JP7073691B2 - 液処理装置及び液処理方法 - Google Patents
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Description
処理液を貯留し、上面に処理液の取り出し口が設けられた処理液タンクと、
処理液の吸い上げ及び吐出の機能を備えたノズルと、
前記ノズルを、前記取り出し口に挿入される位置と基板上に吐出する位置との間で移動させるノズル移動機構と、
前記取り出し口を開閉する開閉機構と、
前記取り出し口へのノズルの挿入時に処理液タンク内を外気から遮断するための遮断機構と、を備え、
前記処理液タンクは、処理液タンクの中心から外れた上面の位置に第1の開口部が形成されているタンク本体と、前記タンク本体の上面側に設けられ、前記第1の開口部と重なったときに当該第1の開口部と共に前記取り出し口を構成する第2の開口部が形成された蓋部と、を備え、
前記開閉機構は、前記蓋部を固定する機構と、前記第1の開口部及び第2の開口部が互に重なる位置と重ならない位置との間で前記タンク本体を回転させる機構と、を備えたことを特徴とする。
次いで前記ノズルから基板に処理液を供給する吐出工程と、
前記補充用貯留部に貯留された処理液を前記流路を介して、前記処理液タンクに補充する補充工程と、
前記処理液を前記ポンプ部により循環路内を循環させる循環工程と、を含み、
前記循環工程は、前記吸引工程、吐出工程及び補充工程の内の少なくとも一つの実行時に重複するように実行されることを特徴とする。
また本発明は、さらに前記処理液タンクに補充する処理液が貯留された補充用貯留部と、前記補充用貯留部と前記処理液タンクとの間に設けられ、ポンプ部が介設された循環路を含む処理液供給路と、を設けることで処理液を循環させる循環工程を行うことで処理液中の成分の析出を抑制することができる。さらにノズルに処理液を吸引し、ノズルから処理液を吐出する吸引吐出工程と、補充用貯留部の圧力を高めて補充用貯留部から処理液タンクに処理液を補充する補充工程と、を処理液を循環させる動作と、同時に実行することができる。従って処理液中の成分の析出をより確実に抑制することができる。
キャリアブロックS1は、同一のロットの円形の基板である半導体ウエハ(以下「ウエハ」という)Wを複数枚含むキャリアCを装置内に搬入出する役割を有し、キャリアCの載置台11と、開閉部12と、開閉部12を介してキャリアCからウエハWを搬送するための搬送機構13とを備えている。
インターフェイスブロックS3は、処理ブロックS2と露光ステーションS4との間でウエハWの受け渡しを行うためのものであり複数のモジュールが互いに積層された棚ユニットU8、U9、U10を備えている。図2中の3A、3Bは、棚ユニットU8、U9、U10の間でウエハWの受け渡しを行うための搬送アームであり、3Cは、インターフェイスブロックS3と、露光ステーションS4との間でウエハWの受け渡しを行う搬送アームである。
図4に示すようにノズルユニット5は、シンナーノズル57と、レジスト液ノズル6とを備えている。シンナーノズル57は、ノズルユニット5の先端部下面に設けられ、下方に向けてシンナーを吐出するように構成されている。シンナーノズル57の基端側は、ノズルユニット5内に形成されたシンナー供給路58の一端に接続されており、シンナー供給路58の他端側は、例えば流量調整部M58及びバルブV58を介して、シンナー供給源59に接続されている。
一方の支持部32の外周面には、本体部40の周方向に沿ってギアが並べて配置されたギア部35が設けられている。またギア部35のギアに対応するように駆動ギア部36が設けられ、駆動ギア部36は基台100の上面に設けられた回転機構38に回転軸37を介して接続されている。
このような構成により、駆動ギア部36を回転させることにより本体部40の周方向にギア部35が移動し、支持部32がガイドレール34に沿って回転する。これにより本体部40に中心軸Cを中心に回転する力が加わる。この時蓋部41は支柱27により回転が規制されるため、蓋部41が固定された状態で本体部40が鉛直軸周りに回転する。
次いで図18に示すようにレジスト液ノズル6を降下させて、ベローズ61の先端の突起部64を段部48に係止させる。これにより孔部46の上方及びノズル部60の先端がベローズ61により密閉された状態になる。この時図19に示すように本体部40の開口部42と蓋部41の孔部46との位置が揃っていない状態のままである。
そして図22、図23に示すように蓋部41の孔部46と、本体部40の開口部42の位置とを揃えた状態でノズルユニット5を下降させると、ベローズ61は、先端の突起部64が孔部46の周囲の段部48に係止されているため下降が規制されて縮み、ノズル部60のみがレジスト液貯留部4に進入する。そして例えば吸引部66によりノズル部60を陰圧にして、レジスト液を吸引する。その後レジスト液ノズル6をレジスト液貯留部4の外部に退出させるにあたっては、レジスト液ノズル6をレジスト液貯留部4に進入させたときと逆の順番で操作を行い、ベローズ61により密閉された状態で開口部42を閉じ、レジスト液ノズル6をレジスト液貯留部4の外部に退出させる。
その後既述のようにノズルユニット5を上昇させ、ノズル部60をレジスト液貯留部4から引き抜き、さらにノズルユニット5を上昇させて、ベローズ61の突起部64を段部48から引き離す。次いでスピンチャック21に保持されたウエハWの上方に移動させ、例えば回転するウエハWに向けてレジスト液ノズル6内のすべてのレジスト液を吐出して、液処理を行う。
また本発明はレジスト液貯留部4に貯留されたレジスト液がウエハWに供給されるまでに、レジスト液が接触する部材が少なくなる。そのためレジスト液が接触する部材に含まれる成分のレジスト液中への溶出を抑制でき、さらに部品の洗浄の時間を短くすることができる。
また複数のカップモジュール1を設けた構成において、洗浄液貯留部90及び乾燥タンク91は、各カップモジュール1ごとに設けられていてもよく、あるいはすべてのカップモジュール1に共通するように設けられていてもよい
