JP6726515B2 - フィルタ装置及び液処理装置 - Google Patents

Description

本開示は、フィルタ装置及び液処理装置に関する。

半導体製造工程においては、様々な処理液（例えば、レジスト剤、現像液、リンス液等など）がの供給対象物（例えば、半導体ウェハなど）に供給される。処理液の供給に際しては、処理液中の異物（例えば、パーティクルなど）を除去するためのフィルタ装置が用いられる。例えば、特許文献１は、容器と、プリーツ型のフィルタ本体とを備えるフィルタ部材を開示している。

容器は、円筒形状を呈するコアと、コアの外側を覆うようにコアと同軸状に延びると共に円筒形状を呈するケージとを有する。フィルタ本体は、複数の主部（脚部）と、外側折り返し部（クラウン部）と、内側折り返し部（ルート部）とを有する。複数の主部は、容器の径方向に延びると共に平面状を呈する。外側折り返し部は、容器の周方向において隣り合う２つの主部の外側端同士を接続すると共に、ケージの内周面に当接している。内側折り返し部は、容器の周方向において隣り合う２つの主部の内側端同士を接続すると共に、コアの外周面に当接している。

特表平８−５０３４１２号公報

このように、特許文献１に記載されているようなフィルタ部材は、プリーツ型のフィルタ本体が、コアとケージとで単に挟まれて構成されている。そのため、フィルタ本体が容器内において変形可能であった。従って、処理液がフィルタ部材を通過する際にフィルタ本体に疎密状態が生じ、フィルタ本体を通過する際の処理液の流速が部分的に低速となる場合があった。

フィルタ本体に生ずる疎密状態はプリーツの状態によるが、プリーツの状態はフィルタ本体の製造過程、フィルタ本体を流通する処理液の流速、フィルタ本体を流通する処理液の種類等の様々な要因によって変化する。そのため、フィルタ本体に生ずる疎密状態はフィルタ本体ごとに異なる。また、フィルタ本体のうち処理液が低速となる部分においては、パーティクルが溜まりやすくなる。特に、例えば半導体ウエハ上にごく少量（例えば、数ｍｌ程度）の処理液を供給する場合には、処理液がフィルタ本体において滞留しやすくなるので、この傾向が顕著となり得る。従って、フィルタ部材において、パーティクルの除去性能（濾過性能）に個体差が生じていた。このことから、濾過性能の個体差が生じ難い新たな構造のフィルタ部材が求められていた。

そこで、本開示は、濾過性能の個体差の発生を抑制することが可能なフィルタ装置及び液処理装置を説明する。

［１］本開示の一つの観点に係るフィルタ装置は、フィルタ部材と、半導体製造工程用の処理液が導入される入口部と、入口部とでフィルタ部材を挟んで濾過流路を構成する出口部と、入口部との間でフィルタ部材を通過しない排出流路を構成する排出部とを備える。フィルタ部材は、処理液を濾過する機能を有する少なくとも一つのフィルタ本体と、フィルタ本体が内部に詰め込まれた収容管とを有する。収容管は、内部でのフィルタ本体の動きを規制している。

本開示の一つの観点に係るフィルタ装置では、フィルタ本体が収容管の内部に詰め込まれており、収容管内部におけるフィルタ本体の動きが規制されている。そのため、処理液がフィルタ本体を流通してもフィルタ本体に疎密状態が生じ難くなるので、フィルタ本体を通過する際の処理液の流速が全体的に均一になりやすい。従って、いずれのフィルタ部材においても同程度の濾過性能を得やすくなるので、フィルタ装置の濾過性能に個体差が発生することを抑制できる。

［２］上記第１項に記載のフィルタ装置において、濾過流路は、入口部と排出部とを接続する排出流路から分岐した分岐流路であってもよい。この場合、入口部と排出部との間を延びる排出流路が処理液の本流路として機能するので、処理液が濾過流路よりも排出流路を流通しやすくなる。そのため、処理液に気泡が含まれている場合、気泡がフィルタ部材よりも排出部側に流れやすくなる。従って、フィルタ本体に気泡が混入し難くなるので、フィルタ本体のうち気泡の混入箇所にパーティクルが溜まってしまう事態を抑制される。その結果、フィルタ装置の濾過性能を向上させることができる。

［３］上記第２項に記載のフィルタ装置において、排出流路のうち濾過流路が分岐する分岐点の下流側には第１のバルブが設けられていてもよい。この場合、気泡を含む処理液を排出部から排出した後に第１のバルブを閉鎖することにより、排出済の処理液が入口部側及び出口部側に逆流することが防がれる。そのため、フィルタ本体に気泡がより混入し難くなる。従って、フィルタ装置の濾過性能をより向上させることができる。

［４］上記第１〜３のいずれか一項に記載のフィルタ装置において、濾過流路は、入口部と、入口部よりも下方に位置するフィルタ部材の入口側との間を上下方向に延びる延在部を含んでいてもよい。この場合、気泡を含む処理液が濾過流路に導入されても、当該処理液はまず上下方向に延びる延在部を流通する。そのため、気泡は、フィルタ部材の入口に向けて処理液と共に下方に向かう。この際、気泡が下方に向かうにつれて気泡に生ずる浮力が大きくなるので、気泡はフィルタ部材に到達し難い。従って、フィルタ本体に気泡がさらに混入し難くなる。その結果、フィルタ装置の濾過性能をさらに向上させることができる。

［５］上記第４項に記載のフィルタ装置において、延在部は鉛直方向に対して傾斜していてもよい。

［６］上記第２又は３項に記載のフィルタ装置において、排出流路のうち濾過流路が分岐している箇所の近傍は鉛直方向に沿って延びており、濾過流路のうち排出流路から分岐している側の基端部は水平方向に沿って延びていてもよい。この場合、排出流路が鉛直方向に沿って延びているので、気泡を含む処理液が入口部から導入されると、気泡に作用する浮力も相俟って、気泡が排出部に向かいやすくなる。そのため、フィルタ本体に気泡がより混入し難くなる。従って、フィルタ装置の濾過性能をいっそう向上させることができる。

［７］上記第１〜６のいずれか一項に記載のフィルタ装置において、当該フィルタ装置は、フィルタ部材を収容する筐体を更に備え、入口部、出口部及び排出部はいずれも、筐体の天壁に設けられていてもよい。この場合、入口部、出口部及び排出部がいずれもフィルタ装置１００の上部に位置しているので、フィルタ装置をその取り付け対象の装置等から着脱する際に、入口部、出口部及び排出部からの液だれを抑制することができる。

［８］上記第１〜７のいずれか一項に記載のフィルタ装置において、フィルタ部材は、螺旋状に巻回された巻回部を有してもよい。この場合、処理液がフィルタ部材に接触しやすくなる。そのため、フィルタ装置の濾過性能をいっそう向上させることができる。

［９］上記第１〜７のいずれか一項に記載のフィルタ装置において、フィルタ部材は直線状に延びていてもよい。この場合、フィルタ部材の長さを長くすることにより、処理液がフィルタ部材に接触しやすくなる。そのため、フィルタ装置の濾過性能をいっそう向上させることができる。

