JPH0338352B2 - - Google Patents
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- JPH0338352B2 JPH0338352B2 JP59049403A JP4940384A JPH0338352B2 JP H0338352 B2 JPH0338352 B2 JP H0338352B2 JP 59049403 A JP59049403 A JP 59049403A JP 4940384 A JP4940384 A JP 4940384A JP H0338352 B2 JPH0338352 B2 JP H0338352B2
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- JP
- Japan
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- strip
- slot
- electrolyte
- roller
- anode
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- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000011244 liquid electrolyte Substances 0.000 claims description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000004323 axial length Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 230000037427 ion transport Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
- C25D7/0635—In radial cells
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は動いている金属ストリツプの片側電気
メツキ方法であつて、カソードとしての前記スト
リツプが回転するローラの電気伝導性周囲表面
(peripheral surface)と接触しておりそして前
記ローラ円周(circumference)の一部の上をお
おう該ローラと同心であるアノード5が電解質が
供給されるスロツト6を形成するように前記スト
リツプから或る距離のところに位置している方法
に関する。本発明は上記方法を実施するための装
置にも関する。
メツキ方法であつて、カソードとしての前記スト
リツプが回転するローラの電気伝導性周囲表面
(peripheral surface)と接触しておりそして前
記ローラ円周(circumference)の一部の上をお
おう該ローラと同心であるアノード5が電解質が
供給されるスロツト6を形成するように前記スト
リツプから或る距離のところに位置している方法
に関する。本発明は上記方法を実施するための装
置にも関する。
連続的な動いている金属ストリツプを電気メツ
キするための槽い(cell)は3つのタイプ、即ち
水平、鉛直及び半径方向のタイプに分けられた。
本発明は半径方向タイプ(radial type)に関す
る。水平及び鉛直方向タイプにおいては、ストリ
ツプは間隔を置いて配置された電極の対間で接触
することなく通過する。その欠点は、ストリツプ
が前記槽を通る所望の通路内にそれを保持するた
めに張力をかけられなければならないこと及び電
気がストリツプに沿つて供給されなければならな
いこと、これは特に薄いストリツプの場合に抵抗
損失を生じることである。これらの欠点は、半径
方向タイプの槽であつて、該槽において電流はス
トリツプが該槽において接触するローラから直接
にストリツプへ供給されそして張力がローラに対
してストリツプを保持するためにのみかけられる
必要があり、それによりストリツプを正確に位置
づけるようにした槽によつて回避される。ストリ
ツプの片側の被覆のみ可能であるが、2つのかか
る槽をストリツプの運動の方向に直列で配列され
ることができる。ストリツプ巾は、たとえば1.5
mである。
キするための槽い(cell)は3つのタイプ、即ち
水平、鉛直及び半径方向のタイプに分けられた。
本発明は半径方向タイプ(radial type)に関す
る。水平及び鉛直方向タイプにおいては、ストリ
ツプは間隔を置いて配置された電極の対間で接触
することなく通過する。その欠点は、ストリツプ
が前記槽を通る所望の通路内にそれを保持するた
めに張力をかけられなければならないこと及び電
気がストリツプに沿つて供給されなければならな
いこと、これは特に薄いストリツプの場合に抵抗
損失を生じることである。これらの欠点は、半径
方向タイプの槽であつて、該槽において電流はス
トリツプが該槽において接触するローラから直接
