JP2011181879A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2011181879A
JP2011181879A JP2010097172A JP2010097172A JP2011181879A JP 2011181879 A JP2011181879 A JP 2011181879A JP 2010097172 A JP2010097172 A JP 2010097172A JP 2010097172 A JP2010097172 A JP 2010097172A JP 2011181879 A JP2011181879 A JP 2011181879A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
main surface
semiconductor element
resin sheet
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010097172A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5126278B2 (ja
Inventor
Daisuke Fukuoka
大輔 福岡
Takanori Tejima
孝紀 手嶋
Kuniaki Masamitsu
真光  邦明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Priority to JP2010097172A priority Critical patent/JP5126278B2/ja
Priority to US13/019,390 priority patent/US8963315B2/en
Publication of JP2011181879A publication Critical patent/JP2011181879A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5126278B2 publication Critical patent/JP5126278B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/93Batch processes
    • H01L24/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L24/96Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being encapsulated in a common layer, e.g. neo-wafer or pseudo-wafer, said common layer being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04026Bonding areas specifically adapted for layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/0405Bonding areas specifically adapted for tape automated bonding [TAB] connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04105Bonding areas formed on an encapsulation of the semiconductor or solid-state body, e.g. bonding areas on chip-scale packages
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/0601Structure
    • H01L2224/0603Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/061Disposition
    • H01L2224/0618Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
    • H01L2224/06181On opposite sides of the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L2224/25Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of a plurality of high density interconnect connectors
    • H01L2224/251Disposition
    • H01L2224/2518Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/33Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors
    • H01L2224/331Disposition
    • H01L2224/3318Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
    • H01L2224/33181On opposite sides of the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73219Layer and TAB connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73267Layer and HDI connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73269Layer and TAB connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • H01L2924/13055Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1515Shape
    • H01L2924/15158Shape the die mounting substrate being other than a cuboid
    • H01L2924/15159Side view
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress
    • H01L2924/3511Warping

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【課題】別体の電気絶縁性の部材を用いることなく半導体素子の表裏両電極間の沿面距離を確保することができ、半導体素子の表裏両面にて加圧接触による放熱板の接続を行うのに適した半導体装置を実現する。
【解決手段】主表面側に表面電極11を有し、裏面側に裏面電極12を有する板状の半導体素子10と、半導体素子10を包み込むように封止する電気絶縁性の樹脂20と、を備え、表面電極11、裏面電極12は、それぞれ樹脂20の外面にて露出しており、樹脂20は、半導体素子10の側面全体を被覆するとともに当該側面から半導体素子10の主表面と平行な方向に張り出した形状を有している。
【選択図】図1

