JP5328645B2 - 電力用半導体モジュール - Google Patents

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Description

本発明は、電力用半導体モジュールに係り、更に詳しくは、コンバータ、インバータなどの電力変換装置に使用される半導体モジュールに関する。
電力変換装置に使用される半導体素子を樹脂で封止してモジュール化した装置が、半導体モジュールとして知られている。この種の半導体モジュールは、セラミック基板のチップ配置面が樹脂で封止されるとともに、上記セラミック基板の裏面から放熱を行っている。このため、セラミック基板と樹脂との熱膨張率の差に起因して、樹脂の成型収縮や、稼働時の熱サイクルによって基板の反りが発生すると、放熱効率の低下や、半導体チップの剥離の原因となる。
このため、一般的な半導体モジュールでは、半導体チップを含むチップ部品が半田付けされたセラミック基板が、銅Cuや鉄Feなどの厚い金属板上にヒートスプレッダーや絶縁シートを介して接着されている。また、上記セラミック基板のチップ搭載面を囲うケースが取り付けられ、当該ケース内にシリコンゲルなどを注入してチップ部品を保護した後、更に樹脂が充填されている。
しかしながら、チップ部品を保護するためにシリコンゲルを用いた場合、ケースの隙間などから入り込む湿気がチップ部品に悪影響を及ぼすことがある。また、チップ部品間の電気的な接続は、ワイヤボンディングや、リードフレームの半田付けや超音波接合によって行われているが、この接合部が熱などによって劣化した場合、保護材としてシリコンゲルを用いていると、ワイヤやリードフレームなどを確実に固定しておくことは困難であった。
そこで、シリコンゲルなどの保護材を用いることなく、セラミック基板のチップ搭載面に直接樹脂を充填する半導体モジュールも提案されている(例えば、特許文献1)。特許文献1には、金属板上にセラミック基板を接合してモジュール基板を形成し、このモジュール基板上に半導体チップを実装した後、外囲ケース、フレーム体及びモジュール基板で囲まれた空間に樹脂を注入している。この外囲ケースが十分な剛性を有すれば、封止樹脂を硬化させる際の成型収縮による応力をモジュール基板及びフレーム体に分散させ、モジュール基板の反りを防止し、耐温度サイクル性を向上させることができる。
特開平9−237869号公報
従来の半導体モジュールは、セラミック基板を金属板に接着することによって、セラミック基板の反りを防止し、良好な放熱特性を確保している。しかしながら、金属板を使用した場合には、半導体モジュールを軽量化することが困難になるという問題があった。そこで、セラミック基板が反りにくい構成とし、金属板を省略することにより、セラミック基板の裏面に放熱器を直接取り付けることが考えられる。
この場合、セラミック基板をできるだけ反りにくくするために、セラミック基板の表面に半導体チップを実装するための金属層を形成するだけでなく、放熱器に当接するセラミック基板の裏面にも金属層を形成することによって、セラミック基板の両面について熱膨張特性を均一にすることが好ましい。
上記のようにセラミック基板の両面に金属層を形成した場合、そのセラミック基板の表面に半導体チップを実装した後、当該表面上に樹脂を注入する際には、裏面の金属層上に樹脂が流れ込まないように、セラミック基板の裏面を平坦な金型内面に密着させて行われる。しかし、このようにして樹脂を注入した場合であっても、コンタクト基板の裏面の金属層上に少量の樹脂が回り込む場合がある。コンタクト基板の裏面に回り込んだ樹脂が、当該裏面の金属層上に付着した場合には、それがたとえ少量であっても、放熱効率が著しく低下してしまう。
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、セラミック基板の反りを抑制し、かつ、放熱効率が低下するのを防止することができる電力用半導体モジュールを提供することを目的とする。
第1の本発明による電力用半導体モジュールは、放熱器が取り付けられるモジュール筐体と、上記モジュール筐体によって保持される共通ユニットとを備え、上記共通ユニットが、半導体素子が配設された回路面及び上記放熱器に密着させる放熱面を有するセラミック基板と、上記放熱面を露出させるとともに上記回路面を封止するように耐熱性樹脂が形成されたパッケージとを有し、上記回路面及び上記放熱面が、それぞれ上記セラミック基板に形成された金属層からなり、上記放熱面を形成している上記金属層が、その周縁部に沿って延びる溝部が形成され、上記モジュール筐体及び上記放熱器の間に上記共通ユニットを挟み込むことによって、上記放熱面を上記放熱器に密着させるように構成される。
