KR102606575B1 - 액 공급 장치, 그리고 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는, 기판으로 처리 액을 공급하여 기판을 액 처리하는 액 처리 챔버; 및 상기 액 처리 챔버로 처리 액을 공급하는 액 공급 장치를 포함하고, 상기 액 공급 장치는, 처리 액을 공급하는 액 공급 유닛; 및 상기 액 처리 챔버와 상기 액 공급 유닛 사이에 배치되는 트랩 유닛을 포함하고, 상기 액 공급 유닛은, 바틀; 및 상기 바틀의 입구가 향하는 방향이 변경되도록 상기 바틀을 회전시키는 회전 발생 부를 포함하고, 상기 바틀의 입구가 아래 방향을 바라보는 공급 자세일 때 상기 트랩 유닛은 상기 바틀보다 낮은 위치에 배치될 수 있다.

Description

액 공급 장치, 그리고 이를 포함하는 기판 처리 장치{LIQUID SUPPLY APPARATUS, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME}
본 발명은 액 공급 장치, 그리고 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판으로 처리 액을 공급하여 기판을 처리하는 액 처리 챔버로 처리 액을 공급하는 액 공급 장치에 관한 것이다.
반도체 소자 또는 평판표시패널을 제조하기 위해 포토리소그라피 공정, 에칭 공정, 애싱 공정, 박막 증착 공정, 그리고 세정 공정 등 다양한 공정들이 수행된다. 이러한 공정들 중 포토리소그라피 공정은 웨이퍼 등의 기판 상에 포토레지스트를 공급하여 도포막을 형성하는 도포 공정과, 기판 상에 형성된 도포막에 마스크를 이용하여 광을 조사하는 노광 공정과, 그리고 노광 공정이 수행된 도포막에 현상액을 공급하여 기판 상에 원하는 패턴을 얻는 현상 공정을 포함한다.
일반적으로, 포토레지스트는 레지스트를 공급하는 캐비닛에 보관된다. 이러한 캐비닛은 기판을 처리하는 장치에 설치된다. 포토레지스트는 바틀에 담긴다. 바틀은 캐비닛에 교체 가능하게 제공된다. 바틀은 도포 공정을 수행하는 액 처리 챔버와 직/간접적으로 연결되는 약액 라인과 연결된다. 또한, 바틀은 바틀 내로 비활성 가스를 공급하는 가스 라인과 연결된다. 가스 라인은 바틀 내로 비활성 가스를 공급하여, 바틀 내 포토레지스트를 약액 라인으로 밀어낸다. 바틀에 담긴 포토레지스트를 모두 소모하는 경우, 바틀은 교체된다. 구체적으로, 사용자는 캐비닛을 열어 빈 바틀을 캐비닛으로부터 분리하고, 새로운 포토레지스트가 담긴 바틀을 캐비닛에 장착한다. 또한, 캐비닛에 장착된 바틀의 입구는 항시 위 방향을 향한다.
비활성 가스를 공급하여 포토레지스트를 액 처리 챔버로 공급하는, 이른바 가스 가압 방식은 바틀 내에 수용된 포토레지스트에 기포를 발생시킬 수 있다. 또한, 바틀의 입구는 항시 위 방향을 향하기 때문에, 바틀 내 수용된 포토레지스트를 모두 소모하기 어려울 수 있다.
본 발명은 기판을 효율적으로 처리할 수 있는 액 공급 장치, 그리고 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 처리 액에 기포 및/또는 파티클이 발생하는 것을 최소화 할 수 있는 액 공급 장치, 그리고 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 비활성 가스를 공급하지 않고도, 바틀 내 처리 액을 액 처리 챔버로 전달할 수 있는 액 공급 장치, 그리고 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 바틀 내에 처리 액을 효과적으로 소모할 수 있게 하는 액 공급 장치, 그리고 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 바틀에 수용된 처리 액을 트랩 유닛으로 전달하는 약액 라인에 에어 백 플로우(Air Back Flow) 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있는 액 공급 장치, 그리고 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 과제들은 본 명세서 및 첨부된 도면들로부터 본 발명의 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는, 기판으로 처리 액을 공급하여 기판을 액 처리하는 액 처리 챔버; 및 상기 액 처리 챔버로 처리 액을 공급하는 액 공급 장치를 포함하고, 상기 액 공급 장치는, 처리 액을 공급하는 액 공급 유닛; 및 상기 액 처리 챔버와 상기 액 공급 유닛 사이에 배치되는 트랩 유닛을 포함하고, 상기 액 공급 유닛은, 바틀; 및 상기 바틀의 입구가 향하는 방향이 변경되도록 상기 바틀을 회전시키는 회전 발생 부를 포함하고, 상기 바틀의 입구가 아래 방향을 바라보는 공급 자세일 때 상기 트랩 유닛은 상기 바틀보다 낮은 위치에 배치될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 액 공급 유닛은, 상기 바틀에 수용된 처리 액을 상기 트랩 유닛으로 전달하는 약액 라인을 더 포함할 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 액 공급 유닛은, 내부 공간을 가지는 몸체; 및 상기 내부 공간에 삽입 가능하도록 구성되는 캐비닛을 포함하고, 상기 바틀은, 상기 캐비닛에 교체 가능하게 장착될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 회전 발생 부는, 상기 바틀이 상기 내부 공간에 위치하는 제1위치에 있을 때 상기 바틀의 입구가 아래 방향을 바라보는 공급 자세가 되도록 상기 바틀을 회전시키고, 상기 바틀이 상기 내부 공간에서 벗어나는 제2위치에 있을 때 상기 바틀의 입구가 위 방향을 바라보는 교체 자세가 되도록 상기 바틀을 회전시킬 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 회전 발생 부는, 상기 캐비닛이 상기 제1위치, 그리고 상기 제2위치 사이에서 이동하는 직선 운동으로부터 상기 바틀을 회전시키는 회전 운동을 발생시키도록 구성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 액 공급 유닛은, 상기 회전 발생 부가 발생시키는 회전 력을 전달받는 제1샤프트; 및 상기 바틀이 장착되며, 상기 제1샤프트의 회전에 종속하여 회전되는 제2샤프트를 포함하되, 상기 제1샤프트 및 상기 제2샤프트는 상기 캐비닛에 설치될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 제1샤프트, 그리고 상기 제2샤프트의 회전 축은 서로 교차하고, 상기 액 공급 유닛은, 교차 축인 상기 제1샤프트, 그리고 상기 제2샤프트 사이의 운동을 전달하는 교차 축 연결 부를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 교차 축 연결 부는, 상기 제1샤프트의 일 단에 설치되는 구동 기어; 및 상기 제2샤프트의 일 단에 설치되는 피동 기어를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 액 공급 유닛은, 상기 바틀이 장착되는 캡; 및 상기 캡에 연결되며, 상기 바틀 내 상기 처리 액을 상기 액 처리 챔버로 이동시키는 약액 라인을 포함할 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 트랩 유닛은, 상기 바틀로부터 상기 약액 라인을 통해 인출된 상기 처리 액의 불순물 또는 상기 처리 액 내 기포를 제거할 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 액 공급 유닛은, 상기 캡에 연결되며, 상기 바틀 내 공간을 가압하는 가스를 공급하는 가스 라인; 및 상기 가스 라인에 설치되는 가스 밸브를 더 포함할 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 제어기를 더 포함하고, 상기 제어기는, 사용자의 설정에 따라 상기 가스 라인이 상기 바틀 내 공간으로 상기 가스를 선택적으로 공급할 수 있도록 상기 가스 밸브의 개폐를 제어할 수 있다.
또한, 본 발명은 액 처리 챔버로 처리 액을 공급하는 액 공급 장치를 제공한다. 액 공급 장치는, 처리 액이 수용되는 바틀; 제1위치, 그리고 상기 제1위치와 상이한 제2위치 사이에 이동 가능하게 구성되는 캐비닛 - 상기 캐비닛에는 상기 바틀이 교체 가능하도록 장착됨 - ; 상기 바틀의 입구가 아래를 향하며 상기 액 처리 챔버로 상기 바틀 내 처리 액을 공급하는 자세인 공급 자세, 그리고 상기 바틀의 입구가 위를 향하는 자세인 교체 자세 사이에서 상기 바틀의 자세가 변경되도록 상기 바틀을 회전시키는 회전 발생 부; 및 상기 바틀, 그리고 상기 액 처리 챔버 사이에 배치되는 트랩 유닛을 포함하고, 상기 트랩 유닛은 상기 바틀의 자세가 상기 공급 자세일 때 상기 바틀보다 낮은 위치에 배치될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 액 공급 장치는, 상기 바틀에 수용된 상기 처리 액을 상기 트랩 유닛으로 전달하는 약액 튜브를 더 포함할 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 내부 공간을 가지는 몸체를 더 포함하고, 상기 제1위치는 상기 바틀이 상기 내부 공간에 제공되는 위치이고, 상기 제2위치는 상기 바틀이 상기 내부 공간으로부터 벗어나는 위치이고, 상기 회전 발생 부는, 상기 캐비닛이 상기 제1위치에 있을 때 상기 바틀이 상기 공급 자세가 되고, 상기 캐비닛이 상기 제2위치에 있을 때 상기 바틀이 상기 교체 자세가 되도록 구성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 회전 발생 부는, 상기 캐비닛이 상기 제1위치, 그리고 상기 제2위치 사이에서 이동하는 직선 운동으로부터 상기 바틀의 자세를 변경하는 회전 운동을 발생시키도록 구성될 수 있다.