Description

本発明は、表裏両面に電極を有する半導体素子を備え、当該半導体素子の表裏両面にて電極を導電性の放熱板に電気的・熱的に接続可能な半導体装置、および、そのような半導体装置の製造方法に関する。
従来より、この種の半導体装置としては、たとえば特許文献1に記載されているように、主表面側に表面電極を有し、裏面側に裏面電極を有する板状の半導体素子の表裏両面に放熱板を配置し、半導体素子の当該両面からの冷却を可能としたパッケージ構造が提案されている。そして、このものでは、半導体素子の表裏の電極とCuなどを主成分とする放熱板とが電気的かつ熱的に接続されるように、はんだなどの接合部材を介して接続されている。
しかしながら、このものでは、放熱板(たとえばCu)と半導体素子(たとえばSi)との線膨張係数の違いにより、放熱板と半導体素子との間に熱応力が発生し、はんだのクラックや剥離が懸念される。また、リフローなどの高温プロセスの際、放熱板からの圧縮応力がはんだを介して半導体素子に加わるため、半導体素子を薄くするなど、応力緩和のための加工が必要となる。
一方、半導体素子と放熱板を接続する別の方法として、特許文献2に記載されているように、複数の半導体素子をパッケージ内に並列に組み込み、その表裏両面に形成された各電極をそれぞれ、パッケージ側に設けた上下の放熱板に、外部から荷重を加え加圧状態で面接続させる加圧接触構造のパッケージが提案されている。この加圧接触構造によれば、上記特許文献1のようなはんだ接続による問題は回避される。
特許第3525832号公報 特許第3809550号公報
しかしながら、上記特許文献2に記載のものは、半導体素子の表裏電極間の沿面距離を確保するために、放熱板間に設けられた絶縁性セラミックス製の外筒に加え、各半導体素子間に設けられた支持体を有するものであり、これら当該沿面距離を確保するための別体の電気絶縁性の部材を、別途用意する必要がある。そのため、部品点数の増加や組み付けに手間がかかるなどの問題が生じる。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、表裏両面に電極を有する半導体素子を備え、当該半導体素子の表裏両面にて電極を導電性の放熱板に電気的・熱的に接続可能な半導体装置において、別体の電気絶縁性の部材を用いることなく半導体素子の表裏両電極間の沿面距離を確保することができ、半導体素子の表裏両面にて加圧接触による放熱板の接続を行うのに適した半導体装置が実現できるようにすることを目的とする。
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、主表面側に表面電極(11)を有し、裏面側に裏面電極(12)を有する板状の半導体素子(10)と、半導体素子(10)を包み込むように封止する電気絶縁性の樹脂(20)と、を備え、表面電極(11)、裏面電極(12)は、それぞれ樹脂(20)の外面にて露出しており、樹脂(20)は、半導体素子(10)における主表面と裏面との間の側面全体を被覆するとともに当該側面から半導体素子(10)の主表面と平行な方向に張り出した形状を有していることを特徴とする。
それによれば、表面電極(11)と裏面電極(12)との間に位置する半導体素子(10)の側面全体が電気絶縁性の樹脂(20)で被覆され、しかもこの樹脂(20)は当該側面から半導体素子(10)の主表面と平行な方向に張り出しているので、両電極(11、12)間の沿面距離が稼げる。また、表裏の両電極(11、12)が樹脂(20)の外面にて露出しているので半導体素子(10)の表裏両面から加圧接触により放熱板(31、32)を接触させることが可能となる。
よって、本発明によれば、別体の電気絶縁性の部材を用いることなく半導体素子(10)の表裏両電極(11、12)間の沿面距離を確保することができ、半導体素子(10)の表裏両面にて加圧接触による放熱板(31、32)の接続を行うのに適した半導体装置が実現される。
また、請求項2に記載の発明では、請求項1に記載の半導体装置において、露出する表面電極(11)の面、露出する前記裏面電極(12)の面は、それぞれ当該電極の面の周囲に拡がる樹脂(20)の外面と同一平面に位置することを特徴とする。
それによれば、半導体素子(10)の表裏両面にて平坦な放熱板(31、32)を接触させるうえで好ましい。樹脂(20)と電極(11、12)の露出面に対して、放熱板(31、32)の平坦面が確実に接触するからである。
また、請求項3に記載の発明では、半導体素子(10)の主表面側には、当該主表面側に位置する樹脂(20)の外面および当該樹脂(20)の外面にて露出する表面電極(11)の面に、加圧状態で直接接触した放熱性および導電性を有する第1の放熱板(31)が設けられ、半導体素子(10)の裏面側には、当該裏面側に位置する樹脂(20)の外面および当該樹脂(20)の外面にて露出する裏面電極(12)の面に、加圧状態で直接接触した放熱性および導電性を有する第2の放熱板(32)が設けられていることを特徴とする。
請求項1、2の半導体装置においては、上記したような効果を有するので、この請求項3の半導体装置のように、半導体素子(10)の表裏両面に放熱板(31、32)を加圧接触により接続した構成としてもよい。
また、請求項4に記載の発明のように、請求項3に記載の半導体装置において、樹脂(20)のうち半導体素子(10)の側面から張り出した形状の部分が、第1の放熱板(31)の外郭および第2の放熱板(32)の外郭よりもはみ出しているものにすれば、両放熱板(31、32)間の沿面距離を稼げるので好ましい。
さらに、請求項5に記載の発明では、請求項4に記載の半導体装置において、樹脂(20)のうち両放熱板(31、32)の外郭よりもはみ出している部位は、第1の放熱板(31)の側面に沿って突出する第1の突出部(21)、第2の放熱板(32)の側面に沿って突出する第2の突出部(22)として構成されており、第1の放熱板(31)の側面は、第1の突出部(21)の内面に接して第1の突出部(21)に被覆され、第2の放熱板(32)の側面は、第2の突出部(22)の内面に接して第2の突出部(22)に被覆されていることを特徴とする。
それによれば、半導体素子(10)の表裏両面に放熱板(31、32)を設ける構成において、各突出部(21、22)により放熱板(31、32)の位置決めが容易になり、また、突出部(21、22)の分、上記沿面距離が増加する。
また、請求項6に記載の発明では、請求項3ないし5のいずれか1つに記載の半導体装置において、半導体素子(10)の主表面には、外部接続用のリード端子(40)が接続されるリード端子用電極パッド(13)が設けられており、このリード端子用電極パッド(13)も樹脂(20)の外面にて露出しており、第1の放熱板(31)における半導体素子(10)の主表面に対向する面のうち、リード端子用電極パッド(13)に対向する部位には、リード端子(40)に接続された放熱板側パッド(31b)が設けられ、さらに、第1の放熱板(31)と放熱板側パッド(31b)およびリード端子(40)との間には、当該間を電気的に絶縁する絶縁層(31c)が介在されており、放熱板側パッド(31b)とリード端子用電極パッド(13)とは加圧状態で直接接触することで電気的に接続されていることを特徴とする。それによれば、第1の放熱板(31)側にリード端子(40)を設けることができる。
また、請求項7に記載の発明では、請求項1または2に記載の半導体装置において、半導体素子(10)の主表面側では、当該主表面側に位置する樹脂(20)の外面に、熱可塑性樹脂よりなる第1の樹脂シート(100)の一方の主面が直接接触して設けられ、この第1の樹脂シート(100)によって前記半導体素子(10)の主表面が覆われており、第1の樹脂シート(100)のうち樹脂(20)の外面にて露出する表面電極(11)の面に位置する部位には、一方の主面からこれとは反対側の他方の主面まで第1の樹脂シート(100)を貫通し当該表面電極(11)の面に電気的に接続された導電性部材(300)が設けられ、この導電性部材(300)を介して表面電極(11)と第1の樹脂シート(100)の他方の主面側とが電気的に接続されるようになっており、
半導体素子(10)の裏面側では、当該裏面側に位置する樹脂(20)の外面に、熱可塑性樹脂よりなる第2の樹脂シート(200)の一方の主面が直接接触して設けられ、この第2の樹脂シート(200)によって半導体素子(10)の裏面が覆われており、第2の樹脂シート(200)のうち樹脂(20)の外面にて露出する裏面電極(12)の面に位置する部位には、一方の主面からこれとは反対側の他方の主面まで第2の樹脂シート(200)を貫通し当該裏面電極(12)の面に電気的に接続された導電性部材(300)が設けられ、この導電性部材(300)を介して前記裏面電極(12)と前記第2の樹脂シート(200)の他方の主面側とが電気的に接続されるようになっていることを特徴とする。
それによれば、各樹脂シート(100、200)に貫通して設けられた導電性部材(300)により、半導体素子(10)の表裏両電極(11、12)を各樹脂シート(100、200)の外面側に電気的、熱的に取りだすことができるから、半導体素子(10)の表裏両面にて各樹脂シート(100、200)を介して、加圧接触により放熱板(31、32)を接触させることが可能となる。
また、この場合、半導体素子(10)および樹脂(20)を両樹脂シート(100、200)で挟み込むことで積層基板が形成され、この積層基板内に半導体素子(10)が実装されてなる半導体装置が構成されるが、熱可塑性樹脂よりなる樹脂シート(100、200)を用いることで、熱プレスなどにより一括してこのような積層基板を形成できるというメリットが期待される。
また、請求項8に記載の発明のように、請求項7に記載の半導体装置において、樹脂(20)、第1の樹脂シート(100)及び第2の樹脂シート(200)を、同一の熱可塑性樹脂よりなるものにすれば、これら各樹脂シート(100、200)と樹脂(20)が同一の熱可塑性樹脂よりなるので、これら両者間の熱プレスによる接合がより強固になることが期待される。
また、請求項9に記載の発明では、請求項7または8に記載の半導体装置において、第1の樹脂シート(100)および第2の樹脂シート(200)の少なくとも一方の樹脂シートは、複数の熱可塑性樹脂よりなる層(101、102)が熱融着により積層されてなる積層型の樹脂シートであり、この積層型の樹脂シートにおいては、導電性部材(300)は、各々の層(101、102)にてその厚さ方向に貫通するように設けられ、各々の層(101、102)の導電性部材(300)は隣り合う層(101、102)間に設けられた導体パターン(301)を介して電気的に接続されていることにより、当該樹脂シートにおける一方の主面に位置する導電性部材(300)と他方の主面に位置する導電性部材(300)とが導通されていることを特徴とする。
このように、各樹脂シート(100、200)の両方もしくは一方が積層型の樹脂シートであってもよい。
さらに、請求項10に記載の発明では、請求項9に記載の半導体装置において、第1の樹脂シート(100)が複数の層(101、102)よりなる積層型の樹脂シートであって、第1の樹脂シート(100)における複数の層(101、102)のうち最も半導体素子(10)側に位置するものを第1の層(101)、この第1の層(101)の次に半導体素子(10)に近いものを第2の層(102)とし、
半導体素子(10)の側面の外側に樹脂(20)を介して接続部材(40)が設けられ、この接続部材(40)は第1の樹脂シート(100)の第1の層(101)に接して第1の樹脂シート(100)により封止されており、半導体素子(10)の主表面には接続部材(40)と接続される接続部材用パッド(13)が設けられており、
第1の樹脂シート(100)における第1の層(101)のうち接続部材(40)に位置する部位、接続部材用パッド(13)に位置する部位には、それぞれ第1の層(101)を厚さ方向に貫通し接続部材(40)と電気的に接続された接続部材用導体(310)、第1の層(101)を厚さ方向に貫通し接続部材用パッド(13)と電気的に接続されたパッド用導体(311)が設けられており、接続部材用導体(310)とパッド用導体(311)とは、第1の層(101)と第2の層(102)との間に設けられた導体パターン(301)を介して電気的に接続されていることを特徴とする。
このように、第1の樹脂シート(100)を積層型の樹脂シートとすれば、層間の導体パターン(301)および各導体(310、311)により、接続部材(40)と半導体素子(10)の主表面の接続部材用パッド(13)とを導通する層内配線を構成することができる。
また、請求項11に記載の発明では、請求項7ないし10のいずれか1つに記載の半導体装置において、第1の樹脂シート(100)の他方の主面側には、放熱性および導電性を有する第1の放熱板(31)が設けられ、この第1の放熱板(31)は当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する前記導電性部材(300)と電気的に接続されており、第2の樹脂シート(200)の他方の主面側には、放熱性および導電性を有する第2の放熱板(32)が設けられ、この第2の放熱板(32)は当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する導電性部材(300)と電気的に接続されており、第1の放熱板(31)と第1の樹脂シート(100)、および、第2の放熱板(32)と第2の樹脂シート(200)は、それぞれ樹脂シート(100、200)の融着により接合されていることを特徴とする。
本発明の半導体装置は、一括の熱プレスにより容易に形成されるが、それによれば、樹脂シート(100、200)が変形して、放熱板(31、32)に融着するため、放熱板(31、32)を固定するためのネジやバネなどの加圧手段が不要となり、また、両放熱板(31、32)の樹脂シート(100、200)との接合面の平面度や、当該両接合面の平行度が多少劣っていても、放熱板(31、32)と樹脂シート(100、200)との密着が良好に確保される。
また、請求項12に記載の発明では、請求項7ないし10のいずれか1つに記載の半導体装置において、第1の樹脂シート(100)の他方の主面側には、放熱性および導電性を有する第1の放熱板(31)が設けられ、この第1の放熱板(31)は当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する前記導電性部材(300)と電気的に接続されており、第2の樹脂シート(200)の他方の主面側には、放熱性および導電性を有する第2の放熱板(32)が設けられ、この第2の放熱板(32)は当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する前記導電性部材(300)と電気的に接続されており、第1の放熱板(31)と第1の樹脂シート(100)、および、第2の放熱板(32)と第2の樹脂シート(200)は、それぞれ放熱板を樹脂シートへ押し付けるように加圧されることにより、接合されていることを特徴とする。
もちろん、上記各樹脂シート(100、200)を有する構成の場合でも、放熱板(31、32)は加圧状態で各樹脂シート(100、200)に直接接触されることで、各樹脂シート(100、200)に固定されたものとしてもよい。
また、請求項13、請求項14に記載の発明は、主表面側に表面電極(11)を有し、裏面側に裏面電極(12)を有する板状の半導体素子(10)と、半導体素子(10)を包み込むように封止する電気絶縁性の樹脂(20)と、を備え、表面電極(11)、裏面電極(12)は、それぞれ樹脂(20)の外面にて露出しており、樹脂(20)は、半導体素子(10)における主表面と裏面との間の側面全体を被覆するとともに当該側面から半導体素子(10)の主表面と平行な方向に張り出した形状を有している半導体装置の製造方法である。
そして、請求項13に記載の発明では、さらに、表面電極(11)および裏面電極(12)を含む半導体素子(10)の全体を樹脂(20)で封止した後、表面電極(11)および裏面電極(12)が樹脂(20)より露出するまで、樹脂(20)のうち半導体素子(10)における主表面側に位置する部分と、裏面側に位置する部分とを削ることを特徴とする。それによれば、請求項1の半導体装置を適切に製造することが可能な製造方法を提供し得る。
また、請求項14に記載の発明では、半導体素子(10)を樹脂(20)の成形用の金型(K2)に設置し、表面電極(11)および裏面電極(12)を金型(K2)の内面に密着させて被覆した状態で、金型(K2)に樹脂(20)を投入し、樹脂(20)による封止を行うことで、表面電極(11)および裏面電極(12)を樹脂(20)より露出させることを特徴とする。それによれば、請求項1の半導体装置を適切に製造することが可能な製造方法を提供し得る。