［１０］上記第１〜９のいずれか一項に記載のフィルタ装置において、フィルタ部材は、収容管を内部に収容すると共に収容管に沿って延びる外管を更に有し、収容管の周面には、収容管の内外を連通する複数の貫通孔が設けられており、フィルタ本体は、収容管と外管との間の空間に流入して貫通孔を通過した処理液を濾過してもよい。この場合、処理液は、複数の貫通孔のいずれかを通過してフィルタ本体に到達するので、フィルタ本体のうち一の貫通孔に対応する部分に詰まりが発生しても、フィルタ本体のうち他の貫通孔に対応する部分において処理液が濾過される。そのため、フィルタ本体の長寿命化を図ることができる。

［１１］上記第１０項に記載のフィルタ装置において、外管は光を透過可能な材料で構成されていてもよい。この場合、外管内の状況（例えば、気泡が存在するか否かなどの状況）を目視で確認することができる。

［１２］上記第１０又は１１項に記載のフィルタ装置において、収容管内には、複数のフィルタ本体が収容管の延在方向に並ぶように配置されていてもよい。この場合、異なる種類のフィルタ本体を組み合わせて、処理液をより適切に濾過することができる。

［１３］上記第１２項に記載のフィルタ装置において、フィルタ部材は、収容管から分岐する少なくとも一つの分岐管を更に有し、分岐管のうち収容管から分岐している側の基端部は、複数のフィルタ本体の間にそれぞれ位置しており、分岐管のうち収容管から分岐している側の基端部には第２のバルブが設けられていてもよい。この場合、気泡を含む処理液を分岐管から排出した後に第２のバルブを閉鎖することにより、排出済の処理液がフィルタ部材に逆流することが防がれる。そのため、フィルタ本体に気泡がより混入し難くなる。従って、フィルタ装置の濾過性能をいっそう向上させることができる。

［１４］本開示の他の観点に係る液処理装置は、処理液を吐出するためのノズルが一端に接続された送液ラインと、送液ライン上に配置された、上記第１〜１３のいずれか一項に記載のフィルタ装置と、送液ラインを通じてフィルタ装置に処理液を供給する供給源とを備える。本開示の他の観点に係る液処理装置では、上記のフィルタ装置と同様に、濾過性能の個体差の発生を抑制することが可能となる。

本開示に係るフィルタ装置及び液処理装置によれば、濾過性能の個体差の発生を抑制することが可能となる。

図１は、基板処理システムを示す斜視図である。 図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。 図３は、単位処理ブロック（ＢＣＴブロック、ＨＭＣＴブロック、ＣＯＴブロック及びＤＥＶブロック）を示す上面図である。 図４は、液処理ユニットを示す図である。 図５は、フィルタ装置の一例（第１の例）を示す図である。 図６は、図５のフィルタ装置を矢印Ｙ方向から見た図である。 図７は、図５のフィルタ装置を矢印Ｘ方向から見た図である。 図８は、図５のフィルタ部材を示す分解斜視図である。 図９は、フィルタ装置の他の例（第２の例）を示す図である。 図１０は、図９のフィルタ部材のうち外管を切断して示す断面図である。 図１１は、図９のフィルタ部材のうち外管以外を示す分解斜視図である。 図１２は、フィルタ装置の他の例（第３の例）を示す図である。 図１３は、フィルタ装置の他の例（第４の例）を示す図である。 図１４は、フィルタ装置の他の例（第５の例）を示す図である。 図１５は、フィルタ装置の他の例（第６の例）を示す図である。 図１６は、図１５のフィルタ部材のうちフィルタモジュールを示す分解斜視図である。 図１７は、フィルタ部材の他の例を部分的に示す図である。

以下に説明される本開示に係る実施形態は本発明を説明するための例示であるので、本発明は以下の内容に限定されるべきではない。以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。

以下に説明される本開示に係る実施形態は本発明を説明するための例示であるので、本発明は以下の内容に限定されるべきではない。以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。

［基板処理システム］
図１に示されるように、基板処理システム１（基板処理装置）は、塗布現像装置２（基板処理装置）と、コントローラ１０（制御部）とを備える。基板処理システム１には、露光装置３が併設されている。露光装置３は、基板処理システム１のコントローラ１０と通信可能なコントローラ（図示せず）を備える。露光装置３は、塗布現像装置２との間でウエハＷ（基板）を授受して、ウエハＷの表面Ｗａ（図１０等参照）に形成された感光性レジスト膜の露光処理（パターン露光）を行うように構成されている。具体的には、液浸露光等の方法により感光性レジスト膜（感光性被膜）の露光対象部分に選択的にエネルギー線を照射する。エネルギー線としては、例えばＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、ｇ線、ｉ線、又は極端紫外線（ＥＵＶ：Extreme Ultraviolet）が挙げられる。

塗布現像装置２は、露光装置３による露光処理の前に、感光性レジスト膜又は非感光性レジスト膜（以下、あわせて「レジスト膜」という。）をウエハＷの表面Ｗａに形成する処理を行う。塗布現像装置２は、露光装置３による感光性レジスト膜の露光処理後に、当該感光性レジスト膜の現像処理を行う。

ウエハＷは、円板状を呈してもよいし、多角形など円形以外の板状を呈していてもよい。ウエハＷは、一部が切り欠かれた切り欠き部を有していてもよい。切り欠き部は、例えば、ノッチ（Ｕ字形、Ｖ字形等の溝）であってもよいし、直線状に延びる直線部（いわゆる、オリエンテーション・フラット）であってもよい。ウエハＷは、例えば、半導体基板、ガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）基板その他の各種基板であってもよい。ウエハＷの直径は、例えば２００ｍｍ〜４５０ｍｍ程度であってもよい。

図１〜図３に示されるように、塗布現像装置２は、キャリアブロック４と、処理ブロック５と、インターフェースブロック６とを備える。キャリアブロック４、処理ブロック５及びインターフェースブロック６は、水平方向に並んでいる。

キャリアブロック４は、図１及び図３に示されるように、キャリアステーション１２と、搬入搬出部１３とを有する。キャリアステーション１２は複数のキャリア１１を支持する。キャリア１１は、少なくとも一つのウエハＷを密封状態で収容する。キャリア１１の側面１１ａには、ウエハＷを出し入れするための開閉扉（図示せず）が設けられている。キャリア１１は、側面１１ａが搬入搬出部１３側に面するように、キャリアステーション１２上に着脱自在に設置される。

搬入搬出部１３は、キャリアステーション１２及び処理ブロック５の間に位置している。搬入搬出部１３は、複数の開閉扉１３ａを有する。キャリアステーション１２上にキャリア１１が載置される際には、キャリア１１の開閉扉が開閉扉１３ａに面した状態とされる。開閉扉１３ａ及び側面１１ａの開閉扉を同時に開放することで、キャリア１１内と搬入搬出部１３内とが連通する。搬入搬出部１３は、受け渡しアームＡ１を内蔵している。受け渡しアームＡ１は、キャリア１１からウエハＷを取り出して処理ブロック５に渡し、処理ブロック５からウエハＷを受け取ってキャリア１１内に戻す。

