左右に対向
している。図示されていない機構により、各パイ
プ10はその中心線O(又は中心線Oと平行な垂
直線)を軸にしてその角度位置を矢印Rの如く調
整できるようになつている。パイプ10はいずれ
もノズル13を一方のタンク端壁20寄りに向け
た姿勢にあり、各ノズル13はワーク3の表面に
対して約45゜の角度Dで傾斜している。なおワー
ク表面に対するノズル13の傾斜角D(めつき液
の噴出角)は45゜±10゜が最適であることが実験等
により確認されている。
図示されていないが第1図の保持機構4は例え
ばチエーン式の移動機構に連結されており、該移
動機構はワーク3を第2図の矢印F−F′の如く水
平かつワーク表面と平行な方向に揺動(往復移
動)させるようになつている。なおワーク3を一
方向Fに連続的に移動させることもできる。
ばチエーン式の移動機構に連結されており、該移
動機構はワーク3を第2図の矢印F−F′の如く水
平かつワーク表面と平行な方向に揺動(往復移
動)させるようになつている。なおワーク3を一
方向Fに連続的に移動させることもできる。
上記構成によると、スリツト状の噴出口15か
ら膜状めつき液2が噴出するので、めつき液2は
ワーク3の全高にわたつて略均等に衝突し、この
こととワーク3が矢印F−F′方向に揺動(又は移
動)することにより、めつき液2はワーク3の表
面全体に略均等に衝突する。従つてワーク表面の
陰極フイルムは確実に破壊され、ワーク表面全体
に新鮮な(めつき金属イオンを多量に含む)めつ
き液が常に接触し、短時間で充分な厚さのめつき
がワーク表面全体に均等に施される。
ら膜状めつき液2が噴出するので、めつき液2は
ワーク3の全高にわたつて略均等に衝突し、この
こととワーク3が矢印F−F′方向に揺動(又は移
動)することにより、めつき液2はワーク3の表
面全体に略均等に衝突する。従つてワーク表面の
陰極フイルムは確実に破壊され、ワーク表面全体
に新鮮な(めつき金属イオンを多量に含む)めつ
き液が常に接触し、短時間で充分な厚さのめつき
がワーク表面全体に均等に施される。
一方ノズル13より噴出しためつき液2は矢印
で示すように調整壁16の孔17を通り、壁16
とアノード8との間隔を通過し、切欠き19より
タンク1外に排出される。このとき壁16によつ
てアノード8表面上の流路は狭く形成されている
ことから、ノズル13からのめつき液2の噴出方
向がアノード8に対し逆向きであるにもかかわら
ず、アノード8表面上で高流速が得られる。従つ
てアノード8表面に形成される陽極フイルムは確
実に破壊され、アノード8表面には陰イオンを多
量に含む新鮮なめつき液2が常に接触して電荷の
授受は速やかに行なわれる。又調整壁16はワー
ク3の下縁等にめつき金属が集中することを防止
することもできる。従つて孔17の形状、位置等
を変更することによつて、アノード8上での円滑
な電荷の授受及びワーク3上のめつき金属の均等
化を図ることができる。このため調整板16を着
脱自在にしておいてもよい。
で示すように調整壁16の孔17を通り、壁16
とアノード8との間隔を通過し、切欠き19より
タンク1外に排出される。このとき壁16によつ
てアノード8表面上の流路は狭く形成されている
ことから、ノズル13からのめつき液2の噴出方
向がアノード8に対し逆向きであるにもかかわら
ず、アノード8表面上で高流速が得られる。従つ
てアノード8表面に形成される陽極フイルムは確
実に破壊され、アノード8表面には陰イオンを多
量に含む新鮮なめつき液2が常に接触して電荷の
授受は速やかに行なわれる。又調整壁16はワー
ク3の下縁等にめつき金属が集中することを防止
することもできる。従つて孔17の形状、位置等
を変更することによつて、アノード8上での円滑
な電荷の授受及びワーク3上のめつき金属の均等
化を図ることができる。このため調整板16を着
脱自在にしておいてもよい。
以上説明したように本発明によると、電解液
(例えばめつき液2)内にワーク3と電極(例え
ばアノード8)を浸漬し、ワーク3近傍にワーク
3に向けて電解液を噴出する電解液噴出機構(パ
イプ10、ノズル13等)を設け、電極近傍に電
極面上の電解液の流路を狭める調整壁16を設け
て、電極面上の電解液の流速を上げるようにした
ので、ワーク3及び電極の表面に形成されるフイ
ルムを充分に破壊することができ、電解処理速度
を向上させることができる利点がある。従つて短
時間で高品質のめつき層を得ることができる等、
電解処理時間を短縮できる利点がある。
(例えばめつき液2)内にワーク3と電極(例え
ばアノード8)を浸漬し、ワーク3近傍にワーク
3に向けて電解液を噴出する電解液噴出機構(パ
イプ10、ノズル13等)を設け、電極近傍に電
極面上の電解液の流路を狭める調整壁16を設け
て、電極面上の電解液の流速を上げるようにした
ので、ワーク3及び電極の表面に形成されるフイ
ルムを充分に破壊することができ、電解処理速度
を向上させることができる利点がある。従つて短
時間で高品質のめつき層を得ることができる等、
電解処理時間を短縮できる利点がある。
ワーク3表面に対する電解液の噴出方向や量を
