JP2013211525A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013211525A5 JP2013211525A5 JP2012288515A JP2012288515A JP2013211525A5 JP 2013211525 A5 JP2013211525 A5 JP 2013211525A5 JP 2012288515 A JP2012288515 A JP 2012288515A JP 2012288515 A JP2012288515 A JP 2012288515A JP 2013211525 A5 JP2013211525 A5 JP 2013211525A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- liquid
- supply
- pump
- circulation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
この発明において、上記循環管路は上記ポンプの二次側の上記供給管路と上記フィルタ装置の一次側の上記供給管路とを接続してもよい(請求項2)。また、上記フィルタ装置の一次側の上記供給管路に介設され、上記処理液の一部を貯留する処理液一時貯留容器を具備し、上記循環管路は上記ポンプの二次側の上記供給管路と上記処理液一時貯留容器とを接続してもよい(請求項3)。また、上記フィルタ装置と上記ポンプとの間の上記供給管路に介設され、上記処理液中に存在する気泡を分離する機能を有するトラップタンクを具備し、上記循環管路は上記ポンプの吐出口と上記フィルタ装置の一次側の上記供給管路とを接続してもよい(請求項4)。また、 上記フィルタ装置と上記ポンプとの間の上記供給管路に介設され、上記処理液中に存在する気泡を分離する機能を有するトラップタンクを具備し、 上記循環管路は、上記トラップタンクと上記ポンプを接続する第1循環管路と、上記トラップタンクと上記フィルタ装置の一次側の供給管路とを接続する第2循環管路とからなるとしてもよい(請求項5)。
また、この発明の液処理装置は、被処理基板に処理液を供給する複数の処理液供給ノズルのうち一つの処理液供給ノズルに接続される液処理装置であって、 上記処理液を貯留する処理液貯留容器と上記処理液供給ノズルとを接続する供給管路と、 上記供給管路に介設され、上記処理液を濾過すると共に、上記処理液中に混入している異物を除去するフィルタ装置と、 上記フィルタ装置の二次側の上記供給管路に介設されるポンプと、 上記ポンプの吐出側と上記フィルタ装置の吸入側とを接続する循環管路と、 上記ポンプの二次側の上記供給管路に介設される供給制御弁と、 上記ポンプの吐出側に設けられ、上記循環管路への上記処理液の供給を選択的に可能にする開閉弁と、上記ポンプ、供給制御弁及び開閉弁を制御する制御手段と、を具備し、 上記供給制御弁を閉じることで上記処理液供給ノズルから上記被処理基板への処理液の供給が停止している際に、上記開閉弁を開き、上記ポンプを駆動して、上記フィルタ装置を介設する上記供給管路と上記循環管路との間で上記処理液を循環させることを特徴とする(請求項6)
請求項6記載の液処理装置において、上記フィルタ装置の一次側であって、上記循環管路と上記供給管路との接続部の二次側の上記供給管路に切換弁を設け、上記供給制御弁、上記開閉弁及び上記切換弁を閉じた状態で、上記ポンプの駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化することができる(請求項7)。
また、上記供給制御弁を閉じることで上記処理液供給ノズルから上記被処理基板への処理液の供給が停止している際に、上記開閉弁及び上記切換弁を閉じた状態で、上記ポンプの駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化し、その後、上記開閉弁を開き、上記ポンプを駆動して、上記フィルタ装置を介設する上記供給管路と上記循環管路との間で上記処理液を循環させてもよい(請求項8)。
また、この発明の液処理装置は、被処理基板に処理液を供給する複数の処理液供給ノズルのうち一つの処理液供給ノズルに接続される液処理装置であって、 上記処理液を貯留する処理液貯留容器と上記処理液供給ノズルとを接続する供給管路と、 上記供給管路に介設され、上記処理液を濾過すると共に、上記処理液中に混入している異物を除去するフィルタ装置と、 上記フィルタ装置の二次側の上記供給管路に介設されるポンプと、 上記ポンプの吐出側と上記フィルタ装置の吸入側とを接続する循環管路と、 上記ポンプの二次側の上記供給管路に介設される供給制御弁と、 上記ポンプの吐出側に設けられ、上記循環管路への上記処理液の供給を選択的に可能にする開閉弁と、上記ポンプ、供給制御弁及び開閉弁を制御する制御手段と、を具備し、 上記供給制御弁を閉じることで上記処理液供給ノズルから上記被処理基板への処理液の供給が停止している際に、上記開閉弁を開き、上記ポンプを駆動して、上記フィルタ装置を介設する上記供給管路と上記循環管路との間で上記処理液を循環させることを特徴とする(請求項6)
請求項6記載の液処理装置において、上記フィルタ装置の一次側であって、上記循環管路と上記供給管路との接続部の二次側の上記供給管路に切換弁を設け、上記供給制御弁、上記開閉弁及び上記切換弁を閉じた状態で、上記ポンプの駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化することができる(請求項7)。
また、上記供給制御弁を閉じることで上記処理液供給ノズルから上記被処理基板への処理液の供給が停止している際に、上記開閉弁及び上記切換弁を閉じた状態で、上記ポンプの駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化し、その後、上記開閉弁を開き、上記ポンプを駆動して、上記フィルタ装置を介設する上記供給管路と上記循環管路との間で上記処理液を循環させてもよい(請求項8)。