또한, 본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는, 기판으로 포토레지스트를 공급하여 기판 상에 도포막을 형성하는 공정을 수행하는 액 처리 챔버; 및 상기 액 처리 챔버로 상기 포토레지스트를 공급하는 액 공급 장치를 포함하고, 상기 액 공급 장치는, 상기 포토레지스트를 공급하는 액 공급 유닛; 상기 액 공급 유닛이 공급하는 상기 포토레지스트의 불순물을 제거하거나, 또는 상기 포토레지스트 내 기포를 제거하는 트랩 유닛; 및 상기 트랩 유닛으로 전달된 상기 포토레지스트를 상기 액 처리 챔버로 전송하는 펌프 유닛을 포함하고, 상기 액 공급 유닛은, 내부 공간을 가지는 몸체; 상기 내부 공간에 삽입 가능하도록 구성되는 캐비닛; 상기 캐비닛에 교체 가능하게 장착되는 바틀; 상기 바틀에 수용된 처리 액을 상기 트랩 유닛으로 전달하는 약액 라인; 및 상기 바틀의 입구가 향하는 방향이 변경되도록 상기 바틀을 회전시키는 회전 발생 부를 포함하고, 상기 바틀의 입구가 아래 방향을 바라보는 공급 자세일 때 상기 트랩 유닛은 상기 바틀보다 낮은 위치에 배치될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 회전 발생 부는, 상기 바틀이 상기 내부 공간에 제공되는 제1위치에 있을 때 상기 바틀이 상기 공급 자세가 되도록 상기 바틀을 회전시킬 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 회전 발생 부는, 상기 바틀이 상기 내부 공간에서 벗어나는 제2위치에 있을 때 상기 바틀의 입구가 위 방향을 바라보는 교체 자세가 되도록 상기 바틀을 회전시킬 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 회전 발생 부는, 상기 캐비닛이 상기 제1위치, 그리고 상기 제2위치 사이에서 이동하는 직선 운동으로부터 상기 바틀을 회전시키는 회전 운동을 발생시키도록 구성될 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판을 효율적으로 처리할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 처리 액에 기포 및/또는 파티클이 발생하는 것을 최소화 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 비활성 가스를 공급하지 않고도, 바틀 내 처리 액을 액 처리 챔버로 전달할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 바틀 내에 처리 액을 효과적으로 소모할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 바틀에 수용된 처리 액을 트랩 유닛으로 전달하는 약액 라인에 에어 백 플로우(Air Back Flow) 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면들로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이다.
도 2는 도 1의 도포 블록 또는 현상 블록을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 3은 도 1의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 4는 도 3의 열 처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 5는 도 4의 열 처리 챔버의 정면도이다.
도 6은 도 7의 액 처리 챔버에 제공되는 기판 처리 장치의 일 예를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 7은 도 6의 액 처리 챔버에 제공되는 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 8은 도 6의 액 처리 챔버에 제공되는 기판 처리 장치로 처리 액을 공급하는 액 공급 장치를 개략적으로 나타낸 블록도이다.
도 9는 도 8의 액 공급 유닛을 일 방향에서 바라본 사시도이다.
도 10은 도 9의 액 공급 유닛의 일부를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 11은 도 10의 제1샤프트 및 회전 발생 부를 상부에서 바라본 도면이다.
도 12는 도 10의 바틀의 자세가 변경된 모습을 보여주는 도면이다.
도 13은 공급 자세 상태인 바틀, 그리고 바틀로부터 처리 액을 전달 받는 트랩 유닛의 모습을 보여주는 도면이다.
도 14은 교체 자세 상태인 바틀, 그리고 바틀로부터 처리 액을 전달 받는 트랩 유닛의 모습을 보여주는 도면이다.
도 15는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 액 공급 유닛의 모습을 보여주는 도면이다.
도 16은 도 15의 바틀 내 처리 액을 약액 라인으로 전달하는 모습을 보여주는 도면이다.
도 17, 그리고 도 18은 바틀 내에 형성될 수 있는 홈의 모습을 보여주는 도면이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.
어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다.
어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미이다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미인 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하에서는, 도 1 내지 도 18을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대하여 설명한다. 또한, 이하에서 설명하는 기판(W)을 반송하는 모든 구성들은 반송 유닛(Transfer Unit)으로 칭해질 수도 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이고, 도 2는 도 1의 도포 블록 또는 현상 블록을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이고, 도 3은 도 1의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치(10)는 인덱스 모듈(100, index module), 처리 모듈(300, treating module), 인터페이스 모듈(500, interface module), 그리고 제어기(미도시)를 포함한다. 일 실시예에 의하면, 인덱스 모듈(100), 처리 모듈(300), 그리고 인터페이스 모듈(500)은 순차적으로 일렬로 배치된다. 이하에서 인덱스 모듈(100), 처리 모듈(300), 그리고 인터페이스 모듈(500)이 배열된 방향을 제1 방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 제1 방향(12)과 수직한 방향을 제2 방향(14)이라 하고, 제1 방향(12) 및 제2 방향(14)에 모두 수직한 방향을 제3 방향(16)으로 정의한다.
제어기는 기판 처리 장치(10)를 제어할 수 있다. 예컨대, 제어기는 기판 처리 장치(10)가 가지는 인덱스 모듈(100), 처리 모듈(300), 그리고 인터페이스 모듈(500)을 제어할 수 있다.
또한, 제어기는 후술하는 액 공급 장치(2000)를 제어할 수 있다.
또한, 제어기는 기판 처리 장치(10)의 제어를 실행하는 마이크로프로세서(컴퓨터)로 이루어지는 프로세스 컨트롤러와, 오퍼레이터가 기판 처리 장치(10)를 관리하기 위해서 커맨드 입력 조작 등을 행하는 키보드나, 기판 처리 장치(10)의 가동 상황을 가시화해서 표시하는 디스플레이 등으로 이루어지는 유저 인터페이스와, 기판 처리 장치(10)에서 실행되는 처리를 프로세스 컨트롤러의 제어로 실행하기 위한 제어 프로그램이나, 각종 데이터 및 처리 조건에 따라 각 구성부에 처리를 실행시키기 위한 프로그램, 즉 처리 레시피가 저장된 기억부를 구비할 수 있다. 또한, 유저 인터페이스 및 기억부는 프로세스 컨트롤러에 접속되어 있을 수 있다. 처리 레시피는 기억 부 중 기억 매체에 기억되어 있을 수 있고, 기억 매체는, 하드 디스크이어도 되고, CD-ROM, DVD 등의 가반성 디스크나, 플래시 메모리 등의 반도체 메모리 일 수도 있다.
인덱스 모듈(100)은 기판(W)이 수납된 용기(F)로부터 기판(W)을 처리 모듈(300)로 반송하고, 처리가 완료된 기판(W)을 용기(F)로 수납한다. 인덱스 모듈(100)의 길이 방향은 제2 방향(14)으로 제공된다. 인덱스 모듈(100)은 로드 포트(110)와 인덱스 프레임(130)을 가진다. 인덱스 프레임(130)을 기준으로 로드 포트(110)는 처리 모듈(300)의 반대 측에 위치된다. 기판(W)들이 수납된 용기(F)는 로드 포트(110)에 놓인다. 로드 포트(110)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드 포트(110)는 제2 방향(14)을 따라 배치될 수 있다.
용기(F)로는 전면 개방 일체 식 포드(Front Open Unified Pod:FOUP)와 같은 밀폐용 용기(F)가 사용될 수 있다. 용기(F)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)이나 작업자에 의해 로드 포트(110)에 놓일 수 있다.
인덱스 프레임(130)의 내부에는 인덱스 로봇(132)이 제공된다. 인덱스 프레임(130) 내에는 길이 방향이 제2 방향(14)으로 제공된 가이드 레일(136)이 제공되고, 인덱스 로봇(132)은 가이드 레일(136) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(132)은 기판(W)이 놓이는 핸드를 포함하며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다.
처리 모듈(300)은 기판(W)에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행할 수 있다. 처리 모듈(300)은 용기(F)에 수납된 기판(W)을 전달받아 기판 처리 공정을 수행할 수 있다. 처리 모듈(300)은 도포 블록(300a) 및 현상 블록(300b)을 가진다. 도포 블록(300a)은 기판(W)에 대해 도포 공정을 수행하고, 현상 블록(300b)은 기판(W)에 대해 현상 공정을 수행한다. 도포 블록(300a)은 복수 개가 제공되며, 이들은 서로 적층되게 제공된다. 현상 블록(300b)은 복수 개가 제공되며, 현상 블록(300b)들은 서로 적층되게 제공된다. 도 1의 실시 예에 의하면, 도포 블록(300a)은 2개가 제공되고, 현상 블록(300b)은 2개가 제공된다. 도포 블록 (300a)들은 현상 블록(300b)들의 아래에 배치될 수 있다. 일 예에 의하면, 2개의 도포 블록(300a)들은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다. 또한, 2개의 현상 블록(300b)들은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다.