また、請求項15に記載の発明は、主表面側に表面電極(11)を有し、裏面側に裏面電極(12)を有する板状の半導体素子(10)と、半導体素子(10)を包み込むように封止する電気絶縁性の樹脂(20)と、を備え、表面電極(11)、裏面電極(12)は、それぞれ樹脂(20)の外面にて露出しており、樹脂(20)は、半導体素子(10)における主表面と裏面との間の側面全体を被覆するとともに当該側面から半導体素子(10)の主表面と平行な方向に張り出した形状を有しており、半導体素子(10)の主表面側および裏面側に熱可塑性樹脂よりなる部材を設けて、当該両面を熱可塑性樹脂よりなる部材によって封止してなる半導体装置の製造方法であって、次のような工程を備えるものである。
・熱可塑性樹脂よりなる部材として、半導体素子(10)の主表面側に位置するシートであって、当該シートのうち表面電極(11)に対応する部位に一方の主面からこれとは反対側の他方の主面まで当該シートを貫通する導電性部材(300)が設けられた第1の樹脂シート(100)と、半導体素子(10)の裏面側に位置し、第1の樹脂シート(100)と同一の熱可塑性樹脂よりなるシートであって、当該シートのうち裏面電極(12)に対応する部位に一方の主面からこれとは反対側の他方の主面まで当該シートを貫通する導電性部材(300)が設けられた第2の樹脂シート(200)と、を用意すること。
・さらに、樹脂(20)を構成する部材として、第1及び第2の樹脂シート(100、200)と同一の熱可塑性樹脂よりなるシートであって、その厚さ方向に貫通する貫通穴(401)を有する第3の樹脂シート(400)を用意すること。
・第3の樹脂シート(400)の貫通穴(401)に半導体素子(10)を収納するとともに、半導体素子(10)の主表面、裏面をそれぞれ貫通穴(401)の一方の開口部、他方の開口部より露出させる第1の工程を行うこと。
・第1の工程の後、半導体素子(10)の主表面および当該主表面側に位置する第3の樹脂シート(400)の外面に、第1の樹脂シート(100)の一方の主面を直接接触させつつ、第1の樹脂シート(100)の導電性部材(300)と表面電極(11)とを電気的に接続して、第1の樹脂シート(100)によって半導体素子(10)の主表面を覆う第2の工程を行うこと。
・第1の工程の後、半導体素子(10)の裏面および当該裏面側に位置する第3の樹脂シート(400)の外面に、第2の樹脂シート(200)の一方の主面を直接接触させつつ、第2の樹脂シート(200)の導電性部材(300)と裏面電極(12)とを電気的に接続して、第2の樹脂シート(200)によって半導体素子(10)の裏面を覆う第3の工程を行うこと。
・上記各工程の後、第1の樹脂シート(100)の他方の主面側、第2の樹脂シート(200)の他方の主面側から加圧するように、熱を加えながら熱プレスを行うことにより、各樹脂シート(100、200、300)同士を融着させる第4の工程を実行すること。本製造方法はこれらの点を特徴とするものである。
それによれば、熱プレスを一括して行うことで、請求項7、8に記載の半導体装置を適切に製造し得る半導体装置の製造方法が提供される。
なお、特許請求の範囲およびこの欄で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。
本発明の第1実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は概略平面図、(b)は概略斜視図、(c)は(a)中のA−A概略断面図である。 上記図1の構成に放熱板を追加した構成例を示す概略断面図である。 本発明の第2実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は概略平面図、(b)は概略斜視図、(c)は(a)中のB−B概略断面図である。 上記図3の構成に放熱板を追加した構成例を示す概略断面図である。 本発明の第3実施形態に係る放熱板の組み付け前の樹脂パッケージの概略構成を示す図である。 上記図5の樹脂パッケージに放熱板を組み付けてなる第3実施形態の半導体装置の概略構成を示す図である。 本発明の第4実施形態に係る放熱板の組み付け前の樹脂パッケージの概略構成を示す図である。 上記図7の樹脂パッケージに放熱板を組み付けてなる第3実施形態の半導体装置の概略構成を示す図である。 本発明の第5実施形態に係る放熱板の組み付け前の樹脂パッケージの概略構成を示す図である。 上記図9の樹脂パッケージに放熱板を組み付けてなる第3実施形態の半導体装置の概略構成を示す図である。 本発明の第6実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図である。 本発明の第7実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図である。 本発明の第8実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図である。 第8実施形態の他の例としての半導体装置の概略構成を示す図である。 本発明の第9実施形態に係る放熱板の組み付け前の樹脂パッケージの概略構成を示す図である。 第9実施形態に係る半導体装置の概略断面図である。 本発明の第10実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図である。 本発明の第11実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図である。 本発明の第12実施形態に係る半導体装置の概略断面図である。 本発明の第13実施形態に係る半導体装置の製造方法を示す工程図である。 第13実施形態に係る他の例としての半導体装置の製造方法を示す工程図である。 本発明の第14実施形態に係る半導体装置の製造方法を示す工程図である。 第14実施形態に係る他の例としての半導体装置の製造方法を示す工程図である。 本発明の第15実施形態に係る半導体装置を示す図であり、(a)は同半導体装置の概略平面図、(b)は(a)中のO−O断面図である。 第15実施形態に係る半導体装置の熱プレス前の各部の分解状態を示す概略断面図である。 図24に示される半導体装置に放熱板を追加した構成を示す概略断面図である。 第1の樹脂シートの第1の層と第2の層のそれぞれにおける導電性部材の平面配置の好ましい形態を示す概略平面図である。 本発明の第16実施形態に係る半導体装置を示す概略断面図である。 図28に示される半導体装置に放熱板を追加した構成を示す概略断面図である。 本発明の第17実施形態に係る半導体装置の熱プレス前の各部の分解状態を示す概略断面図である。 第17実施形態に係る半導体装置の概略断面図である。 図31に示される構成においてさらに冷却器を取り付けた構成を示す概略断面図である。 本発明の第18実施形態に係る半導体装置の概略断面図である。 図33に示される半導体装置の熱プレス前の各部の分解状態を示す概略断面図である。 本発明の第19実施形態に係る半導体装置の熱プレス前の各部の分解状態を示す概略断面図である。 本発明の第20実施形態に係る半導体装置を示す図であり、(a)は同半導体装置の概略平面図、(b)は(a)中のP−P断面図である。 第20実施形態に係る半導体装置の熱プレス前の各部の分解状態を示す概略断面図である。
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、図中、同一符号を付してある。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は半導体素子10の主表面側の概略平面図、(b)は概略斜視図、(c)は(a)中のA−A概略断面図である。
半導体素子10は、主表面側に表面電極11を有し、裏面側に裏面電極12を有する板状のものである。ここでは、半導体素子10は矩形板状をなし、一方の板面である主表面、他方の板面である裏面はそれぞれ矩形を成す。また、主表面と裏面との間に位置する側面は表裏両面に直交する面であり、ここでは表裏両面における4辺に対応して4個の側面が存在する。
このような半導体素子10としては、たとえばIGBT(絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ)などが挙げられる。ここでは、半導体素子10は、そのIGBTであり、主表面側の表面電極11はエミッタ電極、裏面側の裏面電極12はコレクタ電極として構成されている。
また、ここでは、表面電極11は、図1に示されるように、短冊状をなし、複数個設けられており、裏面電極12は、半導体素子10の裏面全体に設けられて当該裏面と同一の平面形状をなす単一のものである。これら表面電極11、裏面電極12は、後述の図2に示されるように、放熱性および導電性を有する放熱板31、32に接続され、当該放熱板31、32を介して外部と電気的に接続されるようになっている。
また、半導体素子10の主表面には表面電極11以外に、リード端子用電極パッド13が設けられている。このリード端子用電極パッド13は、たとえばゲート電極や温度センス電極などに導通しているものであり、後述の図2に示されるように、第1の放熱板31に設けられた放熱板側パッド31bを介してリード端子40に接続され、このリード端子40を介して外部と電気的に接続されるようになっている。
これら各電極11、12および電極パッド13は、半導体素子の電極に用いられる一般的な導体材料により形成されるが、たとえばエミッタ電極としての表面電極11やリード端子用電極パッド13はAlもしくはAl合金などよりなり、コレクタ電極としての裏面電極12はTi/Ni/Auなどの積層体よりなる。
なお、半導体素子10は主表面側に表面電極を有し、裏面側に裏面電極を有するものであればよく、素子によっては、たとえば表面電極が1個で裏面電極が複数個あってもよいし、表裏両電極とも複数個であったり、単一であったりしてもかまわない。
そして、この半導体素子10は、電気絶縁性の樹脂20によって包み込まれるように封止されている。ここで、樹脂20は、電子部品の分野で封止材料として用いられるエポキシ樹脂などの樹脂材料よりなり、金型成形などにより作られるものである。このように本半導体装置は、表裏両面に電極11、12を有する半導体素子10と、その半導体素子10を封止する樹脂20とを備えている。
ここで、表面電極11、裏面電極12は、それぞれ樹脂20の外面にて露出しており、樹脂20は、半導体素子10の側面全体(ここでは4個の側面全体)を被覆している。それとともに樹脂20は、当該側面から半導体素子10の主表面と平行な方向に張り出した形状を有している。
具体的には、樹脂20は半導体素子10の表裏両面において上記電極11、12以外の部位を被覆・封止するとともに、半導体素子10の外郭よりもさらに張り出した樹脂20の部分にて、半導体素子10の側面を封止した形となっている。
なお、ここでは、半導体素子10の主表面では、表面電極11に加えて、リード端子用電極パッド13も露出している。また、半導体素子10の裏面では、当該裏面全体に裏面電極12が形成されているので、その裏面電極12全体が樹脂20より露出した形とされている。以下、樹脂20の外面にて露出する各電極11、12の面、リード端子用電極パッド13の面を、共に露出面ということにする。
このように、図1に示される半導体装置では、表面電極11と裏面電極12との間に位置する半導体素子10の側面全体が電気絶縁性の樹脂20で被覆され、しかもこの樹脂20は当該側面から半導体素子10の主表面と平行な方向に張り出しているので、両電極11、12間の沿面距離が稼げる。
具体的には、樹脂20における上記張り出し形状の部分の外面を介した表裏両電極11、12の露出面間の距離が両電極11、12間の沿面距離であり、図1(c)に示される距離a、距離b、距離cの総和が当該沿面距離である。ここで、距離aは表面電極11の露出面から樹脂20の外郭までの距離、距離bは樹脂20の厚さ方向の寸法、距離cは裏面電極12の露出面から樹脂20の外郭までの距離に相当する。
そして、この沿面距離(a+b+c)は、表裏両電極11、12間に対して、半導体素子10の使用可能な電圧の範囲の中で最大電圧を印加したときに樹脂20の外面を介してトラッキング現象が起こらないような値に設定されている。
また、本半導体装置においては、表裏両電極11、12が樹脂20の外面にて露出しているので、後述の図2に示されるように、半導体素子10の表裏両面から加圧接触により放熱板31、32を接触させることが可能となる。ここで、表裏両電極11、12の露出面は、その周囲の樹脂20の外面よりも突出したり引っこんでいたりしてもよいが、その場合、放熱板31、32の接触面に突起や凹みを設けて接触させることになる。
それに対して、図1では、好ましい構成として、表面電極11の露出面、裏面電極12の露出面、さらにリード端子用電極パッド13の露出面は、それぞれ当露出面の周囲に拡がる樹脂20の外面と同一平面に位置している。つまり、当該電極11、12やパッド13の露出面と、当該露出面の周囲から張り出し形状の部分の外郭に至る樹脂20の外面とは、いわゆる面一(ツライチ)の関係にある。
ここでは、樹脂20における半導体素子10の厚さ方向に沿った厚さ寸法は、半導体素子10の厚さと表裏の両電極11、12の厚さとの合計厚さと同等の大きさである。それにより、上記樹脂20の外面と各電極11、12の露出面との面一構成を適切に形成している。
ところで、図1に示される半導体装置によれば、表裏両電極11、12間に位置する半導体素子10の側面全体が電気絶縁性の樹脂20で被覆され、しかもこの樹脂20は当該側面から半導体素子10の主表面と平行な方向に張り出しているので、両電極11、12間の沿面距離が稼げる。また、表裏両電極11、12が樹脂20の外面にて露出しているので、後述の図2に示されるように、半導体素子10の表裏両面から加圧接触により放熱板31、32を接触させることが可能となる。
よって、図1の半導体装置によれば、従来のような別体の電気絶縁性の部材を用いることなく半導体素子10の表裏両電極11、12間の沿面距離を確保することができ、半導体素子10の表裏両面にて加圧接触による放熱板31、32の接続を行うのに適した半導体装置が実現される。
また、図1の半導体装置では、表面電極11の露出面、裏面電極12の露出面を、それぞれ当該露出面周囲の樹脂20の外面と同一平面に位置させているから、後述の図2に示されるように、放熱板31、32における各電極11、12と接触する面を平坦面とした場合でも、樹脂20と電極11、12の露出面に対して、放熱板31、32の平坦面が確実に接触する。
次に、図2は、上記図1の半導体装置の構成に、さらに上記した放熱板31、32を追加した構成とした例を示す概略断面図であり、(a)は放熱板31、32の組み付け前の状態、(b)は組み付け後の状態を示す。
図2では、半導体素子10の主表面側に、放熱性および導電性を有する第1の放熱板31が設けられている。この第1の放熱板31は、当該主表面側に位置する樹脂20の外面および樹脂20の外面にて露出する表面電極11の露出面に、加圧状態で直接接触している。
一方、半導体素子10の裏面側に、放熱性および導電性を有する第2の放熱板32が設けられている。この第2の放熱板32は、当該裏面側に位置する樹脂20の外面および樹脂20の外面にて露出する裏面電極12の露出面に、加圧状態で直接接触している。これら両放熱板31、32は、たとえばCuやFeなどの板材よりなる。
また、これら放熱板31、32における各電極11、12と接触する面は、平坦面である。また、これら放熱板31、32における各電極11、12との接触面とは反対側の面、いわゆる冷却面には、電気絶縁性の絶縁膜31a、32aが設けられている。
これら絶縁膜31a、32aは、たとえばスパッタや蒸着などの成膜方法にて形成されたシリコン酸化膜やシリコン窒化膜、またはポリイミドのコーティング膜、あるいは、アルミナなどのセラミックシートよりなるもので、各放熱板31、32を、さらに外部の冷却部材に接触させるときなどに、当該冷却部材と放熱板31、32との電気的絶縁を確保するためのものである。
また、図2では、樹脂20のうち半導体素子10の側面から張り出した形状の部分が、第1の放熱板31の外郭および第2の放熱板32の外郭よりもはみ出している。具体的には、上記図1に示されるような全体構成が矩形板状の樹脂パッケージに対して、半導体素子10よりも一回り大きく且つ樹脂20の外郭よりは一回り小さい矩形板状の放熱板31、32を用いればよい。
このように、樹脂20の外郭を両放熱板31、32の外郭よりもはみ出させることで、そのはみ出した樹脂20の外面の分、両放熱板31、32間の沿面距離を長くすることができる。なお、このような樹脂20のはみ出しが無い場合でも両放熱板31、32間の沿面距離が十分に確保できるならば、当該樹脂20のはみ出しは無くてもよい。