処理ブロック５は、図１及び図２に示されるように、単位処理ブロック１４〜１７を有する。単位処理ブロック１４〜１７は、床面側から単位処理ブロック１７、単位処理ブロク１４、単位処理ブロック１５、単位処理ブロック１６の順に並んでいる。単位処理ブロック１４〜１７は、図３に示されるように、液処理ユニットＵ１（液処理装置）と、熱処理ユニットＵ２とを有する。

液処理ユニットＵ１は、各種の処理液をウエハＷの表面Ｗａに供給するように構成されている。熱処理ユニットＵ２は、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。

単位処理ブロック１４は、ウエハＷの表面Ｗａ上に下層膜を形成するように構成された下層膜形成ブロック（ＢＣＴブロック）である。単位処理ブロック１４は、各ユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ２を内蔵している（図２参照）。単位処理ブロック１４の液処理ユニットＵ１は、下層膜形成用の塗布液をウエハＷの表面Ｗａに塗布して塗布膜を形成する。単位処理ブロック１４の熱処理ユニットＵ２は、下層膜の形成に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させて下層膜とするための加熱処理が挙げられる。下層膜としては、例えば、反射防止（ＳｉＡＲＣ）膜が挙げられる。

単位処理ブロック１５は、下層膜上に中間膜を形成するように構成された中間膜（ハードマスク）形成ブロック（ＨＭＣＴブロック）である。単位処理ブロック１５は、各ユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ３を内蔵している（図２参照）。単位処理ブロック１５の液処理ユニットＵ１は、中間膜形成用の塗布液を下層膜上に塗布して塗布膜を形成する。単位処理ブロック１５の熱処理ユニットＵ２は、中間膜の形成に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させて中間膜とするための加熱処理が挙げられる。中間膜としては、例えば、ＳＯＣ（SpinOn Carbon）膜、アモルファスカーボン膜が挙げられる。

単位処理ブロック１６は、熱硬化性を有するレジスト膜を中間膜上に形成するように構成されたレジスト膜形成ブロック（ＣＯＴブロック）である。単位処理ブロック１６は、各ユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ４を内蔵している（図２参照）。単位処理ブロック１６の液処理ユニットＵ１は、レジスト膜形成用の塗布液（レジスト剤）を中間膜上に塗布して塗布膜を形成する。単位処理ブロック１６の熱処理ユニットＵ２は、レジスト膜の形成に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させてレジスト膜とするための加熱処理（ＰＡＢ：Pre Applied Bake）が挙げられる。

単位処理ブロック１７は、露光されたレジスト膜の現像処理を行うように構成された現像処理ブロック（ＤＥＶブロック）である。単位処理ブロック１７は、各ユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ５と、これらのユニットを経ずにウエハＷを搬送する直接搬送アームＡ６とを内蔵している（図２参照）。単位処理ブロック１７の液処理ユニットＵ１は、露光後のレジスト膜に現像液を供給してレジスト膜を現像する。単位処理ブロック１７の液処理ユニットＵ１は、現像後のレジスト膜にリンス液を供給して、レジスト膜の溶解成分を現像液と共に洗い流す。これにより、レジスト膜が部分的に除去され、レジストパターンが形成される。単位処理ブロック１６の熱処理ユニットＵ２は、現像処理に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、現像処理前の加熱処理（ＰＥＢ：Post Exposure Bake）、現像処理後の加熱処理（ＰＢ：Post Bake）等が挙げられる。

処理ブロック５内におけるキャリアブロック４側には、図２及び図３に示されるように、棚ユニットＵ１０が設けられている。棚ユニットＵ１０は、床面から単位処理ブロック１５にわたって設けられており、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。棚ユニットＵ１０の近傍には昇降アームＡ７が設けられている。昇降アームＡ７は、棚ユニットＵ１０のセル同士の間でウエハＷを昇降させる。

処理ブロック５内におけるインターフェースブロック６側には、棚ユニットＵ１１が設けられている。棚ユニットＵ１１は床面から単位処理ブロック１７の上部にわたって設けられており、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。

インターフェースブロック６は、受け渡しアームＡ８を内蔵しており、露光装置３に接続される。受け渡しアームＡ８は、棚ユニットＵ１１のウエハＷを取り出して露光装置３に渡し、露光装置３からウエハＷを受け取って棚ユニットＵ１１に戻すように構成されている。

コントローラ１０は、基板処理システム１を部分的又は全体的に制御する。コントローラ１０の詳細については後述する。なお、コントローラ１０は露光装置３のコントローラとの間で信号の送受信が可能であり、各コントローラの連携により基板処理システム１及び露光装置３が制御される。

［液処理ユニットの構成］
続いて、図４を参照して、液処理ユニットＵ１についてさらに詳しく説明する。液処理ユニットＵ１は、図４に示されるように、回転保持部２０と、処理液供給部３０とを備える。

回転保持部２０は、回転部２１と、シャフト２２と、保持部２３とを有する。回転部２１は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて動作し、シャフト２２を回転させる。回転部２１は、例えば電動モータ等の動力源である。保持部２３は、シャフト２２の先端部に設けられている。保持部２３上にはウエハＷが配置される。保持部２３は、例えば吸着等によりウエハＷを略水平に保持する。すなわち、回転保持部２０は、ウエハＷの姿勢が略水平の状態で、ウエハＷの表面Ｗａに対して垂直な軸（回転軸）周りでウエハＷを回転させる。本実施形態では、回転軸は、円形状を呈するウエハＷの中心を通っているので、中心軸でもある。本実施形態では、図４に示されるように、回転保持部２０は、上方から見て時計回りにウエハＷを回転させる。

処理液供給部３０は、ウエハＷの表面Ｗａに塗布液を供給するように構成されている。処理液供給部３０は、配管Ｄ１〜Ｄ４と、液ボトル３１と、液タンク３２と、フィルタ装置１００と、ポンプ装置３３と、バルブ３４と、ノズル３５と、バルブ３６とを有する。

配管Ｄ１の上流端は、Ｎ_２ガス源に接続されている。配管Ｄ１の下流端は、液ボトル３１の上蓋近傍に位置するように、液ボトル３１の上蓋部分に接続されている。液ボトル３１は、処理液の供給源として機能する。液ボトル３１が貯留する処理液としては、半導体製造工程用の各種の処理液（例えば、反射防止膜形成用の薬液、ＳＯＣ膜形成用の薬液、アモルファスカーボン膜形成用の薬液、感光性レジスト膜となる感光性レジスト材料、非感光性レジスト膜となる非感光性レジスト材料、現像液、リンス液等）が挙げられる。

配管Ｄ２の上流端は、液ボトル３１の底壁近傍に位置するように、液ボトル３１の底壁部分に接続されている。配管Ｄ２の下流端は、液タンク３２の上蓋寄りに位置するように、液タンク３２の上蓋部分に接続されている。液タンク３２は、Ｎ_２ガスによって液ボトル３１から送り出された処理液を一時的に貯留する貯留部として機能する。