도 3을 참조하면, 도포 블록(300a), 그리고 현상 블록(300b)은 각각 열 처리 챔버(320), 반송 챔버(350), 액 처리 챔버(360), 그리고 버퍼 챔버(312, 316)를 가진다.
열 처리 챔버(320)는 기판(W)에 대해 가열 공정을 수행한다. 열 처리 챔버(320)는 복수 개로 제공된다. 열 처리 챔버(320)들은 제1 방향(12)을 따라 나열되게 배치된다. 열처리 챔버(320)들은 반송 챔버(350)의 일 측에 위치된다.
액 처리 챔버(360)는 기판(W) 상에 포토레지스트와 같은 도포 액을 공급하여 도포 막을 형성하거나, 노광 공정이 수행된 액 막으로부터 패턴을 취출하는 현상 액을 공급할 수 있다. 도포 막은 포토레지스트 막(Photoresist Layer) 또는 반사방지 막(ARC, Anti Reflective Coating Layer)일 수 있다.
반송 챔버(350)는 도포 블록(300a) 또는 현상 블록(300b) 내에서 열 처리 챔버(320)와 액 처리 챔버(360) 간에 기판(W)을 반송한다. 반송 챔버(350)는 그 길이 방향이 제1 방향(12)과 평행하게 제공된다. 반송 챔버(350)에는 반송 로봇(352)이 제공된다. 반송 로봇(352)은 열 처리 챔버(320), 액 처리 챔버(360), 그리고 버퍼 챔버(312, 316) 간에 기판을 반송한다. 일 예에 의하면, 반송 로봇(352)은 기판(W)이 놓이는 핸드를 가지며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 반송 챔버(350) 내에는 그 길이 방향이 제1 방향(12)과 평행하게 제공되는 가이드 레일(356)이 제공되고, 반송 로봇(352)은 가이드 레일(356) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다.
버퍼 챔버(312, 316)는 복수 개로 제공된다. 버퍼 챔버(312, 316)들 중 일부는 인덱스 모듈(100)과 반송 챔버(350) 사이에 배치된다. 이하, 이들 버퍼 챔버를 전단 버퍼(312)(front buffer)라 칭한다. 전단 버퍼(312)들은 복수 개로 제공되며, 상하 방향을 따라 서로 적층되게 위치된다. 버퍼 챔버(312, 316)들 중 다른 일부는 반송 챔버(350)와 인터페이스 모듈(500) 사이에 배치된다 이하. 이들 버퍼 챔버를 후단 버퍼(316)(rear buffer)라 칭한다. 후단 버퍼(316)들은 복수 개로 제공되며, 상하 방향을 따라 서로 적층되게 위치된다. 전단 버퍼(312)들 및 후단 버퍼(316)들 각각은 복수의 기판(W)들을 일시적으로 보관한다. 전단 버퍼(312)에 보관된 기판(W)은 인덱스 로봇(132) 및 반송 로봇(352)에 의해 반입 또는 반출된다. 후단 버퍼(316)에 보관된 기판(W)은 반송 로봇(352) 및 제1로봇(552)에 의해 반입 또는 반출된다.
또한, 전단 버퍼(312)의 일 측 및 타 측에는 전단 버퍼(312)들 간에 기판(W)을 반송하는 제1전단 버퍼 로봇(314), 그리고 제2전단 버퍼 로봇(315)이 제공될 수 있다. 제1전단 버퍼 로봇(314), 그리고 제2전단 버퍼 로봇(315)은, 상부에서 바라볼 때 전단 버퍼(312)를 사이에 두고 서로 대칭되게 위치될 수 있다. 또한, 제1전단 버퍼 로봇(314), 그리고 제2전단 버퍼 로봇(315)은 각각 반송 핸드를 가질 수 있다. 또한, 제1전단 버퍼 로봇(314), 그리고 제2전단 버퍼 로봇(315)은 서로 상이한 높이에 제공될 수 있다.
또한, 후단 버퍼(316)의 일 측 및 타 측에는 후단 버퍼(316)들 간에 기판(W)을 반송하는 제1후단 버퍼 로봇(318), 그리고 제2후단 버퍼 로봇(319)이 제공될 수 있다. 제1후단 버퍼 로봇(318), 그리고 제2후단 버퍼 로봇(319)은, 상부에서 바라볼 때 후단 버퍼(316)를 사이에 두고 서로 대칭되게 위치될 수 있다. 또한, 제1후단 버퍼 로봇(318), 그리고 제2후단 버퍼 로봇(319)은 각각 반송 핸드를 가질 수 있다. 또한, 제1후단 버퍼 로봇(318), 그리고 제2후단 버퍼 로봇(319)은 서로 상이한 높이에 제공될 수 있다.
인터페이스 모듈(500)은 처리 모듈(300)을 외부의 노광 장치(700)와 연결한다. 인터페이스 모듈(500)은 인터페이스 프레임(510), 부가 공정 챔버(520), 인터페이스 버퍼(530), 그리고 인터페이스 로봇(550)을 가진다.
인터페이스 프레임(510)의 상단에는 내부에 하강기류를 형성하는 팬필터유닛이 제공될 수 있다. 부가 공정 챔버(520), 인터페이스 버퍼(530), 그리고 인터페이스 로봇(550)은 인터페이스 프레임(510)의 내부에 배치된다. 부가 공정 챔버(520)는 도포 블록(300a)에서 공정이 완료된 기판(W)은 노광 장치(700)로 반송될 수 있다. 노광 장치(700)에서는 도포막이 형성된 기판(W) 상에 마스크를 이용하여 광을 조사하는 노광 공정이 수행될 수 있다. 또한, 기판(W)이 노광 장치(700)로 반입되기 전에 소정의 부가 공정을 수행할 수 있다. 선택적으로 부가 공정 챔버(520)는 노광 장치(700)에서 공정이 완료된 기판(W)이 현상 블록(300b)으로 반입되기 전에 소정의 부가 공정을 수행할 수 있다. 일 예에 의하면, 부가 공정은 기판(W)의 에지 영역을 노광하는 에지 노광 공정, 또는 기판(W)의 상면을 세정하는 상면 세정 공정, 또는 기판(W)의 하면을 세정하는 하면 세정공정일 수 있다. 부가 공정 챔버(520)는 복수 개가 제공되고, 이들은 서로 적층되도록 제공될 수 있다. 부가 공정 챔버(520)는 모두 동일한 공정을 수행하도록 제공될 수 있다. 선택적으로 부가 공정 챔버(520)들 중 일부는 서로 다른 공정을 수행하도록 제공될 수 있다.
인터페이스 버퍼(530)는 도포 블록(300a), 부가 공정 챔버(520), 노광 장치(700), 그리고 현상 블록(300b) 간에 반송되는 기판(W)이 반송도중에 일시적으로 머무르는 공간을 제공한다. 인터페이스 버퍼(530)는 복수 개가 제공되고, 복수의 인터페이스 버퍼(530)들은 서로 적층되게 제공될 수 있다.
일 예에 의하면, 반송 챔버(350)의 길이 방향의 연장선을 기준으로 일 측면에는 부가 공정 챔버(520)가 배치되고, 다른 측면에는 인터페이스 버퍼(530)가 배치될 수 있다.
인터페이스 로봇(550)은 도포 블록(300a), 부가 공정 챔버(520), 노광 장치(700), 그리고 현상 블록(300b) 간에 기판(W)을 반송한다. 인터페이스 로봇(550)은 기판(W)을 반송하는 반송 핸드를 가질 수 있다. 인터페이스 로봇(550)은 1개 또는 복수 개의 로봇으로 제공될 수 있다. 일 예에 의하면, 인터페이스 로봇(550)은 제1로봇(552) 및 제2로봇(554)을 가진다. 제1로봇(552)은 도포 블록(300a), 부가 공정 챔버(520), 그리고 인터페이스 버퍼(530) 간에 기판(W)을 반송하고, 제2로봇(554)은 인터페이스 버퍼(530)와 노광 장치(700) 간에 기판(W)을 반송하고, 제2로봇(4604)은 인터페이스 버퍼(530)와 현상 블록(300b) 간에 기판(W)을 반송하도록 제공될 수 있다.
제1로봇(552) 및 제2로봇(554)은 각각 기판(W)이 놓이는 반송 핸드를 포함하며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)에 평행한 축을 기준으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다.
도 4는 도 3의 열 처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 5는 도 4의 열 처리 챔버의 정면도이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 열 처리 챔버(320)는 하우징(3210), 냉각 유닛(3220), 가열 유닛(3230), 그리고 반송 플레이트(3240)를 가진다.
하우징(3210)은 대체로 직육면체의 형상으로 제공된다. 하우징(3210)의 측벽에는 기판(W)이 출입되는 반입구(미도시)가 형성된다. 반입구는 개방된 상태로 유지될 수 있다. 선택적으로 반입구를 개폐하도록 도어(도시되지 않음)가 제공될 수 있다. 냉각 유닛(3220), 가열 유닛(3230), 그리고 반송 플레이트(3240)는 하우징(3210) 내에 제공된다. 냉각 유닛(3220) 및 가열 유닛(3230)은 제2 방향(14)을 따라 나란히 제공된다. 일 예에 의하면, 냉각 유닛(3220)은 가열 유닛(3230)에 비해 반송 챔버(350)에 더 가깝게 위치될 수 있다.