また、上述したが、半導体素子10の主表面にて樹脂20より露出するリード端子用電極パッド13は、第1の放熱板31に設けられた放熱板側パッド31bを介してリード端子40に接続され、このリード端子40を介して外部と電気的に接続されるようになっている。
具体的には、第1の放熱板31においては、当該第1の放熱板31における半導体素子10の主表面に対向する面のうち、リード端子用電極パッド13に対向する部位には、リード端子40に接続された放熱板側パッド31bが設けられている。
さらに、第1の放熱板31と放熱板側パッド31bおよびリード端子40との間には、当該間を電気的に絶縁する絶縁層31cが介在されており、放熱板側パッド31bとリード端子用電極パッド13とは加圧状態で直接接触することで電気的に接続されている。ここで、加圧状態は、図示しないネジ部材やバネ部材などによって、両放熱板31、32で半導体素子10を挟み付けるように加圧すればよい。
ここで、絶縁膜31cは、第1の放熱板31における半導体素子10側の面に対して、一般的な成膜方法により形成されたシリコン酸化膜、シリコン窒化膜やポリイミド膜などである。
また、放熱板側パッド31bは、その絶縁膜31cの上に形成されたアルミニウムなどの膜である。この放熱板側パッド31bは、半導体素子10におけるリード端子用電極パッド13と正対する位置に設けられ、絶縁膜31cを介することで、放熱板側パッド31bと第1の放熱板31とは電気的に絶縁されている。
また、リード端子40は、Cuなどのリードフレームなどよりなるもので、絶縁膜31cの上に位置して放熱板側パッド31bとは、はんだや超音波接合などにより接合されている。このように、図2の構成によれば、リード端子40と第1の放熱板31との電気的絶縁を確保しつつ、リード端子40を第1の放熱板31に設けることができる。
このような図2の構成によれば、図1の構成に加えて、半導体素子10の表裏両面にて、放熱板31、32が加圧接触により接続された構成を有する半導体装置が提供される。つまり、この図2のものにおいても、上記した図1の半導体装置と同様の効果を奏する半導体装置が実現される。
その他、本実施形態の上記各半導体装置によれば、加圧接触構造のため、はんだ等の接合材がいらず接合部の寿命を考慮する必要がなくなるため、容易に高温での使用環境に対応することが可能となる。また、半導体素子10への熱応力もなくなるため、半導体素子10を薄くするといった素子厚の制限を受けずに済む。
(第2実施形態)
図3は、本発明の第2実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は半導体素子10の主表面側の概略平面図、(b)は概略斜視図、(c)は(a)中のB−B概略断面図である。ここでは、上記第1実施形態との相違点を中心に述べることとする。
図3に示されるように、本実施形態では、リード端子40が第1の放熱板31側ではなく、半導体素子10側に設けられている。それゆえ、第1の放熱板31は上記放熱板側パッド31bや絶縁層31cは省略されたものとなっている。
この場合、半導体素子10の主表面におけるリード端子用電極パッド13に対してリード端子40を、はんだや超音波接合などにより接合し、その後、樹脂20の成形を行うようにすればよい。この場合、リード端子用電極パッド13およびこれに接合されたリード端子40は樹脂20で封止される。
次に、図4は、上記図3の半導体装置の構成に、さらに放熱板31、32を追加した構成とした例を示す概略断面図であり、(a)は放熱板31、32の組み付け前の状態、(b)は組み付け後の状態を示す。
この図4の構成では、樹脂20に被覆されているリード端子用電極パッド13およびリード端子40を除いて、放熱板31、32は上記図2のものと同様であり、加圧接触による接続構成も同様である。このように、図4によれば、図3の構成に加えてさらに放熱板を有する半導体装置が提供される。
なお、図4では、放熱板31、32と各電極11、12および樹脂20との間に、密着性を確保するために、導電性樹脂シートなどよりなる比較的軟らかい中間接触材50を介在させて加圧接触を行っているが、この中間接触材50は必要に応じて設ければよいものであり、省略してもかまわない。
そして、本実施形態の上記各半導体装置によれば、上記第1実施形態と同様の効果を奏する。また、本実施形態では、リード端子40を半導体素子10側に設けることで、上記第1実施形態のように、第1の放熱板31を組み付けるときに、放熱板側パッド31bとリード端子用電極パッド13との位置合わせが不要となる。
(第3実施形態)
図5は、本発明の第3実施形態に係る放熱板31、32の組み付け前の樹脂パッケージの概略構成を示す図であり、(a)は半導体素子10の主表面側の概略平面図、(b)は概略斜視図、(c)は(a)中のC−C断面図である。
また、図6は、図5の樹脂パッケージに放熱板31、32を組み付けて構成された本実施形態の半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は概略断面図、(b)は概略斜視図である。この図6に示される本実施形態の半導体装置は、上記図4に示される第2実施形態の半導体装置を一部変形したものであり、ここでは、その変形部分を中心に述べる。
図5、図6に示されるように、本半導体装置では、樹脂20のうち両放熱板31、32の外郭よりもはみ出している部位は、第1の放熱板31側においては、第1の放熱板31の側面に沿って突出する第1の突出部21として構成され、第2の放熱板32側においては、第2の放熱板32の側面に沿って突出する第2の突出部22として構成されている。
そして、第1の放熱板31の側面は、半導体素子10の主表面側に位置する第1の突出部21の内面に接して第1の突出部21に被覆され、第2の放熱板32の側面は、半導体素子10の裏面側に位置する第2の突出部22の内面に接して第2の突出部22に被覆されている。
具体的に、各突出部21、22は、その内周形状が各放熱板31、32の外郭形状に対応したものであり、ここでは、樹脂20の外郭において矩形枠状に配置されている。また、ここでは、各放熱板31、32の側面の半導体素子10寄りの一部が、各突出部21、22の内面に接して被覆されている。このような突出部21、22は金型成形などにより実現される。
そして、本実施形態の半導体装置によれば、上記第2実施形態と同様の効果を奏する。また、本実施形態によれば、半導体素子10の表裏両面に放熱板31、32を設ける構成において、各突出部21、22の内側に放熱板31、32をはめ込むようにすれば放熱板31、32の位置が決まるため、放熱板31、32の位置決めが容易になる。また、突出部21、22の分、上記沿面距離がさらに増加するため、好ましい。
また、本実施形態の放熱板31、32の組み付け前の樹脂パッケージにおいては、このパッケージを、たとえば半導体素子10の裏面を下にして作業台などに置くときに、当該裏面側の第2の突出部22が当該作業台に接触するが、半導体素子10の裏面電極12は作業台から浮いた状態となる。そのため半導体素子10が傷ついたりするのを防止できるという利点もある。
なお、図5、図6では、各突出部21、22は、樹脂20の外郭において矩形枠状に配置されていたが、このような連続した環状の配置以外にも、たとえば放熱板31、32の四隅のみにL字形状に配置したり、特定の1辺〜3辺に配置したりすることも可能である。また、各突出部21、22の高さについては、各放熱板31、32の側面の全体が被覆されるようなものであってもよい。
(第4実施形態)
図7は、本発明の第4実施形態に係る放熱板31、32の組み付け前の樹脂パッケージの概略構成を示す図であり、(a)は半導体素子10の主表面側の概略平面図、(b)は概略斜視図、(c)は(a)中のD−D概略断面図である。
また、図8は、図7の樹脂パッケージに放熱板31、32を組み付けて構成された本実施形態の半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は概略断面図、(b)は概略斜視図である。この図8に示される本実施形態の半導体装置は、上記図2に示される第1実施形態の半導体装置の構成に対して、上記図6に示される第3実施形態の突出部21、22の構成を組み合わせたものであり、ここでは、その変形部分を中心に述べる。
上記図6では、リード端子40を半導体素子10側に設けた構成としていたが、本実施形態では、リード端子40を第1の放熱板31側に設けた構成とする。この場合、第1の放熱板31の板面に沿った方向にて、リード端子40が第1の放熱板31の外郭より突出するため、この突出するリード端子40が第1の突出部21と干渉するのを防止する必要がある。
そこで、本実施形態では、図7、図8に示されるように、第1の放熱板31側に位置する第1の突出部21において、リード端子40が位置する部位に凹部21aを形成し、リード端子40をその凹部21a内に位置させることで、当該両者21、40の干渉を防止している。
そして、本実施形態の半導体装置によれば、上記第1実施形態と同様の効果、および、上記第3実施形態と同様の効果を奏する。
(第5実施形態)
図9は、本発明の第5実施形態に係る放熱板31、32の組み付け前の樹脂パッケージの概略構成を示す図であり、(a)は半導体素子10の主表面側の概略平面図、(b)は概略斜視図である。
図10は、図9の樹脂パッケージに放熱板31、32を組み付けて構成された本実施形態の半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は概略断面図、(b)は概略斜視図である。この図10に示される本実施形態の半導体装置は、上記図8に示される第4実施形態の半導体装置においてリード端子40の構成を変形したものであり、ここでは、その変形部分を中心に述べる。
図10に示されるように、本実施形態では、第1の放熱板31の板面に沿った方向にて第1の放熱板31の外郭より突出するリード端子40を、第1の放熱板31の側面に沿って折り曲げることで、樹脂20における第1の突出部21に対して、上記第4実施形態のような凹部の形成が不要となる。
ここで、第1の放熱板31の側面には、第1の放熱板31の冷却面と同じく絶縁膜31aを設け、当該側面とリード端子40との電気的絶縁の確保を図っている。また、この場合、第1の放熱板31の冷却面側からのリード端子40の取り出しが可能となる。
次に、第6〜第11実施形態では、応用例として、上記各実施形態に示した半導体装置を、複数個一体化させた種々の構成を示す。
(第6実施形態)
図11は、本発明の第6実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は半導体素子10の主表面側の概略平面図、(b)は(a)中のE−E概略断面図、(c)は(a)中のF−F概略断面図である。
図11に示されるように、本半導体装置は、半導体素子10を少なくとも2個以上平面的に配置し、これらを上記第2実施形態と同様に、樹脂20で封止して一体化したものである。この場合も、各半導体素子10については、リード端子用電極パッド13およびリード端子40を除く、表裏両電極11、12を樹脂20から露出させた構造としている。
また、ここでは、それぞれの半導体素子10の向きを揃えて樹脂20で封止することにより、リード端子40の向きを揃えることが可能となり、外部への接続が容易となる。そして、本構造によれば、並列回路としての使用も可能となる。
(第7実施形態)
図12は、本発明の第7実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は半導体素子10の主表面側の概略平面図、(b)は(a)中のG−G概略断面図、(c)は(a)中のH−H概略断面図、(d)は(a)〜(c)に示される半導体装置に放熱板31、32を組み付けた状態を示す概略断面図である。
図12に示されるように、本半導体装置は、2つの半導体素子10をそれぞれの表裏面が逆向きになるよう、かつリード端子40の向きが同じになるように平面的に配置し、これらを上記第2実施形態と同様に、樹脂20で封止して一体化したものである。この場合も、各半導体素子10については、リード端子用電極パッド13およびリード端子40を除く、表裏両電極11、12を樹脂20から露出させた構造としている。
また、各半導体素子10が上述したIGBTの場合、図12(d)に示されるように、各半導体素子10の各電極11、12と放熱板31、32とを加圧接触させることで、インバータ回路における上下アーム一体の2in1構造を実現することが可能となる。
(第8実施形態)
図13は、本発明の第8実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は半導体素子10の主表面側の概略平面図、(b)は(a)中のI−I概略断面図である。
図13に示されるように、本半導体装置は、2つの半導体素子10を、Cuなどよりなる板状のリード部材60を間に挟んだ状態で、はんだ等の接合材61を介して縦型に接合させ、それらを樹脂20により封止してなる。
こうすることで、半導体素子10をIGBTとしたときに、インバータ回路における上下アーム一体のパッケージ構造を実現可能としている。ここで、リード部材60は、図13(b)中の上側の半導体素子10の裏面電極12と下側の半導体素子10の表面電極11とを電気的に接続するものであって、上下アームの中間電位を取り出すものであるが、放熱板としての機能も有する。
また、図14は、本実施形態の他の例としての半導体装置を示す概略断面図であり、(a)は放熱板31、32の組み付け前の状態、(b)は組み付け後の状態を示す。
本実施形態のように、2個の半導体素子10を縦型に積層する場合、図14に示されるように、放熱板32、樹脂20で封止された半導体素子10、リード部材60、樹脂20で封止された半導体素子10、放熱板31を順次積層し、これらを加圧接触により接合してもよい。なお、この場合も中間接触材50が介在しているが、省略も可能である。
そして、図14の例においても、インバータ回路における上下アーム一体のパッケージ構造を実現可能である。また、これら図13、図14の構造は、チップサイズのパッケージ構造(CSP)であるため、半導体装置全体の厚さを比較的薄くすることができ、小型化の点で好ましい。
(第9実施形態)
図15は、本発明の第9実施形態に係る組み付け前の樹脂パッケージの概略構成を示す図であり、(a)は半導体素子10の主表面側の概略平面図、(b)は概略斜視図である。なお、図15(a)ではリード部材60を組み付けた状態として示してある。
図16は、図15に示される樹脂パッケージを2個、リード部材60、放熱板31、32とともに組み付けてなる本実施形態の半導体装置の概略断面図であり、(a)は図15(a)中のJ−J断面に対応した断面図、(b)は図15(a)中のK−K断面に対応した断面図である。
本実施形態は、2個の半導体素子10を縦型に積層することで、インバータ回路における上下アーム一体のパッケージ構造を実現するものである。図15、図16に示されるように、本半導体装置では、上記第3実施形態と同様に、半導体素子10を覆う樹脂20の外周部に突出部21、22を設けている。
しかし、上下アームの中間電位を取り出すためのリード部材60が接続される部位には突出部21、22を設けずに、リード部材60の取り出しを可能としている。この構造により、加圧接触させる際のリード部材60の位置決めが容易となる。
(第10実施形態)
図17は、本発明の第10実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は概略平面図、(b)は(a)中のL−L概略断面図、(b)は(a)中のM−M概略断面図である。
図17に示されるように、本半導体装置は、上記図13に示される構成のものを、平面的に3個並べたものである。具体的には、6つの半導体素子10を3相交流の各アームに対応するようはんだ等の接合材61を介してリード部材60に積層させ、それらを樹脂20により封止することで、3相交流の全てのアームに対応した構造、いわゆる6in1モジュールが形成可能となる。
(第11実施形態)
図18は、本発明の第11実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す図であり、(a)は放熱板31、32の組み付け前の概略平面図、(b)は(a)中のN−N断面図、(c)は放熱板31、32を組み付けた状態の概略断面図である。本半導体装置は最終的には図18(c)に示される構成を有するものであり、この図18(c)は(a)中のN−N断面に対応した断面にて示してある。
図18に示されるように、本半導体装置は、上記図17に示される構成において、リード部材60に対する接続を、上記接合材61を省略して加圧接触としたものである。そのため、本半導体装置の場合も、6in1モジュールが形成可能となる。
(第12実施形態)
