JP2011070219A - 可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子 - Google Patents

可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子 Download PDF

Info

Publication number
JP2011070219A
JP2011070219A JP2010280064A JP2010280064A JP2011070219A JP 2011070219 A JP2011070219 A JP 2011070219A JP 2010280064 A JP2010280064 A JP 2010280064A JP 2010280064 A JP2010280064 A JP 2010280064A JP 2011070219 A JP2011070219 A JP 2011070219A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polarizer
layer
refractive index
elements
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010280064A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4809929B2 (ja
Inventor
Raymond T Perkins
パーキンス,レイモンド・ティー
Eric W Gardner
ガードナー,エリック・ダブリュー
Douglas P Hansen
ハンセン,ダグラス・ピー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Moxtek Inc
Original Assignee
Moxtek Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=23907785&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2011070219(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Moxtek Inc filed Critical Moxtek Inc
Publication of JP2011070219A publication Critical patent/JP2011070219A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4809929B2 publication Critical patent/JP4809929B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3058Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1809Diffraction gratings with pitch less than or comparable to the wavelength

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

【課題】
埋め込まれた、または封入されたときに最適に機能するワイヤ・グリッド偏光子が必要とされている。さらに、特に広い波長帯域幅を必要とする可視光システムで使用される、上記のようなワイヤ・グリッド偏光子が必要とされている。
【解決手段】
可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子(10)は、第1および第2の層(1、3)の間に挟まれた平行に離間した細長い要素(5)のアレイを含む。要素は、第1の層の屈折率より低い屈折率を提供する複数のギャップ(7)を要素間に形成する。要素と第1および/または第2の層との間に、これらの層の屈折率より低い屈折率を提供する領域を設けることができる。これらの領域は、膜層で形成することも、層に形成したリブ/溝で形成することもできる。
【選択図】 図1

Description

1.発明の分野
本発明は、電磁スペクトルの可視部分で使用される偏光光学素子に関する。特に、本発明は、特定の偏光を効率的に透過させながら、その直交偏光を効率的に反射する、埋込みまたは沈埋型ワイヤ・グリッド偏光子に関する。
2.従来技術
ワイヤ・グリッド偏光子は波長に敏感な光学デバイスであるので、1より大きな屈折率を有する材料または媒体中に偏光子を埋め込むと、この偏光子の性能は、同じ構造で空気中で利用可能な偏光子より、常に変動することになる。通常は、この変動により偏光子は所期の適用業務に適さなくなる。しかし、偏光子を埋め込むことには、その他の光学的な利点がある。例えば、偏光子を埋め込むと、その他の有利な光学的特性を得ることができ、偏光子自体の性能、すなわち偏光には悪影響があるが、偏光子を保護することができる。したがって、このような埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の最適な性能を得ることが望ましい。
ワイヤ・グリッドは、通常はガラスなどの基板の外側表面上に配置される。ワイヤ・グリッドには、基板材料、すなわちガラス中に完全に封入されているものもある。例えば、1940年12月10日にBrownに発行された米国特許第2,224,214号には、ワイヤの周りに詰めた粉末状ガラスを溶融させ、次いでそのガラスおよびワイヤを引き伸ばすことによって偏光子を形成することが開示されている。同様に、1981年9月15日にGarvin他に発行された米国特許第4,289,381号には、基板上に金属被覆層を堆積させてグリッドを形成し、次いでそのグリッドを覆うように基板材料を堆積させることによって偏光子を形成することが開示されている。いずれの場合も、ワイヤまたはグリッドは基板と同じ材料で取り囲まれている。上述のように、このようにワイヤまたはグリッドを封入することは、グリッドの光学性能に悪影響を与える。
1998年5月5日にTamada他に発行された米国特許第5,748,368号には、基板上に配置されたグリッド、およびグリッドを覆うように配置された光学くさびガラス板を有する狭帯域幅偏光子が開示されている。これらの素子の上には、基板と同じ屈折率を有するように整合された整合オイルも塗布されている。したがって、整合オイルが同じ屈折率を有することから、グリッドは実質的に基板すなわちガラス中に封入されることになる。この場合もやはり、このようにグリッドを封入することで、グリッドの光学性能には悪影響がある。
平行な導電性ワイヤのアレイを使用して電波を偏波させることは、110年以上も前から行われている。一般に透明基板によって支持された薄い平行導体のアレイの形態をしたワイヤ・グリッドも、電磁スペクトルの赤外部分のための偏光子として使用されている。
出願人の以前の出願に記載のように、ワイヤ・グリッド偏光子の性能を決定する重要な要素は、平行なグリッド要素の中心間間隔すなわち周期と入射放射の波長との関係である。グリッド間隔すなわち周期が波長より長い場合には、グリッドは、偏光子としてではなく回折格子として機能し、周知の原理に従ってどちらの偏光も回折する(必ずしも等しい効率ではない)。グリッド間隔すなわち周期が波長よりはるかに短いときには、グリッドは、グリッド要素と平行に偏光した電磁放射を反射し、その直交偏光の放射を透過させる偏光子として機能する。
グリッド周期が波長のほぼ2分の1から2倍の範囲となる遷移領域の特徴は、グリッドの透過および反射の特性が急激に変化することである。特に、グリッド要素に対して直角に偏光した光の反射率の急激な増大、およびそれに対応した透過率の低下が、任意の所与の入射角で1つまたは複数の特定の波長で起こることになる。こうした影響は、1902年にWoodによって最初に報告され(Philosophical Magazine、1902年9月)、しばしば「Wood異常」と呼ばれる。その後、レイリーがウッドのデータを解析し、これらの異常がより高い回折次数が現れる波長と角度の組合せで起こることを発見した(Philosophical Magazine、vol.14(79)、60から65ページ、1907年7月)。レイリーは、異常(この文献では一般に「レイリー共鳴」とも呼んでいる)の位置を予測する方程式を編み出した。
この角度依存の影響は、角度が増大するにつれて透過領域をより波長の長い領域にシフトさせるものである。これは、偏光子を偏光ビーム・スプリッタまたは偏光反射ミラーとして使用しようとするときに重要となる。
ワイヤ・グリッド偏光子は、基板によって支持された複数の平行導電性電極で構成される。このようなデバイスは、導体のピッチまたは周期、個々の導体の幅、および導体の厚さによって特徴付けられる。光源が発生させた光ビームは、法線に対して角度θをなして偏光子に入射し、その入射面は導電性要素に対して直交している。ワイヤ・グリッド偏光子は、このビームを、鏡面反射成分と非回折透過成分とに分割する。最長の共鳴波長より波長が短い場合には、少なくとも1つのより高次の回折成分も存在することになる。S偏光およびP偏光の通常の定義を使用すると、S偏光状態の光は入射面に対して直交する偏光ベクトルを有し、したがって導電性要素に対して平行となる。逆に、P偏光状態の光は入射面に対して平行な偏光ベクトルを有し、したがって導電性要素に対して直交する。
一般に、ワイヤ・グリッド偏光子は、グリッドのワイヤに平行な電界ベクトルを有する光を反射し、グリッドのワイヤに垂直な電界ベクトルを有する光を透過することになるが、ここで述べたように、入射面はグリッドのワイヤに対して直交していても直交していなくてもよい。
ワイヤ・グリッド偏光子は、S偏光など一方の偏光に対しては完璧なミラーとして機能し、P偏光など他方の偏光に対しては完全に透過性となることが理想である。しかし、実際には、ミラーとして使用される最も反射性の高い金属でも、入射光の一部を吸収してしまい、90%から95%しか反射せず、平らなガラスは、表面反射により入射光を100%は透過しない。
出願人の以前の出願には、P偏光についてのみ偏光子の特性に大きな影響を与える2つの共鳴があるワイヤ・グリッド偏光子の透過および反射が示されている。S方向に偏光した入射光については、偏光子の性能は理想的なものに近い。S偏光についての反射効率は、0.4μmから0.7μmの可視スペクトル全域にわたって90%超である。この波長帯域では、透過するS偏光は2.5%未満であり、残りは吸収される。このわずかな透過成分を除けば、ワイヤ・グリッド偏光子のS偏光についての特性は連続アルミニウム・ミラーのそれに非常に類似している。