냉각 유닛(3220)은 냉각 플레이트(3222)를 가진다. 냉각 플레이트(3222)를 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가질 수 있다. 냉각 플레이트(3222)에는 냉각 부재(3224)가 제공된다. 일 예에 의하면, 냉각 부재(3224)는 냉각 플레이트(3222)의 내부에 형성되며, 냉각 유체가 흐르는 유로로 제공될 수 있다.
가열 유닛(3230)은 가열 플레이트(3232), 커버(3234), 히터(3233), 그리고 온도 센서(3239)를 가진다. 가열 플레이트(3232)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가진다. 가열 플레이트(3232)는 기판(W)보다 큰 직경을 가진다. 가열 판(3232)에는 히터(3233)가 설치된다. 히터(3233)는 전류가 인가되는 발열 저항체로 제공될 수 있다. 가열 플레이트(3232)에는 제3 방향(16)을 따라 상하 방향으로 구동 가능한 리프트 핀(3238)들이 제공된다. 리프트 핀(3238)은 가열 유닛(3230) 외부의 반송 수단으로부터 기판(W)을 인수받아 가열 플레이트(3232) 상에 내려놓거나 가열 플레이트(3232)으로부터 기판(W)을 들어올려 가열 유닛(3230) 외부의 반송 수단으로 인계한다. 일 예에 의하면, 리프트 핀(3238)은 3개가 제공될 수 있다. 커버(3234)는 내부에 하부가 개방된 공간을 가진다. 커버(3234)는 가열 플레이트(3232)의 상부에 위치되며 구동기(3236)에 의해 상하 방향으로 이동된다. 커버(3234)가 이동되어 커버(3234)와 가열 플레이트(3232)가 형성하는 공간은 기판(W)을 가열하는 가열 공간으로 제공된다. 온도 센서(3239)는 가열 플레이트(3232)의 온도를 실시간으로 측정하고, 측정된 가열 플레이트(3232)의 온도 측정 값을 실시간으로 제어기로 전달할 수 있다.
반송 플레이트(3240)는 대체로 원판 형상을 제공되고, 기판(W)과 대응되는 직경을 가진다. 반송 플레이트(3240)의 가장자리에는 노치(3244)가 형성된다. 노치(3244)는 상술한 반송 로봇(352)의 핸드(354)에 형성된 돌기(3543)와 대응되는 형상을 가질 수 있다. 또한, 노치(3244)는 핸드(354)에 형성된 돌기(3543)와 대응되는 수로 제공되고, 돌기(3543)와 대응되는 위치에 형성된다. 핸드(354)와 반송 플레이트(3240)가 상하 방향으로 정렬된 위치에서 핸드(354)와 반송 플레이트(3240)의 상하 위치가 변경하면 핸드(354)와 반송 플레이트(3240) 간에 기판(W)의 전달이 이루어진다. 반송 플레이트(3240)는 가이드 레일(3249) 상에 장착되고, 구동기(3246)에 의해 가이드 레일(3249)을 따라 제1영역(3212)과 제2영역(3214) 간에 이동될 수 있다. 반송 플레이트(3240)에는 슬릿 형상의 가이드 홈(3242)이 복수 개 제공된다. 가이드 홈(3242)은 반송 플레이트(3240)의 끝 단에서 반송 플레이트(3240)의 내부까지 연장된다. 가이드 홈(3242)은 그 길이 방향이 제2 방향(14)을 따라 제공되고, 가이드 홈(3242)들은 제1 방향(12)을 따라 서로 이격되게 위치된다. 가이드 홈(3242)은 반송 플레이트(3240)와 가열 유닛(3230) 간에 기판(W)의 인수인계가 이루어질 때 반송 플레이트(3240)와 리프트 핀(3238)이 서로 간섭되는 것을 방지한다.
기판(W)의 냉각은 기판(W)이 놓인 반송 플레이트(3240)가 냉각 판(3222)에 접촉된 상태에서 이루어진다. 냉각 판(3222)과 기판(W) 간에 열 전달이 잘 이루어지도록 반송 플레이트(3240)는 열 전도성이 높은 재질로 제공된다. 일 예에 의하면, 반송 플레이트(3240)는 금속 재질로 제공될 수 있다.
열 처리 챔버(320)들 중 일부의 열처리 챔버(320)에 제공된 가열 유닛(3230)은 기판(W) 가열 중에 가스를 공급하여 포토레지스트의 기판(W) 부착율을 향상시킬 수 있다. 일 예에 의하면, 가스는 헥사메틸디실란(HMDS, hexamethyldisilane) 가스일 수 있다.
액 처리 챔버(360)는 복수 개로 제공된다. 액 처리 챔버(360)들 중 일부는 서로 적층되도록 제공될 수 있다. 액 처리 챔버(360)들은 반송 챔버(350)의 일 측에 배치된다. 액 처리 챔버(360)들은 제1 방향(12)을 따라 나란히 배열된다. 액 처리 챔버(360)들 중 어느 일부는 인덱스 모듈(100)과 인접한 위치에 제공된다. 이하, 이들 액 처리 챔버(360)를 전단 액 처리 챔버(362)(front liquid treating chamber)라 칭한다. 액 처리 챔버(360)들 중 다른 일부는 인터페이스 모듈(500)과 인접한 위치에 제공된다. 이하, 이들 액 처리 챔버(360)를 후단 액처리 챔버(364)(rear heat treating chamber)라 칭한다. 도포 블록(300a)에 제공되는 액 처리 챔버(360)에서는, 도포 액을 공급할 수 있고, 현상 블록(300b)에 제공되는 액 처리 챔버(360) 에서는 현상 액을 공급할 수 있다.
도 6은 도 7의 액 처리 챔버에 제공되는 기판 처리 장치의 일 예를 개략적으로 보여주는 도면이고, 도 7은 도 6의 액 처리 챔버에 제공되는 기판 처리 장치의 평면도이다. 도 6 및 도 7에서는 도포 블록(300a)에 제공되는 액 처리 챔버(360)에 대하여 도시한다. 또한, 현상 블록(300b)에 제공되는 액 처리 챔버(360)는 사용되는 처리 액의 종류가 다를 뿐, 도포 블록(300a)에 제공되는 액 처리 챔버(360)와 동일/유사한 구성들을 가지므로, 현상 블록(300b)에 제공되는 액 처리 챔버(360)에 대한 반복된 설명은 생략한다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 액 처리 챔버(360)에는 기판(W)을 처리하는 기판 처리 장치(1000)가 제공될 수 있다. 액 처리 챔버(360)에는 기판(W)에 대하여 액 처리를 수행하는 기판 처리 장치(1000)가 제공될 수 있다.
액 처리 챔버(360)에 제공되는 기판 처리 장치(1000)는 하우징(1100), 처리 용기(1200), 지지 유닛(1300), 기류 공급 유닛(1400), 그리고 액 토출 유닛(1500)을 포함할 수 있다.
하우징(1100)은 내부 공간(1102)을 가질 수 있다. 하우징(1100)은 내부 공간(1102)을 가지는 사각의 통 형상으로 제공될 수 있다. 하우징(1100)의 일 측에는 개구(미도시)가 형성될 수 있다. 개구는 기판(W)이 내부 공간(1102)으로 반입되거나, 내부 공간(1102)에서 기판(W)이 반출되는 입구로 기능할 수 있다. 또한, 개구를 선택적으로 밀폐시키기 위해, 개구와 인접한 영역에는 도어(미도시)가 설치될 수 있다. 도어는 내부 공간(1102)에 반입 된 기판(W)에 대한 처리 공정이 수행되는 동안, 개구를 차단하여 내부 공간(1102)을 밀폐 시킬 수 있다.
처리 용기(1200)는 내부 공간(1102)에 배치될 수 있다. 처리 용기(1200)는 처리 공간(1202)을 가질 수 있다. 즉, 처리 용기(1200)는 처리 공간(1202)을 가지는 바울일 수 있다. 이에, 내부 공간(1102)은 처리 공간(1202)을 감싸도록 제공될 수 있다. 처리 용기(1200)는 상부가 개방된 컵 형상을 가질 수 있다. 처리 용기(1200)가 가지는 처리 공간(1202)은 후술하는 지지 유닛(1300)이 기판(W)을 지지, 그리고 회전시키는 공간일 수 있다. 처리 공간(1202)은 액 토출 유닛(1500), 그리고 습윤 유닛(1600)이 각각 처리 매체를 공급하여 기판(W)이 처리되는 공간일 수 있다.
처리 용기(1200)는 내측 컵(1210), 그리고 외측 컵(1230)을 포함할 수 있다. 외측 컵(1230)은 지지 유닛(1300)의 둘레를 감싸도록 제공되고, 내측 컵(1210)은 외측 컵(1230)의 내측에 위치될 수 있다. 내측 컵(1210), 그리고 외측 컵(1230) 각각은 상부에서 바라볼 때 환형의 링 형상을 가질 수 있다. 내측 컵(1210), 그리고 외측 컵(1230)의 사이 공간은 처리 공간(1202)으로 유입된 처리 매체가 회수되는 회수 경로로 기능할 수 있다.