変更し、又調整壁16の形状や位置を変更するこ
とによつて、種々の電解条件に対応した最適の電
解処理を容易に行なうことができる利点がある。
変更し、又調整壁16の形状や位置を変更するこ
とによつて、種々の電解条件に対応した最適の電
解処理を容易に行なうことができる利点がある。
なお本発明を具体化する場合、第3図の如くワ
ーク3に対して一方の側のパイプ10aの方向と
他方の側のパイプ10bの方向を互に逆にし、一
方のパイプ10aを端壁20寄りに向け、他方の
パイプ10bを反対側の端壁21寄りに向けるこ
ともできる。又パイプ10aからのめつき液とパ
イプ10bからのめつき液を互いに矢印F方向に
ずれた位置においてワーク3に衝突させることも
できる。
ーク3に対して一方の側のパイプ10aの方向と
他方の側のパイプ10bの方向を互に逆にし、一
方のパイプ10aを端壁20寄りに向け、他方の
パイプ10bを反対側の端壁21寄りに向けるこ
ともできる。又パイプ10aからのめつき液とパ
イプ10bからのめつき液を互いに矢印F方向に
ずれた位置においてワーク3に衝突させることも
できる。
ハンガー式保持機構4に代えて、ワーク3を両
側から多数のローラで保持するようにすることも
でき、そのようなローラ式保持機構を採用した場
合には、ワーク3を傾斜させて保持及び移動させ
ることもできる。
側から多数のローラで保持するようにすることも
でき、そのようなローラ式保持機構を採用した場
合には、ワーク3を傾斜させて保持及び移動させ
ることもできる。
スリツト状噴出口15に代えて、直列に配列さ
れた複数の孔状噴出口を採用することもできる。
れた複数の孔状噴出口を採用することもできる。
アノード8としては、不溶解電極、溶解電極の
どちらを用いてもよい。
どちらを用いてもよい。
第1図は本発明実施例の垂直断面略図、第2図
は第1図の−断面拡大部分略図、第3図は別
の実施例の平面略図である。 2…めつき液(電解液の一例)、3…ワーク、
8…アノード(電極の一例)、13…ノズル(電解
液噴出機構の一部)、16…調整壁。
は第1図の−断面拡大部分略図、第3図は別
の実施例の平面略図である。 2…めつき液(電解液の一例)、3…ワーク、
8…アノード(電極の一例)、13…ノズル(電解
液噴出機構の一部)、16…調整壁。
Claims (1)
- 1 電解液内にワークと電極を浸漬し、ワーク近
傍にワークに向けて電解液を噴出する電解液噴出
機構を設け、電極近傍に電極面上の電解液の流路
を狭める調整壁を設けて、電極面上の電解液の流
速を上げるようにしたことを特徴とする高速電解
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13635883A JPS6026693A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 高速電解装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13635883A JPS6026693A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 高速電解装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6026693A JPS6026693A (ja) | 1985-02-09 |
| JPH033758B2 true JPH033758B2 (ja) | 1991-01-21 |
Family
ID=15173308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13635883A Granted JPS6026693A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 高速電解装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6026693A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6393897A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-25 | C Uyemura & Co Ltd | めつき液噴射式めつき処理装置 |
| JPS6389700A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-20 | C Uyemura & Co Ltd | めつき液噴射式めつき処理装置 |
-
1983
- 1983-07-25 JP JP13635883A patent/JPS6026693A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6026693A (ja) | 1985-02-09 |
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