P偏光については、ワイヤ・グリッドの透過効率および反射効率は、約0.5μm未満の波長では、共鳴効果によって左右される。0.5μmより長い波長では、ワイヤ・グリッド構造は、P偏光に対して損失の大きな誘電体層として機能する。この層における損失と表面での反射とが組み合わさって、P偏光の透過を制限する。
出願人の以前の出願には、Tamadaによる米国特許第5,748,368号に記載の別のタイプの従来技術のワイヤ・グリッド偏光子の算出性能も示されている。上述のように、グリッドを一定屈折率の媒体で取り囲むように、2つの基板の間で屈折率整合流体を使用している。このワイヤ・グリッド構造は、波長約0.52μmで単一の共鳴を示す。P偏光の反射率が極めてゼロに近くなる、0.58から0.62μmまでの狭い波長領域が存在する。米国特許第5,748,368号には、この効果を利用して、高い消光比を有する狭帯域ワイヤ・グリッド偏光子を実現するワイヤ・グリッド偏光子が記載されている。Tamadaの特許明細書で与えられている例では、550nmのグリッド周期を使用し、グリッドの厚さ、導体の幅および形状、ならびに入射角に応じて800から950nmの共鳴波長を生成していた。Tamadaが利用した共鳴効果は、その位置を上記で述べた共鳴とは異なる。2つの共鳴は一致していてもよいが、必ずしも一致する必要があるわけではない。Tamadaは、この第2の共鳴を利用している。さらに、薄膜干渉効果の影響が出ることもある。直交偏光に対する反射率が数パーセント未満となる偏光子の帯域幅は、通常は中心波長の5%である。このタイプの狭帯域偏光子にもいくつかの適用分野があるが、液晶ディスプレイなど多くの可視光システムは、400nmから700nmの可視スペクトルの波長にわたって一様な特性を有する偏光光学素子を必要としている。
出願人の以前の出願に記載のように、広帯域偏光子の必要要件は、最長波長共鳴点を所期の使用スペクトルより短い波長に抑制またはシフトしなければならないことである。最長波長共鳴点の波長は、3通りの方法で低下させることができる。第1に、グリッド周期を縮小することができる。ただし、グリッド周期を縮小すると、特に反射偏光の適当な反射率を保証するためにグリッド要素の厚さを維持しなければならないので、グリッド構造の作製難度が高くなる。第2に、入射角を法線方向に近い入射に制限することができる。ただし、入射角を制限すると、偏光子デバイスの可用性が大幅に低下し、45度を中心とする広い角度帯域幅が望ましい投射液晶ディスプレイなど、応用分野で使用できなくなる。第3に、基板の屈折率を低下させることもできる。ただし、偏光子デバイスの大量生産に利用できる対費用効果の高い基板は、Corningタイプ1737FやSchottタイプAF45など数種類の薄いガラス・シートだけであり、これらは全て、可視スペクトルにわたって1.5から1.53の間で変化する屈折率を有する。
したがって、埋め込まれた、または封入されたときに最適に機能するワイヤ・グリッド偏光子が必要とされている。さらに、特に広い波長帯域幅を必要とする可視光システムで使用される、上記のようなワイヤ・グリッド偏光子が必要とされている。さらに、最長波長共鳴点を解消する、またはより短い波長にシフトさせることができる、このような偏光子構造が必要とされている。
発明の目的および概要
本発明の目的は、可視スペクトル全域にわたって高い透過および反射の効率を提供することができる埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子を提供することである。
本発明の別の目的は、広範囲の入射角にわたって使用されるときに上記のような高い効率を提供することができる上記のような埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子を提供することである。
本発明の以上その他の目的および利点は、第1の層と第2の層の間に挟まれた平行に離間した細長い要素のアレイを含む埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子において実現される。これらの要素は、各要素の間に複数のギャップを形成し、これらのギャップが、第1または第2の層の屈折率より低い屈折率を提供する。これらのギャップは空気を含むか、または真空であることが好ましい。
この要素アレイは、可視スペクトルの光の電磁波と相互作用して、一般に第1の偏光状態の光の大部分を反射し、第2の偏光状態の光の大部分を透過するように構成される。これらの要素は、0.3ミクロン未満の周期および0.15ミクロン未満の幅を有することが好ましい。
本発明の一態様によれば、偏光子は、素子と第1および/または第2の層との間に、これらの層の屈折率より低い屈折率を提供する領域を有するので有利である。第1および/または第2の層の各素子の間に、より低い屈折率を提供する複数の溝を形成することができる。第1および/または第2の層と素子との間に、層の屈折率より低い屈折率を有する膜を配置することができる。
本発明の別の態様によれば、素子と第1および/または第2の層の間に配置することができる膜または溝は、偏光子の性能をさらに向上させるために使用することができる光学薄膜効果を提供する。この向上は、これらの膜または溝の厚さおよび/または数および/または光学特性を、所望の偏光子全体の性能に到達するまで適切に調節することによって得ることができる。
本発明の別の態様によれば、要素は、立方体中に配置し、その立方体表面の少なくとも1つに対して斜めになるように配向することができる。別法として、要素は、一対の透明板の間に配置し、これらと平行になるように配向することもできる。
本発明の別の態様によれば、アレイは、可視光スペクトル内で一方または両方の層と組み合わさって通常なら共鳴効果を生じる構成を有することができ、要素もまた、そのようなサイズを有することができる。一方または両方の層の屈折率より低い屈折率を有するギャップならびに/あるいは膜および/または溝は、通常通り起こる共鳴効果をより低い波長にシフトさせるので有利である。したがって、共鳴効果が起こらない可視波長の帯域が広くなる。
本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の好ましい実施形態の断面図である。 本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の代替実施形態の断面図である。 本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の代替実施形態の断面図である。 本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の代替実施形態の断面図である。 本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の代替実施形態の断面図である。 本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の代替実施形態の断面図である。 本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の代替実施形態の断面図である。 本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の代替実施形態の断面図である。 本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の代替実施形態の断面図である。 本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子を組み込んだ立方体の側面図である。 本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子を組み込んだ一対のガラス板の側面図である。
本発明の以上その他の目的、特徴、利点および代替態様は、以下の詳細な説明を添付の図面と合わせて考慮すれば、当業者には明らかになるであろう。
発明の詳細な説明
次に、本発明の様々な要素に参照番号を付け、当業者が本発明を作製および使用することができるように本発明について述べた図面を参照する。
図1に示すように、本発明の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の好ましい実施形態を一般に10で示す。偏光子10は、第1の光学媒体、材料、層または基板1と、第2の光学媒体、材料または層3と、第1の層1と第2の層3の間に挟まれた複数の介在する細長要素5とを含む。上記で示したように、要素を封入する、または埋め込むことによってある一定の利点は得られるが、要素の偏光または性能は悪影響を受ける。したがって、以下で述べるように、本発明の偏光子10は、埋め込まれたときに性能を最適にするように設計される。
第1の層1の第1の表面2および第2の層3の第2の表面4は、互いに、かつ要素5に向き合っている。層1および3、またはこれらの層の材料はそれぞれ、第1および第2の屈折率を有する。第1の光学媒体1および第2の光学媒体3はそれぞれ厚さtL1およびtL2を有し、光学的に厚いと考えられる。これらは、例えば、ガラスまたは高分子のシート、光学品質オイルまたはその他の流体、あるいはその他同様の光学材料にすることができる。厚さtL1またはtL2は、数ミクロンからほぼ無限大までの範囲のどの値でもよい。層1および3の厚さtL1およびtL2は、1ミクロンより大きいことが好ましい。光学媒体1および3は、2枚のガラス・シートなど同じ材料にすることもできるし、材料3をオイルにして材料1をガラスにするなど、異なる材料から選択することもできる。要素5は、第1の層または基板1によって支持することができる。
介在する要素5のアレイは、複数の平行に離間した細長い導電性要素5を含む。要素5は、第1および第2の対向する表面5aおよび5bを有し、第1の表面5aは第1の表面2すなわち第1の層1の方向に向き、第2の表面5bは第2の表面4すなわち第2の層3の方向に向いている。図1に示すように、要素5の第1の表面5aは、第1の層1の第1の表面2と接触し、これと結合することができ、第2の表面5bは第2の層3の第2の表面4と接触し、これと結合することができる。要素5のアレイは、可視スペクトルの光の電磁波と相互作用して、一般に第1の偏光状態の光の大部分を反射し、第2の偏光状態の光の大部分を透過するように構成される。
要素5の寸法および要素5の配列の寸法は、使用する波長によって決定され、広いまたは完全なスペクトルの可視光に合わせて調整される。要素5は、比較的長く、かつ薄い。各要素5は、一般に可視光の波長より長い長さを有することが好ましい。したがって、要素5は、少なくとも約0.7μm(マイクロメータまたはミクロン)の長さを有する。ただし、通常の長さは、これよりはるかに長くなることもある。さらに、要素5は、光の波長より短い要素間隔、ピッチまたは周期Pで、一般に平行な配列で位置付けられる。したがって、ピッチは0.4μm(マイクロメータまたはミクロン)未満となる。