내측 컵(1230)은 상부에서 바라볼 때, 후술하는 지지 유닛(1300)의 회전 축(1330)을 감싸는 형상으로 제공될 수 있다. 예컨대, 내측 컵(1230)은 상부에서 바라볼 때 회전 축(1330)을 감싸는 원형의 판 형상으로 제공될 수 있다. 상부에서 바라볼 때, 내측 컵(1230)은 하우징(1100)에 결합되는 배기구(1120)와 중첩되도록 위치될 수 있다. 내측 컵(1230)은 내측 부 및 외측 부를 가질 수 있다. 내측 부와 외측 부 각각의 상면은 가상의 수평 선을 기준으로 서로 상이한 각도를 가지도록 제공될 수 있다. 예컨대, 내측 부는 상부에서 바라 볼 때, 후술하는 지지 유닛(1300)의 지지 판(1310)과 중첩되게 위치될 수 있다. 내측 부는 회전 축(1330)과 마주하게 위치될 수 있다. 내측 부는 외전 축(1330)으로부터 멀어질수록 그 상면이 상향 경사진 방향을 향하고, 외측 부는 내측 부로부터 외측 방향으로 연장될 수 있다. 외측 부는 그 상면이 회전 축(1330)으로부터 멀어질수록 하향 경사진 방향을 향할 수 있다. 내측 부의 상단은 기판(W)의 측단 부와 상하 방향으로 일치될 수 있다. 일 예에 의하면, 외측 부와 내측 부가 만나는 지점은 내측 부의 상단보다 낮은 위치일 수 있다. 내측 부와 외측 부가 서로 만나는 지점은 라운드지도록 제공될 수 있다. 외측 부는 외측 컵(1230)과 서로 조합되어 처리 액, 습윤 매체와 같은 처리 매체가 회수되는 회수 경로를 형성할 수 있다.
외측 컵(1230)은 지지 유닛(1300) 및 내측 컵(1210)을 감싸는 컵 형상으로 제공될 수 있다. 외측 컵(1230)은 바닥 부(1232), 측 부(1234), 경사 부(1236)를 가질 수 있다. 바닥 부(1232)는 중공을 가지는 원형의 판 형상을 가질 수 있다. 바닥 부(1232)에는 회수 라인(1238)이 연결될 수 있다. 회수 라인(1238)은 기판(W) 상에 공급된 처리 매체를 회수할 수 있다. 회수 라인(1238)에 의해 회수된 처리 매체는 외부의 재생 시스템에 의해 재 사용될 수 있다. 측 부(1234)는 지지 유닛(1300)을 감싸는 환 형의 링 형상을 가질 수 있다. 측 부(1234)는 바닥 부(1232)의 측 단으로부터 수직한 방향으로 연장될 수 있다. 측 부(1234)는 바닥 부(1232)로부터 위로 연장될 수 있다.
경사 부(1236)는 측 부(1234)의 상단으로부터 외측 컵(1230)의 중심 축을 향하는 방향으로 연장될 수 있다. 경사 부(1236)의 내측 면은 지지 유닛(1300)에 가까워지도록 상향 경사지게 제공될 수 있다. 경사 부(1236)는 링 형상을 가지도록 제공될 수 있다. 기판(W)에 대한 처리 공정 중에는 경사 부(1236)의 상단이 지지 유닛(1300)에 지지된 기판(W)보다 높게 위치될 수 있다.
내측 승강 부재(1242), 그리고 외측 승강 부재(1244)는 각각 내측 컵(1210), 그리고 외측 컵(1230)을 승강 이동시킬 수 있다. 내측 승강 부재(1242)는 내측 컵(1210)과 결합되고, 외측 승강 부재(1244)는 외측 컵(1230)과 결합되어 각각 내측 컵(1210), 그리고 외측 컵(1230)을 승강 이동시킬 수 있다.
지지 유닛(1300)은 기판(W)을 지지, 그리고 회전시킬 수 있다. 지지 유닛(1300)은 기판(W)을 지지, 그리고 회전시키는 척 일 수 있다. 지지 유닛(1300)은 지지 판(1310), 회전 축(1330), 그리고 회전 구동기(1350)를 포함할 수 있다. 지지 판(1310)은 기판(W)이 안착되는 안착 면을 가질 수 있다. 지지 판(1310)은 상부에서 바라볼 때 원 형상을 가질 수 있다. 지지 판(1310)은 상부에서 바라볼 때, 그 직경이 기판(W)보다 작은 직경을 가질 수 있다. 지지 판(1310)에는 흡착 홀(미도시)이 형성되어, 진공 흡착 방식으로 기판(W)을 척킹할 수 있다. 선택 적으로 지지 판(1310)에는 정전 판(미도시)이 제공되어 정전기를 이용한 정전 흡착 방식으로 기판(W)을 척킹 할 수 있다. 선택 적으로 지지 판(1310)에는 기판(W)을 지지하는 지지 핀들이 제공되어 지지 핀과 기판(W)이 서로 물리적으로 접촉되어 기판(W)을 척킹할 수도 있다.
회전 축(1330)은 지지 판(1310)과 결합될 수 있다. 회전 축(1330)은 지지 판(1310)의 하면과 결합될 수 있다. 회전 축(1330)은 그 길이 방향이 상하 방향을 향하도록 제공될 수 있다. 회전 축(1330)은 회전 구동기(1350)로부터 동력을 전달 받아 회전될 수 있다. 이에, 회전 축(1330)은 지지 판(1310)을 회전시킬 수 있다. 회전 구동기(1350)는 회전 축(1330)의 회전 속도를 가변할 수 있다. 회전 구동기(1350)는 구동력을 제공하는 모터일 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니며 회전 구동기(1350)는 구동력을 제공하는 공지된 장치로 다양하게 변형될 수 있다.
기류 공급 유닛(1400)은 내부 공간(1102)으로 기류를 공급할 수 있다. 기류 공급 유닛(1400)은 내부 공간(1102)으로 하강 기류를 공급할 수 있다. 기류 공급 유닛(1400)은 내부 공간(1102)으로 온도 및/또는 습도가 조절된 기류를 공급할 수 있다. 기류 공급 유닛(1400)은 하우징(1100)에 설치될 수 있다. 기류 공급 유닛(1400)은 처리 용기(1200), 그리고 지지 유닛(1300)보다 상부에 설치될 수 있다. 기류 공급 유닛(1400)은 팬(1410), 기류 공급 라인(1430), 그리고 필터(1450)를 포함할 수 있다. 기류 공급 라인(1430)은 온도 및/또는 습도가 조절된 외부의 기류를 내부 공간(1102)으로 공급할 수 있다. 기류 공급 라인(1430)에는 필터(1450)가 설치되어, 기류 공급 라인(1430)에 흐르는 외부의 기류가 가지는 불순물을 제거할 수 있다. 또한, 팬(1410)이 구동되면 기류 공급 라인(1430)이 공급하는 외부의 기류를 내부 공간(1102)으로 균일하게 전달할 수 있다.
액 토출 유닛(1500)은 지지 유닛(1300)에 지지된 기판(W)으로 처리 액을 토출할 수 있다. 액 토출 유닛(1500)이 기판(W)으로 공급하는 처리 액은 도포 액일 수 있다. 예컨대, 도포 액은 포토레지스트와 같은 감광액일 수 있다. 또한, 액 토출 유닛(1500)은 지지 유닛(1300)에 지지된 기판(W)으로 프리 웨트 액을 공급할 수 있다. 액 토출 유닛(1500)이 기판(W)으로 공급하는 프리 웨트 액은 기판(W)의 표면 성질을 변화시킬 수 있는 액 일 수 있다. 예컨대, 프리 웨트 액은 기판(W)의 표면 성질을 소수성 성질을 가지도록 변화시킬 수 있는 시너(Thinner)일 수 있다.
액 토출 유닛(1500)은 프리 웨트 노즐(1510), 처리 액 노즐(1530), 아암(1540), 가이드 레일(1550), 그리고 구동기(1560)를 포함할 수 있다.
프리 웨트 노즐(1510)은 상술한 프리 웨트 액을 기판(W)으로 공급할 수 있다. 프리 웨트 노즐(1510)은 스트림 방식으로 프리 웨트 액을 기판(W)으로 공급할 수 있다. 처리 액 노즐(1530)은 상술한 처리 액을 기판(W)으로 공급할 수 있다. 처리 액 노즐(1530)은 상술한 포토레지스트와 같은 도포 액을 공급하는 도포 액 노즐일 수 있다. 처리 액 노즐(1530)은 스트림 방식으로 처리 액을 기판(W)으로 공급할 수 있다. 프리 웨트 액, 그리고 도포 액은 모두 처리 액으로 불릴 수도 있다.