にストリツプへ供給されそして張力がローラに対
してストリツプを保持するためにのみかけられる
必要があり、それによりストリツプを正確に位置
づけるようにした槽によつて回避される。ストリ
ツプの片側の被覆のみ可能であるが、2つのかか
る槽をストリツプの運動の方向に直列で配列され
ることができる。ストリツプ巾は、たとえば1.5
mである。
米国特許出願3900383及び3483113号は半径方向
タイプの槽の例を示す。3900383号の装置におい
ては、ローラは電解質の浴中に半分浸漬される。
米国特許出願3483113号、第20図の槽において
は、アノードは水平軸ローラのまわりに270°にわ
たつて延びており、そして電解質はアノードとス
トリツプの間のスロツトを2つの流れにおいて、
即ち1つはストリツプ移動と同じ方向に、そして
他はストリツプ移動と反対の方向において通過す
るようにローラの最下部に両側で供給される。
タイプの槽の例を示す。3900383号の装置におい
ては、ローラは電解質の浴中に半分浸漬される。
米国特許出願3483113号、第20図の槽において
は、アノードは水平軸ローラのまわりに270°にわ
たつて延びており、そして電解質はアノードとス
トリツプの間のスロツトを2つの流れにおいて、
即ち1つはストリツプ移動と同じ方向に、そして
他はストリツプ移動と反対の方向において通過す
るようにローラの最下部に両側で供給される。
低電圧で高電流密度を許容する、従つてコンパ
クトな槽を許容する電解方法の改良が達成され得
ることが今回見出された。更に、高度に一様な且
つ非常に薄い電気メツキされた層を、たとえばク
ロムがメツキされる非常に薄い鋼ストリツプの場
合に、動いているストリツプに施すことができ
る。
クトな槽を許容する電解方法の改良が達成され得
ることが今回見出された。更に、高度に一様な且
つ非常に薄い電気メツキされた層を、たとえばク
ロムがメツキされる非常に薄い鋼ストリツプの場
合に、動いているストリツプに施すことができ
る。
本発明は、最初前記した方法において、電解質
がスロツトを通り該スロツトの出口端へ乱流で且
つほぼ一方向に、そしてスロツトを通る平均電解
質速度がストリツプ線速度(linear strip
velocity)の少なくとも75%、好ましくは少なく
とも100%であるような速度で流れるような方法
で、該スロツトの入口端(即ち、ストリツプ移動
の方向に対して入口端)でのみ電解質が供給され
ることを特徴とする。
がスロツトを通り該スロツトの出口端へ乱流で且
つほぼ一方向に、そしてスロツトを通る平均電解
質速度がストリツプ線速度(linear strip
velocity)の少なくとも75%、好ましくは少なく
とも100%であるような速度で流れるような方法
で、該スロツトの入口端(即ち、ストリツプ移動
の方向に対して入口端)でのみ電解質が供給され
ることを特徴とする。
ストリツプと同じ方向においてスロツト内で高
速での電解質のこの乱流はイオンの輸送を改良す
ることにより電気化学的方法を改良すると考えら
れる。特に、該流れはアノードにおける境界層を
破壊し(break up)、それにより槽を横切る電圧
を減少させ、伴なわれる大きい電流を心に留める
実質的コスト節約をもたらす。本方法の均一な性
質は、600m/分までの高いストリツプ速度です
ら高品質製造を許容しながら、ストリツプ上に層
の均一な付着(deposition)を引起こすものと考
えられる。より低い速度、たとえば300−600m/
分又は30m/分という低い速度すら、用途に依存
して適切に使用することができる。
速での電解質のこの乱流はイオンの輸送を改良す
ることにより電気化学的方法を改良すると考えら
れる。特に、該流れはアノードにおける境界層を
破壊し(break up)、それにより槽を横切る電圧
を減少させ、伴なわれる大きい電流を心に留める
実質的コスト節約をもたらす。本方法の均一な性
質は、600m/分までの高いストリツプ速度です
ら高品質製造を許容しながら、ストリツプ上に層
の均一な付着(deposition)を引起こすものと考
えられる。より低い速度、たとえば300−600m/
分又は30m/分という低い速度すら、用途に依存
して適切に使用することができる。
得られる高い付着速度はアノードの円周長が
180°より小さくなることを許容し、これは槽の構
造を簡単にする。
180°より小さくなることを許容し、これは槽の構
造を簡単にする。
本発明はストリツプがカソードを形成するよう
に使用中ストリツプによつて接触される電気伝導
性周囲を有する回転可能なカソードローラ、及び
アノードであつて該カソードローラと同心である
表面を有しそして該カソードローラの円周の一部
の上をおおつて該周囲から所定の距離のところで
延びていて該アノードと該カソードローラとの間
でスロツトを形成し、該スロツトにおいて使用中
電解が行なわれるようになつているアノードとを
具備し、該スロツトへ圧力下の液体電解質を供給
するための手段が設けられている、前記方法を実