配管Ｄ３（送液ラインの一形態）の上流端は、液タンク３２の底壁部分に接続されている。配管Ｄ３の下流端は、ノズル３５に接続されている。配管Ｄ３上には、上流側から順に、ポンプ装置３３、フィルタ装置１００及びバルブ３４が設けられている。

ポンプ装置３３は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて液タンク３２から処理液を吸引し、配管Ｄ３、フィルタ装置１００及びバルブ３４を介してノズル３５に送り出す。フィルタ装置１００は、詳しくは後述するが、処理液に含まれるパーティクルなどの異物を除去する。バルブ３４は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて弁の開放及び閉鎖を行う。バルブ３４は、弁の開放時にノズル３５から塗布液を吐出させると共に、弁の閉鎖時にノズル３５からの塗布液の吐出を停止させる。バルブ３４は、例えば、空気を利用して弁を開閉（オン／オフ）させるエアオペレートバルブであってもよい。

ノズル３５は、ポンプ装置３３から送り出された処理液を、ウエハＷの表面Ｗａに吐出させるように構成されている。ノズル３５は、吐出口がウエハＷの表面Ｗａに向かうようにウエハＷの上方に配置されている。ノズル３５は、図示しない駆動部によって水平方向及び上下方向に移動可能に構成されている。具体的には、ノズル３５から処理液を吐出する際、駆動部がコントローラ１０からの動作信号に基づいてノズル３５を駆動して、ウエハＷの回転軸に直交する直線状をウエハＷの径方向に沿ってノズル３５を移動させる。ウエハＷを保持部２３に保持させる際、駆動部がコントローラ１０からの動作信号に基づいてノズル３５を駆動して、保持部２３から離れた離間位置までノズル３５を上昇させる。ウエハＷに処理液を吐出する際、駆動部がコントローラ１０からの動作信号に基づいてノズル３５を駆動して、ウエハＷ（保持部２３）に近づく近接位置までノズル３５を下降させる。

配管Ｄ３は、管部Ｄ３ａ〜Ｄ３ｄを有する。管部Ｄ３ａは、液タンク３２とフィルタ装置１００の入口管１０４（後述する）との間で延びている。管部Ｄ３ｂは、フィルタ装置１００の出口管１０８（後述する）とポンプ装置３３との間で延びている。管部Ｄ３ｃは、ポンプ装置３３とバルブ３４との間で延びている。管部Ｄ３ｄは、バルブ３４とノズル３５との間で延びている。

配管Ｄ４の上流端は、フィルタ装置１００の排出管１０６（後述する）に接続されている。配管Ｄ４上には、バルブ３６が設けられている。バルブ３６は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて弁の開放及び閉鎖を行う。バルブ３６は、バルブ３４と同様に、例えば、空気を利用して弁を開閉（オン／オフ）させるエアオペレートバルブであってもよい。配管Ｄ４を流れる処理液は、バルブ３６が開状態のときに、配管Ｄ４を通じて系外（システム外）に排出される。

［フィルタ装置（第１の例）］
続いて、図５〜図８を参照して、フィルタ装置１００についてさらに詳しく説明する。フィルタ装置１００は、筐体１０２と、入口管１０４（入口部）と、排出管１０６（排出部）と、出口管１０８（出口部）と、送液管１１０（排出流路）と、送液管１１２（濾過流路）と、フィルタ部材１１４とを有する。筐体１０２、入口管１０４、排出管１０６、出口管１０８、送液管１１０及び送液管１１２は、例えば、樹脂材料で構成されていてもよい。

筐体１０２は、図５〜図７に示されるように、送液管１１０，１１２及びフィルタ部材１１４を内部の収容空間に収容する容器である。筐体１０２は、有底円筒状を呈する本体部１０２ａと、本体部１０２ａの開放端である上端に配置された蓋部１０２ｂとを含む。そのため、蓋部１０２ｂは、筐体１０２の天壁として機能する。蓋部１０２ｂは、本体部１０２ａの上端に対して取り外し可能に取り付けられていてもよいし、本体部１０２ａから取り外しできないよう本体部１０２ａの上端に対して固着されていてもよい。

入口管１０４、排出管１０６及び出口管１０８はいずれも、蓋部１０２ｂに設けられており、蓋部１０２ｂに形成されている貫通孔と連通している。そのため、入口管１０４、排出管１０６及び出口管１０８はいずれも、鉛直方向（図の矢印Ｚ方向）に沿って延びるように、蓋部１０２ｂから上方に向けて突出している。入口管１０４と排出管１０６とは、図５及び図６に示されるように、Ｚ方向に直交する水平方向（図の矢印Ｘ方向）に沿って隣り合うように並んでいる。入口管１０４及び排出管１０６と出口管１０８とは、図５及び図７に示されるように、Ｘ方向及びＺ方向に直交する水平方向（図の矢印Ｙ方向）において並んでいる。

送液管１１０は、図５及び図６に示されるように、筐体１０２内において、入口管１０４と排出管１０６との間を延びている。送液管１１０の一端は入口管１０４と接続され、送液管１１０の他端は排出管１０６に接続されている。送液管１１０は、Ｕ字形状を呈している。入口管１０４から導入された処理液は、フィルタ部材１１４を通過せずに、送液管１１０を流通して、排出管１０６から排出されうる。すなわち、入口管１０４、排出管１０６及び送液管１１０は、処理液をフィルタ部材１１４に通過させずにフィルタ装置１００から排出す排出流路を構成している。

送液管１１２は、図５及び図７に示されるように、筐体１０２内において、入口管１０４と出口管１０８との間を延びている。送液管１１２の一端は送液管１１０の中間部分と接続され、送液管１１２の他端はフィルタ部材１１４の上流端キャップ１２２（後述する）と接続されている。そのため、送液管１１２は、排出流路を構成する送液管１１０の中途から分岐しており、分岐流路を構成している。

送液管１１２は、Ｌ字形状を呈しており、管部１１２ａ（延在部）と、管部１１２ｂとを含む。管部１１２ａは、送液管１１０から下方に向けて延びている。具体的には、管部１１２ａは、図７に示されるように、鉛直方向（Ｚ方向）に対して傾斜している。従って、管部１１２ａは、入口管１０４と、入口管１０４よりも下方に位置するフィルタ部材１１４の上流端キャップ１２２との間を上下方向に延びる延在部として機能する。管部１１２ｂは、管部１１２ａの下流端に一体的に接続されている。管部１１２ｂは、管部１１２ａの下流端から上方に向けて屈曲されている。

入口管１０４から導入された処理液は、送液管１１２及びフィルタ部材１１４を流通した後に、出口管１０８から排出されうる。すなわち、入口管１０４、送液管１１０の一部（送液管１１０のうち入口管１０４と送液管１１２への分岐点との間の部分）、送液管１１２及びフィルタ部材１１４は、処理液をフィルタ部材１１４で濾過して、濾過済の処理液をフィルタ装置１００から排出する濾過流路を構成している。