図19は、本発明の第12実施形態に係る半導体装置の概略断面図であり、ここでは、樹脂パッケージに放熱板31、32を組み付ける前の状態を示している。図10に示されるように、本実施形態の半導体装置も、樹脂パッケージすなわち樹脂20で封止された半導体素子10に対して、両放熱板31、32を加圧接触させてなるものである。
ここで、本半導体装置では、各放熱板31、32の冷却面に絶縁膜31a、32aを介して冷却器70を取り付けている。この場合、冷却器70の外側から加圧を行い、加圧接触を行うようにすればよい。この冷却器70としては、たとえばフィンなどを有する空冷式または水冷式などの一般的なものが採用される。
なお、図19では、上記第1実施形態と同様に、リード端子40は第1の放熱板31側に設けているが、上記第2実施形態と同様に、リード端子40を半導体素子10側に設けた構成に対しても、図19と同様に、冷却器70を有する放熱板31、32を適用してもよい。
(第13実施形態)
図20は、本発明の第13実施形態に係る半導体装置の製造方法を示す工程図である。まず、図20(a)に示されるように、表面電極11および裏面電極12を含む半導体素子10の全体を樹脂20で封止する。この封止は、金型成形やポッティングにより行える。
その後、図20(a)に示されるように、刃具K1を用いた切削や研削により、表面電極11および裏面電極12が樹脂20より露出するまで、樹脂20のうち半導体素子10の主表面側に位置する部分と、半導体素子10の裏面側に位置する部分とを削る。これにより、図20(b)に示されるように、上記図1に示したのと同様の半導体装置ができあがる。
ここで、図20に示されるように、樹脂封止前の半導体素子10において、予め両電極11、12およびリード端子用電極パッド13の厚さを狙いの値よりも厚くしておき、これら電極およびパッドを樹脂20とともに刃具K1によって削るようにすれば、当該削り加工が適切に行え、好ましい。
図21は、本実施形態に係る他の例としての半導体装置の製造方法を示す工程図である。この場合は、上記図3に示したのと同様の半導体装置を製造するものであるが、図20の方法と同様に、樹脂封止、および、樹脂20の削りを行えばよい。
ただし、この場合、図21に示されるように、あらかじめリード端子用電極パッド13の高さを表面電極11の高さよりも低くしておき、表裏電極11、12のみが樹脂20から露出するように削ることとなる。
(第14実施形態)
図22は、本発明の第14実施形態に係る半導体装置の製造方法を示す工程図である。本製造方法では、図22に示されるように、半導体素子10を樹脂20の成形用の金型K2に設置し、表面電極11および裏面電極12、さらに、ここではリード端子用電極パッド13を金型K2の内面に密着させて被覆した状態とし、この状態で、金型K2に樹脂20を投入し、樹脂20による封止を行う。
そうすることで、表面電極11および裏面電極12を樹脂20より露出させるとともに、リード端子用電極パッド13も樹脂20より露出させた半導体装置、つまり上記図1に示したのと同様の半導体装置ができあがる。
図23は、本実施形態に係る他の例としての半導体装置の製造方法を示す工程図である。この場合は、上記図3に示したのと同様の半導体装置を製造するものである。この場合、あらかじめリード端子用電極パッド13の高さを表面電極11の高さよりも低く形成した半導体素子10を金型K2に設置し、表面電極11および裏面電極12を金型K2の内面に密着させて被覆した状態で、樹脂20による封止を行う。
そうすることで、表面電極11および裏面電極12を樹脂20より露出させるとともに、リード端子用電極パッド13およびリード端子40は封止された半導体装置、つまり上記図3に示したのと同様の半導体装置ができあがる。
(第15実施形態)
図24は、本発明の第15実施形態に係る半導体装置を示す図であり、(a)は同半導体装置の概略平面図、(b)は(a)中のO−O断面図である。
本実施形態の半導体装置は、上記図1に示される構成と同様、主表面側に表面電極11を有し、裏面側に裏面電極12を有する板状の半導体素子10と、半導体素子10を包み込むように封止する電気絶縁性の樹脂20と、を備えている。ここで、本実施形態では、半導体素子10の主表面のリード端子用電極パッド13は、接続部材用パッドとして構成されている。
そして、これら表面電極11、裏面電極12およびリード端子用電極パッド13は、それぞれ樹脂20の外面にて露出しており、樹脂20は、半導体素子10における主表面と裏面との間の側面全体を被覆するとともに当該側面から半導体素子10の主表面と平行な方向に張り出した形状を有している。ここまでは、上記図1と同様である。
さらに、本実施形態では、図24に示されるように、半導体素子10の側面の外側に樹脂20を介して接続部材としてのリード端子40が設けられている。ここでは、このリード端子40は、表面電極としてのリード端子用電極パッド13と電気的に接続されるものである。
そして、本実施形態では、半導体素子10の主表面側では、熱可塑性樹脂よりなる第1の樹脂シート100が設けられている。この第1の樹脂シート100は、その一方の主面が半導体素子10の主表面側に位置する樹脂20の外面に直接接触しており、この第1の樹脂シート100によって半導体素子10の主表面が覆われている。
第1の樹脂シート100のうち、樹脂20の外面にて露出する表面電極11の面に位置する部位には、一方の主面から他方の主面まで第1の樹脂シート100を貫通する導電性部材300が設けられ、この導電性部材300は、第1の樹脂シート100の一方の主面側にて、当該表面電極11の面に接触して電気的に接続されている。
そのため、この導電性部材300を介して表面電極11と第1の樹脂シート100の他方の主面側とが電気的に接続されるようになっている。つまり、第1の樹脂シート100の導電性部材300は、半導体素子10の表面電極11を第1の樹脂シート100の一方の主面側から他方の主面側へ引き出す引き出し電極として構成されている。
ここで、本実施形態では、第1の樹脂シート100は、複数の熱可塑性樹脂よりなる層101、102が熱融着により積層されてなる積層型の樹脂シートである。ここでは、2層の積層であり、第1の樹脂シート100における2層101、102のうち最も半導体素子10側に位置するものを第1の層101、この第1の層101の次に半導体素子10に近いものを第2の層102とする。
そして、この積層型の樹脂シートである第1の樹脂シート100においては、導電性部材300は、各々の層101、102にてその厚さ方向に貫通するように設けられ、各々の層101、102の導電性部材300は、隣り合う層101、102間に設けられた導体パターン301を介して電気的に接続されている。
それにより、第1の樹脂シート100における一方の主面に位置する導電性部材300と他方の主面に位置する導電性部材300とが導通されている。本実施形態では、第1の樹脂シート100の第1の層101の導電性部材300と、第2の層102の導電性部材300とが、当該両層101、102間の導体パターン301を介して電気的に接続されている。
具体的には、第1の樹脂シート100の他方の主面、ここでは第2の層102の外面には導体パターン301が設けられており、この導体パターン301に第2の層102の導電性部材300が導通されている。そのため、当該導体パターンを外部の電極や配線部材などに接続すれば、表面電極11と外部との電気的なやりとりが可能となる。
また、上述したが、半導体素子10の側面の外側に樹脂20を介して接続部材としてのリード端子40が設けられているが、このリード端子40は第1の樹脂シート100の第1の層101に接して第1の樹脂シート100により封止されている。そして、ここでは、リード端子40は、その一部が第1の樹脂シート100より突出しており、この突出部にて外部との電気的接続が可能となっている。
そして、半導体素子10の主表面に設けられているリード端子用電極パッド13は、接続部材としてのリード端子40と接続される接続部材用パッド13として構成されている。
ここで、第1の樹脂シート100における第1の層101のうちリード端子40に位置する部位、リード端子用電極パッド13に位置する部位には、それぞれ第1の層101を厚さ方向に貫通する接続部材用導体310、パッド用導体311が設けられている。
そして、接続部材用導体310はリード端子40と電気的に接続され、パッド用導体311はリード端子用電極パッド13と電気的に接続されている。これら各導体310、311とリード端子40、リード端子用電極パッド13との接続は、金属接合などにより行われている。
そして、第1の層101に設けられている接続部材用導体310とパッド用導体311とは、第1の層101と第2の層102との間に設けられた導体パターン301を介して電気的に接続されている。
このように、第1の樹脂シート100を積層型の樹脂シートとすることで、層間の導体パターン301および各導体310、311により、第1の樹脂シート100の内部にて、リード端子40と半導体素子10の主表面のリード端子用電極パッド13とを導通する層内配線を構成することができる。
ここで、第1の樹脂シート100の各層101、102は、液晶ポリマーなどよりなる熱可塑性樹脂を、一般的な樹脂成形によってシート状に成型してなるものである。また、貫通電極として構成されている導電性部材300および各導体310、311と、導体パターン301とは金属接合により電気的に接続されている。
そして、この熱可塑性樹脂のシートの片面に導体箔をエッチングによりパターン形成し、導体箔を形成していない樹脂シート側からプレスやレーザ加工などにより孔を開け、導体パターンを底面とする有底ビアホールを作製する。その後、CuやAgなどの導体ペーストをスクリーン印刷機やディスペンサーによりビアホール内に充填して導電性部材301や上記各導体310、311を形成し、各層101、102ができあがる。そして、これら各層101、102を熱プレスなどにより積層すれば、第1の樹脂シート100ができあがる。
また、半導体素子10の裏面側では、熱可塑性樹脂よりなる第2の樹脂シート200が設けられている。この第2の樹脂シート200は、その一方の主面が半導体素子10の裏面側に位置する樹脂20の外面に直接接触しており、この第2の樹脂シート200によって半導体素子10の裏面が覆われている。ここでは、第2の樹脂シート200は単層のものとされている。
第2の樹脂シート200のうち、樹脂20の外面にて露出する裏面電極12の面に位置する部位には、一方の主面からこれとは反対側の他方の主面まで第2の樹脂シート200を貫通する導電性部材300が設けられ、この導電性部材300は、第2の樹脂シート200の一方の主面側にて、当該裏面電極12の面に電気的に接続されている。
そのため、この導電性部材300を介して裏面電極12と第2の樹脂シート200の他方の主面側とが電気的に接続されるようになっている。つまり、第2の樹脂シート200の導電性部材300は、半導体素子10の裏面電極12を第2の樹脂シート200の一方の主面側から他方の主面側へ引き出す引き出し電極として構成されている。
具体的には、第2の樹脂シート200の他方の主面には導体パターン301が設けられており、この導体パターン301に第2の樹脂シート200の導電性部材300が導通されている。そのため、当該導体パターン301を外部の電極や配線部材などに接続すれば、裏面電極12と外部との電気的なやりとりが可能となる。
この第2の樹脂シート200も、第1の樹脂シート100と同一の熱可塑性樹脂よりなる成型シートであり、その導電性部材300および導体パターン301も、上記第1の樹脂シート100と同様にして形成されたものである。
次に、本実施形態の半導体装置の製造方法について、図25を参照して述べる。図25は、本半導体装置の熱プレス前の各部の分解状態を示す概略断面図である。
本製造方法は、表裏両面の電極11、12を露出させるように半導体素子10を樹脂20で封止するとともに、半導体素子10の側面から樹脂20を張り出す形状としたものに対して、さらに、半導体素子10の主表面側および裏面側に熱可塑性樹脂よりなる部材を設けて、当該両面を熱可塑性樹脂よりなる部材によって封止してなる半導体装置の製造方法である。
まず、熱可塑性樹脂よりなる部材として、半導体素子10の主表面側に位置するシートであって、当該シートのうち表面電極11に対応する部位に当該シートの両主面間を貫通する導電性部材300が設けられた第1の樹脂シート100を用意する。ここでは、上記した第1の樹脂シート100の第1の層101、第2の層102を用意する。
また、熱可塑性樹脂よりなる部材として、半導体素子10の裏面側に位置するシートであって、当該シートのうち裏面電極12に対応する部位に当該シートの両主面間を貫通する導電性部材300が設けられた第2の樹脂シート200を用意する。
さらに、樹脂20を構成する部材として、熱可塑性樹脂よりなるシートであって、その厚さ方向に貫通する貫通穴401を有する第3の樹脂シート400を用意する。この貫通孔401はプレスやレーザ加工などにより形成される。また、第3の樹脂シート400には、リード端子40を設けるための切り欠きが設けられている。ここで、各樹脂シート100、200、300はともに同一の熱可塑性樹脂よりなるものとする。
そして、第1の工程では、第3の樹脂シート400の貫通穴401に半導体素子10を収納するとともに、半導体素子10の主表面、裏面をそれぞれ貫通穴401の一方の開口部、他方の開口部より露出させるようにする。また、この工程では、第3の樹脂シート400の上記切り欠きにリード端子40を配置する。
この第1の工程の後、第2の工程を行う。この工程では、半導体素子10の主表面側に、第1の層101、第2の層102を順次積層させた状態で第1の樹脂シート100を配置する。
そして、半導体素子10の主表面および当該主表面側に位置する第3の樹脂シート400の外面に、第1の樹脂シート100の一方の主面を直接接触させつつ、第1の樹脂シート100の導電性部材300と表面電極11とを接触させて電気的に接続する。これにより、第1の樹脂シート100によって半導体素子10の主表面を覆う。以上が第2の工程である。
また、第1の工程の後、一方で第3の工程を行う。この工程では、半導体素子10の裏面側に第2の樹脂シート200を配置する。そして、半導体素子10の裏面および当該裏面側に位置する第3の樹脂シート400の外面に、第2の樹脂シート200の一方の主面を直接接触させつつ、第2の樹脂シート200の導電性部材300と裏面電極12とを接触させて電気的に接続する。これにより、第2の樹脂シート200によって半導体素子10の裏面を覆う。以上が第3の工程である。
次に、これら各工程の後、第4の工程を行う。この工程では、図25中の白矢印に示されるように、第1の樹脂シート100の他方の主面側、第2の樹脂シート200の他方の主面側から加圧するように、熱を加えながら熱プレスを行う。それにより、各樹脂シート100、200、300同士を融着させ接合する。また、このとき各導体や導電性部材は金属接合される。これが第4の工程である。
以上が本実施形態の製造方法である。このように、上記製造方法によれば、熱プレスを一括して行うことで、本実施形態の半導体装置を適切に製造することができる。
また、図26は、本実施形態の半導体装置の構成に、さらに放熱板31、32を追加した構成とした例を示す概略断面図である。
図26では、第1の樹脂シート100の他方の主面側に第1の放熱板31が設けられ、第2の樹脂シート200の他方の主面側に第2の放熱板32が設けられている。これら放熱板31、32は、上記図2のものと同様である。
第1の放熱板31は、第1の樹脂シート100の他方の主面に位置する導体パターン301に、加圧状態で直接接触しており、第2の放熱板32は、第2の樹脂シート200の他方の主面に位置する導体パターン301に、加圧状態で直接接触している。それにより、第2の放熱板31、第1の放熱板32は、それぞれ第1の樹脂シート100の他方の主面側に位置する導電性部材300、第2の樹脂シート200の他方の主面側に位置する導電性部材300に対し、導体パターン301を介して電気的・熱的に接続されている。
ここで、加圧状態は、上記図2と同様、図示しないネジ部材やバネ部材などの加圧手段によって、両放熱板31、32で半導体素子10を挟み付けるように加圧することで成されている。また、この場合も、各放熱板31、32は、その外面に設けられた絶縁膜31a、32aを介して図示しない冷却器に接続され、放熱効率を高めるように構成されている。
ところで、本実施形態によれば、各樹脂シート100、200に貫通して設けられた導電性部材300により、半導体素子10の表裏両電極11、12を各樹脂シート100、200の外面側に電気的、熱的に取りだすことができるから、半導体素子10の表裏両面にて各樹脂シート100、200を介して、加圧接触により放熱板31、32を接触させることが可能となる。