この様な構成により、回路面及び放熱面をそれぞれ形成する金属層がセラミック基板の両面に形成されるので、セラミック基板の両面について熱膨張特性を均一にし、セラミック基板の反りを抑制することができる。また、内側パターンと外側パターンとの間に、金属層が形成されていない溝部が形成されているため、金属層上に回り込んで外側パターンを越える樹脂があったとしても、少量であれば、溝部に吸収され、当該樹脂が内側パターン上には広がらない。このため、内側パターン表面への樹脂の付着によって放熱効率が低下するのを防止することができる。
第2の本発明による電力用半導体モジュールは、上記構成に加えて、上記溝部が、上記金属層の周縁部に沿って環状に形成され、上記金属層が、上記溝部よりも内側に形成された内側パターンと、上記内側パターンの外周を取り囲む外側パターンとを有するように構成される。

この様な構成により、外側パターンが溝部を挟んで内側パターンの外周を取り囲んでいるので、外側パターンのいずれの部分から樹脂が回り込んだ場合であっても、その樹脂を溝部に良好に吸収させることができる。したがって、内側パターン表面への樹脂の付着によって放熱効率が低下するのをより効果的に防止できる。
本発明によれば、セラミック基板の両面について熱膨張特性を均一にし、セラミック基板の反りを抑制することができる。また、金属層上に回り込んだ樹脂を溝部で吸収することができるので、内側パターン表面への樹脂の付着によって放熱効率が低下するのを防止することができる。
図1及び図2は、本発明の実施の形態による半導体モジュール1の一構成例を示した外観図であり、図1には上面、図2には下面が示されている。また、図3は、半導体モジュール1の組み立て時における様子を示した展開斜視図である。
この半導体モジュール1は、サイリスタ、ダイオード、バイポーラトランジスタなどの半導体素子を用いて、交流電力及び直流電力の変換を行うための電力用半導体モジュールである。本実施の形態では、このような電力用半導体モジュールの一例として、3個のサイリスタ及び3個のダイオードを用いてブリッジ回路を実現するためのモジュールについて説明する。この様なブリッジ回路は、三相交流電源を全波整流して直流電源に変換する三相交流変換器に広く用いられている。
半導体モジュール1は、モジュール筐体2内に、3個の共通ユニット3(3a〜3c)と、2個の金属板4(4m及び4n)とを収容して構成される。共通ユニット3は、いずれもサイリスタ及びダイオードの直列回路を内蔵する同一の構成のユニットであり、互いに入れ替えて使用することができる。なお、本明細書では、3個の共通ユニットの互いに対応する構成部分については共通の符号を付すとともに、特定の共通ユニットの構成部分を指す場合には、上記符号にa〜cを付すことにする。
モジュール筐体2は、薄い略箱形に形成された樹脂製のモジュール本体20と、略矩形の板状体に形成された樹脂製のモジュール蓋21からなる。モジュール本体20は、その内部に3個の共通ユニット3及び2枚の金属板4を収容し、また、上面全体を開口させた上面開口部22と、下面の一部を開口させた3つの下面開口部23(23a〜23c)を有している。上面開口部22は、組み立て後にモジュール蓋21によって覆われる組立用の開口であり、下面開口部23a〜23cは、各共通ユニット3a〜3cの放熱面をそれぞれ露出させる放熱用の開口である。
モジュール筐体2の下面は、放熱器9と会合させる放熱器取付面である。放熱器9は、半導体モジュール1が組み込まれる装置の金属筐体や、放熱フィンなどであり、モジュール筐体2の四隅に形成された取付孔24を用いてモジュール筐体2に取り付けられる。共通ユニット3a〜3cの放熱面は、放熱器取付面に形成された下面開口部23a〜23cから僅かに突出させており、モジュール筐体2に放熱器を取り付けることによって、共通ユニット3a〜3cの放熱面を放熱器9に密着させることができる。
一方、モジュール筐体2の上面は、外部配線を接続するための端子が形成されている端子面であり、3個の外部端子30(30a〜30c)と、3組の制御端子33(33a〜33c)及び34(34a〜34c)と、外部共通端子41及び42とが配設されている。