要素5の周期、ならびに光学媒体1および3の材料の選択は全て、光線9、11および13との所望の相互作用が得られ、かつその相互作用を向上させるように行われる。光線9は、通常は、当技術分野ではS偏光およびP偏光と呼ばれるほぼ等しい量の2つの偏光を含む非偏光ビームである。ただし、特定の適用分野では、光線9も、部分的にまたは大部分がいずれかの偏光状態となるように改変することができる。要素5の周期Pは、ワイヤ・グリッドがS偏光11の光の大部分を鏡面反射し、P偏光13の大部分を透過するように選択される。光学材料も、このプロセスの助けとなるように選択される。例えば、S偏光を吸収する、またはその他の方法でP偏光の透過およびS偏光の反射を助ける光学材料3を選択しながら、光学材料1はS偏光およびP偏光の両方に対して透過性が等しくなるように選択することができる。好ましい実施形態では、層1および3を構成する光学材料はガラスである。特定の適用分野によっては、その他の材料も適している。
介在する細長要素5はそれほど長くはない。これらは、通常は、0.3μm程度またはそれ未満の周期Pを有し、リブ5の幅wRおよび要素を分離する間隔またはギャップ7の幅wSを0.15μm程度またはそれ未満にした、規則正しく整然としたアレイとして配列されることになる。要素5および間隔7の幅は、所望の光学性能効果を達成するように変化させることができるが、これについては以下でさらに述べる。これらの要素5の高さまたは厚さtRは、通常は、要素が光学的に不透明になるのに必要な高さ(アルミニウムの場合は約40nm)から、おそらくは1μmの高さまでとなる。上限は、製造の実現性ならびに光学性能を考慮して設定される。好ましい実施形態では、偏光子を可視スペクトル全体にわたって使用する場合には、要素5は、通常はアルミニウムや銀などの材料で構成される。ただし、特定の場合に、赤色光などスペクトルの一部で機能する偏光子を提供しさえすればよい場合には、銅や金などその他の材料を使用することもできる。
埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子10の最適な性能を得るための重要な要素は、間隔またはギャップ7内に配置する材料である。要素5の間に形成されたギャップ7は、第1の層1など、層1および3の少なくとも一方の屈折率より低い屈折率を提供するので有利である。出願人は、ギャップ7がより低い屈折率を提供するときに、一定屈折率の材料中にワイヤ・グリッドを完全に封入した場合より偏光子10の性能が改善されることを発見した。好ましい実施形態では、この材料は空気または真空であるが、特定の適用分野では、実現性または性能上の理由から、その他の材料が使用されることがある。この材料は、製造性などその他の必要な設計上の制約を満たしながら、可能な限り低い屈折率nを有することが望ましい。こうしたその他の制約により、細長要素5の間の間隔7を満たす材料が光学材料1および3のいずれかまたは両方を構成する材料と同じ材料であることが必要となることがある。あるいは、細長要素5の間の間隔7を満たす材料は、光学材料1および3とは異なる材料となるように選択されることもある。上述のように、好ましい実施形態では、間隔7中の材料は空気または真空となる。使用可能なその他の材料としては、水(屈折率1.33)、蒸着、スパッタリングまたはその他の様々な化学蒸着プロセスを用いて堆積することができるフッ化マグネシウム(屈折率1.38)またはその他一般的な光学薄膜材料、光学オイル、ナフサやトルエンなどの液体炭化水素、あるいは適当な低い屈折率を有するその他の材料が挙げられる。
上述の好ましい実施形態の他に、特定の目的のために特定の実施形態で実施することができるいくつかの改良形態がある。これらの改良形態は、要素5と第1および/または第2の層1および3との間に、これらの層の一方の屈折率より低い屈折率を与える領域を設けることを含む。図2から図9を参照すると、要素5の第1の表面5aは、第1の表面5aを横切って延びる第1の仮想平面16を画定している。同様に、要素5の第2の表面5bは、第2の表面5bを横切って延びる第2の仮想平面17を画定している。第1の領域18は、要素5の第1の表面5aを横切って延びる第1の仮想平面16と、第1の層1の屈折率より低い屈折率を含むまたは提供する第1の層1の第1の表面2の間に配置することができる。同様に、第2の領域19は、要素5の第2の表面5bを横切って延びる第2の仮想平面17と、第2の層3の屈折率より低い屈折率を含むまたは提供する第2の層3の第2の表面4の間に配置することができる。
次に図2を参照すると、1つのこのような改良は、各細長要素の間に、光学媒体(1および/または3)の片側または反対側に延びる溝21を設けることである。これらの溝21は、製作過程中に反応性イオン・エッチングなどのプロセスによって形成することができる。溝21の深さdは、適切な性能を得るために重要である。所望の光の帯域幅、透過率、消光などに応じて、溝の深さdが約1nmから3000nmまで変化することを期待することができる。
通常は、溝21の幅wgは、細長要素5の間隔と同じとなる。しかし、実際の製作プロセスおよび問題では、この幅が細長要素5の間の幅wSよりもある程度細くなることが期待することができる。本発明は、将来の技術の進歩により、細長要素5の間の間隔7とは異なる幅に溝を作製することが実用化されることも見込んでいる。図3は、底部溝21の他に上部溝25を追加することによる概念の拡張を示す。これらの溝の目的は、基本光学材料1および3の光の屈折率より低い、有効な光の屈折率を生み出すことである。細長要素5の近くの領域18および19の低い光の屈折率は、埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子の性能をさらに向上させる。図2および図3の溝は長方形として示してあるが、これが唯一の有用な、または望ましい形状であることを表すものではない。実際には、製造プロセスでは、完全な長方形ではなく台形形状(図4の21a)にする可能性が高く、V字型の溝(図5の21b)を使用することもできる。
図6は、それを配置する光学材料3より低い光の屈折率を有する材料の薄膜31を追加することによって細長要素5の近くの領域19の低い光の屈折率の利点を得る、代替の方法を示す。この膜は、通常は1.0から1.7の間の光の屈折率nを有することになる。また、通常は10nmから5000nmの間の厚さtLを有することになる。好ましい材料はフッ化マグネシウムであるが、その他の一般的な誘電体光学材料も様々な適用分野で適している。図面にはただ1つの層しか示してないが、単一層の光学膜以外は不可能であると考えるべきではない。適用分野の要件に応じて、複数層の薄い光学膜を設けると有利である。また、図7に示すように、細長要素5の上部だけではなく底部にも、1層または複数層の低屈折率膜35を導入することができる。
図8は、図2および図6に示す概念の組合せにおいて薄膜材料をエッチングした、本発明のさらに別の改良形態を示す。光学材料の残りのリブ41は、それが配置される光学材料3より低い光の屈折率を有することができる材料で構成される。あるいは、支持光学材料3より大幅に低い屈折率は持たないが、エッチングのし易さなど、製造の際に助けとなるその他の特性を有する材料も好ましいことがある。1つの好ましいリブ41の材料は、フッ化マグネシウムである。その他の好ましい材料としては、高分子材料や二酸化ケイ素が挙げられる。これらは両方とも多くの技術を使用して容易にエッチングすることができる。この場合も、膜中でエッチングされたリブは、要素のどちら側にも形成することができる。
図9は、複数の薄膜を準備し、完全または部分的にエッチングした、本発明のさらに別の改良形態を示す。光学材料のリブ41は、上述のものと同じである。光学膜51は、光学材料1より低い屈折率、およびエッチングおよびパターン形成の容易さの一方または両方を有するように選択される。光学膜51にエッチングした溝55は、膜全体にわたって、また場合によってはその下の光学材料1中までエッチングすることができ、あるいは図示のように中間点で止めることもできる。図示のように溝55を止めた場合、偏光子の性能を全体として同調する際に有利になることがある二重層光学薄膜スタックを生じる効果がある。光学膜51の厚さtFは、通常は約10nmから5000nmの間となる。膜51を構成する光学材料の屈折率は、通常は1.0から1.7の間となるが、異常な状況ではさらに高い屈折率が有益であることがある。膜51にエッチングした溝55は、通常は細長要素5の間の間隔7にほぼ等しい幅を有することになるが、その他の様々な厚さの値ももちろん可能であり、適用分野の必要によってはそれらが好ましいこともある。この場合も、上述のように、溝55は長方形として示してあるが、台形またはV字型にすることもでき、その場合でもかなりの利点を提供する。
さらに、要素5と第1の層1および/または第2の層3との間に配置することができる膜または溝も、偏光子10の性能をさらに向上させるために使用することができる光学薄膜効果を提供する。この向上は、偏光子10の所望の全体的性能に達するようにこれらの膜または溝の厚さおよび/または数および/または光学特性を適切に調節することによって得ることができる。
上記の本発明は、多くの光学的適用分野で使用することができる。例えば、図10に示すように、埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子は、偏光ビーム・スプリッタ・キューブ100中で使用することができる。このキューブは、一般的なMacNeille型プリズムと同様に機能するが、いくつかの利点がある。このワイヤ・グリッド偏光子は、MacNeille型プリズムより広い開口角を有し、またキューブの中央で偏光界面61に入射する円錐形の光線が合成角によって最もよく記述される開口のコーナでの性能がはるかに改善されている。埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子を含む偏光界面61は、光ビーム63のS偏光65の大部分を反射し、P偏光67の大部分を透過する。この界面61は、上述の改良点のうち任意のいくつかまたは全てを含むことができる。このようにして、埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子は、MacNeille型偏光キューブ・ビーム・スプリッタに優るいくつかの性能上の利点を有する代替の偏光キューブ・ビーム・スプリッタを生み出す。
