KR970074984A - 알미늄판의 연속 전해에칭, 산화피막 형성방법 및 형성장치 - Google Patents
알미늄판의 연속 전해에칭, 산화피막 형성방법 및 형성장치 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 알미늄 또는 알미늄합금표면에 폴리 테트라 플로오르 에칠렌 등의 불소수지등 합성수지와의 밀착력을 향상시키기 위하여 알미늄 또는 알미늄 합금등으로 형성된 판의 편면을 전해질로서 할로겐화물을 함유한 용액중에서 전해에칭 한 후 후공정인 유산용액에서 산화피막 형성처리에 관한 것으로 특히 에칭후에도 후속 공정들을 연속적으로 수행할 수 있도록 하는 알미늄판의 전해에칭과 산화피막의 연속형성방법 및 형성장치에 관한 것으로 알미늄 또는 알미늄합금판의 전해에칭공정에서는 에칭공정 한가지로 끝나는 것이 아니라 수세등의 후속공정이 필요하고 경우에 따라서는 다수의 공정이 추가로 요구되는데 종래의 방법으로는 후속공정마다 처리물을 부착 및 취출의 작업공정이 이루어져야 하므로써 많은 공수와 시간을 허비하게 하여 원가상승의 요인이 되는 것으로 후속공정이 고려되지 않고 다만 에칭공정에 한하여서만 사용되게 한 기술로서 후속공정 연속작업이 불가능하였던 것이다.본 발명은 전해액을 통한 간접통전 방식을 채택하되 알미늄 또는 알미늄 합금판의 전해에칭공정으로부터 그 후속공정 즉 에칭-수세-수세 표면활성-수세-수세-산화피막 형성-수세-수세의 공정을 단1회의 취부만으로 단일 설비 안에서 순차적으로 연속진행하여 모든 공정을 완료하도록 하는 것을 특징으로 하는 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 원리를 설명한 알미늄판의 전해에칭 및 산화피막 형성조의 단면도. 제2도는 본 발명의 일 실시예에 따른 일부생략 평면상태도.
Claims (4)
- 알미늄 또는 알미늄 합금판의 편면을 전해에칭시 전해질로서, 할로겐화물(염화나트륨과 암모늄, 염화칼륨)이나 또는 산화피막시 전해질로서 유산용액을 갖는 처리조(100)내에 알미늄, 또는 스테인레스 금속판의 음극(11)을 배치하고, 이와 대항되게 배치한 처리물(1)에 통전이 가능하도록 개구부(23)을 갖고 전해액실(22)를 갖는 절연박스(20)에 전해액을 유입 배출시킬 수 있는 차폐문(25)에 차폐레버(22)를 설치한 절연박스(20)내에 양극(+)(12)를 설치하여 전해액 차폐문(25)를 차폐시켜서 양극(+)(12)를 통전하므로서 전해액실(22)에 급전된 전하가 개구부(23)을 통하여 처리물(1)에 도달하여 처리물(1)이 양극으로 되어 음극(11)과 반응하므로서 액체 급전에 의한 방법으로 전해 에칭 및 산화피막을 형성하도록 함을 특징으로 하는 알미늄판의 연속 전해에칭 및 연속 산화피막 형성방법.
- 알미늄 또는 알미늄 합금판의 편면을 처리조에서 음극(-)과 양극(+) 사이에 대항되게 배치하여 수행하는 전해에칭 및 산화피막 형성 장치에 있어서, 처리물 취부대(107b)에서부터 시작하여 전해에칭조(101)-1차수세조(102a)-2차수세조(102b)-표면활성조(103)-1차수세조(104a)-2차수세조(104b)-산화피막형성조(105)-1차수세조(106a)-2차수세조(106b)등을 거쳐 취출대(107a)에 이르기까지 연속 순환배치된 각 처리조(100〈101, 102, 103, 104, 105〉)와; 상기 처리물 취부대(107b)에서부터 상기 각 처리조(100)를 순차적으로 거쳐 취출대(107a)에 이르기까지의 상부공간을 순환하도록 설치된 체인 컨베이어(30)와; 상기 체인 컨베이어(30)에 일정간격으로 장착된 수직 안내레일(33)과 상기 수직 안내레일(33)에 삽지되어 이송되며 개폐 가능한 전해액실(22)을 구비한 처리물 재치 기능 및 절연 수단의 절연박스(20)와; 상기 각 처리조(100) 입구에 위치하고 상기 절연박스(20)를 처리조(100)에 인입시키기 위한 인입용 실린더(41)와; 상기 각 처리조(100) 출구에 위치하고 상기 절연박스(20)를 처리조(100)로부터 인출하기 위한 인출용 실린더(42)와; 상기 절연박스(20)를 수평 안내 지지하며, 상기 실린더(41,42)와 연결하는 안내레일(63)과, 상기 전해에칭(101) 및 산화피막 형성조(105)내 상부위치, 상기 인입용 실린더(41)와 인출용 실린더(42) 사이에 위치하고 상기 처리물 재치 및 절연부재(20)의 전해액실(22)을 차폐하기 위한 차폐레일(61)과; 상기 차폐레일(61)과 컨베이어 진행방행으로 적정간격을 띄운 위치에서 인출용 실린더(42) 사이에 상기 차폐레일(61)과 병행으로 설치된 통전 레일(62)과; 상기 처리물 취부대(107b)에서부터 모든 공정의 처리조(100)와 처리물 취출대(107a)를 연결 지지하고 상기 체인 컨베이어(30)와 상기 안내레일(63)과 상기 차폐레일(61)과 상기 통전레일을 지지하는 프레임(200)을 구성요소로 한 것을 특징으로 하는 알미늄판의 연속전해에칭 및 연속산화피막 형성장치.