外部端子30は、共通モジュール3の端子であり、3個の外部端子30a〜30cが、モジュール蓋21の一辺に沿って等間隔に配置されている。この外部端子30a〜30cは、モジュール筐体2の上面においてモジュール本体20及びモジュール蓋21の隙間から引き出され、モジュール筐体2の上面に平行となるように折り曲げられた金属板であり、モジュール本体20に沿って外側へ向けて延び、その先端部には締結孔300が形成されている。
この締結孔300に対向するモジュール本体20の上面には、金属製のナットを回転しないように収容するナット収容部200が形成されており、締結孔300に挿通させたネジと上記ナットとを締結させることによって、上記ネジ及びナット間に挟み込まれた外部端子30及び外部配線を電気的に導通させることができる。なお、上記ナットは、ナット収容部200内において固着されていなくても、ナット収容部200の開口がナットの収容後に折り曲げられた外部端子30によって覆われているため、共通ユニット3を取り外さなければ、ネジとの非締結時であってもナット収容部200からナットが脱落することはない。
外部共通端子41は、各共通モジュール3a〜3cの共通端子31をモジュール筐体2内において互いに導通させる金属板4mの一部をモジュール筐体2から引き出した端子であり、外部端子30a〜30cを配列させた辺に隣接するモジュール蓋21の辺上に配置されている。この外部共通端子41は、外部端子30と同様、モジュール筐体2の上面においてモジュール本体20及びモジュール蓋21の隙間から引き出され、モジュール本体20に沿って外側へ向けて延び、その先端部には締結孔400が形成されている。この締結孔400に対向するモジュール本体20の上面には、金属製のナットを回転しないように収容するナット収容部201が形成されており、締結孔400に挿通させたネジと上記ナットとを締結させることによって、上記ネジ及びナット間に挟み込まれた外部共通端子41及び外部配線を電気的に導通させることができる。なお、上記ナットは、ナット収容部201内において固着されていなくても、ナット収容部201の開口は、ナットの収容後に、配置される外部共通端子41によって覆われるため、金属板4mを取り外さなければ、ネジとの非締結時であってもナット収容部201からナットが脱落することはない。
外部共通端子42は、各共通モジュール3a〜3cの共通端子32をモジュール筐体2内において互いに導通させる金属板4nの一部をモジュール筐体2から引き出した端子である。その他の構成は、外部共通端子41と全く同様である。
制御端子33及び34は、共通モジュール3(3a〜3c)の端子であり、3組の制御端子33a〜33c及び34a〜34cは、外部端子30が配列された辺とは反対側のモジュール蓋21の一辺に沿って配置されている。制御端子33及び34は、上に向けて延びる断面が略矩形のピン状の端子であり、モジュール蓋21のガイド孔210を通って、モジュール筐体2外へ引き出されている。
次に、図3を用いて半導体モジュール1の組み立て方法の一例について説明する。共通ユニット3は、下面開口部23からモジュール本体20内に組み込まれ、一番奥まで挿入された状態において、その外部端子30が外側に折り曲げられる。この様にして3個の共通ユニット3a〜3cを装着すれば、互いの長辺が一定距離の空間を隔てて対向するように各共通ユニット3a〜3cを整列配置させて、モジュール本体20内に収納することができる。
金属板4m及び4nは、上面開口部22からモジュール本体20内に組み込まれる。金属板4m及び4nは、それぞれが共通ユニット3a〜3cの全てを横断するように、共通ユニット3の長手方向と交差させて配置される。また、金属板4mには、3個の締結孔401a〜401cが形成されており、ネジを用いて、全ての共通モジュール3の共通端子31と締結され、電気的に導通される。同様にして、金属板4nには、3個の締結孔402a〜402cが形成されており、ネジを用いて、全ての共通モジュール3の共通端子32と締結され、電気的に導通される。その後、モジュール蓋21により、上面開口部22を閉鎖すれば、半導体モジュール1の組み立てが完了する。
図4は、共通モジュール3内部の一構成例を示した図であり、図中の(b)は、(a)に示されたBの方向から見た図である。セラミック基板50の上面は、半導体素子54や端子30〜34などを配置されており、これらを電気的に接続するための回路面として使用され、その下面は、放熱器9の伝熱面に密着させる放熱面として使用される。