フィルタ部材１１４は、図７及び図８に示されるように、フィルタ本体１１６と、収容管１１８と、外管１２０と、上流端キャップ１２２と、下流端キャップ１２４とを含む。フィルタ本体１１６は、処理液を濾過して、処理液中に含まれるパーティクル等の異物を処理液から除去する機能を有する。フィルタ本体１１６は、例えば、ナイロン、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ：polytetrafluoroethylene）を所定形状に成形した成形体であってもよい。

収容管１１８は、フィルタ本体１１６を内部に収容する。収容管１１８内には、成形体であるフィルタ本体１１６が全体にわたって詰め込まれている。そのため、収容管１１８は、内部でのフィルタ本体１１６の動きを規制している。収容管１１８の容積に対するフィルタ本体１１６の体積の割合（充填率）は、例えば、９０％以上であってもよいし、９５％以上であってもよい。

収容管１１８の周面には、複数の貫通孔１２６が形成されている。そのため、収容管１１８の内外は、貫通孔１２６を通じて連通している。収容管１１８内に詰め込まれたフィルタ本体１１６は、貫通孔１２６から露出している。

収容管１１８は、上流管部１１８ａと、下流管部１１８ｂと、これらの間を延びる主管部１１８ｃとを含む。上流管部１１８ａ及び下流管部１１８ｂは、直線状に延びている。主管部１１８ｃは、螺旋状（helical）に延びている。すなわち、フィルタ部材１１４の収容管１１８は、螺旋状に巻回された巻回部である主管部１１８ｃを有する。

外管１２０は、収容管１１８を内部に収容する。外管１２０は、収容管１１８に沿って延びている。そのため、外管１２０も、螺旋状に巻回された巻回部を有する。外管１２０は、光を透過可能な材料で構成されている。すなわち、外管１２０は、透明部材又は半透明部材である。外管１２０を通じて、内部の収容管１１８と、貫通孔１２６から露出するフィルタ本体１１６とを視認することが可能である。

上流端キャップ１２２は、送液管１１２の下流端と、収容管１１８の上流端（図における下端）と、外管１２０の上流端（図における下端）とに接続されている。上流端キャップ１２２は、図８に示されるように、円板状を呈している。上流端キャップ１２２には、その外周縁に沿って周方向に並ぶ複数の貫通孔１２２ａが形成されている。貫通孔１２２ａは、円弧状を呈している。

収容管１１８の上流端は、上流端キャップ１２２の中央部に接合されており、当該中央部によって閉塞されている。そのため、処理液は、収容管１１８の上流端を流通できない。一方、外管１２０の上流端は、上流端キャップ１２２のうち貫通孔１２２ａと外周縁との間に接合されている。そのため、処理液は、貫通孔１２２ａを介して収容管１１８と外管１２０との間の空間を流通することができる。

下流端キャップ１２４は、筐体１０２の蓋部１０２ｂに形成された複数の貫通孔のうち出口管１０８に対応する貫通孔と、収容管１１８の下流端（図における上端）と、外管１２０の下流端（図における上端）とに接続されている。下流端キャップ１２４は、図８に示されるように、円板状を呈している。下流端キャップ１２４には、その中央部に一つの貫通孔１２４ａが形成されている。貫通孔１２４ａは、円形状を呈している。

収容管１１８の下流端は、下流端キャップ１２４のうち貫通孔１２４ａの周縁近傍に接合されている。そのため、処理液は、収容管１１８の下流端から貫通孔１２４ａを通じてフィルタ部材１１４外に流通することができる。一方、外管１２０の上流端は、下流端キャップ１２４のうち外周縁近傍に接合されている。そのため、下流端キャップ１２４は、収容管１１８と外管１２０との間の空間を閉塞している。従って、処理液は、収容管１１８と外管１２０との間の空間から下流端キャップ１２４の外部に直接流通できない。

［液処理ユニットの動作］
続いて、液処理ユニットＵ１の動作について、さらに詳しく説明する。まず、バルブ３４が閉鎖し且つバルブ３６が開放した状態で、コントローラ１０がポンプ装置３３に動作信号を送信し、ポンプ装置３３を動作させる。これにより、処理液が、ポンプ装置３３によって液タンク３２から吸引され、フィルタ装置１００に導入される。フィルタ装置１００に導入された処理液は、主として、入口管１０４、送液管１１０及び排出管１０６をこの順に流通する。すなわち、処理液は、排出流路を流通して、フィルタ装置１００外（系外）に排出される。フィルタ装置１００に導入される当初の処理液には気泡が含まれている可能性が比較的高いので、当該処理液のフィルタ部材１１４への供給が抑制される。

次に、コントローラ１０がバルブ３４，３６に動作信号を送信し、バルブ３４を開放させ且つバルブ３６を閉鎖させる。このとき、ポンプ装置３３は、継続して動作していてもよいし、バルブ３４，３６の開閉の際に一時的に停止してもよい。フィルタ装置１００に導入された処理液は、主として、入口管１０４、送液管１１２、フィルタ部材１１４及び出口管１０８をこの順に流通する。すなわち、処理液は、濾過流路を流通してフィルタ装置１００から排出され、配管Ｄ３を通じてノズル３５から吐出される。

なお、フィルタ部材１１４内において、処理液は、上流端キャップ１２２の貫通孔１２２ａから収容管１１８と外管１２０との間の空間に流入する。次に、処理液は、収容管１１８の貫通孔１２６を通じてフィルタ本体１１６で濾過される。その後、処理液は、下流端キャップ１２４の貫通孔１２４ａを通じてフィルタ部材１１４から排出される。

［作用］
以上のような本実施形態では、フィルタ本体１１６が収容管１１８の内部に詰め込まれており、フィルタ本体１１６の動きが収容管１１８内部において規制されている。そのため、処理液がフィルタ本体１１６を流通してもフィルタ本体１１６に疎密状態が生じ難くなるので、フィルタ本体１１６を通過する際の処理液の流速が全体的に均一になりやすい。従って、いずれのフィルタ部材１１４においても同程度の濾過性能を得やすくなるので、フィルタ装置１００の濾過性能に個体差が発生することを抑制できる。

本実施形態では、濾過流路を構成する送液管１１２は、排出流路を構成する送液管１１０から分岐した分岐流路である。そのため、入口管１０４と排出管１０６との間を延びる排出流路が処理液の本流路として機能するので、処理液が濾過流路よりも排出流路を流通しやすくなる。従って、図６に示されるように、処理液に気泡Ｂ１が含まれている場合、気泡Ｂ１がフィルタ部材１１４よりも排出管１０６側に流れやすくなる。その結果、フィルタ本体１１６に気泡Ｂ１が混入し難くなるので、フィルタ本体１１６のうち気泡Ｂ１の混入箇所にパーティクルが溜まってしまう事態を抑制される。以上より、フィルタ装置１００の濾過性能を向上させることができる。

