JPS6274096A - 高電流密度電解処理装置 - Google Patents
高電流密度電解処理装置Info
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- JPS6274096A JPS6274096A JP21431685A JP21431685A JPS6274096A JP S6274096 A JPS6274096 A JP S6274096A JP 21431685 A JP21431685 A JP 21431685A JP 21431685 A JP21431685 A JP 21431685A JP S6274096 A JPS6274096 A JP S6274096A
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- Japan
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- strip
- electrolyte
- high current
- rolls
- current density
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- Pending
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明はサイドフロ一方式の金属ストリップの高電流密
度による高速電解処理装置に関する。
度による高速電解処理装置に関する。
〈従来技術とその問題点〉
電気めっきにおいては、電流密度が高くなるに従って、
金属イオンが欠乏する境界層の厚さが厚くなり、巾なる
高流速だけでは境界層の除去は困難である。
金属イオンが欠乏する境界層の厚さが厚くなり、巾なる
高流速だけでは境界層の除去は困難である。
高’ｉｗ流密度による高速めっきにおいては、ストリッ
プの幅方向に均一で高速な液流を生ぜしめる必要がある
が、流路が開放されているセルでは困難である。
プの幅方向に均一で高速な液流を生ぜしめる必要がある
が、流路が開放されているセルでは困難である。
また高、Ｉｙ電流密度おいては、エツジオーバーコート
が問題となり、これを解決しなければならない。
が問題となり、これを解決しなければならない。
そこでストリップを高電流密度で電解（とくにＺｎ系電
気めっき）するために、次のような装置δ、方法が提案
されている。
気めっき）するために、次のような装置δ、方法が提案
されている。
（１） 電解液をストリップの走行方向と反対方向に流
し、相対速度を高くすることにより、ストリップ表面近
傍へ金属イオン（とくにＺｎ２＋イオン）を多量に供給
し、金属イオンが欠乏する境界層の厚さを薄くする。し
かし、相対速度だけでは電解液の粘性等により、ストリ
ップ表面の境界層を極度に薄くすることはできず、目標
とする高電流密度電解の達成が困難であった。
し、相対速度を高くすることにより、ストリップ表面近
傍へ金属イオン（とくにＺｎ２＋イオン）を多量に供給
し、金属イオンが欠乏する境界層の厚さを薄くする。し
かし、相対速度だけでは電解液の粘性等により、ストリ
ップ表面の境界層を極度に薄くすることはできず、目標
とする高電流密度電解の達成が困難であった。
（２） パルス電解においては、電流を断続して流し、
電流断の時にはストリップ表面近傍における上記境界層
はなくなるが、電流を切っている時間だけ、処理時間は
長くなる。これを短縮するには電解時により高い電流密
度を供給する必要があり高電圧となるため、電力費の上
昇を招く、また、一度に大電流を断続するので、アーク
ポットの発生等の電気的トラブルが発生する。さらに、
電流の立上り （所定電流到達までの時間、十−パーシ
ュートの防止）を短時間で行うには高価な電源装置が必
要であった。
電流断の時にはストリップ表面近傍における上記境界層
はなくなるが、電流を切っている時間だけ、処理時間は
長くなる。これを短縮するには電解時により高い電流密
度を供給する必要があり高電圧となるため、電力費の上
昇を招く、また、一度に大電流を断続するので、アーク
ポットの発生等の電気的トラブルが発生する。さらに、
電流の立上り （所定電流到達までの時間、十−パーシ
ュートの防止）を短時間で行うには高価な電源装置が必
要であった。
マタ、フラジロールを利用したストリップへのめっき方
法として、実開昭６０−２１８０号、同６０−２１８１
ｊ３がある。
法として、実開昭６０−２１８０号、同６０−２１８１
ｊ３がある。