このセラミック基板50は、その両面に金属層51及び52が形成された回路基板であり、例えば、DBC(Direct Bonding Copper)法によって銅(Cu)の薄板が固着されている。回路面側の金属層52は、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングされ、配線として使用される。また、放熱面側にも金属層51を形成することによって、セラミック基板50の両面について熱膨張特性を均一にし、セラミック基板50の反りを抑制している。
半導体チップ54は、半田層53を介在させて金属層52上に配置されている。ここでは、半導体チップ54として、直列接続されたサイリスタ及びダイオードが配置されているものとする。また、図中では省略しているが、その他の電子部品、例えばチップ抵抗なども必要に応じて配置されている。さらに、各端子30〜34も、半田層53を介在させて金属層52上に配設され、あるいは、半導体チップ上に配置されている。これらの電子部品及び各端子30〜34の間は、必要に応じて金属層52のパターン、ボンディングワイヤ又はリードフレームを用いて電気的に接続されている。また、各端子30〜34は、樹脂モールディング時に2つの金型間に挟まれるため、セラミック基板50からの高さが同一となる位置において、セラミック基板50に平行となるように折り曲げられている。
図5は、図4のセラミック基板50を下面側から見た図である。セラミック基板50の下面に形成された金属層51は、矩形形状の広い面積からなる放熱パターン510と、放熱パターン510を取り囲む細長い外周パターン511によって構成され、放熱パターン510と外周パターン511との間には、金属層51が形成されない緩衝パターン512が形成されている。つまり、緩衝パターン512は、外周パターン511の内側において、放熱パターン510を取り囲む細長い溝部、例えば、一定幅の溝部として形成されている。この様なパターンの形成には、例えばフォトリソグラフィ技術を用いることができる。
このような構成により、放熱面側の金属層52の周縁部に沿って延びる溝部としての緩衝パターン512に対して、その内側に放熱パターン510が内側パターンとして形成されるとともに、その外側に外周パターン511が外側パターンとして形成される。
なお、この例では、外周パターン511が緩衝パターン512を挟んで放熱パターン510の外周を取り囲むように、放熱面側の金属層52の周縁部に沿って環状の緩衝パターン512が形成された構成が示されているが、このような構成に限らず、緩衝パターン512が上記金属層52の周縁部の一部にのみ形成されたような構成であってもよい。この場合、矩形形状の金属層51の少なくとも1辺に沿って溝部が形成されるような構成であればよく、金属層51が長方形状の場合には、互いに対向する1対の長辺又は1対の短辺のいずれか一方に沿って溝部が形成された構成であってもよい。
回路が形成されたセラミック基板50は、セラミック基板50の金属層51と、各端子30〜34の先端側のみを残して樹脂により封止される。例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂を用いたRTM(Resin Transfer Molding)法によって封止される。この様な樹脂モールディング処理によって、金属層51を露出させ、端子30〜34を突出させたパッケージ35が形成される。この樹脂モールディング処理は、金属層51の表面に樹脂が流れ込まないように、セラミック基板50の下面を平坦な金型内面に密着させて行われる。また、予め緩衝パターン512が形成されているため、金属層51上に回り込んで外周パターン511を越える樹脂があったとしても、少量であれば、溝部として緩衝パターン512に吸収され、当該樹脂が放熱パターン510上には広がらない。このため、放熱パターン510表面への樹脂の付着によって放熱効率が低下するのを防止することができる。
特に、本実施の形態では、外周パターン511が緩衝パターン512を挟んで放熱パターン510の外周を取り囲んでいるので、外周パターン511のいずれの部分から樹脂が回り込んだ場合であっても、その樹脂を緩衝パターン512に良好に吸収させることができる。したがって、放熱パターン510表面への樹脂の付着によって放熱効率が低下するのをより効果的に防止できる。
図6及び図7は、樹脂封止後の共通ユニット3の一構成例を示した外観図であり、図6の(a)には上面、(b)には下面が示されている。また、図7の(a)には共通端子31及び32側から見た側面、(b)には外部端子30側から見た側面、(c)には制御端子33,34側から見た側面がそれぞれ示されている。