本実施形態では、濾過流路の一部として機能している送液管１１２が、入口管１０４と、入口管１０４よりも下方に位置するフィルタ部材１１４の入口（上流端）との間を上下方向に延びる管部１１２ａを含んでいる。そのため、図７に示されるように、気泡Ｂ２を含む処理液が濾過流路に導入されても、当該処理液はまず上下方向に延びる管部１１２ａを流通する。従って、気泡Ｂ２が送液管１１２に流入した場合には、当該気泡Ｂ２は、フィルタ部材１１４の入口（上流端）に向けて処理液と共に下方に向かう。この際、気泡Ｂ２が下方に向かうにつれて、気泡に生ずる浮力が大きくなるので、気泡Ｂ２はフィルタ部材１１４に到達し難い。従って、フィルタ本体１１６に気泡Ｂ２が混入し難くなる。その結果、フィルタ装置１００の濾過性能をさらに向上させることができる。

本実施形態では、入口管１０４、排出管１０６及び出口管１０８がいずれも、筐体１０２の蓋部１０２ｂ（天壁）に設けられている。そのため、入口管１０４、排出管１０６及び出口管１０８がいずれもフィルタ装置１００の上部に位置している。従って、フィルタ装置１００をその取り付け対象の装置等（配管Ｄ３、Ｄ４）から着脱する際に、入口管１０４、排出管１０６及び出口管１０８からの液だれを抑制することができる。

本実施形態では、フィルタ部材１１４の収容管１１８が、螺旋状に巻回された巻回部である主管部１１８ｃを有する。そのため、処理液がフィルタ部材１１４（フィルタ本体１１６）に接触しやすくなる。従って、フィルタ装置１００の濾過性能をいっそう向上させることができる。

本実施形態では、外管１２０が、内部に収容管１１８を収容すると共に収容管１１８に沿って延びている。収容管１１８の周面には、収容管１１８の内外を連通する複数の貫通孔１２６が設けられている。フィルタ本体１１６は、収容管１１８と外管１２０との間の空間に流入して貫通孔１２６を通過した処理液を濾過する。そのため、処理液は、複数の貫通孔１２６のいずれかを通過してフィルタ本体１１６に到達するので、フィルタ本体１１６のうち一の貫通孔１２６に対応する部分に詰まりが発生しても、フィルタ本体１１６のうち他の貫通孔１２６に対応する部分において処理液が濾過される。従って、フィルタ本体１１６の長寿命化を図ることができる。

本実施形態では、光を透過可能な材料で外管１２０が構成されている。そのため、外管１２０内の状況（例えば、気泡が存在するか否かなどの状況）を目視で確認することができる。

［他の実施形態］
以上、本開示に係る実施形態について詳細に説明したが、本発明の要旨の範囲内で種々の変形を上記の実施形態に加えてもよい。例えば、上述したフィルタ装置１００に代えて、以下に説明する他の例に係るフィルタ装置２００，３００，４００，５００を用いてもよい。

［フィルタ装置（第２の例）］
図９〜図１１を参照して、他の例（第２の例）に係るフィルタ装置２００について説明する。フィルタ装置２００は、図９〜図１１に示されるように、入口管１０４と、排出管１０６と、出口管１０８と、送液管１１０と、フィルタ部材１１４とを有する。フィルタ装置２００は、主として、送液管１１２が存在しておらず送液管１１０が直接フィルタ部材１１４に接続されている点と、フィルタ部材１１４の構成の点とで、フィルタ装置１００と相違する。なお、図９〜図１１には図示されていないが、フィルタ装置２００は筐体１０２も備えている。

入口管１０４と排出管１０６とは、送液管１１０によって直線状に接続されている。すなわち、フィルタ装置２００において、入口管１０４、排出管１０６及び送液管１１０が、一つの管２０２によって構成されている。換言すれば、管２０２の各部が、入口管１０４、排出管１０６及び送液管１１０として機能している。管２０２は、鉛直方向に沿って延びている。

フィルタ部材１１４の一端は、図９に示されるように、送液管１１０（管２０２）の中間部分と接続されている。フィルタ部材１１４の他端は、出口管１０８と接続されている。すなわち、フィルタ部材１１４は、排出流路を構成する送液管１１０の中途から分岐しており、分岐流路且つ濾過流路を構成している。フィルタ装置２００において、フィルタ部材１１４は、水平方向に沿って直線状に延びている。

フィルタ装置２００のフィルタ部材１１４は、その形状を除いてフィルタ装置１００のフィルタ部材１１４と同様である。すなわち、図１０及び図１１に示されるように、フィルタ部材１１４は、周面に複数の貫通孔１２６が形成された収容管１１８と、収容管１１８内に詰め込まれたフィルタ本体１１６と、収容管１１８を内部に収容する外管１２０と、収容管１１８及び外管１２０の上流端に接続された上流端キャップ１２２と、収容管１１８及び外管１２０の下流端に接続された下流端キャップ１２４とを含む。

フィルタ装置２００においては、排出流路のうち濾過流路が分岐している箇所の近傍である送液管１１０が鉛直方向に沿って延びている。一方、濾過流路のうち排出流路から分岐しているフィルタ部材１１４の基端部（上流端部）は水平方向に沿って延びている。そのため、図９に示されるように、気泡Ｂ３を含む処理液が入口管１０４から導入されると、気泡Ｂ３に作用する浮力も相俟って、気泡Ｂ３が排出管１０６に向かいやすくなる。従って、フィルタ本体１１６に気泡Ｂ３がより混入し難くなる。その結果、フィルタ装置２００の濾過性能を向上させることができる。

フィルタ装置２００においては、フィルタ部材１１４が直線状に延びている。そのため、フィルタ部材１１４の長さを長くすることにより、処理液がフィルタ部材１１４により接触しやすくなる。そのため、フィルタ装置２００の濾過性能をいっそう向上させることができる。

なお、図１２に示されるように、送液管１１０が水平方向に沿って延びると共に、フィルタ部材１１４が送液管１１０から下方に向けて鉛直方向に沿って延びるように、フィルタ装置２００が構成されていてもよい。この場合も、気泡Ｂ３がフィルタ部材１１４よりも排出管１０６側に流れやすい。また、気泡Ｂ３がフィルタ部材１１４側に流入した場合でも、気泡Ｂ３に浮力が作用するので送液管１１０側に気泡Ｂ３が戻りやすい。従って、フィルタ装置２００の濾過性能を向上させることができる。

［フィルタ装置（第３の例）］
図１３を参照して、他の例（第３の例）に係るフィルタ装置３００について説明する。フィルタ装置３００は、図１３に示されるように、筐体１０２と、入口管１０４と、排出管１０６と、出口管１０８と、送液管１１０，１１２と、フィルタ部材１１４と、スターラバー３０２と、マグネティックスターラ３０４とを有する。フィルタ装置３００は、主として、送液管１１２及びフィルタ部材１１４の構成の点と、スターラバー３０２及びマグネティックスターラ３０４をさらに備えている点で、フィルタ装置１００と相違する。

送液管１１２の管部１１２ａは、送液管１１０から下方に向けて鉛直方向に沿って延びている。送液管１１２の管部１１２ｂは、管部１１２ａの下端から水平方向に沿って延びており、フィルタ部材１１４の入口（上流端）と接続されている。