請求項5記載の液処理装置において、上記ポンプをポンプ部分と駆動部分を区画するダイヤフラムを駆動手段の駆動により往復駆動するダイヤフラムポンプにて形成し、上記ダイヤフラムポンプの吸入側に上記ポンプ部分への上記処理液の流入を選択的に可能にする吸入側の開閉弁、上記ダイヤフラムポンプの吐出側に上記処理液供給ノズルへの上記処理液の供給を選択的に可能にする第1の開閉弁及び上記循環管路への上記処理液の供給を選択的に可能にする第2の開閉弁を設けると共に上記トラップタンクで分離された気泡をドレイン管を介して外部に排出することを選択的に可能にする切換弁を設け、上記第2循環管路に上記循環制御弁を設けると共に上記フィルタ装置の一次側であって上記第2循環管路と上記供給管路との接続部の二次側の上記供給管路に第3の開閉弁を設け、上記第1の開閉弁、第2の開閉弁、吸入側の開閉弁及び循環制御弁を閉じた状態で、上記駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化し、上記吸入側の開閉弁、第1の開閉弁、第3の開閉弁及び切換弁を閉じ、上記第2の開閉弁、循環制御弁を開くことで、顕在化された気泡を上記トラップタンクに移動させ、上記第1の開閉弁、第2の開閉弁及び循環制御弁を閉じ、上記吸入側の開閉弁、第3の開閉弁及び切換弁を開くことで上記トラップタンク内の気泡をドレイン管を介して外部に排出することが好ましい(請求項9)。
また、請求項9記載の液処理装置において、上記第1の開閉弁、第2の開閉弁、第3の開閉弁、切換弁及び循環制御弁を閉じ、上記吸入側の開閉弁を開いた状態で、上記駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化することが好ましい(請求項10)。このように構成することにより、排気量の少ないダイヤフラムポンプを用いて処理液中に存在する気泡を顕在化させ、顕在化された気泡を外部に排出させることができる。
また、請求項1ないし10のいずれかに記載の発明において、上記制御手段による上記処理液の循環を所定の間隔で行うことが好ましい(請求項11)。このように構成することにより、フィルタ装置への処理液の滞留を常に抑制することができる。
また、請求項1ないし11のいずれかに記載の発明において、上記処理液を循環させる上記供給管路又は上記循環管路の少なくとも一の管路に上記処理液中の気体を脱気する脱気機構を介設することが好ましい(請求項12)。
また、請求項13に記載の発明の液処理方法は、 処理液を貯留する処理液貯留容器と被処理基板に上記処理液を供給する処理液供給ノズルとを接続する供給管路と、 上記供給管路に介設され、上記処理液を濾過すると共に、上記処理液中に混入している異物を除去するフィルタ装置と、 上記フィルタ装置の二次側の上記供給管路に介設されるポンプと、 上記ポンプの吐出側と上記フィルタ装置の吸入側とを接続する循環管路と、 上記ポンプの二次側の上記供給管路に介設される供給制御弁と、 上記ポンプの吐出側に設けられ、上記循環管路への上記処理液の供給を選択的に可能にする開閉弁と、 上記ポンプ、供給制御弁及び循環制御弁を制御する制御手段とを具備する液処理装置に用いられる液処理方法であって、 上記供給制御弁を開くと共に上記循環制御弁を閉じ、上記ポンプを駆動させることで上記被処理基板に上記処理液を供給する処理液供給工程と、 上記処理液供給工程を行わない時に上記供給制御弁を閉じると共に上記開閉弁を開き、上記ポンプを駆動させることで上記循環管路と上記供給管路との間で上記処理液を循環させる循環工程と、を備えることを特徴とする。
(1)請求項1〜8,13記載の発明によれば、不使用状態で、フィルタ装置に滞留する処理液を供給管路と循環管路とを介して循環させることができるので、使用時にダミー吐出を行うことなく、処理液中のパーティクルの増加を抑制することができる。そのため、処理液を無駄に消費することなく処理液中のパーティクルの増加を効率的に防止することができる。
(2)請求項11記載の発明によれば、フィルタ装置への処理液の滞留を常に抑制することができるので、液処理装置と接続する処理液供給ノズルから被処理基板に処理液を供給する際に、液処理装置による処理液の循環を行うことなく、処理液を被処理基板に供給することができる。そのため、上記(1)に加えて、更に被処理基板に処理液を供給する工程に要する時間を短縮することができ、当該処理液を循環させることによりフィルタに付着している気泡を容易に除去できる。
(3)請求項12,14記載の発明によれば、供給管路又は循環管路で循環する処理液中の気体を脱気することができる。そのため、上記(1)、(2)に加えて、更に被処理基板に供給される処理液への気体の混入を抑制することができる。
(4)請求項9,10,15,16記載の発明によれば、ポンプで吸入される処理液を負圧にすることで処理液中の気体が顕在化するため、上記(1)〜(3)に加えて、脱気機構による処理液中の気体の除去を効率よく行うことができる。
Claims (16)
- 被処理基板に処理液を供給する複数の処理液供給ノズルのうち一つの処理液供給ノズルに接続される液処理装置であって、
上記処理液を貯留する処理液貯留容器と上記処理液供給ノズルとを接続する供給管路と、
上記供給管路に介設され、上記処理液を濾過すると共に、上記処理液中に混入している異物を除去するフィルタ装置と、
上記フィルタ装置の二次側の上記供給管路に介設されるポンプと、
上記ポンプの吐出側と上記フィルタ装置の吸入側とを接続する循環管路と、
上記ポンプの二次側の上記供給管路に介設される供給制御弁と、
上記循環管路に介設される循環制御弁と、