施するための装置も提供する。該装置は、該電解
質供給手段が、動いているストリツプが入るスロ
ツトの端部においてのみそして電解質がスロツト
に沿つてその他端へ乱流で且つほぼ一方向に流れ
るような方法で該電解質をスロツトに排出するよ
うになつており且つ位置づけられていることを特
徴とする。
に使用中ストリツプによつて接触される電気伝導
性周囲を有する回転可能なカソードローラ、及び
アノードであつて該カソードローラと同心である
表面を有しそして該カソードローラの円周の一部
の上をおおつて該周囲から所定の距離のところで
延びていて該アノードと該カソードローラとの間
でスロツトを形成し、該スロツトにおいて使用中
電解が行なわれるようになつているアノードとを
具備し、該スロツトへ圧力下の液体電解質を供給
するための手段が設けられている、前記方法を実
施するための装置も提供する。該装置は、該電解
質供給手段が、動いているストリツプが入るスロ
ツトの端部においてのみそして電解質がスロツト
に沿つてその他端へ乱流で且つほぼ一方向に流れ
るような方法で該電解質をスロツトに排出するよ
うになつており且つ位置づけられていることを特
徴とする。
本発明の好ましい態様を添付図面を参照して非
限定的例としこれから説明する。
限定的例としこれから説明する。
示された装置において、鋼ストリツプ1は第1
の回転しているガイドローラ2、伝導性表面を有
するより大きい回転しているカソードローラ3及
び第2の回転しているガイドローラ4のまわりを
連続的に進行する。ストリツプ1はそれが約180°
にわたつてローラ3と良好な接触をするように僅
かな張力下にある。ローラ3の下半分の約135°に
わたり、アノード5は、アノード5とカソードロ
ーラ3に接触しているストリツプ1との間に狭い
スロツト(この態様においては12mm巾)を与える
ようにローラ3から僅かに間隔を置いて配置され
たローラ3と同心である部分円筒
(partcylinder)の形態で延びている。
の回転しているガイドローラ2、伝導性表面を有
するより大きい回転しているカソードローラ3及
び第2の回転しているガイドローラ4のまわりを
連続的に進行する。ストリツプ1はそれが約180°
にわたつてローラ3と良好な接触をするように僅
かな張力下にある。ローラ3の下半分の約135°に
わたり、アノード5は、アノード5とカソードロ
ーラ3に接触しているストリツプ1との間に狭い
スロツト(この態様においては12mm巾)を与える
ようにローラ3から僅かに間隔を置いて配置され
たローラ3と同心である部分円筒
(partcylinder)の形態で延びている。
電解質はローラ3の軸線に平行に延びているパ
イプ7から圧力下の電解質をジエツトとして向け
るように配列されたパイプ7内のスロツトを通し
てスロツト6の全軸線方向長さに供給される。パ
イプ7はストリツプ1がスロツト6に入るスロツ
ト6の円周端部(circumferential end)に位置
している。かくして電解質は、ストリツプ1と同
じ方向においてスロツトの全円周長さを移動し、
そしてスロツト6のストリツプ出口端8で出、傾
斜している底部10及び電解質をそこからパイプ
7へポンプで送り戻すための出口11を有するタ
ンク9内に集められる。
イプ7から圧力下の電解質をジエツトとして向け
るように配列されたパイプ7内のスロツトを通し
てスロツト6の全軸線方向長さに供給される。パ
イプ7はストリツプ1がスロツト6に入るスロツ
ト6の円周端部(circumferential end)に位置
している。かくして電解質は、ストリツプ1と同
じ方向においてスロツトの全円周長さを移動し、
そしてスロツト6のストリツプ出口端8で出、傾
斜している底部10及び電解質をそこからパイプ
7へポンプで送り戻すための出口11を有するタ
ンク9内に集められる。
タンク9内の液体レベルは12で示されてい
る。ストリツプ1に付着する液体を除去するため
に、絞りローラ13の対がスロツト6の出口端8
の上に、それらの間のストリツプ1の両側に配列
されている。
る。ストリツプ1に付着する液体を除去するため
に、絞りローラ13の対がスロツト6の出口端8
の上に、それらの間のストリツプ1の両側に配列
されている。
上記した如く、液体電解質は、それがスロツト
6内で乱流で(即ち、非層流で)そして電気メツ
キ装置を通るストリツプの線速度の少なくとも3/
4である入口端から出口端8への全平均速度で流
れるような圧力及び速度でスロツト6の入口端で
供給される。
6内で乱流で(即ち、非層流で)そして電気メツ
キ装置を通るストリツプの線速度の少なくとも3/
4である入口端から出口端8への全平均速度で流
れるような圧力及び速度でスロツト6の入口端で
供給される。
かくしてストリツプ1をメツキするための電解
槽が形成される。アノード5は非消耗性であり
(non−consumable)そしてメツキされるべきイ
オンは電解質によつて与えられる。ストリツプ1