フィルタ部材１１４は、フィルタ本体１１６と、収容管１１８と、外管１２０とを含む。収容管１１８は、円筒状を呈する内側管１１８ｄ及び外側管１１８ｅで構成された二重管である。内側管１１８ｄ及び外側管１１８ｅのそれぞれの周面には、複数の貫通孔１２６が形成されている。フィルタ本体１１６は、内側管１１８ｄ及び外側管１１８ｅの間の空間Ｖ１内に詰め込まれている。空間Ｖ１内には、少なくとも一つの隔壁３０６が配置されている。隔壁３０６は、空間Ｖ１に対応する円環状を呈しており、収容管１１８の延在方向における中間に位置している。従って、収容管１１８内におけるフィルタ本体１１６の動きは、内側管１１８ｄ、外側管１１８ｅ及び隔壁３０６によって規制されている。

外管１２０は、収容管１１８を収容する収容部１２０ａと、収容部１２０ａと出口管１０８とを接続する接続部１２０ｂとを含む。収容部１２０ａは、全体として円筒形状を呈しており、底壁３０８及び天壁３１０を含む。底壁３０８の中央部には、管部１１２ｂの下流端が接続される貫通孔３０８ａが形成されている。天壁３１０の外周縁近傍には、接続部１２０ｂと接続される貫通孔３１０ａが形成されている。収容管１１８は、貫通孔３０８ａと貫通孔３１０ａとの間に位置するように、底壁３０８及び天壁３１０と固着されている。従って、収容部１２０ａのうち収容管１１８よりも内側の空間Ｖ２と、収容部１２０ａのうち収容管１１８よりも外側の空間Ｖ３とは、収容管１１８によって隔離されている。空間Ｖ２は、管部１１２ｂ（送液管１１２）、入口管１０４及び排出管１０６と連通している。空間Ｖ３は、接続部１２０ｂ及び出口管１０８と連通している。

スターラバー３０２は、棒磁石を樹脂で被覆してなる攪拌部材である。スターラバー３０２は、空間Ｖ２内に配置されている。マグネティックスターラ３０４は、スターラバー３０２に磁場を作用させて、スターラバー３０２を回転させるように構成されている。マグネティックスターラ３０４によるスターラバー３０２の駆動方式は、例えば、モータ等で磁石を回転させることで磁場を変化させる磁石回転方式や、コイルに通電することで磁場を変化させる電磁誘導方式等であってもよい。マグネティックスターラ３０４は、筐体１０２の外方で且つフィルタ部材１１４の下方に配置されている。

フィルタ装置３００によれば、マグネティックスターラ３０４によってスターラバー３０２を空間Ｖ２内において回転させている。そのため、フィルタ部材１１４に導入された処理液が空間Ｖ２内に到達すると、処理液は、スターラバー３０２によって攪拌され、強制的に収容管１１８（フィルタ本体１１６）に向けて送り出される。従って、フィルタ部材１１４内において処理液の滞留を極めて抑制することができると共に、遠心力によって処理液がフィルタ本体１１６を通過しやすくなるので処理液のフィルタ本体１１６での濾過を促進することができる。

［フィルタ装置（第４の例）］
図１４を参照して、他の例（第４の例）に係るフィルタ装置４００について説明する。フィルタ装置４００は、図１４に示されるように、入口管１０４と、排出管１０６と、出口管１０８と、フィルタ部材１１４とを有する。フィルタ装置４００は、主として、送液管１１２が存在しておらず送液管１１０が直接フィルタ部材１１４に接続されている点と、フィルタ部材１１４の構成の点とで、フィルタ装置１００と相違する。なお、図１４には図示されていないが、フィルタ装置４００は筐体１０２も備えている。

フィルタ部材１１４は、複数のフィルタ本体１１６と、収容管１１８と、複数の隔壁４０２とを含む。複数のフィルタ本体１１６は、収容管１１８の延在方向において並ぶように、収容管１１８内に詰め込まれている。複数の隔壁４０２は、収容管１１８の延在方向において並ぶように、収容管１１８内に配置されている。隔壁４０２は、円板状を呈している。隔壁４０２には、その厚さ方向に貫通する複数の貫通孔４０２ａが設けられている。

収容管１１８内において、一つのフィルタ本体１１６は、一対の隔壁４０２によって挟持されている。そのため、収容管１１８内における各フィルタ本体１１６の動きは、収容管１１８及び隔壁４０２によって規制されている。

フィルタ装置４００において、入口管１０４から処理液が導入されると、処理液が隔壁４０２の貫通孔４０２ａと一つのフィルタ本体１１６とを交互に通過して、出口管１０８から排出される。各フィルタ本体１１６の材質は、いずれも同じであってもよいし、異なっていてもよい。各フィルタ本体１１６の材質が異なる場合には、異なる種類のフィルタ本体１１６を組み合わせて、処理液をより適切に濾過することができる。

［フィルタ装置（第５の例）］
図１５及び図１６を参照して、他の例（第５の例）に係るフィルタ装置５００について説明する。フィルタ装置５００は、図１５及び図１６に示されるように、入口管１０４と、排出管１０６と、出口管１０８と、送液管１１０と、フィルタ部材１１４と、バルブ５０２，５０４とを有する。フィルタ装置５００は、主として、送液管１１２が存在しておらず送液管１１０が直接フィルタ部材１１４に接続されている点と、フィルタ部材１１４の構成の点とで、フィルタ装置１００と相違する。なお、図９〜図１１には図示されていないが、フィルタ装置２００は筐体１０２も備えている。

入口管１０４と排出管１０６とは、送液管１１０によって直線状に接続されている。すなわち、フィルタ装置５００において、入口管１０４、排出管１０６及び送液管１１０が、一つの管５０６によって構成されている。換言すれば、管５０６の各部が、入口管１０４、排出管１０６及び送液管１１０として機能している。管５０６は、鉛直方向に沿って延びている。

フィルタ部材１１４の一端は、図１５に示されるように、送液管１１０（管５０６）の中間部分と接続されている。フィルタ部材１１４の他端は、出口管１０８と接続されている。すなわち、フィルタ部材１１４は、排出流路を構成する送液管１１０の中途から分岐しており、分岐流路且つ濾過流路を構成している。フィルタ装置５００において、フィルタ部材１１４は、水平方向に沿って直線状に延びている。

フィルタ部材１１４は、収容管１１８と、複数のフィルタモジュールＭを含む。収容管１１８は、光を透過可能な材料で構成されていてもよい。収容管１１８の周面には、貫通孔１２６に代えて、収容管１１８の延在方向に並ぶ複数の貫通孔５０８が設けられている。そのため、収容管１１８の内外は、貫通孔５０８を通じて連通している。各貫通孔５０８にはそれぞれ、分岐管５１０が接続されている。すなわち、各分岐管５１０は、収容管１１８から分岐している。

複数のフィルタモジュールＭは、収容管１１８の延在方向において一列に並ぶように、収容管１１８内に配置されている。具体的には、隣り合うフィルタモジュールＭの間に一つの貫通孔５０８が位置している。

フィルタモジュールＭは、図１５及び図１６に示されるように、円筒状の本体部Ｍ１と、本体部Ｍ１の両端にそれぞれ配置された蓋部Ｍ２と、フィルタ本体１１６とを含む。本体部Ｍ１は、フィルタ本体１１６を内部に収容する。本体部Ｍ１内には、成形体であるフィルタ本体１１６が全体にわたって詰め込まれている。