図8は、モジュール筐体2への収容前の共通ユニット3の一構成例を示した外観図であり、各端子30〜34が折り曲げられた状態が示されている。なお、図中の(a)には上面、(b)には共通端子31及び32側から見た側面が示されている。外部端子30及び制御端子33,34は、直角に折り曲げられて上を向き、共通端子31及び32は、約180°の角度で折り曲げられ、パッケージ35中央の上面に沿って延びている。
樹脂封止後の各端子30〜34は、いずれも上向きに開いている段差部の谷線、図示した例では、上面及び側面によって形成されるパッケージ35上の凹部の最深部からパッケージ35外に露出し、パッケージ35の上面に沿って外側へ延びている。これらの端子30〜34の先端に上向きの力を加えて、端子30〜34を上記谷線付近で折り曲げれば、図8に示した形状となる。この場合、各端子30〜34の屈曲部の下方には、外側へ延びるパッケージの上面320〜323が形成されており、これらの面が絶縁壁として機能する。つまり、端子30〜34をパッケージ35の端部よりも後退させた位置で折り曲げることによって、端子30〜34の下方にパッケージの突出部320〜323が形成され、放熱器9から端子30〜34までの沿面距離を長くすることができるので、絶縁性を向上させることができる。
ここで、図6の(a)においてハッチングを付した各端子30〜34の根元部は、その上面だけを露出させた状態で、パッケージの上面320〜323に埋め込まれて形成されている。この様な構成は、パッケージの上面320〜323を形成する金型内面に各端子30〜34を密着させて樹脂モールディング処理を行えば実現することができる。
端子30〜34を折り曲げる際、端子30〜34と上面320〜323とを容易に分離することができなかったとすれば、パッケージ35に亀裂が生じたり、あるいは、端子30〜34が谷線よりも外側で折り曲げられ、共通ユニット3の品質低下を招く。このため、端子30〜34の断面を上面310〜313から剥がれ易い形状、つまり、下側ほど幅が狭くなる形状にしている。具体的には、端子30〜34の側面にテーパーを付け、端子30〜34の断面を上向きに広がる台形形状としている。三角形や半円形などのように断面の幅が上向きに広がっている形状であれば、台形以外であってもよい。また、端子30〜34の上面は、上面320〜323からの露出面となることから、平面であることが望ましい。なお、少なくとも上面320〜323から分離される部分が、このような断面形状であればよいことは言うまでもない。
共通端子31の先端部には、金属板4mと締結するための締結孔301が形成されている。この締結孔301に対向するパッケージ35の上面には、金属製のナットを回転しないように収容するナット収容部311が凹部として形成されている。このため、締結孔301及び金属板4mの締結孔401に挿通させたネジと上記ナットとを締結させることによって、上記ネジ及びナット間に挟み込まれた共通端子31及び金属板4mを電気的に導通させることができる。なお、上記ナットは、ナット収容部311内において固着されていなくても、ナット収容部311の開口がナットの収容後に折り曲げられた共通端子31によって覆われているため、ネジとの非締結時であってもナット収容部311からナットが脱落することはない。
全く同様にして、共通端子32の先端部には、金属板4nと締結するための締結孔302が形成されている。この締結孔302に対向するパッケージ35の上面には、金属製のナットを回転しないように収容するナット収容部312が凹部として形成されている。このため、締結孔302及び金属板4nの締結孔402に挿通させたネジと上記ナットとを締結させることによって、上記ネジ及びナット間に挟み込まれた共通端子32及び金属板4nを電気的に導通させることができる。なお、上記ナットは、ナット収容部312内において固着されていなくても、ナット収容部312の開口がナットの収容後に折り曲げられた共通端子32によって覆われているため、ネジとの非締結時であってもナット収容部312からナットが脱落することはない。
また、パッケージ35は、薄い略矩形の形状として形成されているが、その側面にはテーパー部36が設けられ、放熱面が形成されている下面に比べて、より上面側のパッケージ35部分の外形が大きくなっている。また、パッケージの上面には、ナット収容孔311,312が窪み部として形成されており、当該部分は樹脂層が薄く形成されている。従って、樹脂の成型収縮によってセラミック基板50に作用する応力が抑制され、セラミック基板50の反りを低減することができる。