この埋込み型偏光子は、図11に示すような平板形態110でも使用することができる。この実施形態は、通常は、図示のように、埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子を含む偏光界面71を取り囲むガラス板79および81からなる。この界面71は、上述の改良点のうち任意のいくつかまたは全てを含むことができる。偏光子は、反対の偏光を有する光ビーム75を鏡面角で反射することにより、第1のガラス板79に入射する光ビームを偏光する働きをする。これらの光ビーム73、75および77は、垂直入射として示してあるが、これは単なる便宜的なものである。この場合も、埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子は、大きな開口角を有し、様々な角度で入射してくる光ビームに対して機能する。
帯域幅の広いワイヤ・グリッド偏光子が、参照により本明細書に組み込む出願人の米国特許出願第09/337,970号に記載されている。この偏光子も、屈折率が低く厚さが制御された領域によって支持基板から分離された平行な導電性要素のアレイを含む。ワイヤ・グリッドを基板から分離する低屈折率領域は、偏光子デバイス中で2つの役割を果たす。第1に、低い屈折率が存在することにより、最長波長共鳴点がより短い波長にシフトする。第2に、低屈折領域は、P偏光の偏光子によって反射される部分を減少させるように厚さの制御された1つまたは複数の層として実装することができる。
所与の入射角に対して共鳴が起こる最長波長を低下させる1つの方法は、周期を減少させることである。しかし、周期を減少させると、製造上の難点が生じる。したがって、ピッチPを光の波長の約2分の1、すなわち約0.2μmにすると好ましい。この場合も、より長い周期(光の波長の約2倍すなわち1.4μm超)を有するグリッドは回折格子として動作し、より短い周期(光の波長の約半分すなわち0.2μm未満)を有するグリッドは偏光子として動作し、遷移領域(約0.2から1.4μmの間)の周期を有するグリッドも回折格子として動作し、かつ急激な変化または共鳴と呼ばれる異常を特徴とすることに留意されたい。上記で示したように、可視スペクトルの範囲内で共鳴を特徴とする従来技術のデバイスは、可視スペクトル内の様々な波長で起こる異常により、狭い動作範囲を有する。この遷移領域は、ワイヤ・グリッドの挙動を理解する上で重要な概念である。帯域幅の広い偏光子は、所期の用途のスペクトルにわたって広帯域幅性能を得るために、必ずこの遷移領域の外側にとどまるように設計しなければならない。したがって、この遷移領域の境界は、本発明のワイヤ・グリッドの周期の上限を規定する上で有用である。
溝、リブまたは膜層は、ある高さすなわち厚さを有し、要素と各層との間に配置される領域を画定する。溝、リブまたは膜層によって生み出された領域は、層の屈折率より大幅に低い平均屈折率を有するので有利である。この領域は、リブの高さすなわち厚さ、溝の深さ、または膜の厚さによって規定される厚さを有する。この領域の高さすなわち厚さを変えて、偏光子の性能を調節することができる。出願人の以前の出願でより完全に論じられているように、要素を層から分離し、層より低い屈折率を有する領域をその間に挿置することにより、より短い波長で偏光子のP偏光透過効率が向上する、偏光子が有効になる最小波長が低くなる、または最高共鳴点がより短い波長にシフトするので有利である。
要素5のアレイは、一定比率で図示したものではなく、分かりやすくするためにかなり誇張してあることに留意されたい。実際には、要素の配列は、裸眼では見ることができず、大きく拡大せずに観察すると一部が鏡面になった表面として見える。
上述の本発明の実施形態は、単なる例示的なものであり、当業者ならその修正形態を思いつくことができることを理解されたい。さらに、本発明の主な特典は、可視スペクトルにおける埋込み型偏光子の性能を改善することであるが、本発明は、赤外線などその他のスペクトル領域で使用される偏光子デバイスの透過性を改善するために使用することもできる。本発明によって達成された従来技術に優る設計の柔軟性における大幅な向上により、当業者ならその他の変更も確実に思いつくであろう。したがって、本発明は、開示の実施形態に限定されるものと見なすべきでなく、添付の特許請求の範囲の定義によってのみ限定されるものとする。

Claims (26)

  1. 可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子であって、
    ある屈折率を有する第1の層と、
    第1の層から分離した、ある屈折率を有する第2の層と、
    第1の層と第2の層の間に挟まれ、要素間に複数のギャップを形成した、平行に離間した細長い要素のアレイであって、ギャップが第1の層の屈折率より低い屈折率を提供する、アレイと、
    を含み、
    前記各層が透明であり、
    前記要素が導電性であり、
    第1の層と要素との間に配置され、第1の層の屈折率より低い屈折率を有する膜をさらに含むことを特徴とする偏光子。
  2. 要素間のギャップが空気を含むことを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
  3. 要素間のギャップが真空を有することを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
  4. 要素間のギャップが、第1および第2の層の材料とは異なる材料を含むことを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
  5. 要素間のギャップが、第1および第2の層の一方の材料と同じ材料を含むことを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
  6. 要素間のギャップが水を含むことを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
  7. 要素間のギャップがフッ化マグネシウムを含むことを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
  8. 要素間のギャップが油を含むことを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
  9. 要素間のギャップが炭化水素を含むことを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
  10. 第1および第2の層がそれぞれ1ミクロン超の厚さを有し、要素が0.04から1ミクロンの間の厚さを有することを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
  11. 要素が0.3ミクロン未満の周期を有し、要素が0.15ミクロン未満の幅を有し、ギャップが0.15ミクロン未満の幅を有することを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
  12. 第1の層が、要素と向き合う第1の表面をさらに有し、各要素が、第1の層と向き合う第1の表面をさらに有し、要素の第1の表面を横切って延びる仮想平面を画定することを特徴とし、
    仮想平面と第1の層の第1の表面との間に、第1の層の屈折率より低い屈折率を提供する領域と、
    をさらに含む、請求項1に記載の偏光子。
  13. 第1の層が第1の表面を有し、要素が第1の層の第1の表面上に配置されていることを特徴とし、
    各要素の間になるように第1の層の第1の表面に形成された複数の溝と、
    をさらに含む、請求項1に記載の偏光子。
  14. 溝が0.001から3ミクロンの間の深さを有することを特徴とする、請求項13に記載の偏光子。
  15. 第1の層およびが第2の層が、それぞれ第1の表面及び第2の表面を有し、それらの間に要素が配置されていることを特徴とし、
    各要素の間になるように第1の層の第1の表面に形成された第1の複数の溝と、
    各要素の間になるように第2の層の第2の表面に形成された第2の複数の溝と、
    をさらに含む、請求項1に記載の偏光子。
  16. 膜の屈折率が1から1.7の間であることを特徴とする、請求項に記載の偏光子。
  17. 膜の厚さが0.01から5ミクロンの間であることを特徴とする、請求項に記載の偏光子。
  18. 膜が誘電体材料を含むことを特徴とする、請求項に記載の偏光子。
  19. 膜の誘電体材料がフッ化マグネシウムを含むことを特徴とする、請求項18に記載の偏光子。
  20. 第2の層と要素との間に配置された、第2の層の屈折率より低い屈折率を有する第2の膜、をさらに含む、請求項1に記載の偏光子。
  21. 各要素の間になるように膜に形成された複数の溝をさらに含む、請求項1に記載の偏光子。
  22. 膜が第1の層の屈折率より低い屈折率を有することを特徴とする、請求項21に記載の偏光子。
  23. 膜が1から1.7の間の屈折率を有することを特徴とする、請求項21に記載の偏光子。
  24. 膜が0.01から5ミクロンの間の厚さを有することを特徴とする、請求項21に記載の偏光子。
  25. 要素が、立方体中に配置され、少なくとも1つの立方体表面に対して斜めになるように配向されていることを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
  26. 要素が、一対の透明板の間に配置され、それらに対して平行になるように配向されていることを特徴とする、請求項1に記載の偏光子。
JP2010280064A 2000-01-11 2010-12-16 可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子 Expired - Fee Related JP4809929B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/480,393 US6288840B1 (en) 1999-06-22 2000-01-11 Imbedded wire grid polarizer for the visible spectrum
US09/480,393 2000-01-11

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001552123A Division JP4688394B2 (ja) 2000-01-11 2001-01-11 可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011070219A true JP2011070219A (ja) 2011-04-07
JP4809929B2 JP4809929B2 (ja) 2011-11-09

Family

ID=23907785

