JP4975790B2 - レジスト液供給装置、レジスト液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Description
20〜22 レジスト塗布装置
142 塗布ノズル
200 レジスト液供給装置
201 レジスト液供給源
202 供給管
203 リキッドエンドタンク
205 ヒータ
206 温度調節器
207 フィルタ
208 トラップ
209 ポンプ
210 バルブ
211 温調配管
212 温度調節器
300 制御部
400 温度センサ
W ウェハ
Claims (8)
- 基板にレジスト液を吐出する塗布ノズルに、レジスト液を供給するレジスト液供給装置であって、
内部にフッ素系樹脂を有するレジスト液を貯留するレジスト液供給源と、
前記レジスト液供給源から前記塗布ノズルへレジスト液を供給するための供給管と、
前記供給管の途中に設けられ、前記レジスト液供給源から供給されるレジスト液を貯留させるタンクと、
前記タンクより前記塗布ノズル側の前記供給管に設けられ、レジスト液中の異物を除去するフィルタと、
前記フィルタと前記タンクの間の前記供給管に設けられ、当該供給管内のレジスト液を、当該レジスト液中のレジストゲルが凝集する常温よりも高い所定の温度に加熱する加熱手段と、
前記フィルタより前記塗布ノズル側の前記供給管に設けられ、当該供給管内のレジスト液を常温まで冷却する冷却手段と、
前記供給管内の加熱されたレジスト液の温度を測定する温度センサと、
前記温度センサでの測定結果に基づいて、前記加熱手段の加熱温度を制御する制御部と、を有することを特徴とする、レジスト液供給装置。 - 前記加熱手段の前記常温よりも高い所定の温度は、30℃〜50℃であることを特徴とする、請求項1に記載のレジスト液供給装置。
- 前記フィルタと前記冷却手段の間の前記供給管に設けられ、レジスト液中の異物を捕捉するトラップを有することを特徴とする、請求項1又は2に記載のレジスト液供給装置。
- 基板にレジスト液を吐出する塗布ノズルに、レジスト液を供給するレジスト液供給方法であって、
タンクにフッ素系樹脂を有するレジスト液を貯留させる貯留工程と、
その後、前記タンクから流出したレジスト液を、当該レジスト液中のレジストゲルが凝集する常温より高い所定の温度まで加熱する加熱工程と、
その後、フィルタを用いてレジスト液中の異物を除去する除去工程と、
その後、レジスト液を常温まで冷却する冷却工程と、
その後、前記塗布ノズルにレジスト液を供給する供給工程と、を有し、
前記加熱工程で加熱されたレジスト液の温度を温度センサによって測定し、前記温度センサでの測定結果に基づいて、前記加熱工程の加熱温度を制御することを特徴とする、レジスト液供給方法。 - 前記加熱工程における常温よりも高い所定の温度は、30℃〜50℃であることを特徴とする、請求項4に記載のレジスト液供給方法。
- 前記除去工程後であって前記冷却工程前に、レジスト液中の異物を捕捉する捕捉工程を有することを特徴とする、請求項4又は5に記載のレジスト液供給方法。
- 請求項4〜6のいずれかに記載のレジスト液供給方法をレジスト液供給装置によって実行させるために、当該レジスト液供給装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項7に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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