아암(1540)은 프리 웨트 노즐(1510), 그리고 처리 액 노즐(1530)을 지지할 수 있다. 아암(1540)의 일 단에는 프리 웨트 노즐(1510), 그리고 처리 액 노즐(1530)이 설치될 수 있다. 아암(1540)의 일 단 하면에는 프리 웨트 노즐(1510), 그리고 처리 액 노즐(1530)이 각각 설치될 수 있다. 상부에서 바라볼 때, 프리 웨트 노즐(1510) 및 처리 액 노즐(1530)은 후술하는 가이드 레일(1550)의 길이 방향과 평행한 방향으로 배열될 수 있다. 아암(1540)의 타 단은 구동기(1560)와 결합될 수 있다. 아암(1540)은 아암(1540)을 이동시키는 구동기(1560)에 의해 이동될 수 있다. 이에, 아암(1540)에 설치된 프리 웨트 노즐(1510), 그리고 처리 액 노즐(1530)의 위치는 변경될 수 있다. 아암(1540)은 구동기(1560)가 설치되는 가이드 레일(1550)을 따라 그 이동 방향이 가이드 될 수 있다. 가이드 레일(1550)은 그 길이 방향이 수평 방향을 향하도록 제공될 수 있다. 예컨대, 가이드 레일(1550)은 그 길이 방향이 제1 방향(12)과 평행한 방향을 향하도록 제공될 수 있다. 선택적으로 아암(1540)은 길이 방향이 제3 방향(16)을 향하는 회전 축에 결합되어 회전될 수 있다. 회전 축은 구동기에 의해 회전 될 수 있다. 이에, 아암(1540)에 설치되는 프리 웨트 노즐(1510), 그리고 처리 액 노즐(1530)의 위치는 변경될 수 있다.
도 8은 도 6의 액 처리 챔버에 제공되는 기판 처리 장치로 처리 액을 공급하는 액 공급 장치를 개략적으로 나타낸 블록도이다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치(10)는 액 공급 장치(2000)를 더 포함할 수 있다. 액 공급 장치(2000)는 액 처리 챔버(360)로 처리 액을 공급할 수 있다. 액 공급 장치(2000)는 기판 처리 장치(10)의 도포 블록(30a) 또는 현상 블록(30b)에 제공될 수 있다. 액 공급 장치(2000)는 액 처리 챔버(360)에 제공되는 기판 처리 장치(1000)로 처리 액을 공급할 수 있다. 예컨대, 액 공급 장치(2000)는 액 토출 유닛(1500)으로 처리 액을 공급할 수 있다. 액 공급 장치(2000)가 공급하는 처리 액은 액 처리 챔버(360)에서 사용되는 처리 액일 수 있다. 예컨대, 액 공급 장치(2000)가 공급하는 처리 액은 포토레지스트일 수 있다.
액 공급 장치(2000)는 액 공급 유닛(2100), 트랩 유닛(2300), 그리고 펌프 유닛(2500)을 포함할 수 있다.
후술하는 액 공급 유닛(2100)의 바틀(2200)에 수용된 처리 액은 약액 라인(2190)을 통해 트랩 유닛(2300)으로 전달될 수 있다. 트랩 유닛(2300)에 전달된 처리 액은 펌프(2500)를 통해 액 처리 챔버(360)에 제공되는 기판 처리 장치(1000)로 전달될 수 있다. 예컨대, 트랩 유닛(2300)에 전달된 처리 액은 약액 채널(2400)을 통해 기판 처리 장치(1000)로 전달될 수 있다. 약액 채널(2400)은 펌프(2500)의 상류에 설치되는 제1약액 채널(2401), 그리고 펌프(2500)의 하류에 설치되는 제2약액 채널(2402)을 포함할 수 있다.
액 공급 유닛(2100)은 액 처리 챔버(360)에 제공되는 기판 처리 장치(1000)로 처리 액을 공급할 수 있다. 액 공급 유닛(2100)은 액 처리 챔버(360)와 액 공급 유닛(2100) 사이에 배치되는 트랩 유닛(2300)으로 처리 액을 공급할 수 있다.
트랩 유닛(2300)은 액 공급 유닛(2100)으로부터 전달받는 처리 액의 불순물을 제거하거나, 처리 액 내 기포를 제거할 수 있다. 트랩 유닛(2300)은 처리 액의 불순물을 제거 및/또는 처리 액 내 기포를 제거할 수 있는 구성(예컨대, 필터)이 설치되는 탱크일 수 있다.
펌프 유닛(2500)은 트랩 유닛(2300)으로 공급된 처리 액을, 트랩 유닛(2300)으로부터 인출하여 액 처리 챔버(360)의 기판 처리 장치(1000)로 전송할 수 있다.
도 9는 도 8의 액 공급 유닛을 일 방향에서 바라본 사시도이고, 도 10은 도 9의 액 공급 유닛의 일부를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 11은 도 10의 제1샤프트 및 회전 발생 부를 상부에서 바라본 도면이고, 도 12는 도 10의 바틀의 자세가 변경된 모습을 보여주는 도면이다.
도 9, 도 10, 도 11 및 도 12를 참조하면, 액 공급 유닛(2100)은 액 처리 챔버(360)로 처리 액을 공급할 수 있다. 액 공급 유닛(2100)은 캐비닛(2110), 제1샤프트(2120), 제2샤프트(2130), 교차 축 연결 부(2140), 가이드 부(2150), 몸체(2160), 회전 발생 부(2170), 캡(2180), 약액 라인(2190), 그리고 바틀(2200)을 포함할 수 있다.
몸체(2160)는 내부 공간(2162)을 가질 수 있다. 몸체(2160)는 캐비닛(2110)이 삽입될 수 있도록 일 면이 개방된 내부 공간(2162)을 가질 수 있다. 캐비닛(2110)은 내부 공간(2162)에 삽입가능하게 구성될 수 있다.
캐비닛(2110)은 슬라이딩 되어 제1위치, 그리고 제2위치 사이에서 직선 이동될 수 있다. 캐비닛(2110)의 직선 이동을 가이드 할 수 있도록 캐비닛(2110)에는 가이드 부(2150)가 설치될 수 있다. 가이드 부(2150)는 제1가이드 부(2151), 그리고 제2가이드 부(2152)를 포함할 수 있다. 제1가이드 부(2151) 및 제2가이드 부(2152)는 몸체(2160)에 설치될 수 있다는 회전 발생 부(2170)를 사이에 두고 서로 대향되게 설치될 수 있다. 제1가이드 부(2151) 및 제2가이드 부(2152)는 캐비닛(2110)의 직선 운동의 방향을 가이드 할 수 있다.
또한, 상술한 제1위치는 캐비닛(2110)이 내부 공간(2162)에 삽입되어, 후술하는 바틀(2200)이 내부 공간(2162)에 제공되는 위치일 수 있다. 바틀(2200)에 내부 공간(2162)에 제공되는 경우, 바틀(2200)내 처리 액은 액 처리 챔버(360)로 공급될 수 있기에 제1위치는 공급 위치라 불릴 수도 있다. 제2위치는 캐비닛(2110)이 내부 공간(2162)으로부터 벗어나, 후술하는 바틀(2200)이 내부 공간(2162)으로부터 벗어나는 위치일 수 있다. 바틀(2200)이 내부 공간(2162)으로부터 벗어나는 경우, 캐비닛(2100)에 장착된 바틀(2200)은 다른 바틀(2200)로 교체될 수 있으므로, 제2위치는 교체 위치라 불릴 수도 있다.
제1샤프트(2120) 및 제2샤프트(2130)는 캐비닛(2110)에 설치될 수 있다. 제1샤프트(2120), 그리고 제2샤프트(2130)는 회전 발생 부(2170)가 발생시키는 회전 운동을 바틀(2200)로 전달할 수 있다. 제1샤프트(2120)는 그 길이 방향이 지면에 수직한 방향일 수 있다. 제1샤프트(2120)의 회전 축은 지면에 수직한 방향일 수 있다. 제2샤프트(2130)의 회전 축은 제1샤프트(2120)의 회전 축과 서로 교차될 수 있다. 예컨대, 제2샤프트(2130)의 길이 방향은 지면에 평행한 방향일 수 있다. 제2샤프트(2130)의 회전 축은 지면에 평행한 방향일 수 있다. 제2샤프트(2130)의 회전 축은 제1샤프트(2120)의 회전 축과 서로 수직할 수 있다.
서로 교차하는 축인 제1샤프트(2120)와 제2샤프트(2130) 사이의 운동 전달은 교차 축 연결 부(2140)에 의해 전달될 수 있다. 교차 축 연결 부(2140)는 캐비닛(2110)에 설치될 수 있다. 교차 축 연결 부(2140)는 기어 박스(2142), 그리고 베벨 기어(2144)를 포함할 수 있다. 베벨 기어(2144)는 기어 박스(2142) 내에 제공될 수 있다. 베벨 기어(2144)는 구동 기어(2144a) 및 피동 기어(2144)를 포함할 수 있다. 구동 기어(2144a)는 제1샤프트(2120)의 일 단에 설치될 수 있다. 피동 기어(2144b)는 제2샤프트(2130)의 일 단에 설치될 수 있다. 즉, 제2샤프트(2130)는 제1샤프트(2120)의 회전에 종속하여 회전될 수 있다.