図9及び図10は、図1のモジュール本体20のみを示した外観図であり、図9に上面、図10に下面が示されている。モジュール本体20の内部空間には、共通ユニット3a〜3cを横断する上面側の1本の補強梁25と、この補強梁25と交差する下面側の2本の補強梁26が形成されている。補強梁25は、共通ユニット3a〜3cよりも更に上方に配置されているが、補強梁26は、各共通ユニット3a〜3c間に形成され、共通ユニット3の水平面内における位置決めを行っている。
ユニット当接部27及び28は、モジュール本体20の内壁に形成された突出部又は下向きに開いている段差部であり、共通ユニット3の長手方向の両端にそれぞれ当接させることによって、共通モジュール3の鉛直方向の位置決めを行っている。
図11は、図10のA−A切断線によって、放熱器9が取り付けられた半導体モジュール1を切断したときの断面図である。取付孔24を用いてモジュール筐体2に放熱器9に取り付けると、モジュール筐体2の放熱器取付面と、放熱器9の平坦な伝熱面91とを対向させ、かつ、両者をできるだけ近づけた状態にすることができる。このとき、共通ユニット3は、その放熱面をモジュール筐体2の下面開口部23から僅かに突出させるように、モジュール筐体2によって保持されていることから、共通ユニット3が、ユニット当接部27及び28と、放熱器の伝熱面91との間に挟まれる。このため、共通ユニット3の放熱面を放熱器9の伝熱面91に密着させることができる。
図12は、セラミック基板50にそりが生じた場合の一例を示した説明図である。樹脂からなるパッケージ35は、セラミック基板50に比べて熱膨張率が大きい。このため、樹脂モールディング処理後の冷却時に、セラミック基板50に比べて、パッケージ35の方がより大きく収縮し、下方向へ凸となる反りがセラミック基板50に発生し易く、このような反りは「順反り」と呼ばれている。逆に、セラミック基板50が上方向へ凸となる反りは「逆反り」と呼ばれている。放熱効率の観点からは、反りが発生することは望ましくないが、特に、逆反りは、温度が高くなる中央部が放熱板に密着しなくなるため、順反りに比べて著しく放熱効率が悪い。
図1の半導体モジュール1は、略矩形のモジュール筐体2内に3個の共通ユニット3a〜3cを整列配置させているため、両端の共通ユニット3a及び3cに比べて、中央の共通ユニット3bの温度がより高くなる。一方、放熱器9は、モジュール筐体2の四隅に設けられた取付孔24を用いて取り付けられているため、両端の共通ユニット3a及び3cに比べて、中央の共通ユニット3bには、放熱面51に対する放熱器9の押圧力が弱く、放熱効率が悪くなりやすい。従って、中央の共通ユニット3bには、両端の共通ユニット3a及び3cに比べてセラミック基板50がより順反り側のものを用いることが望ましい。特に、中央の共通ユニット3bのセラミック基板50は、順反りであることが望ましい。
なお、上記実施の形態では、モジュール筐体2内において、金属板4m及び4nを用いて、各共通ユニット3a〜3cの共通端子31及び32をそれぞれ接続しているが、本発明はこの様な場合に限定されない。すなわち、金属板4n及び4mに代えて、任意の形状からなる金属ブロックを用いることができる。
また、上記実施の形態では、共通ユニット3がサイリスタ及びダイオードによって構成される例について説明したが、本発明はこの様な場合には限定されない。すなわち、ダイオード、サイリスタ、バイポーラトランジスタ、その他の任意の電力用半導体素子の組み合わせによって構成することができる。例えば、2個のサイリスタの直列回路で構成してもよい。また、本発明は、2個の半導体素子によって構成される場合にも限定されない。
また、本実施の形態では、半導体モジュール1が、3相交流電力を直流電力に変換する三相交流変換器の例について説明したが、本発明は、このような場合には限定されない。例えば、直流電力を交流電力に変換するインバータ、その他の電力変換装置に使用することもできる。
また、本実施の形態では、モジュール筐体2内に3個の共通ユニット3を収容する半導体モジュール1の例について説明したが、例えば、1個の共通ユニット3のみを収容するモジュール筐体を実現することができる。この場合、金属板4m及び4nは不要となる。共通ユニット3は、このようにして収容する共通ユニット3の数が異なる半導体モジュール間においても共通化できるため、更にコストダウンを図ることができる。