また、本実施形態の場合、半導体素子10および樹脂20を両樹脂シート100、200で挟み込むことで積層基板が形成され、この積層基板内に半導体素子10が実装されてなる半導体装置が構成されるが、熱可塑性樹脂よりなる樹脂シート100、200を用いることで、上記製造方法のように、熱プレスなどにより一括してこのような積層基板を形成できるというメリットがある。また、樹脂シート100、200は熱可塑性樹脂よりなるから、樹脂材料のリサイクルも可能である。
また、上述したように、本実施形態では、上記第3の樹脂シート300として第1および第2の樹脂シート100、200と同一の熱可塑性樹脂よりなるシートを用い、半導体素子10の側面より張り出す樹脂20を、第1および第2の樹脂シート100、200と同一の熱可塑性樹脂より構成している。
それによれば、これら各樹脂シート100、200と樹脂20が同一の熱可塑性樹脂よりなるので、これらの界面の熱プレスによる接合がより強固になることが期待される。つまり、熱プレスにより樹脂シート100、200だけでなく、樹脂20の方も融着現象を起こし、これら両方の融着による接合がなされるためである。
ここで、図27は、第1の樹脂シート100の第1の層101と第2の層102のそれぞれにおける導電性部材300の平面配置の好ましい形態を示す概略平面図である。図27では、第1の層101の導電性部材300を破線の小円、第2の層102の導電性部材300を実線の小円にて示している。第1の層101の導電性部材300と第2の層102の導電性部材300とは、ともに複数個のものが点在する配置とされている。
ここで、第1の層101の導電性部材300と第2の層102の導電性部材300とは、同一の位置にあってもよいが、図27に示されるように、互いにずれた位置にあることが好ましい。これは、第1の樹脂シート100が反る方向に発生する応力を低減するためである。
なお、接続部材40はリード端子40であったが、半導体素子10の主表面に設けられたパッド13と電気的に接続されるものであればリード端子40に限定されるものではなく、たとえば、もう一つの半導体素子などであってもよい。
また、本実施形態の上記図24に示される例では、第1の樹脂シート100を積層型の樹脂シートとし、第2の樹脂シート200は単層のものであったが、場合に応じて適宜、第1の樹脂シート100を単層とし、第2の樹脂シート200を積層型の樹脂シートとしたり、さらには、両樹脂シート100、200を共に単層としたり、あるいは共に積層型の樹脂シートとしたりすることも可能である。また、積層数としては、3層以上であってもよいことはもちろんである。
また、各樹脂シート100、200、300は、一般的な樹脂成形により形成された熱可塑性樹脂のシートであるが、この熱可塑性樹脂としては、上記した液晶ポリマー(LCP)以外にも、たとえばポリエーテルエーテルケトン(PEEK)やポリエーテルイミド(PEI)からなる樹脂や、ポリフェニレンサルファイド(PPS)や熱可塑性ポリイミドなどであってもよい。
また、上述のように、各樹脂シート100、200、300は同一の熱可塑性樹脂よりなることが好ましいが、異なる種類の熱可塑性樹脂よりなるものであってもよい。さらに半導体素子10の側面を封止する樹脂20は、上記第1実施形態のような熱硬化性樹脂であってもよい。つまり、上記図25において第1の樹脂シートと第2の樹脂シートとに挟まれる部分は、上記図1に示される構成のものであってもよい。
(第16実施形態)
図28は、本発明の第16実施形態に係る半導体装置を示す概略断面図である。本実施形態の半導体装置は、上記第15実施形態に示される半導体装置において、各樹脂シート100、200を貫通する導電性部材300の配置形態を変形したものである。
上記第15実施形態では、上記図27に示したように、第1の層101の導電性部材300および第2の層102の導電性部材300は、各電極11、12の1個につき複数個のものが点在する配置とされていたが、本実施形態では、1個の電極11、12につき単一の導電性部材300を設ける構成としている。
また、第1の樹脂シート100の第2の層102では、さらに第1の層101の各導電性部材300を覆うように単一の導電性部材300を構成している。本実施形態の半導体装置によれば、上記第15実施形態の導電性部材300の配置に比べて、放熱経路が大きくなるため、放熱性の向上という点では好ましい。
また、図29は、本実施形態の半導体装置の構成に、さらに放熱板31、32を追加した構成とした例を示す概略断面図である。この放熱板31、32およびその組み付け構成については、上記図26と同様である。
つまり、上記図26および本実施形態の図29の構成においては、第1の樹脂シート100の他方の主面側には第1の放熱板31が設けられ、この第1の放熱板31は当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する導電性部材300と電気的に接続されており、第2の樹脂シート200の他方の主面側には第2の放熱板32が設けられ、この第2の放熱板32は当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する導電性部材300と電気的に接続されている。
そして、第1の放熱板31と第1の樹脂シート100、および、第2の放熱板32と第2の樹脂シート200は、それぞれ放熱板を樹脂シートへ押し付けるように加圧されることにより、接合されている。このように、本半導体装置においても半導体素子10の表裏両面にて各樹脂シート100、200を介して、加圧接触により放熱板31、32を接触させることが可能となる。
(第17実施形態)
図30は、本発明の第17実施形態に係る半導体装置の熱プレス前の各部の分解状態を示す概略断面図であり、図31は、本半導体装置の概略断面図である。
本半導体装置は、上記図24(b)、図25に示される半導体装置に対して、さらに、半導体素子10の表裏両面側に樹脂シート103、202を付加し、この付加された樹脂シート103、202を介して、放熱板31、32を組み付けたものである。これら付加された樹脂シート103、202は、上記樹脂シート100、200と同様、熱可塑性樹脂よりなり、その厚さ方向に貫通する導電性部材300が設けられたものである。
ここで、当該付加された樹脂シート103、202のうち半導体素子10の主表面側のものは、第1の樹脂シート100の一部とされ、半導体素子10の裏面側のものは第2の樹脂シート200の一部とされる。
つまり、本半導体装置においては、第1の樹脂シート100は3層101〜103が積層されたものであり、第2の樹脂シート200は2層201、202が積層されたものとされる。そして、これら各樹脂シート100、200においては、一方の主面側の導電性部材300と他方の主面側の導電性部材300とは、当該層間に位置する導体パターン301を介して導通されている。
この半導体装置は、図30に示されるように、半導体素子10およびリード端子40を配置した第3の樹脂シート400の各面側に、それぞれ第1の樹脂シート100および第1の放熱板31、第2の樹脂シート200および第2の放熱板32を配置し、これを熱プレスで一括してプレスすることにより、各樹脂シート100、200および放熱板31、32を、樹脂シート100、200の融着により接合することで形成される。
それにより、本半導体装置においては、第1の樹脂シート100の他方の主面側に位置する第1の放熱板31は、当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する導電性部材300と電気的に接続され、一方、第2の樹脂シート200の他方の主面側に位置する第2の放熱板32は、当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する導電性部材300と電気的に接続される。
また、本半導体装置では、第1の放熱板31と第1の樹脂シート100、および、第2の放熱板32と第2の樹脂シート200は、それぞれ樹脂シート100、200の融着により接合されている。
それによれば、上記熱プレスによって、樹脂シート100、200が変形して、放熱板31、32に融着するため、放熱板31、32を固定するためのネジやバネなどの加圧手段が不要となる。また、両放熱板31、32の樹脂シート100、200との接合面の平面度が多少悪かったり、当該両接合面の平行度が多少劣っていたりしても、放熱板31、32と樹脂シート100、200との密着が良好に確保される。
図32は、上記図31に示される構成において、各放熱板31、32の冷却面に絶縁膜31a、32aを介して、上記冷却器70(上記図19参照)を取り付けた構成を示す概略断面図である。
この冷却器70を有する構成は、上記図30において、さらに放熱板31、32との間に上記した導電性部材300を有する樹脂シートを介して冷却器70を配置し、これを各部品とともに一括の熱プレスを行うことにより形成される。また、この場合も、樹脂シートの変形・融着によって放熱板31、32と冷却器70とが接合されるので、上記同様、これらの接合面の平面度や平行度が多少劣っていても適切な接合が確保される。
(第18実施形態)
図33は、本発明の第18実施形態に係る半導体装置の概略断面構成を示す図である。この半導体装置は、上記第15実施形態に示した樹脂シート100、200を有する構成を、上記図17に示したような6in1モジュール構造または3in1構造に応用したものである。
ここで、図33には、3個の半導体素子10が示されているが、各半導体素子10については、上記図24と同様の構成とされている。つまり、半導体素子10の主表面側には第1の樹脂シートが設けられ、当該第1の樹脂シートに設けられた導電性部材300を介して表面電極11と第1の樹脂シートの他方の主面側の第1の放熱板31とが電気的・熱的に接続されている。
一方、半導体素子10の裏面側には第2の樹脂シートが設けられ、当該第2の樹脂シートに設けられた導電性部材300を介して裏面電極12と第2の樹脂シートの他方の主面側の第2の放熱板32とが電気的・熱的に接続されている。ここで、図33に示される樹脂20´は、上記図24に示した樹脂20および両樹脂シート100、200が積層されてなるものであり、図33では、これら各部の境界は省略してある。
図33に示される本半導体装置は、図34に示されるように、各部を積層し、これらを一括して熱プレスすることにより製造される。図34は、本半導体装置の熱プレス前の各部の分解状態を示す概略断面図である。
この図34においては、上記図24に示した半導体装置と同様のワークWを複数個形成し、これを平面的に配置する。そして、各ワークWにおける半導体素子10の表裏両面の各面側に、貫通電極としての導電性部材300を有する熱可塑性樹脂よりなる樹脂シート500を設け、その外側に、貫通孔内に放熱板31、32を収納した熱可塑性樹脂よりなる樹脂シート501を設ける。
さらに、その外側に上記樹脂シート500を設け、その外側に冷却器70を設ける。そして、これら積層したものを、図34中の白矢印に示されるように、一括して熱プレスすれば、各樹脂シート500、501が変形・融着することで各部が接合され、図33に示される半導体装置ができあがる。
この場合も、樹脂シートの変形・融着によって放熱板31、32と冷却器70とが接合されるので、上記同様、これらの接合面の平面度や平行度が多少劣っていても適切な接合が確保される。特に、複数個の半導体素子10を平面的に配置するような本実施形態の場合は、通常であれば、当該平面度や平行度の確保が厳しくなるが、そのような制約を緩和することが可能である。
(第19実施形態)
図35は、本発明の第19実施形態に係る半導体装置の熱プレス前の各部の分解状態を示す概略断面図である。本実施形態は、上記図33に示した半導体装置の他の製造方法を提供するものである。
上記第18実施形態では、各半導体素子10について、上記図24に示した半導体装置と同様のワークWを複数個形成した後、これらを平面的に配置して、その両面側に各部材を積層して一括プレスするようにした。
それに対して、本実施形態の製造方法では、図35に示されるように、各半導体素子10を、共通の第3の樹脂シート400に挿入して配置し、これに対して半導体素子10の両面に各部を積層するようにしている。
具体的には、半導体素子10の主表面側では、3層101〜103よりなる第1の樹脂シート100、第1の放熱板31を収納した樹脂シート501、導電性部材300を有する樹脂シート500、冷却器70を順次積層する。
一方、半導体素子10の裏面側では、2層201、202よりなる第2の樹脂シート200、第2の放熱板32を収納した樹脂シート501、導電性部材300を有する樹脂シート500、冷却器70を順次積層する。その後、図35中の白矢印に示されるように、これらを一括して熱プレスすれば、各樹脂シート500、501が変形・融着することで各部が接合され、図33に示されるものと同様の半導体装置ができあがる。
また、図35に示されるように、半導体素子10の主表面側では、第1の樹脂シート100を構成する3層101〜103において、半導体素子10の表面電極11側から第1の放熱板31側に向かって、導電性部材300の配置領域の幅が広がっている。
つまり、熱プレスにより接合された後においては、当該配置領域は、半導体素子10側から第1の放熱板31側に向かって台形状に拡がるものとなる。このとき、その拡がり角度、すなわち当該台形における鋭角は、たとえば45°程度とされる。これにより、半導体素子10側から放熱板31側へ向かって放熱経路が拡がるため、放熱熱効率を向上させることが可能となる。
また、この構成によれば、半導体素子10の表面電極11に接触する導電性部材300の領域幅を極力小さいものにできる。具体的には、表面電極11に接触する導電性部材300の領域幅を、半導体素子10の幅よりも小さくできる。そのため、たとえば半導体素子10の隣に熱に弱い素子を配置する場合には、当該熱に弱い素子と半導体素子10との距離を近くすることができ、体格の小型化に好ましい。
なお、この半導体素子10側から放熱板31側に向かって、導電性部材300の配置領域の幅が広がる構成は、半導体素子10の表裏両面を被覆する樹脂シート100、200が積層型の樹脂シートの場合に採用できるものであり、半導体素子10の裏面側つまり裏面電極12側に対しても適用できることは、もちろんである。そして、当該構成は、本実施形態だけでなく、上記樹脂シート100、200を有する構成の各実施形態において、適用できる。
(第20実施形態)
図36は、本発明の第20実施形態に係る半導体装置を示す図であり、(a)は同半導体装置の概略平面図、(b)は(a)中のP−P断面図である。本実施形態の半導体装置は、上記第15実施形態の半導体装置を一部変形したものであり、ここでは、その変形部分を中心に述べる。
本実施形態の半導体装置は、上記リード端子40を廃止して、その代わりに第1の樹脂シート100の導体パターン301の一部をリード端子として機能させるものである。具体的には、第1の樹脂シート100の他方の主面に位置する導体パターン301の一部を、リード端子用導体パターン301aとして構成している。
ここで、図36(b)に示されるように、第1および第2の放熱板31、32を組み付けた構成においては、このリード端子用導体パターン301aは、第1の放熱板31に被覆されずに外部に露出しており、それによりリード端子用導体パターン301aと外部との電気的接続が行われるようになっている。
そして、このリード端子用導体パターン301aとリード端子用電極パッド13とは、上記パッド用導体311、第1の層101と第2の層102との間の導体パターン301、および第2の層102の導電性部材300を介して、電気的に接続されている。この構造により、リード端子用電極パッド13の電気的な接続の自由度が向上し、半導体素子10として制御ICなども容易に組み込むことが可能となる。
図37は、本半導体装置の熱プレス前の各部の分解状態を示す概略断面図である。この図37に示されるように、本半導体装置も、上記第15実施形態の製造方法に準じて、半導体素子10が配置された第3の樹脂シート400の各面側に、2層101、102よりなる第1の樹脂シート100、第2の樹脂シート200をそれぞれ積層し、これらを一括して熱プレスすれば、できあがる。
(他の実施形態)
なお、半導体素子としては、主表面側に表面電極を有し、裏面側に裏面電極を有する板状のものであればよく、たとえば上記したリード端子用電極パッド13は省略されたものであってもよい。
10 半導体素子
11 表面電極
12 裏面電極
13 リード端子用電極パッド
20 樹脂
21 第1の突出部
22 第2の突出部
31 第1の放熱板
31b 放熱板側パッド
31c 絶縁層
32 第2の放熱板
40 リード端子
100 第1の樹脂シート
200 第2の樹脂シート
300 導電性部材
301 導体パターン
310 接続部材用導体
311 パッド用導体
400 第3の樹脂シート
K2 金型