또한, 제1샤프트(2120)의 일 단의 반대 편인 제1샤프트(2120)의 타단에는 샤프트 홈(2122)이 형성될 수 있다. 샤프트 홈(2122)은 후술하는 회전 발생 부(2170)의 회전 홈(2172)과 맞 닿을 수 잇다. 예컨대, 샤프트 홈(2122)은 회전 발생 부(2170)의 회전 홈(2172)과 맞닿아 제1샤프트(2120)를 회전 시킬 수 있다. 제1샤프트(2120)의 회전 운동은 베벨 기어(2144)를 매개로 제2샤프트(2130)로 전달될 수 있다. 도 12에 도시된 바와 같이 제2샤프트(2130)가 회전되면, 제2샤프트(2130)에 교체 가능하게 장착되는 바틀(2200)은 회전될 수 있다.
회전 발생 부(2170)는 바틀(2200)의 입구가 향하는 방향이 변경되도록 바틀(2200)을 회전시킬 수 있다. 회전 발생 부(2170)는 판 형상을 가질 수 있다. 회전 발생 부(2170)는 몸체(2160)에 설치될 수 있다. 회전 발생 부(2170)의 일 측에는 상술한 제1샤프트(2120)으 샤프트 홈(2122)과 맞 닿을 수 있는 회전 홈(2172)이 형성될 수 있다.
회전 발생 부(2170)는 캐비닛(2110)의 직선 운동을 회전 운동으로 전환하여 바틀(2200)을 회전시킬 수 있다. 캐비닛(2110)이 제1위치, 그리고 제2위치 사이에서 슬라이딩되어 직선 운동하게 되면, 그 직선 운동으로 회전 홈(2172)과 샤프트 홈(2122)은 맞 닿을 수 있다. 회전 발생 부(2170)의 회전 홈(2172)은 제1샤프트(2120)에 회전 운동을 발생시킬 수 있다. 이에, 제2샤프트(2130)는 회전될 수 있다.
또한, 바틀(2200)은 제2샤프트(2130)에 교체 가능하게 장착될 수 있다. 에컨대, 제2샤프트(2130)에는 약액 라인(2180)과 연결되는 캡(2180)이 설치될 수 있다. 캡(2180)의 내면에는 바틀(2200)의 입구의 외면에 형성되는 나사 홈과 대응하는 나선 홈이 형성될 수 있다. 또한, 바틀(2200)은 복수로 제공될 수 있다. 캡(2180) 및 약액 라인(2190)은 바틀(2200)과 대응하는 수로 제공될 수 있다.
바틀(2200)이 몸체(2160)의 내부 공간(2162)으로부터 벗어난 제2위치에 있을 때 바틀(2200)의 입구는 위 방향을 바라볼 수 있다(도 10 참조). 바틀(2200)의 입구가 위 방향을 바라볼 때, 바틀(2200)의 교체가 이루어질 수 있으므로, 이러한 바틀(2200)의 자세를 교체 자세라 정의할 수 있다.
또한, 캐비닛(2110)이 바틀(2200)이 몸체(2160)의 내부 공간(2162)에 제공되는 제1위치에 있을 때, 바틀(2200)의 입구가 아래 방향을 바라보도록 바틀(2200)을 회전시킬 수 있다(도 12 참조). 바틀(2200)의 입구가 아래 방향을 바라보는 경우, 바틀(2200) 내 처리 액이 액 처리 챔버(360)로 공급될 수 있으므로, 이러한 바틀(2200)의 자세를 공급 자세라 정의할 수 있다. 예컨대, 바틀(2200)이 제1위치에 제공되는 경우, 바틀(2200)은 공급 자세가 되고, 캐비닛(2110)이 제2위치에 제공되는 경우, 바틀(2200)은 교체 자세가 될 수 있다.
도 13은 공급 자세 상태인 바틀, 그리고 바틀로부터 처리 액을 전달 받는 트랩 유닛의 모습을 보여주는 도면이고, 도 14은 교체 자세 상태인 바틀, 그리고 바틀로부터 처리 액을 전달 받는 트랩 유닛의 모습을 보여주는 도면이다.
도 13 및 도 14를 참조하면, 트랩 유닛(2300)은 바틀(2200)보다 낮은 위치에 배치될 수 있다. 예컨대, 트랩 유닛(2300)은 바틀(2200)의 입구가 아래 방향을 바라보는 공급 자세일 때, 트랩 유닛(2300)은 바틀(2200)보다 낮은 위치에 배치될 수 있다.
바틀(2200)이 공급 자세일 때, 바틀(2200)이 트랩 유닛(2300)보다 낮은 높이에 위치하게 되면, 약액 라인(2190, 약액 튜브)이 에어(Air)로 채워지는 에어 백 플로우(Air Back Flow) 현상이 발생될 수 있다. 이와 같이 약액 라인(2190)에 에어가 채워지면, 채워진 에어는 처리 액과 함께 액 처리 챔버(360)로 전달될 수 있다. 이러한 에어는 처리 액 내 버블(Bubble)을 유발할 수 있다.
그러나, 본 발명의 일 실시 예에 의하면 바틀(2200)이 공급 자세일 때, 바틀(2200)은 트랩 유닛(2300)보다 높은 높이에 위치하게 된다. 이에, 수두차에 의한 에어 백 플로우(Air Back Flow) 현상이 발생될 수 있는 구간이 삭제된다. 이에, 약액 라인(2190) 내에 에어가 채워져 처리 액 내 버블이 유발되는 것을 최소화할 수 있다.
또한, 바틀(2200)이 교체 자세에 있을 때에는, 바틀(2200)은 트랩 유닛(2300)보다 낮은 높이에 위치할 수 있다. 작업자는 바틀(2200)에 수용된 처리 액이 트랩 유닛(2300)으로 잘 전달되고 있는지를 투명 또는 반투명한 튜브인 약액 라인(2190)을 통해 육안으로 확인해야하는 경우가 있다. 트랩 유닛(2300)을 지나치게 낮은 높이에 설치하게 되면, 작업자는 트랩 유닛(2300)으로 처리 액이 잘 전달되고 있는지 확인하기 어려울 수 있다. 이에, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 바틀(2200)이 교체 자세에 있을 때에는, 바틀(2200)이 트랩 유닛(2300)보다 낮은 높이에 위치하고, 바틀(2200)이 공급 자세에 있을 때에는, 바틀(2200)이 트랩 유닛(2300)보다 높은 높이에 위치할 수 있게 하여, 상술한 수두 차에 의하 에어 백 플로우의 문제를 발생시키지 않기 위해 트랩 유닛(2300)을 지나치게 낮은 높이에 설치하지 않아도 된다.
또한, 공급 자세인 바틀(2200)은 그 입구가 아래를 향할 수 있다. 이에, 바틀(2200) 내에 수용될 수 있는 처리 액인 포토레지스트(PR)는 중력에 의해 약액 라인(2190)으로 전달될 수 있다. 즉, 본 발명의 일 실시 예에 의하면 바틀(2200) 내의 처리 액을 액 처리 챔버(360)로 전달하기 위해(보다 상세하게는 트랩 유닛(2300)으로 전달하기 위해), 비활성 가스를 공급하지 않아도 된다. 이에, 바틀(2200) 내에 수용된 처리 액 내에 기포, 또는 파티클이 발생하는 것을 최소화 할 수 있고, 따라서 처리 액을 이용한 기판(W) 처리 효율도 개선될 수 있다.
상술한 예에서는, 비활성 가스를 공급하는 라인이 제공되지 않고, 약액 라인(2190)만 제공되는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
예컨대, 도 15에 도시된 바와 같이 캡(2180)에는 가스 라인(2192)이 연결될 수 있다. 가스 라인(2192)은 바틀(2200)의 내로 비활성 가스를 공급할 수 있다. 가스 라인(2192)은 바틀(2200) 내 공간을 가압하는 비활성 가스를 공급할 수 있다. 비활성 가스는 질소 가스일 수 있다. 또한, 가스 라인(2192)에는 가스 밸브(2194)가 설치될 수 있다. 사용자는 제어기를 통해 밸트(2194)의 개폐 여부를 설정할 수 있다.
예컨대, 사용자는 제어기를 통한 설정으로 밸브(2194)를 폐쇄시킬 수 있다. 바틀(2200) 내 처리 액을 액 처리 챔버(360)로 전달하는 동안에는(즉, 기판(W)에 대한 처리 공정이 수행되는 동안에는), 사용자는 제어기를 통한 설정으로 밸브(2194)를 폐쇄시킬 수 있다.
사용자는 필요에 따라 바틀(2200) 내로 비활성 가스의 공급이 필요할 수도 있다. 예컨대, 바틀(2200) 내 수용된 처리 액을 남김없이 인출하기 위해, 도 16에 도시된 바와 같이 바틀(2200) 내 공간을 가압하는 비활성 가스의 공급이 필요할 수 있다. 이 경우, 사용자는 제어기를 통한 설정으로 밸트(2194)를 개방 및 개방율을 조절할 수 있다. 즉, 제어기는 사용자의 설정에 따라 가스 라인(2192)이 바틀(2200) 내 공간으로 비활성 가스를 선택적으로 공급하도록 가스 밸브(2194)의 개폐를 제어할 수 있다.
