JP6244324B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
従って、複数のフィルタ中の気泡を効率よく除去できる。
従って、複数のフィルタ中の気泡を効率よく除去できる。
まず、本実施形態に係る基板処理システム1の概要を説明する。図1に示すように、基板処理システム1は、塗布・現像装置2と露光装置3とを備える。露光装置3は、レジスト膜の露光処理を行う。塗布・現像装置2は、露光装置3による露光処理の前に、ウェハW(基板)の表面にレジスト膜を形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜の現像処理を行う。
続いて、本実施形態に係る基板処理装置の一例として、液処理ユニットU1について詳細に説明する。図4に示すように、液処理ユニットU1は、ウェハ回転保持部21と、ノズル22と、給液装置23と、カップ24とを備える。
続いて、給液装置23の構成について詳細に説明する。図5に示すように、給液装置23は、タンク30と、ガスボンベ31と、ポンプ32と、管路PL0〜PL6と、排出管D1〜D4と、バルブV0〜V14とを有する。
続いて、基板処理方法の一例として、液処理ユニットU1により実行される給液手順について説明する。この給液手順は、上述した液処理において、処理液をノズル22から吐出させるための手順である。この給液手順は、第一の通液手順と、処理液の吐出手順と、第二の通液手順とを含む。以下、これらの手順について説明する。
第一の通液手順は、ガスボンベ31を共通の加圧源として、フィルタ33,35、トラップタンク34,36及びポンプ32への通液を行うことで、各部の気泡を除去する手順である。第一の通液手順は、例えばフィルタ33,35の少なくともいずれかを交換した直後に実行される。第一の通液手順は、オペレータの指示入力に応じて実行されてもよい。
処理液の吐出手順は、処理対象のウェハWが液処理ユニットU1に搬入された場合に、ノズル22から処理液を吐出し、ウェハWの表面Waに処理液を供給する手順である。
第二の通液手順は、ポンプ32を共通の加圧源として、フィルタ33,35、トラップタンク34,36への通液を行うことで、各部の気泡を除去する手順である。第二の通液手順は、例えば上述した処理液の吐出手順の合間に定期的に実行される。第二の通液手順は、オペレータの指示入力に応じて実行されてもよい。
以上に説明したように、液処理ユニットU1は、フィルタ33及びトラップタンク34を含み、フィルタ33側からトラップタンク34側に処理液を導く管路PL1と、フィルタ35を含み、トラップタンク34の下流側とフィルタ33の上流側とを接続する管路PL2と、トラップタンク34から供給された処理液を導出する管路PL3と、共通の加圧源によりフィルタ33の上流側及びフィルタ35の上流側を個別に加圧可能とするように構成された管路PL4と、を備える。
Claims (9)
- 第一フィルタ及び第一トラップタンクを含み、前記第一フィルタ側から前記第一トラップタンク側に処理液を導く第一管路と、
第二フィルタを含み、前記第一トラップタンクの下流側と前記第一フィルタの上流側とを接続する第二管路と、
前記第一トラップタンクから供給された前記処理液を導出する第三管路と、
共通の加圧源により前記第一フィルタの上流側及び前記第二フィルタの上流側を個別に加圧可能とするように構成された第四管路と、を備える基板処理装置。 - 前記第一フィルタの上流側に接続された処理液の供給源を更に備え、
前記第四管路は、前記供給源に接続された加圧源を前記共通の加圧源とした場合に、前記第一フィルタの上流側及び前記第二フィルタの上流側を個別に加圧可能とするように構成されている、請求項1記載の基板処理装置。 - 前記第三管路と前記第一トラップタンクとの間に介在するポンプを更に備え、
前記第四管路は、前記ポンプを前記共通の加圧源とした場合に、前記第一フィルタの上流側及び前記第二フィルタの上流側を個別に加圧可能とするように構成されている、請求項1又は2記載の基板処理装置。 - 前記第四管路は、前記第一管路及び前記第二管路に対して並列に設けられている、請求項1〜3のいずれか一項記載の基板処理装置。
- 前記第二管路は、前記第二フィルタの下流側に接続された第二トラップタンクを更に含む、請求項1〜4のいずれか一項記載の基板処理装置。
- 第一フィルタ及び第一トラップタンクを含み、前記第一フィルタ側から前記第一トラップタンク側に処理液を通す第一管路と、
第二フィルタを含み、前記第一トラップタンクの下流側と前記第一フィルタの上流側とを接続する第二管路と、
前記第一トラップタンクから前記処理液を導出する第三管路と、
前記第一管路及び前記第二管路に対して並列に設けられた第四管路と、を備える基板処理装置。 - 請求項1〜5のいずれか一項記載の基板処理装置を用い、
前記第一フィルタ及び前記第二フィルタのうち、いずれか一方のフィルタの上流側に対して、前記第四管路を経て前記共通の加圧源による加圧を行い、当該一方のフィルタを通過した前記処理液を排出すること、
前記第一フィルタ及び前記第二フィルタのうち、他方のフィルタの上流側に対して、前記第四管路を経ることなく前記共通の加圧源による加圧を行い、当該他方のフィルタを通過した前記処理液を排出すること、を含む基板処理方法。 - 前記第一フィルタの上流側及び前記第二フィルタの下流側に接続された前記共通の加圧源を用い、
前記第二フィルタの上流側に対して、前記第四管路を経て当該加圧源による加圧を行い、前記第二フィルタを通過した前記処理液を排出すること、
前記第一フィルタの上流側に対して、前記第四管路を経ることなく当該加圧源による加圧を行い、前記第一フィルタを通過した前記処理液を排出すること、を含む請求項7記載の基板処理方法。 - 前記第一トラップタンクの下流側及び前記第二フィルタの上流側に接続された前記共通の加圧源を用い、
前記第一フィルタの上流側に対して、前記第四管路を経て当該加圧源による加圧を行い、前記第一フィルタを通過した前記処理液を排出すること、
前記第二フィルタの上流側に対して、前記第四管路を経ることなく当該加圧源による加圧を行い、前記第二フィルタを通過した前記処理液を排出すること、を含む請求項7又は8記載の基板処理方法。
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