JP2011094242A - めっき槽 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】遮蔽手段は、薄板基板Wの上端部および下端部に、次の4つの遮蔽板108、109、112、113を備えている。規制ローラ手段304は、ほぼ薄板基板Wの上部付近まで達する高さで下部基板遮蔽板108の上面に立設されたローラ立設体120と、外れ防止部材122とで構成されている。
【選択図】図1
Description
板状ワークの移動方向に延長して設けられ、処理液を保持した処理槽本体と、
陽極手段と、
処理槽本体の側面から上記板状ワークに向けて処理液を噴出する噴出手段と、
処理槽本体の内部において、移動する上記板状ワークを両側から挟むように、処理槽本体の上部から下部にわたり、かつ、上記板状ワークの進行方向に連続して、回転可能に設けられた複数のローラを有する規制ローラ手段と、
上記板状ワークの端部へ電流が集中するのを防止する電流遮蔽手段と、
を備えたことを特徴とする。
当該複数個配置された遮蔽板を、前記板状ワークとの重なりが、前記板状ワークに近いほど、小さくなるよう配置したことを特徴とする。
表面処理装置の基本的な構造は、図14、図15と同様である。図14は、表面処理装置300を上方からみた平面図である。図15は、図14に示す表面処理装置300をα方向から見た側面図である。
上記実施形態のめっき槽2において、薄板基板Wを浸漬させる基板浸漬部2a(図15を参照)には、基板浸漬装置が設けられている。基板浸漬装置の構造について、図13を用いて説明する。なお、図13Aは、図14の(x)位置において基板が降下した状態を示す基板浸漬装置600の断面図であり、図13Bは、図13Aに示す基板浸漬装置600を上方から見た図である。
図14および図15に示すように、表面処理装置300は、プリント基板などの薄板基板Wを保持した搬送用ハンガー15を搬送するためのガイドレール10〜13を備えており、これらのガイドレールに沿って、めっき前処理工程を行うための前処理槽1、電気めっき工程を行うためのめっき槽2、めっき後処理工程を行うための回収槽3と水洗槽4、板状ワーク(薄板基板)Wの取り外しを行うためのアンロード部5、搬送用ハンガー15に付着しためっきを剥離除去する剥離工程(ハンガー戻し工程)を行うための剥離槽6、ハンガー剥離後処理工程を行う水洗槽7、板状ワーク(薄板基板)Wの取り付けを行うロード部8が設けられている。
図9に示す搬送用ハンガー15は、表面処理装置300において、以下の間欠搬送手段17、22、位置決め搬送手段18、23、固定ガイドレール搬送手段19、24、および送り出し搬送手段20、25によって搬送される。
また、上記実施形態では、薄板基板Wに対する遮蔽板として上部(下部)基板遮蔽板と上部(下部)電極遮蔽板の2つの遮蔽板を備えていたが、基板遮蔽板と電極遮蔽板の間に、更に遮蔽板を加えてもよい。
2・・・・めっき槽
3・・・・回収槽
4、7・・・・水洗槽
5・・・・アンローダー
6・・・・剥離槽
8・・・・ローダー
10、12・・・・昇降ガイドレール
11、13・・・・固定ガイドレール
15、15・・・・搬送用ハンガー
17、22・・・・間欠搬送手段
18、23・・・・位置決め搬送手段
19、24・・・・固定ガイドレール搬送手段
20、25・・・・送り出し搬送手段
60・・・・処理槽本体
62・・・・基板ガイド
64・・・・液流発生器(噴流ノズル)
66・・・・パイプ
68・・・・液流発生器(エア吐出管)
100・・・・処理槽本体
102、104・・・陽電極
108・・・下部基板遮蔽板
109・・・上部基板遮蔽板
111・・・上部電極遮蔽板
112・・・下部電極遮蔽板
114・・・シャフト
116・・・ローラ
120・・・ローラ立設体
151・・・昇降ユニット
300・・・表面処理装置
Claims (9)
- 板状ワークを電気めっきするためのめっき槽であって、
板状ワークの移動方向に延長して設けられ、処理液を保持した処理槽本体と、
陽極手段と、
処理槽本体の側面から上記板状ワークに向けて処理液を噴出する噴出手段と、
処理槽本体の内部において、移動する上記板状ワークを両側から挟むように、処理槽本体の上部から下部にわたり、かつ、上記板状ワークの進行方向に連続して、回転可能に設けられた複数のローラを有する規制ローラ手段と、
上記板状ワークの端部へ電流が集中するのを防止する電流遮蔽手段と、
を備えたことを特徴とするめっき槽。 - 前記規制ローラ手段は、上下方向に複数のローラを配置したローラ立設体を、上記板状ワークの進行方向に複数個設けたものであり、前記噴出手段の噴出位置においては、隣接するローラ立設体の間隔を、他の部位よりも広くしたことを特徴とする請求項1記載のめっき槽。
- 前記噴出手段の噴出位置において、前記板状ワークの下端部付近に、移動する当該板状ワークを両側から挟むように基板端外れ防止部材を設けたことを特徴とする請求項1又は2記載のめっき槽。
- 前記規制ローラ手段が配置される領域において、前記ローラを所定単位面積あたりに少なくとも1つ配置したことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のめっき槽。
- 前記規制ローラ手段は、上下方向に複数のローラを配置したローラ立設体を、前記板状ワークの進行方向に複数個設けたものであり、当該ローラ立設体における前記ローラの上下間隔を50〜100mmで配置したことを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載のめっき槽。
- 前記規制ローラ手段は、上下方向に複数のローラを配置したローラ立設体を、前記板状ワークの進行方向に複数個設けたものであり、当該ローラのうち、板状ワークの下端から50mmを超える高さに配置されるものは、ローラ立設体間相互において、ローラの上下位置を異ならせるように配置したことを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載のめっき槽。
- 前記電流遮蔽手段が、前記板状ワークの上端部へ電流が集中することを防止する上部遮蔽板、及び/又は、下端部へ電流が集中することを防止する下部遮蔽板を備えることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載のめっき槽。
- 前記上部遮蔽板および/又は下部遮蔽板が、前記板状ワークと前記陽極手段との間に、複数個配置された遮蔽板で構成され、
当該複数個配置された遮蔽板を、前記板状ワークとの重なりが、前記板状ワークに近いほど、小さくなるよう配置したことを特徴とする請求項7記載のめっき槽。 - 前記複数個配置された遮蔽板が、一体に構成され、昇降可能であることを特徴とする請求項8記載のめっき槽。
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