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001552123A Expired - Fee Related JP4688394B2 (ja) 2000-01-11 2001-01-11 可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子
JP2010280064A Expired - Fee Related JP4809929B2 (ja) 2000-01-11 2010-12-16 可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001552123A Expired - Fee Related JP4688394B2 (ja) 2000-01-11 2001-01-11 可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6288840B1 (ja)
EP (1) EP1250614A4 (ja)
JP (2) JP4688394B2 (ja)
KR (1) KR100744863B1 (ja)
CN (1) CN1222790C (ja)
AU (1) AU2001226391A1 (ja)
WO (1) WO2001051964A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015531077A (ja) * 2012-06-20 2015-10-29 バッテル メモリアル インスティチュート 2次元のメタマテリアル窓
WO2016126484A1 (en) * 2015-02-06 2016-08-11 Moxtek, Inc High contrast inverse polarizer
JP2016536651A (ja) * 2013-10-24 2016-11-24 モックステック・インコーポレーテッド サイド領域を有するワイヤグリッド偏光子
US10234613B2 (en) 2015-02-06 2019-03-19 Moxtek, Inc. High contrast inverse polarizer
US10393885B2 (en) 2012-06-20 2019-08-27 Battelle Memorial Institute Gamma radiation stand-off detection, tamper detection, and authentication via resonant meta-material structures

Families Citing this family (204)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0950551A (ja) * 1995-08-07 1997-02-18 Fujitsu Ltd 紙幣取引装置
US6447120B2 (en) * 1999-07-28 2002-09-10 Moxtex Image projection system with a polarizing beam splitter
JP2001091747A (ja) * 1999-09-27 2001-04-06 Nitto Denko Corp 液晶セル基板
US6532111B2 (en) * 2001-03-05 2003-03-11 Eastman Kodak Company Wire grid polarizer
US6585378B2 (en) 2001-03-20 2003-07-01 Eastman Kodak Company Digital cinema projector
US6969177B2 (en) * 2001-03-23 2005-11-29 Wavien, Inc. Polarization recovery system using redirection
US20020167727A1 (en) * 2001-03-27 2002-11-14 Hansen Douglas P. Patterned wire grid polarizer and method of use
JP2003215344A (ja) * 2001-03-29 2003-07-30 Seiko Epson Corp 偏光子、およびこの偏光子を用いた光学機器
JP4737234B2 (ja) * 2001-03-29 2011-07-27 セイコーエプソン株式会社 偏光子を用いた光学機器
JP2004520628A (ja) * 2001-05-18 2004-07-08 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 偏光装置
EP1694079B1 (en) * 2001-10-01 2008-07-23 Sony Corporation Polarization selecting prism for a projection device
CN1568437A (zh) * 2001-10-09 2005-01-19 皇家飞利浦电子股份有限公司 光学装置
US6714350B2 (en) 2001-10-15 2004-03-30 Eastman Kodak Company Double sided wire grid polarizer
US7085050B2 (en) * 2001-12-13 2006-08-01 Sharp Laboratories Of America, Inc. Polarized light beam splitter assembly including embedded wire grid polarizer
US20030117708A1 (en) * 2001-12-21 2003-06-26 Koninklijke Philips Electronics N.V. Sealed enclosure for a wire-grid polarizer and subassembly for a display system
US6909473B2 (en) 2002-01-07 2005-06-21 Eastman Kodak Company Display apparatus and method
US7061561B2 (en) * 2002-01-07 2006-06-13 Moxtek, Inc. System for creating a patterned polarization compensator
WO2003069381A2 (en) 2002-02-12 2003-08-21 Unaxis Balzers Limited Optical component comprising submicron hollow spaces
US6876784B2 (en) * 2002-05-30 2005-04-05 Nanoopto Corporation Optical polarization beam combiner/splitter
US7131737B2 (en) * 2002-06-05 2006-11-07 Moxtek, Inc. Housing for mounting a beamsplitter and a spatial light modulator with an output optical path
US6805445B2 (en) 2002-06-05 2004-10-19 Eastman Kodak Company Projection display using a wire grid polarization beamsplitter with compensator
US7386205B2 (en) * 2002-06-17 2008-06-10 Jian Wang Optical device and method for making same
US7283571B2 (en) * 2002-06-17 2007-10-16 Jian Wang Method and system for performing wavelength locking of an optical transmission source
EP1520203A4 (en) 2002-06-18 2005-08-24 Nanoopto Corp OPTICAL COMPONENT WITH ADVANCED FUNCTIONALITY AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
JP2004045672A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 Canon Inc 偏光分離素子およびそれを用いた光学系
JP2005534981A (ja) 2002-08-01 2005-11-17 ナノオプト コーポレーション 精密位相遅れ装置およびそれを製造する方法
US20040032663A1 (en) * 2002-08-19 2004-02-19 Tekolste Robert Wafer level polarization control elements
JP2006514751A (ja) * 2002-08-21 2006-05-11 ナノオプト コーポレーション ビームの偏光を提供するための方法およびシステム
US7013064B2 (en) * 2002-10-09 2006-03-14 Nanoopto Corporation Freespace tunable optoelectronic device and method
US6920272B2 (en) * 2002-10-09 2005-07-19 Nanoopto Corporation Monolithic tunable lasers and reflectors
US6665119B1 (en) * 2002-10-15 2003-12-16 Eastman Kodak Company Wire grid polarizer
KR100933443B1 (ko) * 2002-12-31 2009-12-24 엘지디스플레이 주식회사 표시 장치용 복합 광학 소자
US7268946B2 (en) * 2003-02-10 2007-09-11 Jian Wang Universal broadband polarizer, devices incorporating same, and method of making same
KR20050103500A (ko) * 2003-02-21 2005-10-31 웨이비엔, 인코포레이티드 방향전환을 이용하는 편광성 복구 시스템