またシンナーノズル57についても、レジスト液ノズル6を同様の構成とすると共に、液処理装置にレジスト液貯留部4と同様の構成のシンナー貯留部を設けるようにしてもよい。
このような構成においても同様の効果を得ることができるが、蓋部41と、本体部40と、を相対的に鉛直軸周りに回転させて開口部42を開閉する構成にすることで、開口部42の上方に駆動する機構を配置させる必要がないため、レジスト液貯留部4内に駆動機構により生じるパーティクルが混入するおそれが少なくなる効果が得られる。
4 レジスト液貯留部
6 レジスト液ノズル
10 レジスト塗布ユニット
40 本体部
41 蓋部
42 開口部
48 段部
60 ノズル部
61 ベローズ
64 突起部
90 洗浄液貯留部
91 乾燥タンク
404 戻り管路
410 メインタンク
Claims (10)
- 基板に対して処理液により液処理を行う装置において、
処理液を貯留し、上面に処理液の取り出し口が設けられた処理液タンクと、
処理液の吸い上げ及び吐出の機能を備えたノズルと、
前記ノズルを、前記取り出し口に挿入される位置と基板上に吐出する位置との間で移動させるノズル移動機構と、
前記取り出し口を開閉する開閉機構と、
前記取り出し口へのノズルの挿入時に処理液タンク内を外気から遮断するための遮断機構と、を備え、
前記処理液タンクは、処理液タンクの中心から外れた上面の位置に第1の開口部が形成されているタンク本体と、前記タンク本体の上面側に設けられ、前記第1の開口部と重なったときに当該第1の開口部と共に前記取り出し口を構成する第2の開口部が形成された蓋部と、を備え、
前記開閉機構は、前記蓋部を固定する機構と、前記第1の開口部及び第2の開口部が互に重なる位置と重ならない位置との間で前記タンク本体を回転させる機構と、を備えたことを特徴とする液処理装置。 - 前記タンク本体の側面に固定され、前記側面の形状に沿って湾曲した支持部を備え、
前記タンク本体を回転させる機構は、前記支持部の外周面に接触して当該支持部を回転させる機構であることを特徴とする請求項1記載の液処理装置。 - 前記タンク本体の底面部の中心部に、当該タンク本体に対して鉛直軸周りに回転可能なコネクタを介して接続された排液管と、
前記支持部の下方側に位置する基台と、
前記基台に設けられ、前記タンク本体の中心軸を中心とする円周に沿って配置された環状のガイドレールと、を備え
前記支持部は前記ガイドレールに沿って移動可能に設けられていることを特徴とする請求項2記載の液処理装置。 - 前記遮断機構は、ノズル及び前記処理液タンクの少なくとも一方に、ノズルが前記取り出し口に挿入されるときに、当該取り出し口を囲むようにかつその上端部がノズルの根本部位に密着するように構成されたべローズ体により構成されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 前記処理液タンクに補充する処理液が貯留された補充用貯留部と、
前記補充用貯留部と前記処理液タンクとの間に設けられ、ポンプ部が介設された循環路を含む処理液供給路と、を備えることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 前記処理液タンクに処理液供給管を介して接続され、前記処理液タンクに補充する処理液が貯留された補充用貯留部と、
前記処理液供給管に設けられたフィルタと、
前記フィルタの二次側にて前記処理液供給管から分岐され、前記フィルタの一次側に接続された戻り管路と、
前記戻り管路に設けられ、前記フィルタに処理液を繰り返し通過させるためのポンプと、を備えたことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 前記処理液タンク内に貯留された処理液に液流を形成する液流形成機構を備えることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 洗浄液を貯留し、上面にノズルが進退する進入口が設けられた洗浄液タンクを備え、
前記ノズル移動機構は、前記取り出し口に挿入される位置と基板上に吐出する位置と前記進入口との間でノズルを移動させ、
前記ノズルを進入口を介して洗浄液タンクに進入させてノズルを洗浄することを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 前記ノズルを前記ノズル移動機構によって内部に挿入できるように形成された開口部を備えた乾燥タンクと、前記乾燥タンク内に設けられ、前記ノズルに乾燥ガスを供給する乾燥ガスノズルと、を備えたことを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 請求項5に記載の液処理装置を用い、前記ノズルを、前記取り出し口に挿入し、当該ノズルにより処理液タンク内の処理液を吸い上げる吸引工程と、
次いで前記ノズルから基板に処理液を供給する吐出工程と、
前記補充用貯留部に貯留された処理液を前記処理液供給路を介して、前記処理液タンクに補充する補充工程と、
前記処理液を前記ポンプ部により循環路内を循環させる循環工程と、を含み、
前記循環工程は、前記吸引工程、吐出工程及び補充工程の内の少なくとも一つの実行時に重複するように実行されることを特徴とする液処理方法。
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JP2017230767A JP7073691B2 (ja) | 2017-11-30 | 2017-11-30 | 液処理装置及び液処理方法 |
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JPH04271867A (ja) * | 1991-02-28 | 1992-09-28 | Banbuu:Kk | 高粘性流体充填器 |
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2017
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