Claims (15)

  1. 主表面側に表面電極(11)を有し、裏面側に裏面電極(12)を有する板状の半導体素子(10)と、
    前記半導体素子(10)を包み込むように封止する電気絶縁性の樹脂(20)と、を備え、
    前記表面電極(11)、前記裏面電極(12)は、それぞれ前記樹脂(20)の外面にて露出しており、
    前記樹脂(20)は、前記半導体素子(10)における前記主表面と前記裏面との間の側面全体を被覆するとともに当該側面から前記半導体素子(10)の主表面と平行な方向に張り出した形状を有していることを特徴とする半導体装置。
  2. 前記露出する表面電極(11)の面、前記露出する前記裏面電極(12)の面は、それぞれ当該電極の面の周囲に拡がる前記樹脂(20)の外面と同一平面に位置することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記半導体素子(10)の主表面側には、当該主表面側に位置する前記樹脂(20)の外面および当該樹脂(20)の外面にて露出する前記表面電極(11)の面に、加圧状態で直接接触した放熱性および導電性を有する第1の放熱板(31)が設けられ、
    前記半導体素子(10)の裏面側には、当該裏面側に位置する前記樹脂(20)の外面および当該樹脂(20)の外面にて露出する前記裏面電極(12)の面に、加圧状態で直接接触した放熱性および導電性を有する第2の放熱板(32)が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
  4. 前記樹脂(20)のうち前記半導体素子(10)の側面から張り出した形状の部分が、前記第1の放熱板(31)の外郭および前記第2の放熱板(32)の外郭よりもはみ出していることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
  5. 前記樹脂(20)のうち前記両放熱板(31、32)の外郭よりもはみ出している部位は、前記第1の放熱板(31)の側面に沿って突出する第1の突出部(21)、前記第2の放熱板(32)の側面に沿って突出する第2の突出部(22)として構成されており、
    前記第1の放熱板(31)の側面は、前記第1の突出部(21)の内面に接して前記第1の突出部(21)に被覆され、
    前記第2の放熱板(32)の側面は、前記第2の突出部(22)の内面に接して前記第2の突出部(22)に被覆されていることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
  6. 前記半導体素子(10)の主表面には、外部接続用のリード端子(40)が接続されるリード端子用電極パッド(13)が設けられており、このリード端子用電極パッド(13)も前記樹脂(20)の外面にて露出しており、
    前記第1の放熱板(31)における前記半導体素子(10)の主表面に対向する面のうち、前記リード端子用電極パッド(13)に対向する部位には、前記リード端子(40)に接続された放熱板側パッド(31b)が設けられ、
    さらに、前記第1の放熱板(31)と前記放熱板側パッド(31b)および前記リード端子(40)との間には、当該間を電気的に絶縁する絶縁層(31c)が介在されており、
    前記放熱板側パッド(31b)と前記リード端子用電極パッド(13)とは加圧状態で直接接触することで電気的に接続されていることを特徴とする請求項3ないし5のいずれか1つに記載の半導体装置。
  7. 前記半導体素子(10)の主表面側では、当該主表面側に位置する前記樹脂(20)の外面に、熱可塑性樹脂よりなる第1の樹脂シート(100)の一方の主面が直接接触して設けられ、この第1の樹脂シート(100)によって前記半導体素子(10)の主表面が覆われており、
    前記第1の樹脂シート(100)のうち前記樹脂(20)の外面にて露出する前記表面電極(11)の面に位置する部位には、前記一方の主面からこれとは反対側の他方の主面まで前記第1の樹脂シート(100)を貫通し当該表面電極(11)の面に電気的に接続された導電性部材(300)が設けられ、
    この導電性部材(300)を介して前記表面電極(11)と前記第1の樹脂シート(100)の他方の主面側とが電気的に接続されるようになっており、
    前記半導体素子(10)の裏面側では、当該裏面側に位置する前記樹脂(20)の外面に、熱可塑性樹脂よりなる第2の樹脂シート(200)の一方の主面が直接接触して設けられ、この第2の樹脂シート(200)によって前記半導体素子(10)の裏面が覆われており、
    前記第2の樹脂シート(200)のうち前記樹脂(20)の外面にて露出する前記裏面電極(12)の面に位置する部位には、前記一方の主面からこれとは反対側の他方の主面まで前記第2の樹脂シート(200)を貫通し当該裏面電極(12)の面に電気的に接続された導電性部材(300)が設けられ、
    この導電性部材(300)を介して前記裏面電極(12)と前記第2の樹脂シート(200)の他方の主面側とが電気的に接続されるようになっていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
  8. 前記樹脂(20)、前記第1の樹脂シート(100)及び前記第2の樹脂シート(200)は、同一の熱可塑性樹脂よりなることを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。
  9. 前記第1の樹脂シート(100)および前記第2の樹脂シート(200)の少なくとも一方の樹脂シートは、複数の熱可塑性樹脂よりなる層(101、102)が熱融着により積層されてなる積層型の樹脂シートであり、
    この積層型の樹脂シートにおいては、前記導電性部材(300)は、各々の前記層(101、102)にてその厚さ方向に貫通するように設けられ、各々の前記層(101、102)の前記導電性部材(300)は隣り合う前記層(101、102)間に設けられた導体パターン(301)を介して電気的に接続されていることにより、当該樹脂シートにおける前記一方の主面に位置する前記導電性部材(300)と前記他方の主面に位置する前記導電性部材(300)とが導通されていることを特徴とする請求項7または8に記載の半導体装置。
  10. 前記第1の樹脂シート(100)が複数の前記層(101、102)よりなる前記積層型の樹脂シートであって、前記第1の樹脂シート(100)における複数の前記層(101、102)のうち最も前記半導体素子(10)側に位置するものを第1の層(101)、この第1の層(101)の次に前記半導体素子(10)に近いものを第2の層(102)とし、
    前記半導体素子(10)の側面の外側に前記樹脂(20)を介して接続部材(40)が設けられ、この接続部材(40)は前記第1の樹脂シート(100)の前記第1の層(101)に接して前記第1の樹脂シート(100)により封止されており、
    前記半導体素子(10)の主表面には前記接続部材(40)と接続される接続部材用パッド(13)が設けられており、
    前記第1の樹脂シート(100)における前記第1の層(101)のうち前記接続部材(40)に位置する部位、前記接続部材用パッド(13)に位置する部位には、それぞれ前記第1の層(101)を厚さ方向に貫通し前記接続部材(40)と電気的に接続された接続部材用導体(310)、前記第1の層(101)を厚さ方向に貫通し前記接続部材用パッド(13)と電気的に接続されたパッド用導体(311)が設けられており、
    前記接続部材用導体(310)と前記パッド用導体(311)とは、前記第1の層(101)と前記第2の層(102)との間に設けられた前記導体パターン(301)を介して電気的に接続されていることを特徴とする請求項9に記載の半導体装置。
  11. 前記第1の樹脂シート(100)の他方の主面側には、放熱性および導電性を有する第1の放熱板(31)が設けられ、この第1の放熱板(31)は当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する前記導電性部材(300)と電気的に接続されており、
    前記第2の樹脂シート(200)の他方の主面側には、放熱性および導電性を有する第2の放熱板(32)が設けられ、この第2の放熱板(32)は当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する前記導電性部材(300)と電気的に接続されており、
    前記第1の放熱板(31)と前記第1の樹脂シート(100)、および、前記第2の放熱板(32)と前記第2の樹脂シート(200)は、それぞれ樹脂シート(100、200)の融着により接合されていることを特徴とする請求項7ないし10のいずれか1つに記載の半導体装置。
  12. 前記第1の樹脂シート(100)の他方の主面側には、放熱性および導電性を有する第1の放熱板(31)が設けられ、この第1の放熱板(31)は当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する前記導電性部材(300)と電気的に接続されており、
    前記第2の樹脂シート(200)の他方の主面側には、放熱性および導電性を有する第2の放熱板(32)が設けられ、この第2の放熱板(32)は当該他方の主面に直接接触しつつ、当該他方の主面に位置する前記導電性部材(300)と電気的に接続されており、
    前記第1の放熱板(31)と前記第1の樹脂シート(100)、および、前記第2の放熱板(32)と前記第2の樹脂シート(200)は、それぞれ放熱板を樹脂シートへ押し付けるように加圧されることにより、接合されていることを特徴とする請求項7ないし10のいずれか1つに記載の半導体装置。
  13. 主表面側に表面電極(11)を有し、裏面側に裏面電極(12)を有する板状の半導体素子(10)と、
    前記半導体素子(10)を包み込むように封止する電気絶縁性の樹脂(20)と、を備え、
    前記表面電極(11)、前記裏面電極(12)は、それぞれ前記樹脂(20)の外面にて露出しており、
    前記樹脂(20)は、前記半導体素子(10)における前記主表面と前記裏面との間の側面全体を被覆するとともに当該側面から前記半導体素子(10)の主表面と平行な方向に張り出した形状を有している半導体装置の製造方法であって、
    前記表面電極(11)および前記裏面電極(12)を含む前記半導体素子(10)の全体を前記樹脂(20)で封止した後、前記表面電極(11)および前記裏面電極(12)が前記樹脂(20)より露出するまで、前記樹脂(20)のうち前記半導体素子(10)における前記主表面側に位置する部分と、前記裏面側に位置する部分とを削ることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  14. 主表面側に表面電極(11)を有し、裏面側に裏面電極(12)を有する板状の半導体素子(10)と、
    前記半導体素子(10)を包み込むように封止する電気絶縁性の樹脂(20)と、を備え、
    前記表面電極(11)、前記裏面電極(12)は、それぞれ前記樹脂(20)の外面にて露出しており、
    前記樹脂(20)は、前記半導体素子(10)における前記主表面と前記裏面との間の側面全体を被覆するとともに当該側面から前記半導体素子(10)の主表面と平行な方向に張り出した形状を有している半導体装置の製造方法であって、
    前記半導体素子(10)を前記樹脂(20)の成形用の金型(K2)に設置し、前記表面電極(11)および前記裏面電極(12)を前記金型(K2)の内面に密着させて被覆した状態で、前記金型(K2)に前記樹脂(20)を投入し、前記樹脂(20)による封止を行うことで、前記表面電極(11)および前記裏面電極(12)を前記樹脂(20)より露出させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  15. 主表面側に表面電極(11)を有し、裏面側に裏面電極(12)を有する板状の半導体素子(10)と、
    前記半導体素子(10)を包み込むように封止する電気絶縁性の樹脂(20)と、を備え、
    前記表面電極(11)、前記裏面電極(12)は、それぞれ前記樹脂(20)の外面にて露出しており、
    前記樹脂(20)は、前記半導体素子(10)における前記主表面と前記裏面との間の側面全体を被覆するとともに当該側面から前記半導体素子(10)の主表面と平行な方向に張り出した形状を有しており、
    前記半導体素子(10)の主表面側および裏面側に熱可塑性樹脂よりなる部材を設けて、当該両面を前記熱可塑性樹脂よりなる部材によって封止してなる半導体装置の製造方法であって、
    前記熱可塑性樹脂よりなる部材として、前記半導体素子(10)の主表面側に位置するシートであって、当該シートのうち前記表面電極(11)に対応する部位に一方の主面からこれとは反対側の他方の主面まで当該シートを貫通する導電性部材(300)が設けられた第1の樹脂シート(100)と、
    前記半導体素子(10)の裏面側に位置し、前記第1の樹脂シート(100)と同一の熱可塑性樹脂よりなるシートであって、当該シートのうち前記裏面電極(12)に対応する部位に一方の主面からこれとは反対側の他方の主面まで当該シートを貫通する導電性部材(300)が設けられた第2の樹脂シート(200)と、を用意し、
    さらに、前記樹脂(20)を構成する部材として、前記第1及び第2の樹脂シート(100、200)と同一の熱可塑性樹脂よりなるシートであって、その厚さ方向に貫通する貫通穴(401)を有する第3の樹脂シート(400)を用意し、
    前記第3の樹脂シート(400)の前記貫通穴(401)に前記半導体素子(10)を収納するとともに、前記半導体素子(10)の主表面、裏面をそれぞれ前記貫通穴(401)の一方の開口部、他方の開口部より露出させる第1の工程と、
    前記第1の工程の後、前記半導体素子(10)の主表面および当該主表面側に位置する前記第3の樹脂シート(400)の外面に、前記第1の樹脂シート(100)の一方の主面を直接接触させつつ、前記第1の樹脂シート(100)の導電性部材(300)と前記表面電極(11)とを電気的に接続して、前記第1の樹脂シート(100)によって前記半導体素子(10)の主表面を覆う第2の工程と、
    前記第1の工程の後、前記半導体素子(10)の裏面および当該裏面側に位置する前記第3の樹脂シート(400)の外面に、前記第2の樹脂シート(200)の一方の主面を直接接触させつつ、前記第2の樹脂シート(200)の導電性部材(300)と前記裏面電極(12)とを電気的に接続して、前記第2の樹脂シート(200)によって前記半導体素子(10)の裏面を覆う第3の工程と、
    前記各工程の後、前記第1の樹脂シート(100)の他方の主面側、前記第2の樹脂シート(200)の他方の主面側から加圧するように、熱を加えながら熱プレスを行うことにより、前記各樹脂シート(100、200、300)同士を融着させる第4の工程とを実行することを特徴とする半導体装置の製造方法。
JP2010097172A 2010-02-04 2010-04-20 半導体装置およびその製造方法 Expired - Fee Related JP5126278B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010097172A JP5126278B2 (ja) 2010-02-04 2010-04-20 半導体装置およびその製造方法
US13/019,390 US8963315B2 (en) 2010-02-04 2011-02-02 Semiconductor device with surface electrodes