US6943941B2 (en) * 2003-02-27 2005-09-13 Asml Netherlands B.V. Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems
US7206059B2 (en) * 2003-02-27 2007-04-17 Asml Netherlands B.V. Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems
TWI319124B (en) * 2003-02-27 2010-01-01 Asml Netherlands Bv Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems
JP4676678B2 (ja) * 2003-03-07 2011-04-27 日東電工株式会社 高輝度偏光板
US7211831B2 (en) * 2003-04-15 2007-05-01 Luminus Devices, Inc. Light emitting device with patterned surfaces
US7667238B2 (en) * 2003-04-15 2010-02-23 Luminus Devices, Inc. Light emitting devices for liquid crystal displays
US7262550B2 (en) * 2003-04-15 2007-08-28 Luminus Devices, Inc. Light emitting diode utilizing a physical pattern
US7166871B2 (en) * 2003-04-15 2007-01-23 Luminus Devices, Inc. Light emitting systems
US7083993B2 (en) * 2003-04-15 2006-08-01 Luminus Devices, Inc. Methods of making multi-layer light emitting devices
US6831302B2 (en) 2003-04-15 2004-12-14 Luminus Devices, Inc. Light emitting devices with improved extraction efficiency
US7084434B2 (en) * 2003-04-15 2006-08-01 Luminus Devices, Inc. Uniform color phosphor-coated light-emitting diode
US7274043B2 (en) * 2003-04-15 2007-09-25 Luminus Devices, Inc. Light emitting diode systems
US7521854B2 (en) * 2003-04-15 2009-04-21 Luminus Devices, Inc. Patterned light emitting devices and extraction efficiencies related to the same
US7098589B2 (en) 2003-04-15 2006-08-29 Luminus Devices, Inc. Light emitting devices with high light collimation
US7105861B2 (en) * 2003-04-15 2006-09-12 Luminus Devices, Inc. Electronic device contact structures
US7074631B2 (en) * 2003-04-15 2006-07-11 Luminus Devices, Inc. Light emitting device methods
US20040259279A1 (en) * 2003-04-15 2004-12-23 Erchak Alexei A. Light emitting device methods
US6738127B1 (en) * 2003-04-24 2004-05-18 Eastman Kodak Company LCD-based printing apparatus for printing onto high contrast photosensitive medium
US20040258355A1 (en) * 2003-06-17 2004-12-23 Jian Wang Micro-structure induced birefringent waveguiding devices and methods of making same
JP4425059B2 (ja) 2003-06-25 2010-03-03 シャープ株式会社 偏光光学素子、およびそれを用いた表示装置
US6839181B1 (en) * 2003-06-25 2005-01-04 Eastman Kodak Company Display apparatus
US6847057B1 (en) 2003-08-01 2005-01-25 Lumileds Lighting U.S., Llc Semiconductor light emitting devices
JP4593894B2 (ja) * 2003-09-01 2010-12-08 キヤノン株式会社 光学式エンコーダ
US7341880B2 (en) * 2003-09-17 2008-03-11 Luminus Devices, Inc. Light emitting device processes
US7344903B2 (en) * 2003-09-17 2008-03-18 Luminus Devices, Inc. Light emitting device processes
JP2005173127A (ja) * 2003-12-10 2005-06-30 Hitachi Displays Ltd 液晶プロジェクタ
US7450311B2 (en) 2003-12-12 2008-11-11 Luminus Devices, Inc. Optical display systems and methods
JP4632400B2 (ja) * 2003-12-16 2011-02-16 キヤノン株式会社 細胞培養用基板、その製造方法、それを用いた細胞スクリーニング法
CN100337143C (zh) * 2004-03-03 2007-09-12 株式会社日立制作所 光学单元以及使用该光学单元的投影型图像显示装置
EP1574904B1 (en) * 2004-03-08 2008-06-11 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus with a radial polarizer
US7670758B2 (en) * 2004-04-15 2010-03-02 Api Nanofabrication And Research Corporation Optical films and methods of making the same
US20050275944A1 (en) * 2004-06-11 2005-12-15 Wang Jian J Optical films and methods of making the same
US20060001969A1 (en) * 2004-07-02 2006-01-05 Nanoopto Corporation Gratings, related optical devices and systems, and methods of making such gratings
TWI266117B (en) * 2004-07-06 2006-11-11 Au Optronics Corp Backlight module capable of polarized light interchange
US20060038188A1 (en) 2004-08-20 2006-02-23 Erchak Alexei A Light emitting diode systems
US7480017B2 (en) * 2004-09-17 2009-01-20 Radiant Images, Inc. Microdisplay
US7466484B2 (en) * 2004-09-23 2008-12-16 Rohm And Haas Denmark Finance A/S Wire grid polarizers and optical elements containing them
US7414784B2 (en) * 2004-09-23 2008-08-19 Rohm And Haas Denmark Finance A/S Low fill factor wire grid polarizer and method of use
DE102004050891B4 (de) 2004-10-19 2019-01-10 Lumileds Holding B.V. Lichtmittierende III-Nitrid-Halbleitervorrichtung
JP2006126338A (ja) * 2004-10-27 2006-05-18 Nippon Sheet Glass Co Ltd 偏光子およびその製造方法
JP2008522226A (ja) * 2004-11-30 2008-06-26 アグーラ テクノロジーズ インコーポレイテッド 大規模ワイヤ・グリッド偏光子の応用および作製技術
US7351346B2 (en) * 2004-11-30 2008-04-01 Agoura Technologies, Inc. Non-photolithographic method for forming a wire grid polarizer for optical and infrared wavelengths
US7961393B2 (en) 2004-12-06 2011-06-14 Moxtek, Inc. Selectively absorptive wire-grid polarizer
US7800823B2 (en) 2004-12-06 2010-09-21 Moxtek, Inc. Polarization device to polarize and further control light
US7570424B2 (en) 2004-12-06 2009-08-04 Moxtek, Inc. Multilayer wire-grid polarizer