上記ポンプ、供給制御弁及び循環制御弁を制御する制御手段と、を具備し、
上記供給制御弁を閉じることで上記処理液供給ノズルから上記被処理基板への処理液の供給が停止している際に、上記循環制御弁を開き、上記ポンプを駆動して、上記フィルタ装置を介設する上記供給管路と上記循環管路との間で上記処理液を循環させることを特徴とする液処理装置。 - 請求項1記載の液処理装置において、
上記循環管路は上記ポンプの二次側の上記供給管路と上記フィルタ装置の一次側の上記供給管路とを接続することを特徴とする液処理装置。 - 請求項1記載の液処理装置において、
上記フィルタ装置の一次側の上記供給管路に介設され、上記処理液の一部を貯留する処理液一時貯留容器を具備し、
上記循環管路は上記ポンプの二次側の上記供給管路と上記処理液一時貯留容器とを接続することを特徴とする液処理装置。 - 請求項1記載の液処理装置において、
上記フィルタ装置と上記ポンプとの間の上記供給管路に介設され、上記処理液中に存在する気泡を分離する機能を有するトラップタンクを具備し、
上記循環管路は上記ポンプの吐出口と上記フィルタ装置の一次側の上記供給管路とを接続することを特徴とする液処理装置。 - 請求項1記載の液処理装置において、
上記フィルタ装置と上記ポンプとの間の上記供給管路に介設され、上記処理液中に存在する気泡を分離する機能を有するトラップタンクを具備し、
上記循環管路は、上記トラップタンクと上記ポンプを接続する第1循環管路と、上記トラップタンクと上記フィルタ装置の一次側の供給管路とを接続する第2循環管路とからなることを特徴とする液処理装置。 - 被処理基板に処理液を供給する複数の処理液供給ノズルのうち一つの処理液供給ノズルに接続される液処理装置であって、
上記処理液を貯留する処理液貯留容器と上記処理液供給ノズルとを接続する供給管路と、
上記供給管路に介設され、上記処理液を濾過すると共に、上記処理液中に混入している異物を除去するフィルタ装置と、
上記フィルタ装置の二次側の上記供給管路に介設されるポンプと、
上記ポンプの吐出側と上記フィルタ装置の吸入側とを接続する循環管路と、
上記ポンプの二次側の上記供給管路に介設される供給制御弁と、
上記ポンプの吐出側に設けられ、上記循環管路への上記処理液の供給を選択的に可能にする開閉弁と、
上記ポンプ、供給制御弁及び開閉弁を制御する制御手段と、を具備し、
上記供給制御弁を閉じることで上記処理液供給ノズルから上記被処理基板への処理液の供給が停止している際に、上記開閉弁を開き、上記ポンプを駆動して、上記フィルタ装置を介設する上記供給管路と上記循環管路との間で上記処理液を循環させることを特徴とする液処理装置。 - 請求項6記載の液処理装置において、
上記フィルタ装置の一次側であって、上記循環管路と上記供給管路との接続部の二次側の上記供給管路に切換弁を設け、
上記供給制御弁、上記開閉弁及び上記切換弁を閉じた状態で、上記ポンプの駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化することを特徴とする液処理装置。 - 請求項7記載の液処理装置において、
上記供給制御弁を閉じることで上記処理液供給ノズルから上記被処理基板への処理液の供給が停止している際に、上記開閉弁及び上記切換弁を閉じた状態で、上記ポンプの駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化し、その後、上記開閉弁を開き、上記ポンプを駆動して、上記フィルタ装置を介設する上記供給管路と上記循環管路との間で上記処理液を循環させることを特徴とする液処理装置。 - 請求項5記載の液処理装置において、
上記ポンプをポンプ部分と駆動部分を区画するダイヤフラムを駆動手段の駆動により往復駆動するダイヤフラムポンプにて形成し、
上記ダイヤフラムポンプの吸入側に上記ポンプ部分への上記処理液の流入を選択的に可能にする吸入側の開閉弁、上記ダイヤフラムポンプの吐出側に上記処理液供給ノズルへの上記処理液の供給を選択的に可能にする第1の開閉弁及び上記循環管路への上記処理液の供給を選択的に可能にする第2の開閉弁を設けると共に上記トラップタンクで分離された気泡をドレイン管を介して外部に排出することを選択的に可能にする切換弁を設け、
上記第2循環管路に上記循環制御弁を設けると共に上記フィルタ装置の一次側であって上記第2循環管路と上記供給管路との接続部の二次側の上記供給管路に第3の開閉弁を設け、
上記第1の開閉弁、第2の開閉弁、吸入側の開閉弁及び循環制御弁を閉じた状態で、上記駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化し、
上記吸入側の開閉弁、第1の開閉弁、第3の開閉弁及び切換弁を閉じ、上記第2の開閉弁、循環制御弁を開くことで、顕在化された気泡を上記トラップタンクに移動させ、
上記第1の開閉弁、第2の開閉弁及び循環制御弁を閉じ、上記吸入側の開閉弁、第3の開閉弁及び切換弁を開くことで上記トラップタンク内の気泡をドレイン管を介して外部に排出することを特徴とする液処理装置。 - 請求項9記載の液処理装置において、
上記第1の開閉弁、第2の開閉弁、第3の開閉弁、切換弁及び循環制御弁を閉じ、上記吸入側の開閉弁を開いた状態で、上記駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化することを特徴とする液処理装置。 - 請求項1ないし10のいずれかに記載の液処理装置において、
上記制御手段による上記処理液の循環を所定の間隔で行うことを特徴とする液処理装置。 - 請求項1ないし11のいずれかに記載の液処理装置において、
上記処理液を循環させる上記供給管路又は上記循環管路の少なくとも一の管路に上記処理液中の気体を脱気する脱気機構を介設することを特徴とする液処理装置。 - 処理液を貯留する処理液貯留容器と被処理基板に上記処理液を供給する処理液供給ノズルとを接続する供給管路と、
上記供給管路に介設され、上記処理液を濾過すると共に、上記処理液中に混入している異物を除去するフィルタ装置と、
上記フィルタ装置の二次側の上記供給管路に介設されるポンプと、
上記ポンプの吐出側と上記フィルタ装置の吸入側とを接続する循環管路と、
上記ポンプの二次側の上記供給管路に介設される供給制御弁と、
上記ポンプの吐出側に設けられ、上記循環管路への上記処理液の供給を選択的に可能にする開閉弁と、
上記ポンプ、供給制御弁及び開閉弁を制御する制御手段とを具備する液処理装置に用いられる液処理方法であって、
上記供給制御弁を開くと共に上記開閉弁を閉じ、上記ポンプを駆動させることで上記被処理基板に上記処理液を供給する処理液供給工程と、
上記処理液供給工程を行わない時に上記供給制御弁を閉じると共に上記開閉弁を開き、上記ポンプを駆動させることで上記循環管路と上記供給管路との間で上記処理液を循環させる循環工程と、を備えることを特徴とする液処理方法。 - 請求項13に記載の液処理方法において、
上記循環工程で処理液を循環する上記循環管路若しくは上記供給管路に上記処理液中の気体を脱気する脱気機構が介設され、
上記循環工程は上記脱気機構による処理液中の気体の脱気を行う脱気工程を含むことを特徴とする液処理方法。 - 請求項13に記載の液処理方法において、
上記ポンプをポンプ部分と駆動部分を区画するダイヤフラムを駆動手段の駆動により往復駆動するダイヤフラムポンプにて形成し、
上記循環管路は、上記トラップタンクと上記ポンプを接続する第1循環管路と、上記トラップタンクと上記フィルタ装置の一次側の供給管路とを接続する第2循環管路とからなり、
上記ダイヤフラムポンプの吸入側に上記ダイヤフラムポンプへの上記処理液の供給を選択的に可能にする吸入側の開閉弁、上記ダイヤフラムポンプの吐出側に上記処理液供給ノズルへの上記処理液の供給を選択的に可能にする第1の開閉弁及び上記循環管路への上記処理液の供給を選択的に可能にする第2の開閉弁を設けると共に上記トラップタンクで分離された気泡をドレイン管を介して外部に排出することを選択的に可能にする切換弁を設け、
上記第2循環管路に上記循環制御弁を設けると共に上記フィルタ装置の一次側であって上記第2循環管路と上記供給管路との接続部の二次側の上記供給管路に第3の開閉弁を設け、
上記第1の開閉弁、第2の開閉弁、吸入側の開閉弁、切換弁及び循環制御弁を閉じた状態で、上記駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化する気泡顕在化工程と、
該気体顕在化工程の後、吸入側の開閉弁、上記第1の開閉弁、第3の開閉弁を閉じ、上記第2の開閉弁、循環制御弁を開いた状態で、顕在化された気泡を上記トラップタンクに移動させる気泡移動工程と、
上記第1の開閉弁、第2の開閉弁及び循環制御弁を閉じ、上記吸入側の開閉弁、第3の開閉弁及び切換弁を開くことで上記トラップタンク内の気泡をドレイン管を介して外部に排出する脱気工程と、を備え、
上記気泡顕在化工程、気泡移動工程及び上記脱気工程は、上記処理液供給工程の終了後上記循環工程の開始前に行われることを特徴とする液処理方法。 - 請求項15に記載の液処理方法において、
上記気泡顕在化工程は、上記第1の開閉弁、第2の開閉弁、第3の開閉弁、切換弁及び循環制御弁を閉じ、上記吸入側の開閉弁を開いた状態で、上記駆動手段の駆動により上記ポンプ部分を負圧にすることで、上記処理液中に存在する微細な気泡を顕在化する工程であることを特徴とする液処理方法。
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012288515A JP5439579B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-12-28 | 液処理装置及び液処理方法 |
TW104111353A TWI587901B (zh) | 2012-02-27 | 2013-02-04 | 液體處理裝置及液體處理方法 |
TW102104190A TWI491432B (zh) | 2012-02-27 | 2013-02-04 | 液體處理裝置及液體處理方法 |
KR1020147023306A KR101856285B1 (ko) | 2012-02-27 | 2013-02-22 | 액 처리 장치 및 액 처리 방법 |
CN201380011195.3A CN104137225B (zh) | 2012-02-27 | 2013-02-22 | 液体处理装置和液体处理方法 |
KR1020187012327A KR102030945B1 (ko) | 2012-02-27 | 2013-02-22 | 액 처리 장치 및 액 처리 방법 |
CN201511001407.7A CN105413247B (zh) | 2012-02-27 | 2013-02-22 | 液体处理装置和液体处理方法 |
PCT/JP2013/054517 WO2013129252A1 (ja) | 2012-02-27 | 2013-02-22 | 液処理装置及び液処理方法 |
US14/378,337 US9731226B2 (en) | 2012-02-27 | 2013-02-22 | Solution treatment apparatus and solution treatment method |
US15/639,010 US9878267B2 (en) | 2012-02-27 | 2017-06-30 | Solution treatment apparatus and solution treatment method |
US15/818,855 US10022652B2 (en) | 2012-02-27 | 2017-11-21 | Solution treatment apparatus and solution treatment method |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012039538 | 2012-02-27 | ||
JP2012039538 | 2012-02-27 | ||
JP2012288515A JP5439579B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-12-28 | 液処理装置及び液処理方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013259068A Division JP5956975B2 (ja) | 2012-02-27 | 2013-12-16 | 液処理装置及び液処理方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013211525A JP2013211525A (ja) | 2013-10-10 |
JP2013211525A5 true JP2013211525A5 (ja) | 2013-11-21 |
JP5439579B2 JP5439579B2 (ja) | 2014-03-12 |
Family
ID=49082452
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012288515A Active JP5439579B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-12-28 | 液処理装置及び液処理方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US9731226B2 (ja) |
JP (1) | JP5439579B2 (ja) |
KR (2) | KR102030945B1 (ja) |
CN (2) | CN105413247B (ja) |
TW (2) | TWI587901B (ja) |
WO (1) | WO2013129252A1 (ja) |
Families Citing this family (53)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5956975B2 (ja) * | 2012-02-27 | 2016-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理方法 |
JP5741549B2 (ja) * | 2012-10-09 | 2015-07-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給方法、処理液供給装置及び記憶媒体 |
JP6107690B2 (ja) * | 2013-09-27 | 2017-04-05 | 東京エレクトロン株式会社 | フィルタユニットの前処理方法、処理液供給装置、フィルタユニットの加熱装置 |
JP6020405B2 (ja) * | 2013-10-02 | 2016-11-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
JP5967045B2 (ja) * | 2013-10-02 | 2016-08-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
JP6013302B2 (ja) | 2013-10-04 | 2016-10-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 気泡除去方法、気泡除去装置、脱気装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
CN104570625A (zh) * | 2013-10-17 | 2015-04-29 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 一种带有液体去泡功能的供给装置 |
JP2015106656A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | 東京エレクトロン株式会社 | フィルター装置 |
JP6032190B2 (ja) * | 2013-12-05 | 2016-11-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体 |
US20150209707A1 (en) * | 2014-01-27 | 2015-07-30 | Tokyo Electron Limited | Active Filter Technology for Photoresist Dispense System |
JP6370567B2 (ja) * | 2014-03-13 | 2018-08-08 | エイブリック株式会社 | 現像装置 |
KR200480178Y1 (ko) | 2014-03-25 | 2016-04-20 | 이정란 | 포토레지스트 내의 기포를 제거할 수 있는 포토레지스트 도포 장치 |
JP6359925B2 (ja) * | 2014-09-18 | 2018-07-18 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
KR102343634B1 (ko) * | 2014-12-30 | 2021-12-29 | 세메스 주식회사 | 액 공급 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치 |
CN104562165B (zh) * | 2014-12-31 | 2017-04-26 | 广东威迪科技股份有限公司 | 一种智能过滤控制系统 |
JP6222118B2 (ja) | 2015-01-09 | 2017-11-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液濾過装置、薬液供給装置及び処理液濾過方法並びに記憶媒体 |
JP6244324B2 (ja) * | 2015-03-24 | 2017-12-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP5991403B2 (ja) * | 2015-04-21 | 2016-09-14 | 東京エレクトロン株式会社 | フィルタウエッティング方法、フィルタウエッティング装置及び記憶媒体 |
JP6626322B2 (ja) * | 2015-11-27 | 2019-12-25 | Ckd株式会社 | 気体圧駆動機器、及びその制御方法 |
JP6726515B2 (ja) * | 2016-04-26 | 2020-07-22 | 東京エレクトロン株式会社 | フィルタ装置及び液処理装置 |
JP6803701B2 (ja) * | 2016-08-23 | 2020-12-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記録媒体 |
JP6942497B2 (ja) * | 2016-09-08 | 2021-09-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置 |
US10518199B2 (en) | 2016-09-08 | 2019-12-31 | Tokyo Electron Limited | Treatment solution supply apparatus |
JP6484601B2 (ja) * | 2016-11-24 | 2019-03-13 | 株式会社Kokusai Electric | 処理装置及び半導体装置の製造方法 |
CN106881219B (zh) * | 2017-02-27 | 2019-06-04 | 安徽江淮汽车集团股份有限公司 | 一种汽车工厂用供胶系统 |
JP6817860B2 (ja) * | 2017-03-21 | 2021-01-20 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
WO2018186211A1 (ja) * | 2017-04-06 | 2018-10-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 液供給装置および液供給方法 |
JP6900274B2 (ja) | 2017-08-16 | 2021-07-07 | 株式会社Screenホールディングス | 薬液供給装置、基板処理装置、薬液供給方法、および基板処理方法 |
WO2019077802A1 (ja) * | 2017-10-20 | 2019-04-25 | 株式会社島津製作所 | 脱気装置 |
WO2019117043A1 (ja) * | 2017-12-12 | 2019-06-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 液供給装置及び液供給方法 |
TWI800623B (zh) * | 2018-03-23 | 2023-05-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 液處理裝置及液處理方法 |
KR102099114B1 (ko) * | 2018-04-16 | 2020-04-10 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
JP7101036B2 (ja) | 2018-04-26 | 2022-07-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
JP7112884B2 (ja) * | 2018-05-24 | 2022-08-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
CN108565235B (zh) * | 2018-05-31 | 2024-03-01 | 亚智系统科技(苏州)有限公司 | 用于扇出型晶圆级芯片的表面处理、封装系统及操作方法 |
JP7113671B2 (ja) * | 2018-06-12 | 2022-08-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 脱泡装置および脱泡方法 |
US10663865B2 (en) * | 2018-06-29 | 2020-05-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photoresist recycling apparatus |
CN110875212B (zh) * | 2018-08-31 | 2022-07-01 | 辛耘企业股份有限公司 | 基板处理装置 |
US11273396B2 (en) | 2018-08-31 | 2022-03-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Liquid supply system with improved bubble venting capacity |
JP6837037B2 (ja) * | 2018-09-14 | 2021-03-03 | 株式会社Screenホールディングス | 処理装置、処理システム、および処理方法 |
KR102221258B1 (ko) | 2018-09-27 | 2021-03-02 | 세메스 주식회사 | 약액 토출 장치 |
CN109445254A (zh) * | 2018-11-16 | 2019-03-08 | 福建省福联集成电路有限公司 | 一种减少显影管路气泡的装置 |
CN109569081B (zh) * | 2018-12-04 | 2021-02-26 | 惠科股份有限公司 | 过滤装置和光阻涂布系统 |
JP7163199B2 (ja) * | 2019-01-08 | 2022-10-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP7161955B2 (ja) * | 2019-02-20 | 2022-10-27 | 東京エレクトロン株式会社 | フィルタウェッティング方法及び処理液供給装置 |
KR20200126552A (ko) * | 2019-04-30 | 2020-11-09 | 삼성전자주식회사 | 다중 필터들을 가진 레지스트 필터링 시스템 및 레지스트 코팅 설비 |
CN110197801A (zh) * | 2019-05-14 | 2019-09-03 | 清华大学 | 一种基板处理液的存储装置和基板后处理设备 |
JP7339049B2 (ja) * | 2019-07-26 | 2023-09-05 | 株式会社ディスコ | 廃液処理装置 |
CN113341654B (zh) * | 2020-02-18 | 2023-02-28 | 长鑫存储技术有限公司 | 一种光刻胶供给装置 |
CN111451061B (zh) * | 2020-04-07 | 2021-12-31 | 芯米(厦门)半导体设备有限公司 | 双缓冲型光阻液喷涂系统 |
KR102585284B1 (ko) * | 2020-12-28 | 2023-10-05 | 세메스 주식회사 | 액 공급 유닛 및 액 공급 방법 |
KR102654320B1 (ko) * | 2022-05-09 | 2024-04-04 | 넥스콘테크놀러지 주식회사 | 기포 발생이 방지되는 pcb 코팅 시스템 |
CN116573603A (zh) * | 2023-07-15 | 2023-08-11 | 太原众特电气技术有限公司 | 制动液加注系统的液体脱气装置、加注系统及脱气方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02281727A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レジスト塗布装置 |
JPH05267149A (ja) | 1992-03-19 | 1993-10-15 | Fujitsu Ltd | レジスト送液装置 |
JPH10180173A (ja) * | 1996-12-24 | 1998-07-07 | Sony Corp | レジスト塗布装置 |
JP3280880B2 (ja) | 1997-02-07 | 2002-05-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 脱気機構およびそれを用いた処理装置 |
JPH11147068A (ja) * | 1997-06-03 | 1999-06-02 | Sony Corp | 処理装置及び処理方法 |
JPH11147078A (ja) * | 1997-11-18 | 1999-06-02 | Casio Comput Co Ltd | 分類別処理装置およびそのプログラム記録媒体 |
JP3461725B2 (ja) * | 1998-06-26 | 2003-10-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
JP4011210B2 (ja) * | 1998-10-13 | 2007-11-21 | 株式会社コガネイ | 薬液供給方法および薬液供給装置 |
TW504749B (en) * | 1999-06-29 | 2002-10-01 | Tokyo Electron Ltd | Liquid processing method and apparatus for processing object in treatment liquid |
JP3706294B2 (ja) * | 2000-03-27 | 2005-10-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
JP3686822B2 (ja) | 2000-05-19 | 2005-08-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像処理装置および現像処理方法 |
JP3947398B2 (ja) * | 2001-12-28 | 2007-07-18 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置および薬液供給方法 |
JP4723218B2 (ja) * | 2004-09-10 | 2011-07-13 | シーケーディ株式会社 | 薬液供給用ポンプユニット |
JP4694377B2 (ja) * | 2006-01-27 | 2011-06-08 | シーケーディ株式会社 | 薬液供給システム |
JP4969965B2 (ja) * | 2006-09-22 | 2012-07-04 | 日東電工株式会社 | 脱気装置 |
JP4879253B2 (ja) * | 2008-12-04 | 2012-02-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置 |
JP4975790B2 (ja) * | 2009-08-20 | 2012-07-11 | 東京エレクトロン株式会社 | レジスト液供給装置、レジスト液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP2011088026A (ja) * | 2009-10-20 | 2011-05-06 | Shimadzu Corp | 脱気装置 |
JP5857864B2 (ja) * | 2012-04-23 | 2016-02-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
-
2012
- 2012-12-28 JP JP2012288515A patent/JP5439579B2/ja active Active
-
2013
- 2013-02-04 TW TW104111353A patent/TWI587901B/zh active
- 2013-02-04 TW TW102104190A patent/TWI491432B/zh active
- 2013-02-22 WO PCT/JP2013/054517 patent/WO2013129252A1/ja active Application Filing
- 2013-02-22 CN CN201511001407.7A patent/CN105413247B/zh active Active
- 2013-02-22 CN CN201380011195.3A patent/CN104137225B/zh active Active
- 2013-02-22 KR KR1020187012327A patent/KR102030945B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-22 US US14/378,337 patent/US9731226B2/en active Active
- 2013-02-22 KR KR1020147023306A patent/KR101856285B1/ko active IP Right Grant
-
2017
- 2017-06-30 US US15/639,010 patent/US9878267B2/en active Active
- 2017-11-21 US US15/818,855 patent/US10022652B2/en active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013211525A5 (ja) | ||
KR101856285B1 (ko) | 액 처리 장치 및 액 처리 방법 | |
US11342198B2 (en) | Processing liquid supplying apparatus and processing liquid supplying method | |
RU2018114695A (ru) | Способ и устройство для текучей среды | |
KR20140045879A (ko) | 처리액 공급 방법, 처리액 공급 장치 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 | |
US20080169230A1 (en) | Pumping and Dispensing System for Coating Semiconductor Wafers | |
TWI592201B (zh) | Degassing device, coating device and degassing method | |
US20180061690A1 (en) | Substrate Processing Apparatus, Substrate Processing Method, and Recording Medium | |
JP5524154B2 (ja) | 液処理装置及び液処理方法 | |
US9290396B2 (en) | Liquid treating method | |
JPWO2016181989A1 (ja) | 血液浄化装置およびプライミング方法 | |
US11219868B2 (en) | Device for cleaning and method for cleaning water treatment membrane, and water treatment system | |
JP2014082513A5 (ja) | ||
JP2010501322A (ja) | 溢水室を有する清掃装置 | |
JP6479563B2 (ja) | 洗浄装置及びスケール付着防止装置 | |
JP2014082513A (ja) | 液処理装置及び液処理方法 | |
JP6576770B2 (ja) | 基板処理装置におけるフィルタ交換方法 | |
JP2008068151A (ja) | 体外循環血液回路システム及びその方法 | |
JP2019048298A (ja) | 基板処理装置および基板処理装置の配管洗浄方法 | |
JP2013088068A (ja) | 廃蒸気回収装置 | |
KR101328371B1 (ko) | 웨이퍼 포토레지스트 디스펜서 | |
KR20140071660A (ko) | 중력 발라스팅 장치 및 이를 이용한 필터 역세 방법 | |
JP5859270B2 (ja) | 廃蒸気回収装置 | |
JP2010172818A (ja) | 圧力調整弁の洗浄方法および圧力調整弁の洗浄装置 | |
JP2010116900A (ja) | 真空ポンプ装置 |