本発明の実施の形態による半導体モジュール1の一構成例を示した外観図であり、半導体モジュール1の上面が示されている。 半導体モジュール1の一構成例を示した外観図であり、半導体モジュール1の下面が示されている。 図1の半導体モジュール1の組み立て時の様子を示した展開斜視図である。 共通モジュール3内部の一構成例を示した図である。 図4のセラミック基板50を下面側から見た図である。 樹脂封止後の共通ユニット3の一構成例を示した外観図であり、共通ユニット3の上面及び下面が示されている。 樹脂封止後の共通ユニット3の一構成例を示した外観図であり、共通ユニット3の各側面が示されている。 モジュール筐体2への収容前の共通ユニット3の一構成例を示した外観図である。 図1のモジュール本体20のみを示した外観図であり、モジュール本体20の上面が示されている。 図1のモジュール本体20のみを示した外観図であり、モジュール本体20の下面が示されている。 図10のA−A切断線によって、放熱器9が取り付けられた半導体モジュール1を切断したときの断面図である。 セラミック基板50にそりが生じた場合の一例を示した説明図である。
符号の説明
1 半導体モジュール
2 モジュール筐体
20 モジュール本体
200,201 ナット収容部
21 モジュール蓋
210 ガイド孔
22 上面開口部
23 下面開口部
24 取付孔
25,26 補強梁
27,28 ユニット当接部
3 共通ユニット
30 外部端子
31,32 共通端子
33,34 制御端子
35 パッケージ
300〜302 締結孔
311,312 ナット収容部
4 金属板
41,42 外部共通端子
400,401,402 締結孔
50 セラミック基板
51,52 金属層
53 半田層
54 半導体チップ
9 放熱器
91 伝熱面
510 放熱パターン
511 外周パターン
512 緩衝パターン

Claims (2)

  1. 放熱器が取り付けられるモジュール筐体と、
    上記モジュール筐体によって保持される共通ユニットとを備え、
    上記共通ユニットは、半導体素子が配設された回路面及び上記放熱器に密着させる放熱面を有するセラミック基板と、
    上記放熱面を露出させるとともに上記回路面を封止するように耐熱性樹脂が形成されたパッケージとを有し、
    上記回路面及び上記放熱面は、それぞれ上記セラミック基板に形成された金属層からなり、
    上記放熱面を形成している上記金属層は、その周縁部に沿って延びる溝部が形成され、
    上記モジュール筐体及び上記放熱器の間に上記共通ユニットを挟み込むことによって、上記放熱面を上記放熱器に密着させることを特徴とする電力用半導体モジュール。
  2. 上記溝部は、上記金属層の周縁部に沿って環状に形成され、
    上記金属層は、上記溝部よりも内側に形成された内側パターンと、上記内側パターンの外周を取り囲む外側パターンとを有することを特徴とする請求項1に記載の電力用半導体モジュール。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5481104B2 (ja) 2009-06-11 2014-04-23 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP5233854B2 (ja) 2009-06-12 2013-07-10 日本電産株式会社 軸受装置、スピンドルモータ、及びディスク駆動装置
JP5019082B1 (ja) * 2011-03-25 2012-09-05 栗田工業株式会社 液体加熱方法及び液体加熱装置並びに加熱液体供給装置
JP2013229369A (ja) * 2012-04-24 2013-11-07 Denso Corp モールドパッケージ
JP5528641B1 (ja) * 2012-10-03 2014-06-25 新電元工業株式会社 電子機器
CN105122446B (zh) 2013-09-30 2019-07-19 富士电机株式会社 半导体装置、半导体装置的组装方法、半导体装置用部件以及单位模块
KR20150074649A (ko) * 2013-12-24 2015-07-02 삼성전기주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법