US20080055719A1 (en) * 2006-08-31 2008-03-06 Perkins Raymond T Inorganic, Dielectric Grid Polarizer
US20060127830A1 (en) * 2004-12-15 2006-06-15 Xuegong Deng Structures for polarization and beam control
US7619816B2 (en) * 2004-12-15 2009-11-17 Api Nanofabrication And Research Corp. Structures for polarization and beam control
US7692207B2 (en) * 2005-01-21 2010-04-06 Luminus Devices, Inc. Packaging designs for LEDs
US7170100B2 (en) 2005-01-21 2007-01-30 Luminus Devices, Inc. Packaging designs for LEDs
JP4247627B2 (ja) * 2005-02-10 2009-04-02 セイコーエプソン株式会社 光学素子の製造方法
JP4479535B2 (ja) * 2005-02-21 2010-06-09 セイコーエプソン株式会社 光学素子の製造方法
US20070045640A1 (en) 2005-08-23 2007-03-01 Erchak Alexei A Light emitting devices for liquid crystal displays
US7525604B2 (en) * 2005-03-15 2009-04-28 Naxellent, Llc Windows with electrically controllable transmission and reflection
KR20080036995A (ko) * 2005-07-22 2008-04-29 니폰 제온 가부시키가이샤 그리드 편광자 및 그 제조법
JP2007033558A (ja) * 2005-07-22 2007-02-08 Nippon Zeon Co Ltd グリッド偏光子及びその製法
JP2007041207A (ja) * 2005-08-02 2007-02-15 Mitsubishi Electric Corp 偏光分離素子
JP4501813B2 (ja) * 2005-08-19 2010-07-14 セイコーエプソン株式会社 光学素子の製造方法、投射型表示装置
KR100718136B1 (ko) * 2005-08-30 2007-05-14 삼성전자주식회사 와이어 그리드 편광자를 이용한 백라이트 유닛 및 이를채용한 액정표시장치
WO2007026593A1 (ja) * 2005-08-30 2007-03-08 Konica Minolta Opto, Inc. 液晶表示装置
US20080099777A1 (en) * 2005-10-19 2008-05-01 Luminus Devices, Inc. Light-emitting devices and related systems
US20070139771A1 (en) * 2005-12-15 2007-06-21 Jian Wang Optical retarders and methods of making the same
US20070165308A1 (en) * 2005-12-15 2007-07-19 Jian Wang Optical retarders and methods of making the same
JP5145635B2 (ja) * 2005-12-26 2013-02-20 セイコーエプソン株式会社 液晶装置、及び投射型表示装置
US20070217008A1 (en) * 2006-03-17 2007-09-20 Wang Jian J Polarizer films and methods of making the same
US20070229765A1 (en) * 2006-03-30 2007-10-04 Infocus Corporation Projection system and method
US20070264581A1 (en) * 2006-05-09 2007-11-15 Schwarz Christian J Patterning masks and methods
WO2008002541A2 (en) * 2006-06-26 2008-01-03 Moxtek, Inc. Cube wire-grid polarizing beam splitter and projection display with same
CN101122646A (zh) * 2006-08-11 2008-02-13 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 偏光片及液晶显示装置
US20080037101A1 (en) * 2006-08-11 2008-02-14 Eastman Kodak Company Wire grid polarizer
TWI411820B (zh) * 2006-08-11 2013-10-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 偏光片及液晶顯示裝置
US8755113B2 (en) 2006-08-31 2014-06-17 Moxtek, Inc. Durable, inorganic, absorptive, ultra-violet, grid polarizer
KR101681917B1 (ko) * 2006-09-29 2016-12-02 리얼디 인크. 입체 투사를 위한 편광 변환 시스템들
US20080094576A1 (en) * 2006-10-04 2008-04-24 3M Innovative Properties Company Projection system incorporating color correcting element
JP4520445B2 (ja) * 2006-10-11 2010-08-04 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ワイヤグリッド偏光板
US7857455B2 (en) * 2006-10-18 2010-12-28 Reald Inc. Combining P and S rays for bright stereoscopic projection
KR100795811B1 (ko) 2006-10-24 2008-01-21 삼성에스디아이 주식회사 편광자 및 그를 포함하는 유기 발광 표시 장치
KR101282323B1 (ko) 2006-10-26 2013-07-04 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
US7799486B2 (en) * 2006-11-21 2010-09-21 Infineon Technologies Ag Lithography masks and methods of manufacture thereof
US20080129930A1 (en) * 2006-12-01 2008-06-05 Agoura Technologies Reflective polarizer configuration for liquid crystal displays
JP2008145573A (ja) * 2006-12-07 2008-06-26 Seiko Epson Corp 偏光素子とその製造方法、液晶装置、及び電子機器
JP5399923B2 (ja) * 2007-01-24 2014-01-29 レイブンブリック,エルエルシー 温度応答切換型光ダウンコンバーティングフィルタ
JP4380714B2 (ja) 2007-03-07 2009-12-09 セイコーエプソン株式会社 偏光素子の製造方法
US8110425B2 (en) 2007-03-20 2012-02-07 Luminus Devices, Inc. Laser liftoff structure and related methods
US8727536B2 (en) 2007-05-09 2014-05-20 Reald Inc. Polarization conversion system and method for projecting polarization encoded imagery
US7789515B2 (en) 2007-05-17 2010-09-07 Moxtek, Inc. Projection device with a folded optical path and wire-grid polarizer
US7973998B2 (en) * 2007-05-18 2011-07-05 Serious Materials, Inc. Temperature activated optical films
CN101334497B (zh) * 2007-06-28 2015-11-25 第一毛织株式会社 偏振分光器件及其制造方法和设备以及包括其的显示器
KR101265393B1 (ko) * 2007-07-11 2013-05-20 라벤브릭 엘엘씨 열적 절환식 반사형 광학 셔터
JP4412372B2 (ja) 2007-09-12 2010-02-10 セイコーエプソン株式会社 偏光素子の製造方法
EP2195689A4 (en) 2007-09-19 2012-05-02 Ravenbrick Llc WINDOW FILMS AND COATINGS WITH LOW EMISSIONS WITH NANOMASS BAR WIRE GRILES
US8169685B2 (en) 2007-12-20 2012-05-01 Ravenbrick, Llc Thermally switched absorptive window shutter
CN100575998C (zh) * 2008-04-09 2009-12-30 厦门大学 一种阵列式微谐振腔可调集成光学滤波器
CA2754619C (en) 2008-04-23 2014-04-01 Ravenbrick, Llc Glare management of reflective and thermoreflective surfaces
US9116302B2 (en) 2008-06-19 2015-08-25 Ravenbrick Llc Optical metapolarizer device