- 제2항에 있어서, 상기한 절연박스(20)는 상기 컨베이어(30)에 장착된 수직안내레일(33)에 삽지되도록 본체(21)에 연장부(29)를 형성하고 처리물 탈착수단(27)과 처리물(1)과의 통전이 가능토록 개구부(23)를 통설하고 양극(+)판(12)을 내설하는 전해액실(22)을 구비하되 저면에는 차폐레버(26)에 의하여 개폐되도록 하는 차폐문(25)을 구비하고, 상기 차폐레버(26)와 상기 연장부(29)의 상단에 각각 롤러(26a,29a)를 구비한 것을 특징으로 하는 알미늄판의 연속전해에칭 및 연속산화피막 형성장치.
- 제2항에 있어서, 상기한 실린더(41,42)는 근접센서(41b,42b)를 구비한 안내레일(41a,42a)을 피스톤 단부에 형성한 것을 특징으로 하는 알미늄판의 연속전해에칭 및 연속산화피막 형성장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960017292A KR0185625B1 (ko) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | 알미늄판의 연속 전해에칭, 산화피막 형성방법 및 형성장치 |
JP8230751A JPH10280195A (ja) | 1996-05-21 | 1996-08-30 | アルミニウム板の連続電解エッチング、酸化皮膜形成方法及び形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960017292A KR0185625B1 (ko) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | 알미늄판의 연속 전해에칭, 산화피막 형성방법 및 형성장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970074984A true KR970074984A (ko) | 1997-12-10 |
KR0185625B1 KR0185625B1 (ko) | 1999-04-01 |
Family
ID=19459394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960017292A KR0185625B1 (ko) | 1996-05-21 | 1996-05-21 | 알미늄판의 연속 전해에칭, 산화피막 형성방법 및 형성장치 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10280195A (ko) |
KR (1) | KR0185625B1 (ko) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20050034863A (ko) * | 2003-10-10 | 2005-04-15 | 현대자동차주식회사 | 알루미늄 바디 도장방법 |
DE102005033784A1 (de) * | 2005-07-20 | 2007-01-25 | Viktoria Händlmeier | System zur galvanischen Abscheidung einer leitfähigen Schicht auf einem nichtleitfähigen Trägermaterial |
KR100892995B1 (ko) * | 2008-10-20 | 2009-04-10 | 손치호 | 금속의 아노다이징 처리 방법 및 그 시스템 |
KR100958368B1 (ko) * | 2009-12-16 | 2010-05-17 | 주식회사 삼원알텍 | 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 장치 |
KR101048013B1 (ko) * | 2011-02-22 | 2011-07-13 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리용 래크 |
KR101215478B1 (ko) * | 2012-08-08 | 2013-01-09 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리용 양극레일의 스파크 방지 시스템 |
CN104419960A (zh) * | 2013-08-20 | 2015-03-18 | 谢彪 | 阳极氧化生产线及其生产工艺 |
KR102247637B1 (ko) * | 2020-07-10 | 2021-05-03 | 주식회사 레노메디컬 | 전해연마식 카테터 안내선의 코어 와이어 및 코어 와이어 전해연마 장치 |
-
1996
- 1996-05-21 KR KR1019960017292A patent/KR0185625B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-08-30 JP JP8230751A patent/JPH10280195A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10280195A (ja) | 1998-10-20 |
KR0185625B1 (ko) | 1999-04-01 |
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