蓋部Ｍ２は、円板状を呈しており、本体部Ｍ１の端部と固着されている。そのため、本体部Ｍ１及び蓋部Ｍ２は、本体部Ｍ１内でのフィルタ本体１１６の動きを規制している。蓋部Ｍ２には、その厚さ方向に貫通する複数の貫通孔Ｍ２ａが形成されている。そのため、本体部Ｍ１の内外は、貫通孔Ｍ２ａを通じて連通している。本体部Ｍ１内に詰め込まれたフィルタ本体１１６は、貫通孔Ｍ２ａから露出している。

バルブ５０２（第１のバルブ）は、送液管１１０（管５０６）に設けられている。バルブ５０２は、送液管１１０（管５０６）のうちフィルタ部材１１４への分岐点の下流側に隣接するように位置している。バルブ５０４（第２のバルブ）は、各分岐管５１０に設けられている。バルブ５０４は、各分岐管５１０の基端部（各分岐管５１０のうち貫通孔５０８寄りの端部）に位置している。

バルブ５０２，５０４は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて弁の開放及び閉鎖を行う。バルブ５０２，５０４は、バルブ３４，３６と同様に、例えば、空気を利用して弁を開閉（オン／オフ）させるエアオペレートバルブであってもよい。処理液は、バルブ５０２，５０４が開状態のときに、排出管１０６又は分岐管５１０を通じて系外（システム外）に排出される。

フィルタ装置５００においては、排出流路である送液管１１０（管５０６）のうち濾過流路であるフィルタ部材１１４が分岐する分岐点の下流側に、バルブ５０２が設けられている。そのため、気泡を含む処理液を排出管１０６から排出した後にバルブ５０２を閉鎖することにより、排出済の処理液が入口管１０４側及び出口管１０８側に逆流することが防がれる。そのため、フィルタ本体１１６に気泡が混入し難くなる。従って、フィルタ装置５００の濾過性能を向上させることができる。

フィルタ装置５００においては、分岐管５１０のうち収容管１１８から分岐している側の基端部は、隣り合うフィルタモジュールＭの間にそれぞれ位置しており、当該基端部にバルブ５０２が設けられている。そのため、気泡を含む処理液を分岐管５１０から排出した後にバルブを閉鎖することにより、排出済の処理液がフィルタ部材１１４に逆流することが防がれる。そのため、フィルタ本体１１６に気泡が混入し難くなる。従って、フィルタ装置５００の濾過性能を向上させることができる。

［その他］
上記のいずれのフィルタ装置１００〜５００においても、フィルタ本体１１６及び収容管１１８が、図１７（ａ）に示される形態であってもよい。具体的には、収容管１１８が、円筒状を呈する内側管１１８ｄ及び外側管１１８ｅで構成された二重管であり、フィルタ本体１１６が、内側管１１８ｄ及び外側管１１８ｅの間の空間内に詰め込まれていてもよい。

上記のいずれのフィルタ装置１００〜５００においても、フィルタ本体１１６が、図１７（ｂ）に示される形態であってもよい。具体的には、フィルタ本体１１６は、極細のチューブ状を呈していてもよい。このとき、収容管１１８内には、収容管１１８の延在方向に沿って延びるように多数のフィルタ本体１１６が詰め込まれている。

１…基板処理システム（基板処理装置）、２…塗布現像装置（基板処理装置）、３０…処理液供給部、１００，２００，３００，４００，５００…フィルタ装置、１０２…筐体、１０２ｂ…蓋部、１０４…入口管（入口部）、１０６…排出管（排出部）、１０８…出口管（出口部）、１１０…送液管（排出流路）、１１２…送液管（濾過流路）、１１２ａ…管部（延在部）、１１４…フィルタ部材、１１６…フィルタ本体、１１８…収容管、１１８ｃ…主管部（巻回部）、１２６…貫通孔、１２０…外管、５０２…バルブ（第１のバルブ）、５０４…バルブ（第２のバルブ）、Ｄ３…配管（送液ライン）、Ｕ１…液処理ユニット（液処理装置）。

Claims (12)

1. フィルタ部材と、
   半導体製造工程用の処理液が導入される入口部と、
   前記入口部とで前記フィルタ部材を挟んで濾過流路を構成する出口部と、
   前記入口部との間で前記フィルタ部材を通過しない排出流路を構成する排出部とを備え、
   前記フィルタ部材は、
   前記処理液を濾過する機能を有する少なくとも一つのフィルタ本体と、
   前記フィルタ本体が内部に詰め込まれた収容管とを有し、
   前記収容管は、螺旋状に巻回された巻回部を有し、内部での前記フィルタ本体の動きを規制している、フィルタ装置。
2. 前記濾過流路は、前記入口部と前記排出部とを接続する前記排出流路から分岐した分岐流路である、請求項１に記載のフィルタ装置。
3. 前記排出流路のうち前記濾過流路が分岐する分岐点の下流側には第１のバルブが設けられている、請求項２に記載のフィルタ装置。
4. 前記濾過流路は、前記入口部と、前記入口部よりも下方に位置する前記フィルタ部材の入口側との間を上下方向に延びる延在部を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のフィルタ装置。
5. 前記延在部は鉛直方向に対して傾斜している、請求項４に記載のフィルタ装置。
6. 前記排出流路のうち前記濾過流路が分岐している箇所の近傍は鉛直方向に沿って延びており、
   前記濾過流路のうち前記排出流路から分岐している側の基端部は水平方向に沿って延びている、請求項２又は３に記載のフィルタ装置。
7. 前記フィルタ部材を収容する筐体を更に備え、
   前記入口部、前記出口部及び前記排出部はいずれも、前記筐体の天壁に設けられている、請求項１〜６のいずれか一項に記載のフィルタ装置。
8. 前記フィルタ部材は、前記収容管を内部に収容すると共に前記収容管に沿って延びる外管を更に有し、
   前記収容管の周面には、前記収容管の内外を連通する複数の貫通孔が設けられており、
   前記フィルタ本体は、前記収容管と前記外管との間の空間に流入して前記貫通孔を通過した前記処理液を濾過する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のフィルタ装置。
9. 前記外管は光を透過可能な材料で構成されている、請求項８に記載のフィルタ装置。
10. 前記収容管内には、複数の前記フィルタ本体が前記収容管の延在方向に並ぶように配置されている、請求項８又は９に記載のフィルタ装置。
11. 前記フィルタ部材は、前記収容管から分岐する少なくとも一つの分岐管を更に有し、
    前記分岐管のうち前記収容管から分岐している側の基端部は、複数の前記フィルタ本体の間にそれぞれ位置しており、
    前記分岐管のうち前記収容管から分岐している側の基端部には第２のバルブが設けられている、請求項１０に記載のフィルタ装置。
12. 前記処理液を吐出するためのノズルが一端に接続された送液ラインと、
    前記送液ライン上に配置された、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のフィルタ装置と、
    前記送液ラインを通じて前記フィルタ装置に前記処理液を供給する供給源とを備える、液処理装置。

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