実開昭６０−２１８０号は、めっき液槽を用いることな
く、めっきを行う装置に係り、ローラの外周に共面せし
めた液含浸機に接触する部分のみがめっきされる。した
がって、広い面積を一度に高電流密度でめっきし、高速
めっきを達成できる装置ではない。
く、めっきを行う装置に係り、ローラの外周に共面せし
めた液含浸機に接触する部分のみがめっきされる。した
がって、広い面積を一度に高電流密度でめっきし、高速
めっきを達成できる装置ではない。
実開昭６０−２１８１号は電解液を含浸したブラシをス
トリップに接触さ世て、接触した部分のみにめっきを施
す装置であり、高電流密度による高速めっきを達成でき
る装置ではない。
トリップに接触さ世て、接触した部分のみにめっきを施
す装置であり、高電流密度による高速めっきを達成でき
る装置ではない。
〈発明の目的〉
したがって、本発明の目的は１−通した従来技術の欠点
を解消し、サイドフローすなわちストリップの進行方向
にほぼ直角をなす方向にめっき液を流して高′屯流密度
によるめっきを行うことができ、さらには高電流密度で
あってもエツジオーバーコートを発生することのない高
電流密度電解装置を提供しようとするにある。
を解消し、サイドフローすなわちストリップの進行方向
にほぼ直角をなす方向にめっき液を流して高′屯流密度
によるめっきを行うことができ、さらには高電流密度で
あってもエツジオーバーコートを発生することのない高
電流密度電解装置を提供しようとするにある。
〈発明の構成〉
すなわち、本発明は、ストリップの進行方向に直角にブ
ラシロールを設置し、該ブラシロールと不溶性陽極で区
切られた流路の一方の側に、電解液を均一に供給する分
割ノズルを設置し、反対側に電解液を排出する排液口を
設置したことを特徴とする高電流密度電解装置を提供す
るものである。
ラシロールを設置し、該ブラシロールと不溶性陽極で区
切られた流路の一方の側に、電解液を均一に供給する分
割ノズルを設置し、反対側に電解液を排出する排液口を
設置したことを特徴とする高電流密度電解装置を提供す
るものである。
また本発明は、ストリップの進行方向に直角にブラシロ
ールを設置し、該ブラシロールと不溶性陽極で区切られ
た流路の一方の側に、電解液を均一に供給する分割ノズ
ルを設置し、反対側に電解液を排出する排液口を設置し
、さらにストリップのエツジ部を覆うエツジマスクを設
けたことを特徴とする高電流密度電解装置を提供するも
のである。
ールを設置し、該ブラシロールと不溶性陽極で区切られ
た流路の一方の側に、電解液を均一に供給する分割ノズ
ルを設置し、反対側に電解液を排出する排液口を設置し
、さらにストリップのエツジ部を覆うエツジマスクを設
けたことを特徴とする高電流密度電解装置を提供するも
のである。
以下に本発明の高電流密度電解装置を添付図面に示す好
適実施例につき詳細に説明する。
適実施例につき詳細に説明する。
本発明の高電流密度電解装置の線図的側面図を第１図に
、平面図を第２図に示す。ここで示すのは水モ型の電解
装置であるが、重置型あるいはラジアルセルなどに本発
明は＾川できる。
、平面図を第２図に示す。ここで示すのは水モ型の電解
装置であるが、重置型あるいはラジアルセルなどに本発
明は＾川できる。
ストリップ１はコンタクタロール２とバックアップロー
ル３に挾持され、通電搬送される。未発明においては、
めっき液をストリー、プ１の進行方向とはほぼ直角をな
す方向に流すための少なくとも１つの流路７を限定する
。
ル３に挾持され、通電搬送される。未発明においては、
めっき液をストリー、プ１の進行方向とはほぼ直角をな
す方向に流すための少なくとも１つの流路７を限定する
。
この流路７はストリップｌに直角に配置したブラシロー
ル４と、ストリップに対向する陽極５と、ブラシロール
４および陽極５間をシールするためのシール部材６とに
より、ストリップ１の少なくとも一方の側に限定される
。
ル４と、ストリップに対向する陽極５と、ブラシロール
４および陽極５間をシールするためのシール部材６とに
より、ストリップ１の少なくとも一方の側に限定される
。
この流路７の一方の側には電解液の供給ノズル８が複数
あるいは分割された形態で配置され、他方の側には′ｉ
ｋ解液の排出口９が配置され、この流路にノズル８から
排出口９に向けて電解液がスｉ・リップｌの進行方向に
ほぼ直角をなす方向に流される。
あるいは分割された形態で配置され、他方の側には′ｉ
ｋ解液の排出口９が配置され、この流路にノズル８から
排出口９に向けて電解液がスｉ・リップｌの進行方向に
ほぼ直角をなす方向に流される。
各ノズル８のノズルヘッダー１０内には整流板１１が配
設され、供給管１２、流發制御用パルブ１３を経て供給
される電解液に乱れがないように整流する。
設され、供給管１２、流發制御用パルブ１３を経て供給
される電解液に乱れがないように整流する。
このように’ｌｔ１Ｍ液をストリップの進行方向に直角
方向に流すのは、電解液攪拌はブラシロールで行ってお
り、これに加えて直角方向に′電解液を流すことにより
、′電解液の攪拌効果をＬげるとともに、めっき金属イ
オンの供給をスムーズに行うためである。
方向に流すのは、電解液攪拌はブラシロールで行ってお
り、これに加えて直角方向に′電解液を流すことにより
、′電解液の攪拌効果をＬげるとともに、めっき金属イ
オンの供給をスムーズに行うためである。
本発明において用いるブラシロールは境界層を薄くする
のに液流のみでは限界があるためであり、ブラシロール
とストリップとの機械的接触により境界層を破壊、滅失
させる。
のに液流のみでは限界があるためであり、ブラシロール
とストリップとの機械的接触により境界層を破壊、滅失
させる。
ストリップと直角にブラシロールを設置する間隔は目標
とする電流密度、ラインスピード、液流速により適宜選
択できる。すなわち、高電流密度、低ラインスピード、
低液流速の場合、設置間隔を狭く（密に）する必要があ
り、例えば３００〜１２００ｍｍが適尚である。
とする電流密度、ラインスピード、液流速により適宜選
択できる。すなわち、高電流密度、低ラインスピード、
低液流速の場合、設置間隔を狭く（密に）する必要があ
り、例えば３００〜１２００ｍｍが適尚である。
ブラシロールの材質は、ナイロン、ポリプロピレン、ポ
リアセタールなどの絶縁性のものであればとくに制限さ
れない。その配置も均一、スパイラル状、千鳥状など何
でもよい、また、ブラシロールは静１１二、あるいは回
転を行うが、回転方向（正、逆）回転数およびストリッ
プ表面への押付は力はライン操業条件にあわせて選択で
きる。すなわち、高電流密度、低ラインスピード、低液
流速の場合、ブラシロールの回転をあげ、また、押伺は
力を高める必要がある。
リアセタールなどの絶縁性のものであればとくに制限さ
れない。その配置も均一、スパイラル状、千鳥状など何
でもよい、また、ブラシロールは静１１二、あるいは回
転を行うが、回転方向（正、逆）回転数およびストリッ
プ表面への押付は力はライン操業条件にあわせて選択で
きる。すなわち、高電流密度、低ラインスピード、低液
流速の場合、ブラシロールの回転をあげ、また、押伺は
力を高める必要がある。
ブラシロールの直径は極間距離、配置間隔により選択さ
れるが、２０〜２００ｍ＋＊φが望ましい。
れるが、２０〜２００ｍ＋＊φが望ましい。
ＴｒＩ述のように、ブラシロール間には不溶性陽極を配
置し、流路を構成する。不溶性陽極を用いるのは、安定
した極間距離を得ること、ブラシロールと陽極との隙間
が電解中に変化せず、極間外への液漏れを防止しやすい
ためである。不溶性陽極材質としては、Ｐｂ系合金、ｐ
ｔ、金属酸化物、カーボン等、電解液に佼されないもの
であればいかなるものでもよい。
置し、流路を構成する。不溶性陽極を用いるのは、安定
した極間距離を得ること、ブラシロールと陽極との隙間
が電解中に変化せず、極間外への液漏れを防止しやすい
ためである。不溶性陽極材質としては、Ｐｂ系合金、ｐ
ｔ、金属酸化物、カーボン等、電解液に佼されないもの
であればいかなるものでもよい。
流路の片側には、好ましくはストリップ幅に対応して移
動町脂な電解液供給ノズルを設ける。ノズルから供給さ
れた電解液は流路を通り１反対側の好ましくはストリッ
プ幅に対応して移動可能な排液口に導びかれる。排液口
から液が排出しやすいように吸弓１してもよい。
動町脂な電解液供給ノズルを設ける。ノズルから供給さ
れた電解液は流路を通り１反対側の好ましくはストリッ
プ幅に対応して移動可能な排液口に導びかれる。排液口
から液が排出しやすいように吸弓１してもよい。
」―記の閉流路における平均流速は速く、とくに、ノズ
ル中央部が速くなる。これをできるだけ防ローするため
、分割ノズルとし、ノズルにバルブと整流板を設け、均
一液流速の達成をはかる。
ル中央部が速くなる。これをできるだけ防ローするため
、分割ノズルとし、ノズルにバルブと整流板を設け、均
一液流速の達成をはかる。
一方、ブラシロールに沿う液流速は低下するが、ブラシ
ロールの回転により、金属イオンの欠乏する境界層は破
壊され著しく減少するので、高電流密度電解が達成され
る。
ロールの回転により、金属イオンの欠乏する境界層は破