はカソードとして作用し、電流はそれを通つてカ
ソードローラ3から直接電解質中へ通る。スロツ
ト6の狭い巾並びにスロツト6を通る乱流の一方
向電解質流れは、ストリツプの表面に均一に被覆
する高品質金属を付着させると共に、大きい電流
で操作することができる低抵抗槽をつくり出す
4A/cm2の電流密度を達成することができる。
槽が形成される。アノード5は非消耗性であり
(non−consumable)そしてメツキされるべきイ
オンは電解質によつて与えられる。ストリツプ1
はカソードとして作用し、電流はそれを通つてカ
ソードローラ3から直接電解質中へ通る。スロツ
ト6の狭い巾並びにスロツト6を通る乱流の一方
向電解質流れは、ストリツプの表面に均一に被覆
する高品質金属を付着させると共に、大きい電流
で操作することができる低抵抗槽をつくり出す
4A/cm2の電流密度を達成することができる。
アノード5はローラ3の円周の半分より少ない
範囲にわたり延びているので、該装置の組立て及
びアノード5又はローラ3の取替えは簡単な操作
である。
範囲にわたり延びているので、該装置の組立て及
びアノード5又はローラ3の取替えは簡単な操作
である。
該装置及び電気供給装置の更に詳細な構造は説
明する必要はない。何故ならば、これは当技術分
野では慣用のものであり又は当業者には何らの問
題も与えないからである。
明する必要はない。何故ならば、これは当技術分
野では慣用のものであり又は当業者には何らの問
題も与えないからである。
本発明は、たとえば、(a)極めて薄い鋼ストリツ
プへのクロムの電気メツキ(ストリツプ厚さ<
0.17mm、Cr層12nm厚さ、100mg/m2に相当する)
及び自動車工業において広範に使用される如きよ
り厚い鋼ストリツプの亜鉛メツキ(galvanising)
(ストリツプ厚さ0.7mm、たとえばZn層15μm厚さ、
105g/m2に相当する)において有利である。
プへのクロムの電気メツキ(ストリツプ厚さ<
0.17mm、Cr層12nm厚さ、100mg/m2に相当する)
及び自動車工業において広範に使用される如きよ
り厚い鋼ストリツプの亜鉛メツキ(galvanising)
(ストリツプ厚さ0.7mm、たとえばZn層15μm厚さ、
105g/m2に相当する)において有利である。
添付図面は本発明を具体化する装置の側面図で
ある。図において1……鋼ストリツプ、2……ガ
イドローラ、3……カソードローラ、4……ガイ
ドローラ、5……アノード、6……スロツト、7
……パイプ、8……スロツトの出口端、13……
絞りローラ、である。
ある。図において1……鋼ストリツプ、2……ガ
イドローラ、3……カソードローラ、4……ガイ
ドローラ、5……アノード、6……スロツト、7
……パイプ、8……スロツトの出口端、13……
絞りローラ、である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 動いている金属ストリツプ1の片側電気メツ
キ方法であつて、カソードとしての前記ストリツ
プが回転するカソードローラー3の電気伝導性周
囲表面と接触しておりそして前記ローラ円周の一
部分の上をおおう該ローラと同心であるアノード
5が、電解質が供給されるスロツト6を形成する
ように前記ストリツプから或る距離のところに位
置している上記方法において、該電解質が前記ス
ロツト6を通つてその出口端へ乱流で且つほぼ一
方向にそして該スロツトを通る電解質の平均速度
が前記ストリツプの線速度の少なくとも75%であ
るような速度で流れるように該ストリツプの運動
の方向においてストリツプの通路に対して切線方
向成分を有する液体ジエツトとして該スロツト6
の入口端でのみ該電解質を供給することを特徴と
する上記の方法。 2 スロツト6の角度長さ(angular length)が
180°より大きくない特許請求の範囲第1項記載の
方法。 3 該スロツトを通る電解質の該速度が少なくと
も該ストリツプの線速度に等しい特許請求の範囲
第1又は第2記載の方法。 4 動いている金属ストリツプを片側電気メツキ
する装置であつて、該ストリツプがカソードを形
成するように使用中該ストリツプにより接触され
る電気伝導性周囲を有する回転可能なカソードロ
ーラ3と、アノード5であつて該カソードローラ
3と同心である表面を有しそして該カソードロー
ラの円周の一部分の上をおおつて前記周囲から所
定の距離のところでのびていて、該アノードと該
カソードローラとの間に使用中そこで電解が行な
われるところのスロツト6を形成するようになつ
ているアノード5を具備し、該スロツトに圧力下
の液体電解質を供給するための手段(7)が設けられ
ている、上記装置において、 該電解質供給手段(7)は、動いているストリツプ
が入る該スロツトの端部においてのみそして該電
解質が該スロツトに沿つてその他端8へ乱流で且
つほぼ一方向に流れるような方法で該電解質をス
トリツプの通路に対して切線方向成分を有する液
体ジエツトとして該スロツト6中に排出するよう
になつており且つ位置していることを特徴とする
上記装置。 5 該アノード表面は180°より大きくない範囲に
わたり延びている特許請求の範囲第4項記載の装
置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8300946 | 1983-03-16 | ||
NL8300946A NL8300946A (nl) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | Inrichting voor het tweezijdig electrolytisch bekleden van metaalband. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59177390A JPS59177390A (ja) | 1984-10-08 |
JPH0338352B2 true JPH0338352B2 (ja) | 1991-06-10 |
Family
ID=19841554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59049403A Granted JPS59177390A (ja) | 1983-03-16 | 1984-03-16 | 動いている金属ストリツプを片側電気メツキする方法及び装置 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4559113A (ja) |
EP (1) | EP0125707B1 (ja) |
JP (1) | JPS59177390A (ja) |
AU (1) | AU558761B2 (ja) |
CA (1) | CA1234772A (ja) |
DE (1) | DE3470573D1 (ja) |
DK (1) | DK161206C (ja) |
NL (1) | NL8300946A (ja) |
NO (1) | NO162824C (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3510592A1 (de) * | 1985-03-23 | 1986-10-02 | Hoesch Stahl AG, 4600 Dortmund | Hochgeschwindigkeits-elektrolysezelle fuer die veredelung von bandfoermigem gut |
JPS61223196A (ja) * | 1985-03-28 | 1986-10-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 金属多孔体の製造方法 |
US4661213A (en) * | 1986-02-13 | 1987-04-28 | Dorsett Terry E | Electroplate to moving metal |
IT1222503B (it) * | 1987-08-14 | 1990-09-05 | Techint Spa | Apparecchiatura e procedimento per ottenere la deposizione elettrolitica su di una sola faccia di un nastro metallico |
JP2551500Y2 (ja) * | 1992-10-29 | 1997-10-22 | ホシデン株式会社 | 速結タイプ陰極線管ソケット |
DE4236927A1 (de) * | 1992-10-31 | 1994-05-05 | Hans Josef May | Vorrichtung zum einseitigen elektrolytischen Beschichten von Metallbändern |
US5582929A (en) * | 1994-09-16 | 1996-12-10 | Electric Fuel (E.F.L.) Ltd. | Electrolyte cooling device for use with a metal-air battery |
US7273537B2 (en) * | 2002-09-12 | 2007-09-25 | Teck Cominco Metals, Ltd. | Method of production of metal particles through electrolysis |
CN114622257B (zh) * | 2022-02-16 | 2023-04-25 | 西比里电机技术(苏州)有限公司 | 一种辊压式热电化学氧化单面镀箔设备 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (9)
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