JP6356550B2 (ja) * 2014-09-10 2018-07-11 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP6578795B2 (ja) * 2015-08-04 2019-09-25 富士電機株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
CN105811787A (zh) * 2016-05-18 2016-07-27 珠海格力电器股份有限公司 一种全密封换流组件
CN107369741A (zh) * 2017-07-13 2017-11-21 东莞市凯昶德电子科技股份有限公司 带一体式金属围坝的led支架模组及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5999753A (ja) * 1982-11-10 1984-06-08 ブラウン・ボバリ・ウント・シ−・アクチエンゲゼルシヤフト 電力用トランジスタモジユ−ル
JPH07326711A (ja) * 1994-05-31 1995-12-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2001036005A (ja) * 1999-07-23 2001-02-09 Fuji Electric Co Ltd 半導体装置
JP2003031765A (ja) * 2001-07-17 2003-01-31 Hitachi Ltd パワーモジュールおよびインバータ
JP2006140401A (ja) * 2004-11-15 2006-06-01 Toshiba Corp 半導体集積回路装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0777246B2 (ja) * 1989-10-31 1995-08-16 株式会社住友金属セラミックス セラミックス回路基板
US5760333A (en) * 1992-08-06 1998-06-02 Pfu Limited Heat-generating element cooling device
JPH07161925A (ja) * 1993-12-09 1995-06-23 Mitsubishi Electric Corp パワーモジュール
JPH09237869A (ja) 1996-02-29 1997-09-09 Hitachi Ltd 樹脂封止型パワーモジュール装置及びその製造方法
JP3115238B2 (ja) 1996-09-09 2000-12-04 株式会社東芝 窒化けい素回路基板
JP3919398B2 (ja) * 1999-10-27 2007-05-23 三菱電機株式会社 半導体モジュール
JP2002344094A (ja) * 2001-05-15 2002-11-29 Dowa Mining Co Ltd パワーモジュール用回路基板
JP2005064291A (ja) * 2003-08-14 2005-03-10 Nissan Motor Co Ltd 絶縁シートおよびこの絶縁シートを用いた半導体装置組立体
JP2006332291A (ja) 2005-05-25 2006-12-07 Keihin Corp パワードライブユニット
JP4821537B2 (ja) * 2006-09-26 2011-11-24 株式会社デンソー 電子制御装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5999753A (ja) * 1982-11-10 1984-06-08 ブラウン・ボバリ・ウント・シ−・アクチエンゲゼルシヤフト 電力用トランジスタモジユ−ル
JPH07326711A (ja) * 1994-05-31 1995-12-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2001036005A (ja) * 1999-07-23 2001-02-09 Fuji Electric Co Ltd 半導体装置
JP2003031765A (ja) * 2001-07-17 2003-01-31 Hitachi Ltd パワーモジュールおよびインバータ
JP2006140401A (ja) * 2004-11-15 2006-06-01 Toshiba Corp 半導体集積回路装置

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