壊され著しく減少するので、高電流密度電解が達成され
る。
ノズルと開口部はブラシロールを境にして交互に設置す
ることもできる。
ることもできる。
前述のように、高電流密度で電解を行う場合、ストリッ
プのエツジ部がオーバーコートされる。
プのエツジ部がオーバーコートされる。
これを防止する必要があるため、本発明においては、第
３図に示すように、ノズルヘッダー１０および排液［］
９の先端部にエツジマスク１４を取り付けるのがよい。
３図に示すように、ノズルヘッダー１０および排液［］
９の先端部にエツジマスク１４を取り付けるのがよい。
エツジマスク１４は、シれ自体でストリップの巾に対応
してそのエツジ部に適合させるようにしてもよいし、上
述のように排液口９およびノズルヘッダー１０をストリ
ップのｔ１ノに応じて移動可能とする場合には、これら
の移動によりストリップのエツジ部に適合するようにし
てもよい。
してそのエツジ部に適合させるようにしてもよいし、上
述のように排液口９およびノズルヘッダー１０をストリ
ップのｔ１ノに応じて移動可能とする場合には、これら
の移動によりストリップのエツジ部に適合するようにし
てもよい。
〈実施例〉
第１図および：５２図に示すめっきセルを用いて電気Ｚ
ｎめっきを行った。
ｎめっきを行った。
電解条件は次のとおりである。
液組成 ２ＭＺｎＳＯ４（ＺｎＳＯ４ａ７Ｈ２
０５７４ｇ／交） ｐＨ２ 液温 ５５℃ 電ＩＡコ密度 １００〜４０ ＯＡ／ｄ ｒｒｌ
’ストリップ ： 板厚０．７ ｍ＋ｓＸ板幅１０００
ｍｍラインスピード ３０ｍｐｍ 極間距離 １５ｍ１ 平均液流速 １．５ｍｌｓｅｃ ブラシロール直径１００還ｍφ ブラシロール 回転数 ４００ｒｐｍ（回転は正方向ストリップの
走行と同じ方向） エツジマスクの 挿入深さニストリップエツジから ２５＋＊鳳内側。
０５７４ｇ／交） ｐＨ２ 液温 ５５℃ 電ＩＡコ密度 １００〜４０ ＯＡ／ｄ ｒｒｌ
’ストリップ ： 板厚０．７ ｍ＋ｓＸ板幅１０００
ｍｍラインスピード ３０ｍｐｍ 極間距離 １５ｍ１ 平均液流速 １．５ｍｌｓｅｃ ブラシロール直径１００還ｍφ ブラシロール 回転数 ４００ｒｐｍ（回転は正方向ストリップの
走行と同じ方向） エツジマスクの 挿入深さニストリップエツジから ２５＋＊鳳内側。
陽極（Ｐｂ−５＄Ｓｎ）長ニア５０ｍ５陽極（ｐｂ−５
＄Ｓｎ）幅：１１００ｍｍ上記のような、低ラインスピ
ード（３０ｍｐ＋ｓ）においても、４０ＯＡ／ｄｒｎ’
までの高電流密度において、外観良好なＺｎめっきが得
られ、また、エツジのオーバーコートも認められなかっ
た。
＄Ｓｎ）幅：１１００ｍｍ上記のような、低ラインスピ
ード（３０ｍｐ＋ｓ）においても、４０ＯＡ／ｄｒｎ’
までの高電流密度において、外観良好なＺｎめっきが得
られ、また、エツジのオーバーコートも認められなかっ
た。
〈発明の効果〉
本発明においては、ブラシロールと、陽極と、シール部
材によりストリップ進行方向に直角をなす流路を形成し
、この流路の一方の側より分割ノズルにより整流された
電解液を流し、他方の側へ排出するよう構成している。
材によりストリップ進行方向に直角をなす流路を形成し
、この流路の一方の側より分割ノズルにより整流された
電解液を流し、他方の側へ排出するよう構成している。
このため、ブラシロールはストリップの表面に形成され
る電解による気体を含む境界層を破壊し、またサイドフ
ローの゛心解液論とともにストリップにめっき金属イオ
ンを安定して供給することができるので、高電流による
電解を行うことができる。電解液の供給ノズルにおよび
排液口をストリップの巾に応じて移動ｉｉ■能にしてお
けば、さらに好便である。
る電解による気体を含む境界層を破壊し、またサイドフ
ローの゛心解液論とともにストリップにめっき金属イオ
ンを安定して供給することができるので、高電流による
電解を行うことができる。電解液の供給ノズルにおよび
排液口をストリップの巾に応じて移動ｉｉ■能にしてお
けば、さらに好便である。
また、ノズルおよび排液口にエツジマスクを取り付けて
ストリップのエツジ部を覆うようにしておけば、高電ｆ
ｉ、密度による電解を行ってもエフジオーノヘーは防止
される。
ストリップのエツジ部を覆うようにしておけば、高電ｆ
ｉ、密度による電解を行ってもエフジオーノヘーは防止
される。
第１図はおよび第２図は、それぞれ本発明の高電流密度
電解装置の線図的側面図およびｔ面図である−０ 第３図はエツジマスクを装着した本発明の高電流密度電
解装置の線図的縦断面図である。 符号の説明 １・・・ストリップ、２・・・コンダクタロール、３・
・・バックアップロール、４・・・ブラシロール。 ５・・・陽極、６・・・シール部材、７・・・流路、８
・・・電解液供給ノズル、９・・・排液口。
電解装置の線図的側面図およびｔ面図である−０ 第３図はエツジマスクを装着した本発明の高電流密度電
解装置の線図的縦断面図である。 符号の説明 １・・・ストリップ、２・・・コンダクタロール、３・
・・バックアップロール、４・・・ブラシロール。 ５・・・陽極、６・・・シール部材、７・・・流路、８
・・・電解液供給ノズル、９・・・排液口。
Claims (2)
- （１）ストリップの進行方向に直角にブラシロールを設
置し、該ブラシロールと不溶性陽極で区切られた流路の
一方の側に、電解液を均一に供給する分割ノズルを設置
し、反対側に電解液を排出する排液口を設置したことを
特徴とする高電流密度電解装置。 - （２）ストリップの進行方向に直角にブラシロールを設
置し、該ブラシロールと不溶性陽極で区切られた流路の
一方の側に、電解液を均一に供給する分割ノズルを設置
し、反対側に電解液を排出する排液口を設置し、さらに
ストリップのエッジ部を覆うエッジマスクを設けたこと
を特徴とする高電流密度電解装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21431685A JPS6274096A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 高電流密度電解処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21431685A JPS6274096A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 高電流密度電解処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6274096A true JPS6274096A (ja) | 1987-04-04 |
Family
ID=16653733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21431685A Pending JPS6274096A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 高電流密度電解処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6274096A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994003655A1 (de) * | 1992-08-01 | 1994-02-17 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum elektrolytischen behandeln von insbesondere flachem behandlungsgut, sowie anordnung, insbesondere zur durchführung dieses verfahrens |
| JP4913925B2 (ja) * | 2010-03-25 | 2012-04-11 | 三菱レイヨン株式会社 | インプリント用ロール状モールドの製造方法 |
-
1985
- 1985-09-27 JP JP21431685A patent/JPS6274096A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994003655A1 (de) * | 1992-08-01 | 1994-02-17 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum elektrolytischen behandeln von insbesondere flachem behandlungsgut, sowie anordnung, insbesondere zur durchführung dieses verfahrens |
| JP4913925B2 (ja) * | 2010-03-25 | 2012-04-11 | 三菱レイヨン株式会社 | インプリント用ロール状モールドの製造方法 |
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