도 17, 그리고 도 18은 바틀 내에 형성될 수 있는 홈의 모습을 보여주는 도면이다. 상술한 바와 같이 바틀(2200)은 회전되어 공급 자세, 그리고 교체 자세 사이에서 그 자세가 전환될 수 있다. 바틀(2200)이 교체 자세에서 공급 자세로 전환되는 경우, 바틀(2200)의 바닥 부 쪽의 처리 액은 바틀(2200)의 입구 쪽을 향해 흐를 수 있다. 이러한, 처리 액의 흐름을 보다 용이하게 하기 위해 바틀(2200) 내에 사선 홈(2202)이나, 수직 홈(2204)이 형성될 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 상술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
액 처리 챔버 : 360
액 처리 챔버에 제공되는 기판 처리 장치 : 1000
액 토출 유닛 : 1500
액 공급 장치 : 2000
액 공급 유닛 : 2100
캐비닛 : 2110
제1샤프트 : 2120
샤프트 홈 : 2122
제2샤프트 : 2130
교차 축 연결 부 : 2140
기어 박스 : 2142
베벨 기어 : 2144
구동 기어 : 2144a
피동 기어 : 2144b
가이드 부 : 2150
제1가이드 : 2151
제2가이드 : 2152
몸체 : 2160
내부 공간 : 2162
회전 발생 부 : 2170
회전 홈 : 2172
캡 : 2180
약액 라인 : 2190
가스 라인 : 2192
가스 밸브 : 2194
바틀 : 2200
사선 홈 : 2202
수직 홈 : 2204
트랩 유닛 : 2300
펌프 유닛 : 2500

Claims (20)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    기판으로 처리 액을 공급하여 기판을 액 처리하는 액 처리 챔버; 및
    상기 액 처리 챔버로 처리 액을 공급하는 액 공급 장치를 포함하고,
    상기 액 공급 장치는,
    처리 액을 공급하는 액 공급 유닛; 및
    상기 액 처리 챔버와 상기 액 공급 유닛 사이에 배치되는 트랩 유닛을 포함하고,
    상기 액 공급 유닛은,
    내부 공간을 가지는 몸체;
    상기 내부 공간에 삽입 가능하도록 구성되는 캐비닛;
    바틀; 및
    상기 바틀의 입구가 향하는 방향이 변경되도록 상기 바틀을 회전시키는 회전 발생 부를 포함하고,
    상기 바틀의 입구가 아래 방향을 바라보는 공급 자세일 때 상기 트랩 유닛은 상기 바틀보다 낮은 위치에 배치되며,
    상기 회전 발생 부는,
    상기 바틀이 상기 내부 공간에 위치하는 제1위치에 있을 때 상기 바틀의 입구가 아래 방향을 바라보는 공급 자세가 되도록 상기 바틀을 회전시키고,
    상기 바틀이 상기 내부 공간에서 벗어나는 제2위치에 있을 때 상기 바틀의 입구가 위 방향을 바라보는 교체 자세가 되도록 상기 바틀을 회전시키며,
    상기 회전 발생 부는,
    상기 캐비닛이 상기 제1위치, 그리고 상기 제2위치 사이에서 이동하는 직선 운동으로부터 상기 바틀을 회전시키는 회전 운동을 발생시키도록 구성되는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 액 공급 유닛은,
    상기 바틀에 수용된 처리 액을 상기 트랩 유닛으로 전달하는 약액 라인을 더 포함하는, 기판 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 바틀은,
    상기 캐비닛에 교체 가능하게 장착되는, 기판 처리 장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 액 공급 유닛은,
    상기 회전 발생 부가 발생시키는 회전 력을 전달받는 제1샤프트; 및
    상기 바틀이 장착되며, 상기 제1샤프트의 회전에 종속하여 회전되는 제2샤프트를 포함하되,
    상기 제1샤프트 및 상기 제2샤프트는 상기 캐비닛에 설치되는, 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제1샤프트, 그리고 상기 제2샤프트의 회전 축은 서로 교차하고,
    상기 액 공급 유닛은,
    교차 축인 상기 제1샤프트, 그리고 상기 제2샤프트 사이의 운동을 전달하는 교차 축 연결 부를 포함하는, 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 교차 축 연결 부는,
    상기 제1샤프트의 일 단에 설치되는 구동 기어; 및
    상기 제2샤프트의 일 단에 설치되는 피동 기어를 포함하는, 기판 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 액 공급 유닛은,
    상기 바틀이 장착되는 캡; 및
    상기 캡에 연결되며, 상기 바틀 내 상기 처리 액을 상기 액 처리 챔버로 이동시키는 약액 라인을 포함하는, 기판 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 트랩 유닛은,
    상기 바틀로부터 상기 약액 라인을 통해 인출된 상기 처리 액의 불순물 또는 상기 처리 액 내 기포를 제거하는, 기판 처리 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 액 공급 유닛은,
    상기 캡에 연결되며, 상기 바틀 내 공간을 가압하는 가스를 공급하는 가스 라인; 및
    상기 가스 라인에 설치되는 가스 밸브를 더 포함하는, 기판 처리 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    제어기를 더 포함하고,
    상기 제어기는,
    사용자의 설정에 따라 상기 가스 라인이 상기 바틀 내 공간으로 상기 가스를 선택적으로 공급할 수 있도록 상기 가스 밸브의 개폐를 제어하는, 기판 처리 장치.
  13. 액 처리 챔버로 처리 액을 공급하는 액 공급 장치에 있어서,
    처리 액이 수용되는 바틀;
    제1위치, 그리고 상기 제1위치와 상이한 제2위치 사이에 이동 가능하게 구성되고, 상기 바틀이 교체 가능하도록 장착되는 캐비닛;
    상기 바틀의 입구가 아래를 향하며 상기 액 처리 챔버로 상기 바틀 내 처리 액을 공급하는 자세인 공급 자세, 그리고 상기 바틀의 입구가 위를 향하는 자세인 교체 자세 사이에서 상기 바틀의 자세가 변경되도록 상기 바틀을 회전시키는 회전 발생 부; 및
    상기 바틀, 그리고 상기 액 처리 챔버 사이에 배치되는 트랩 유닛을 포함하고,
    상기 트랩 유닛은 상기 바틀의 자세가 상기 공급 자세일 때 상기 바틀보다 낮은 위치에 배치되며,
    상기 액 공급 장치는,
    내부 공간을 가지는 몸체를 더 포함하며,
    상기 제1위치는,
    상기 바틀이 상기 내부 공간에 제공되는 위치이고,
    상기 제2위치는,
    상기 바틀이 상기 내부 공간으로부터 벗어나는 위치이며,
    상기 회전 발생 부는,
    상기 캐비닛이 상기 제1위치에 있을 때 상기 바틀이 상기 공급 자세가 되고, 상기 캐비닛이 상기 제2위치에 있을 때 상기 바틀이 상기 교체 자세가 되도록 구성되고,
    상기 회전 발생 부는,
    상기 캐비닛이 상기 제1위치, 그리고 상기 제2위치 사이에서 이동하는 직선 운동으로부터 상기 바틀의 자세를 변경하는 회전 운동을 발생시키도록 구성되는, 액 공급 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 액 공급 장치는,
    상기 바틀에 수용된 상기 처리 액을 상기 트랩 유닛으로 전달하는 약액 튜브를 더 포함하는, 액 공급 장치.
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    기판으로 포토레지스트를 공급하여 기판 상에 도포막을 형성하는 공정을 수행하는 액 처리 챔버; 및
    상기 액 처리 챔버로 상기 포토레지스트를 공급하는 액 공급 장치를 포함하고,
    상기 액 공급 장치는,
    상기 포토레지스트를 공급하는 액 공급 유닛;
    상기 액 공급 유닛이 공급하는 상기 포토레지스트의 불순물을 제거하거나, 또는 상기 포토레지스트 내 기포를 제거하는 트랩 유닛; 및
    상기 트랩 유닛으로 전달된 상기 포토레지스트를 상기 액 처리 챔버로 전송하는 펌프 유닛을 포함하고,
    상기 액 공급 유닛은,
    내부 공간을 가지는 몸체;
    상기 내부 공간에 삽입 가능하도록 구성되는 캐비닛;
    상기 캐비닛에 교체 가능하게 장착되는 바틀;
    상기 바틀에 수용된 처리 액을 상기 트랩 유닛으로 전달하는 약액 라인; 및
    상기 바틀의 입구가 향하는 방향이 변경되도록 상기 바틀을 회전시키는 회전 발생 부를 포함하고,
    상기 바틀의 입구가 아래 방향을 바라보는 공급 자세일 때 상기 트랩 유닛은 상기 바틀보다 낮은 위치에 배치되며,
    상기 회전 발생 부는,
    상기 바틀이 상기 내부 공간에 제공되는 제1위치에 있을 때 상기 바틀이 상기 공급 자세가 되도록 상기 바틀을 회전시키며, 상기 바틀이 상기 내부 공간에서 벗어나는 제2위치에 있을 때 상기 바틀의 입구가 위 방향을 바라보는 교체 자세가 되도록 상기 바틀을 회전시키고, 상기 캐비닛이 상기 제1위치, 그리고 상기 제2위치 사이에서 이동하는 직선 운동으로부터 상기 바틀을 회전시키는 회전 운동을 발생시키도록 구성되는 기판 처리 장치.


  18. 삭제
  19. 삭제
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