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010022980 2010-02-04
JP2010022980 2010-02-04
JP2010097172A JP5126278B2 (ja) 2010-02-04 2010-04-20 半導体装置およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011181879A true JP2011181879A (ja) 2011-09-15
JP5126278B2 JP5126278B2 (ja) 2013-01-23

Family

ID=44340889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010097172A Expired - Fee Related JP5126278B2 (ja) 2010-02-04 2010-04-20 半導体装置およびその製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8963315B2 (ja)
JP (1) JP5126278B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013038309A (ja) * 2011-08-10 2013-02-21 Denso Corp 半導体モジュールおよびそれを備えた半導体装置
JP2020161807A (ja) * 2019-03-19 2020-10-01 株式会社デンソー 半導体モジュールおよびこれに用いられる半導体装置
WO2021246204A1 (ja) * 2020-06-05 2021-12-09 株式会社デンソー 半導体装置、半導体モジュールおよび半導体装置の製造方法
WO2022264833A1 (ja) * 2021-06-14 2022-12-22 ローム株式会社 半導体装置
WO2023032667A1 (ja) * 2021-09-06 2023-03-09 ローム株式会社 半導体装置、および半導体装置の取付け構造

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5115595B2 (ja) * 2010-06-23 2013-01-09 株式会社デンソー 半導体モジュールの製造方法
JP2014179419A (ja) * 2013-03-14 2014-09-25 Alpha- Design Kk 電子部品の接合方法
DE102014227024A1 (de) * 2014-12-30 2016-06-30 Robert Bosch Gmbh Leistungsbauteil
JP2018014414A (ja) * 2016-07-21 2018-01-25 トヨタ自動車株式会社 半導体装置
JP6477975B2 (ja) 2017-03-08 2019-03-06 三菱電機株式会社 半導体装置、その製造方法および半導体モジュール
WO2021080016A1 (ja) * 2019-10-25 2021-04-29 株式会社デンソー 半導体モジュールを含む電子装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61224345A (ja) * 1985-03-28 1986-10-06 Mitsubishi Electric Corp 電力用半導体装置
JPH0718456U (ja) * 1993-09-10 1995-03-31 日本インター株式会社 圧接型半導体装置
JP2000031351A (ja) * 1998-07-09 2000-01-28 Toshiba Corp 半導体装置
JP2001156225A (ja) * 1999-11-24 2001-06-08 Denso Corp 半導体装置
JP2003086737A (ja) * 2001-09-11 2003-03-20 Toshiba Corp 半導体装置
JP2004158545A (ja) * 2002-11-05 2004-06-03 Denso Corp 多層基板及びその製造方法
JP2005117860A (ja) * 2003-10-10 2005-04-28 Sumitomo Electric Ind Ltd 電力変換用モジュールおよび電力変換装置並びに電気自動車用電力変換装置
JP2007027794A (ja) * 2003-09-17 2007-02-01 Denso Corp 半導体装置およびその製造方法
JP2009076600A (ja) * 2007-09-19 2009-04-09 Denso Corp 半導体冷却構造

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US30208A (en) * 1860-10-02 Machine fob shabpeetina tools
US3559001A (en) * 1968-08-21 1971-01-26 Motorola Inc Semiconductor housing assembly
DE2364728A1 (de) * 1973-12-27 1975-07-03 Licentia Gmbh Scheibenfoermiges halbleiterbauelement grosser leistungsfaehigkeit mit kunststoffummantelung
DE2556749A1 (de) * 1975-12-17 1977-06-23 Bbc Brown Boveri & Cie Leistungshalbleiterbauelement in scheibenzellenbauweise
DE2810416C2 (de) * 1978-03-10 1983-09-01 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Halbleiterbauelement mit Kunststoffummantelung
JPH0714955A (ja) 1993-06-23 1995-01-17 Hitachi Ltd 半導体装置およびその製造方法
EP2244289B1 (en) * 2000-04-19 2014-03-26 Denso Corporation Coolant cooled type semiconductor device
JP4479121B2 (ja) * 2001-04-25 2010-06-09 株式会社デンソー 半導体装置の製造方法
KR100488412B1 (ko) 2001-06-13 2005-05-11 가부시키가이샤 덴소 내장된 전기소자를 갖는 인쇄 배선 기판 및 그 제조 방법
US7132698B2 (en) * 2002-01-25 2006-11-07 International Rectifier Corporation Compression assembled electronic package having a plastic molded insulation ring
JP3809550B2 (ja) 2002-04-16 2006-08-16 株式会社日立製作所 高耐熱半導体素子及びこれを用いた電力変換器
JP2005217072A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP4468115B2 (ja) 2004-08-30 2010-05-26 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
JP4450230B2 (ja) * 2005-12-26 2010-04-14 株式会社デンソー 半導体装置
JP2007251076A (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Hitachi Ltd パワー半導体モジュール
JP2007335663A (ja) * 2006-06-15 2007-12-27 Toyota Motor Corp 半導体モジュール
JP2008124430A (ja) * 2006-10-18 2008-05-29 Hitachi Ltd パワー半導体モジュール
US8354740B2 (en) * 2008-12-01 2013-01-15 Alpha & Omega Semiconductor, Inc. Top-side cooled semiconductor package with stacked interconnection plates and method

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61224345A (ja) * 1985-03-28 1986-10-06 Mitsubishi Electric Corp 電力用半導体装置
JPH0718456U (ja) * 1993-09-10 1995-03-31 日本インター株式会社 圧接型半導体装置
JP2000031351A (ja) * 1998-07-09 2000-01-28 Toshiba Corp 半導体装置
JP2001156225A (ja) * 1999-11-24 2001-06-08 Denso Corp 半導体装置
JP2003086737A (ja) * 2001-09-11 2003-03-20 Toshiba Corp 半導体装置
JP2004158545A (ja) * 2002-11-05 2004-06-03 Denso Corp 多層基板及びその製造方法
JP2007027794A (ja) * 2003-09-17 2007-02-01 Denso Corp 半導体装置およびその製造方法
JP2005117860A (ja) * 2003-10-10 2005-04-28 Sumitomo Electric Ind Ltd 電力変換用モジュールおよび電力変換装置並びに電気自動車用電力変換装置
JP2009076600A (ja) * 2007-09-19 2009-04-09 Denso Corp 半導体冷却構造

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013038309A (ja) * 2011-08-10 2013-02-21 Denso Corp 半導体モジュールおよびそれを備えた半導体装置
JP2020161807A (ja) * 2019-03-19 2020-10-01 株式会社デンソー 半導体モジュールおよびこれに用いられる半導体装置
JP7088224B2 (ja) 2019-03-19 2022-06-21 株式会社デンソー 半導体モジュールおよびこれに用いられる半導体装置
WO2021246204A1 (ja) * 2020-06-05 2021-12-09 株式会社デンソー 半導体装置、半導体モジュールおよび半導体装置の製造方法
WO2022264833A1 (ja) * 2021-06-14 2022-12-22 ローム株式会社 半導体装置
WO2023032667A1 (ja) * 2021-09-06 2023-03-09 ローム株式会社 半導体装置、および半導体装置の取付け構造

Also Published As

Publication number Publication date
JP5126278B2 (ja) 2013-01-23
US20110186981A1 (en) 2011-08-04
US8963315B2 (en) 2015-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5126278B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP4338620B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP5975180B2 (ja) 半導体モジュール
WO2017119226A1 (ja) パワー半導体装置
US20120119347A1 (en) Semiconductor device
JP5659938B2 (ja) 半導体ユニットおよびそれを用いた半導体装置
JP5328645B2 (ja) 電力用半導体モジュール
JP2011114176A (ja) パワー半導体装置
WO2012165045A1 (ja) 半導体装置及び配線基板
JP6997340B2 (ja) 半導体パッケージ、その製造方法、及び、半導体装置
JP2012119597A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2013062282A (ja) 半導体装置
WO2013153920A1 (ja) 半導体デバイス
JP2010192591A (ja) 電力用半導体装置とその製造方法
WO2014188632A1 (ja) 放熱構造を有する半導体装置および半導体装置の積層体
JP7088224B2 (ja) 半導体モジュールおよびこれに用いられる半導体装置
JP5009956B2 (ja) 半導体装置
JP2001267475A (ja) 半導体装置の実装構造およびその実装方法
JP2012253263A (ja) 半導体チップおよびその製造方法
JP2010199505A (ja) 電子回路装置
WO2020189508A1 (ja) 半導体モジュールおよびこれに用いられる半導体装置
JP2002043510A (ja) 半導体パワーモジュールおよびその製造方法
US20240178094A1 (en) Semiconductor package
JP6417898B2 (ja) 半導体装置の製造方法
US20230282566A1 (en) Semiconductor package having negative patterned substrate and method of manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110620

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120608

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120619

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121002

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121015

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151109

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees