JPH05331686A - 金属帯の高速電解処理装置 - Google Patents
金属帯の高速電解処理装置Info
- Publication number
- JPH05331686A JPH05331686A JP14064592A JP14064592A JPH05331686A JP H05331686 A JPH05331686 A JP H05331686A JP 14064592 A JP14064592 A JP 14064592A JP 14064592 A JP14064592 A JP 14064592A JP H05331686 A JPH05331686 A JP H05331686A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- liquid level
- electrolyte
- electrolytic treatment
- metallic strip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】金属帯１と対極４との間に電解液２を保持して
電解処理を行う装置において、必要最小限の液供給量で
対極４内に確実に完全に液を充満させる。 【構成】対極４の金属帯出入口にシール機構８ａ，８ｂ
を設けると共に、対極４内の液面検出装置１０の検出値
に基づいて液面が一定範囲内になるように液抜出し口１
３に設けたコントロールバルブ１４の開度を制御する。
電解処理を行う装置において、必要最小限の液供給量で
対極４内に確実に完全に液を充満させる。 【構成】対極４の金属帯出入口にシール機構８ａ，８ｂ
を設けると共に、対極４内の液面検出装置１０の検出値
に基づいて液面が一定範囲内になるように液抜出し口１
３に設けたコントロールバルブ１４の開度を制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属帯の電解処理装置
に関し、特に高速処理に適した電解処理装置に関する。
に関し、特に高速処理に適した電解処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】金属帯の電解処理は、電気めっき、陽極
酸化処理等、広く実施されているが、近年、高速処理化
の要求はますます高まっている。最も一般的な電解処理
装置は図３に示すような縦型浸漬方式である。金属帯１
は入口通電ロール３ａに接して電解液２を収納している
ラインタンク５に入り対極４の間を通って下降し、ライ
ンタンク内のシンクロール６を廻って上昇し、対極４の
間を通って電解液２の外に出た後、出口通電ロール３ｂ
に接し、以上の工程で電解処理される。
酸化処理等、広く実施されているが、近年、高速処理化
の要求はますます高まっている。最も一般的な電解処理
装置は図３に示すような縦型浸漬方式である。金属帯１
は入口通電ロール３ａに接して電解液２を収納している
ラインタンク５に入り対極４の間を通って下降し、ライ
ンタンク内のシンクロール６を廻って上昇し、対極４の
間を通って電解液２の外に出た後、出口通電ロール３ｂ
に接し、以上の工程で電解処理される。
【０００３】このような装置で高速処理を行う場合、液
抵抗による金属帯の波打ちや、ばたつき現象が大きいた
め、金属帯１と対極４との間隔を大きくする必要があ
る。このため電解電圧を高める必要があり、電力コスト
的に不利となる。また電流密度を高くすることができな
いため設備が大型化するという欠点がある。また、シン
クロール６の部分の金属帯のグリップ力が液の巻き込み
により低下するため、スリップが生じやすいという問題
点もある。
抵抗による金属帯の波打ちや、ばたつき現象が大きいた
め、金属帯１と対極４との間隔を大きくする必要があ
る。このため電解電圧を高める必要があり、電力コスト
的に不利となる。また電流密度を高くすることができな
いため設備が大型化するという欠点がある。また、シン
クロール６の部分の金属帯のグリップ力が液の巻き込み
により低下するため、スリップが生じやすいという問題
点もある。
【０００４】これらの欠点を解決する手段として、めっ
きタンクに金属帯を浸漬させることなく、対極と金属帯
の間にのみ電解液を保持させる装置について種々の技術
開発がなされている。図４はその一例を示したものであ
る。図４の装置は、対極４によって金属帯１が通過する
平たい矩形断面の通路を形成し、この通路中を金属帯１
を通過させながら電解液ヘッダ７から電解液を供給し、
通路中を電解液で充満させて、電解処理を行うようにし
たものである。
きタンクに金属帯を浸漬させることなく、対極と金属帯
の間にのみ電解液を保持させる装置について種々の技術
開発がなされている。図４はその一例を示したものであ
る。図４の装置は、対極４によって金属帯１が通過する
平たい矩形断面の通路を形成し、この通路中を金属帯１
を通過させながら電解液ヘッダ７から電解液を供給し、
通路中を電解液で充満させて、電解処理を行うようにし
たものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような装置を用い
る場合、金属帯と対極との間に電解液を完全に充満させ
ることが重要である。金属帯の入口、出口部にシール機
構が設置されるが、ライン速度が４００ｍｐｍを超える
ような高速処理時は、図４に示すような非接触方式のシ
ール機構では金属帯による液の持出量が多くなり、液の
充満性を確保することが困難となる。
る場合、金属帯と対極との間に電解液を完全に充満させ
ることが重要である。金属帯の入口、出口部にシール機
構が設置されるが、ライン速度が４００ｍｐｍを超える
ような高速処理時は、図４に示すような非接触方式のシ
ール機構では金属帯による液の持出量が多くなり、液の
充満性を確保することが困難となる。
【０００６】充満性を高めるためにはシールロール等を
用いたシール機構により実質的な密閉状態とすることが
考えられるが、この場合シール性を高くしすぎると液の
循環量が不足となり、また十分な液循環量を確保するた
めにシール性を下げると、金属帯の走行速度が変化した
場合の電解液の持出量の変動が大きくなり、充満性の制
御が困難となる。
用いたシール機構により実質的な密閉状態とすることが
考えられるが、この場合シール性を高くしすぎると液の
循環量が不足となり、また十分な液循環量を確保するた
めにシール性を下げると、金属帯の走行速度が変化した
場合の電解液の持出量の変動が大きくなり、充満性の制
御が困難となる。
【０００７】本発明は上述の問題点を解決し、金属帯の
走行速度が変化しても、常に良好な液充満性と十分な液
循環量を確保できる電解処理装置を提供することを目的
としたものである。
走行速度が変化しても、常に良好な液充満性と十分な液
循環量を確保できる電解処理装置を提供することを目的
としたものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、金属
帯と対極の間に液を保持して電解処理を行う電解処理装
置において、電極内への金属帯の入・出口部に、実質的
に密閉状態を形成するシール機構を設けるとともに、電
極内の１個所以上の位置に液面を検出する検出装置を設
け、この検出された液面が所定範囲内となるように液抜
出量を制御する制御装置を備えたことを特徴とする金属
帯の高速電解処理装置である。
帯と対極の間に液を保持して電解処理を行う電解処理装
置において、電極内への金属帯の入・出口部に、実質的
に密閉状態を形成するシール機構を設けるとともに、電
極内の１個所以上の位置に液面を検出する検出装置を設
け、この検出された液面が所定範囲内となるように液抜
出量を制御する制御装置を備えたことを特徴とする金属
帯の高速電解処理装置である。
【０００９】
【作用】本発明は金属帯の入出口にミール機構を設けて
液の漏出を妨げるとともに、液面検出装置により液面を
検出して液の抜出量を制御するようにしたので、電極内
の液量を一定範囲に保ち、確実な液充満性が得られる。
液の漏出を妨げるとともに、液面検出装置により液面を
検出して液の抜出量を制御するようにしたので、電極内
の液量を一定範囲に保ち、確実な液充満性が得られる。
【００１０】
【実施例】図面にしたがって、実施例について詳細に説
明する。図１は本発明の一実施例を示したものである。
金属帯１は通電ロール３ａ、３ｂによって給電され、対
極４が形成する通路を通過して電解処理される。この通
路中には電解液ヘッダ７から電解液２を供給し、通路中
を電解液で充満させて、電解処理を行う。
明する。図１は本発明の一実施例を示したものである。
金属帯１は通電ロール３ａ、３ｂによって給電され、対
極４が形成する通路を通過して電解処理される。この通
路中には電解液ヘッダ７から電解液２を供給し、通路中
を電解液で充満させて、電解処理を行う。
【００１１】電極部分の金属帯の入口・出口部には実質
的に密閉状態を形成し得るシール機構８ａ及び８ｂが設
けられる。本実施例ではシールロールを用いた例を示し
ているが、これ以外のシール機構でも良い。例えば細隙
を有する固定式シール装置の金属帯との隙間に、電解液
を噴出して金属帯との接触を防止する液シール機構など
を採用してもよい。
的に密閉状態を形成し得るシール機構８ａ及び８ｂが設
けられる。本実施例ではシールロールを用いた例を示し
ているが、これ以外のシール機構でも良い。例えば細隙
を有する固定式シール装置の金属帯との隙間に、電解液
を噴出して金属帯との接触を防止する液シール機構など
を採用してもよい。
【００１２】対極４には液切れ、すなわち電解液の充満
しない状態の最も発生しやすい適切位置に液面検出口９
及び液面検出装置１０を設ける。さらに適切な量の電解
液を抜き出すための液抜出し口１３及びコントロールバ
ルブ１４を備える。図２は上記液面検出装置の部分拡大
図を示したものである。この例では液面検出装置１０は
下限検出器１１と上限検出器１２とから構成されてお
り、下限検出器１１が常にＯＮ、上限検出器がＯＦＦと
なるように、コントロールバルブ１４の開度を調整して
電解液の抜出量を制御する。このような制御を行うこと
により、金属帯の走行速度が大きく、シール機構部から
の液持出量が多い場合には、液抜出しコントロールバル
ブ１４の開度を小さくすることにより十分な液充満性が
確保される。また、金属帯の走行速度が小さく、液持出
量が少ない場合には、液抜出しコントロールバルブ１４
の開度を大とすることによって、十分な電解液の循環性
を確保することができる。
しない状態の最も発生しやすい適切位置に液面検出口９
及び液面検出装置１０を設ける。さらに適切な量の電解
液を抜き出すための液抜出し口１３及びコントロールバ
ルブ１４を備える。図２は上記液面検出装置の部分拡大
図を示したものである。この例では液面検出装置１０は
下限検出器１１と上限検出器１２とから構成されてお
り、下限検出器１１が常にＯＮ、上限検出器がＯＦＦと
なるように、コントロールバルブ１４の開度を調整して
電解液の抜出量を制御する。このような制御を行うこと
により、金属帯の走行速度が大きく、シール機構部から
の液持出量が多い場合には、液抜出しコントロールバル
ブ１４の開度を小さくすることにより十分な液充満性が
確保される。また、金属帯の走行速度が小さく、液持出
量が少ない場合には、液抜出しコントロールバルブ１４
の開度を大とすることによって、十分な電解液の循環性
を確保することができる。
【００１３】図１、図２に示した例では、下限と上限の
２点の検出器のみを設けた最も単純な装置を示したが、
液面をさらに高精度に検出し、比例制御、微分・積分制
御のような高精度の制御機構により液抜出し量制御を行
うことも可能である。また液面検出口及び検出装置を１
個所だけでなく、液切れの生じる恐れのある位置数カ所
に設け、その内最も液面の低くなった検出器の信号によ
り液抜出量を制御するようにすることも可能である。
２点の検出器のみを設けた最も単純な装置を示したが、
液面をさらに高精度に検出し、比例制御、微分・積分制
御のような高精度の制御機構により液抜出し量制御を行
うことも可能である。また液面検出口及び検出装置を１
個所だけでなく、液切れの生じる恐れのある位置数カ所
に設け、その内最も液面の低くなった検出器の信号によ
り液抜出量を制御するようにすることも可能である。
【００１４】なお、本発明装置においては金属帯の入・
出口部に密閉性の高いシール機構を設けるため、電解処
理で発生するガスを抜出すための排出口１５（図１）を
適切位置に設けることが望ましい。
出口部に密閉性の高いシール機構を設けるため、電解処
理で発生するガスを抜出すための排出口１５（図１）を
適切位置に設けることが望ましい。
【００１５】
【発明の効果】本発明の方法により、高速、高電流密度
操業に適した、金属帯と対極間の液保持方式の電解処理
装置において、必要最少限の液供給量で確実に完全な液
充満性が得られ、経済的効果は大きい。
操業に適した、金属帯と対極間の液保持方式の電解処理
装置において、必要最少限の液供給量で確実に完全な液
充満性が得られ、経済的効果は大きい。
【図１】実施例装置のブロック図である。
【図２】図１の部分拡大図である。
【図３】従来技術を示した図である。
【図４】従来技術を示す図である。
１ 金属帯 ２ 電解液 ３ａ，３ｂ 通電ロール ４ 対極 ５ ラインタンク ６ シンクロー
ル ７ 電解液供給ヘッダ ８ａ，８ｂ シ
ール機構 ９ 液面検出口 １０ 液面検出
器 １１ 下限検出器 １２ 上限検出
器 １３ 液抜出し口 １４ コントロ
ールバルブ １５ ガス排出口
ル ７ 電解液供給ヘッダ ８ａ，８ｂ シ
ール機構 ９ 液面検出口 １０ 液面検出
器 １１ 下限検出器 １２ 上限検出
器 １３ 液抜出し口 １４ コントロ
ールバルブ １５ ガス排出口
Claims (1)
- 【請求項１】 金属帯と対極の間に液を保持して電解処
理を行う電解処理装置において、電極内への金属帯の入
・出口部に、実質的に密閉状態を形成するシール機構を
設けるとともに、電極内の１個所以上の位置に液面を検
出する検出装置を設け、該液面が所定範囲内となるよう
に液抜出量を制御する制御装置を備えたことを特徴とす
る金属帯の高速電解処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14064592A JPH05331686A (ja) | 1992-06-01 | 1992-06-01 | 金属帯の高速電解処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14064592A JPH05331686A (ja) | 1992-06-01 | 1992-06-01 | 金属帯の高速電解処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05331686A true JPH05331686A (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=15273482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14064592A Pending JPH05331686A (ja) | 1992-06-01 | 1992-06-01 | 金属帯の高速電解処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05331686A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998014642A1 (fr) * | 1996-09-30 | 1998-04-09 | Nippon Steel Corporation | Electrolyseur avec extracteurs de liquides sans contact avec la bande |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0285396A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-26 | Kawasaki Steel Corp | 電解処理方法およびその装置 |
| JPH0456799A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-24 | Kawasaki Steel Corp | 連続電気めっき装置におけるめっき液循環装置 |
-
1992
- 1992-06-01 JP JP14064592A patent/JPH05331686A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0285396A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-26 | Kawasaki Steel Corp | 電解処理方法およびその装置 |
| JPH0456799A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-24 | Kawasaki Steel Corp | 連続電気めっき装置におけるめっき液循環装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998014642A1 (fr) * | 1996-09-30 | 1998-04-09 | Nippon Steel Corporation | Electrolyseur avec extracteurs de liquides sans contact avec la bande |
| KR100387662B1 (ko) * | 1996-09-30 | 2003-06-18 | 신닛뽄세이테쯔 카부시키카이샤 | 강대 비접촉 액체 압착기를 구비한 전해 장치 |
| US6589399B1 (en) | 1996-09-30 | 2003-07-08 | Nippon Steel Corporation | Electrolysis apparatus having liquid squeezer out of contact with strip |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Riegel et al. | Role of mass transfer on hydrogen evolution in aqueous media | |
| US3546088A (en) | Anodizing apparatus | |
| Zumelzu et al. | Observations on the influence of microstructure on electrolytic tinplate corrosion | |
| CN109507175A (zh) | 一种不锈钢堆焊面检测方法及装置 | |
| KR20070102599A (ko) | 금속 스트립의 용융 도금 방법 및 그 장치 | |
| JPH05331686A (ja) | 金属帯の高速電解処理装置 | |
| US4377452A (en) | Process and apparatus for controlling the supply of alumina to a cell for the production of aluminum by electrolysis | |
| CA1071429A (en) | Method and apparatus for purification of aqueous zinc sulphate solution used in electrolytical production of zinc | |
| Samec et al. | Study of the Oxidation of SO2 Dissolved in 0· 5 M H2SO4 on a Gold electrode—II. A Rotating Disc Electrode | |
| KR890003409B1 (ko) | 수평전극을 사용하여 금속스트립을 연속적으로 전해처리하는 방법 및 장치 | |
| StankeviČiu¯ tĖ et al. | Deposition of Zn–Co by constant and pulsed current | |
| TW200417625A (en) | Method and device for hot-dip coating a metal strand | |
| Zeiri et al. | Ring morphology in interfacial electrodeposition | |
| US5516417A (en) | Method and apparatus for applying composite plating on hollow member | |
| KR970074984A (ko) | 알미늄판의 연속 전해에칭, 산화피막 형성방법 및 형성장치 | |
| CN211585338U (zh) | 一种新型循环式变压器油气分离装置 | |
| RU2374357C2 (ru) | Устройство для нанесения покрытия на металлическую заготовку погружением в расплав | |
| AU3529684A (en) | Electrodeposition of metals | |
| US4693790A (en) | Method for monitoring the quality of ZnSO4 electrolyte containing Sb (V) | |
| JPH0610199A (ja) | 金属帯の電解処理装置 | |
| CN104003447B (zh) | 硫化亚铁气相钝化方法 | |
| JPS6112897A (ja) | せん断縁の被覆方法 | |
| CN212865017U (zh) | 一种电铸镍槽酸度自动调节装置 | |
| US4507190A (en) | Horizontal-pass electrotreating cell | |
| Brook et al. | The anodic behaviour of zinc in koh solution—IV. Anodic experiments in flowing electrolyte |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19970715 |