EP2324386A4 (en) 2008-08-20 2013-03-27 Ravenbrick Llc METHODS OF MANUFACTURING THERMOCHROMIC FILTERS
KR20100035783A (ko) * 2008-09-29 2010-04-07 삼성전자주식회사 편광기, 이의 제조 방법, 이 편광기를 갖는 표시기판 및 백라이트 어셈블리
CN101738668B (zh) * 2008-11-19 2011-12-07 上海丽恒光微电子科技有限公司 偏振立方体及其制造方法
JP5606052B2 (ja) * 2009-01-13 2014-10-15 キヤノン株式会社 光学素子
AU2010233076A1 (en) 2009-04-10 2011-11-10 Ravenbrick, Llc Thermally switched optical filter incorporating a guest-host architecture
US8947760B2 (en) 2009-04-23 2015-02-03 Ravenbrick Llc Thermotropic optical shutter incorporating coatable polarizers
US8248696B2 (en) 2009-06-25 2012-08-21 Moxtek, Inc. Nano fractal diffuser
WO2011053853A2 (en) 2009-10-30 2011-05-05 Ravenbrick Llc Thermochromic filters and stopband filters for use with same
WO2011062708A2 (en) 2009-11-17 2011-05-26 Ravenbrick Llc Thermally switched optical filter incorporating a refractive optical structure
JP5287695B2 (ja) * 2009-12-22 2013-09-11 株式会社リコー 光偏向装置、光偏向アレー、画像投影表示装置
EP2553520B1 (en) 2010-03-29 2019-07-31 Ravenbrick, LLC Polymer-stabilized thermotropic liquid crystal device
JP5710151B2 (ja) * 2010-04-13 2015-04-30 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ワイヤグリッド偏光板
WO2011153214A2 (en) 2010-06-01 2011-12-08 Ravenbrick Llc Multifunctional building component
JP2012002971A (ja) 2010-06-16 2012-01-05 Seiko Epson Corp 偏光素子及びその製造方法、液晶装置、電子機器
JP2012002972A (ja) * 2010-06-16 2012-01-05 Seiko Epson Corp 偏光素子及びその製造方法、液晶装置、電子機器
US8913321B2 (en) 2010-09-21 2014-12-16 Moxtek, Inc. Fine pitch grid polarizer
US8611007B2 (en) 2010-09-21 2013-12-17 Moxtek, Inc. Fine pitch wire grid polarizer
JP5760388B2 (ja) * 2010-11-01 2015-08-12 セイコーエプソン株式会社 偏光素子とその製造方法、プロジェクター、液晶装置、電子機器
JP5747246B2 (ja) * 2010-12-10 2015-07-08 国立研究開発法人物質・材料研究機構 円二色性素子
KR20120075877A (ko) * 2010-12-29 2012-07-09 삼성전자주식회사 액정 디스플레이 패널 및 이를 포함하는 장치
US20150077851A1 (en) 2010-12-30 2015-03-19 Moxtek, Inc. Multi-layer absorptive wire grid polarizer
JP5765984B2 (ja) 2011-03-28 2015-08-19 キヤノン株式会社 偏光分離素子および画像投射装置
JP5762086B2 (ja) 2011-03-31 2015-08-12 キヤノン株式会社 偏光分離素子および画像投射装置
JP2011133912A (ja) * 2011-04-01 2011-07-07 Sony Corp 光学装置の製造方法
JP5930600B2 (ja) 2011-04-08 2016-06-08 キヤノン株式会社 偏光分離素子および画像投射装置
US8873144B2 (en) 2011-05-17 2014-10-28 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with multiple functionality sections
US8913320B2 (en) 2011-05-17 2014-12-16 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with bordered sections
WO2013046921A1 (ja) * 2011-09-27 2013-04-04 日本電気株式会社 偏光子、偏光光学素子、光源および画像表示装置
US8922890B2 (en) 2012-03-21 2014-12-30 Moxtek, Inc. Polarizer edge rib modification
JP6180089B2 (ja) * 2012-08-20 2017-08-16 旭化成株式会社 光学素子及びそれを用いた投影型映像表示装置
KR101978721B1 (ko) 2012-10-08 2019-05-16 삼성디스플레이 주식회사 편광판, 액정 표시 장치 및 이를 제조하는 방법
KR101961427B1 (ko) 2012-10-29 2019-03-25 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 이를 제조하는 방법
JP2014164263A (ja) * 2013-02-27 2014-09-08 Ricoh Opt Ind Co Ltd サブ波長構造をもつ光学素子およびその製造方法
KR102060793B1 (ko) 2013-04-18 2020-02-12 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102056902B1 (ko) 2013-05-29 2019-12-18 삼성전자주식회사 와이어 그리드 편광판 및 이를 구비하는 액정 표시패널 및 액정 표시장치
KR102069179B1 (ko) 2013-06-26 2020-02-12 삼성디스플레이 주식회사 편광 소자, 이를 포함하는 표시 패널 및 이의 제조 방법
KR102062289B1 (ko) 2013-08-02 2020-01-06 삼성디스플레이 주식회사 와이드 그리드 편광자 및 이를 구비한 액정표시장치
KR102089661B1 (ko) 2013-08-27 2020-03-17 삼성전자주식회사 와이어 그리드 편광판 및 이를 구비하는 액정 표시패널 및 액정 표시장치
KR102116308B1 (ko) 2013-09-04 2020-06-01 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
JP5929860B2 (ja) * 2013-09-24 2016-06-08 ウシオ電機株式会社 グリッド偏光素子製造方法
KR102079163B1 (ko) 2013-10-02 2020-02-20 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 편광자, 이를 포함하는 표시 장치 및 이의 제조방법
US9625745B2 (en) 2013-11-15 2017-04-18 Reald Inc. High dynamic range, high contrast projection systems
US10268046B2 (en) 2014-05-28 2019-04-23 Moxtek, Inc. Cube polarizer
US9726897B2 (en) 2014-05-28 2017-08-08 Motex, Inc. Cube polarizer with minimal optical path length difference
KR102215134B1 (ko) 2014-07-28 2021-02-15 삼성디스플레이 주식회사 편광자 및 이를 포함하는 표시 패널
WO2016025830A1 (en) 2014-08-14 2016-02-18 Applied Materials, Inc Systems, apparatus, and methods for an electromagnetic interference shielding optical polarizer
KR102254533B1 (ko) 2014-10-22 2021-05-24 삼성디스플레이 주식회사 편광 소자의 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 패널
KR102250491B1 (ko) 2014-11-11 2021-05-12 삼성디스플레이 주식회사 표시 패널 및 편광 소자의 제조 방법
KR102305200B1 (ko) 2014-12-05 2021-09-27 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 편광자, 이를 포함하는 표시 장치 및 이의 제조방법
KR20160072379A (ko) 2014-12-12 2016-06-23 삼성디스플레이 주식회사 표시 기판, 표시 패널 및 편광 소자의 제조 방법
US20170059758A1 (en) 2015-08-24 2017-03-02 Moxtek, Inc. Small-Pitch Wire Grid Polarizer
JP6849657B2 (ja) * 2016-03-18 2021-03-24 Eneos株式会社 光学位相差部材、光学位相差部材を備える複合光学部材、及び光学位相差部材の製造方法
US10330946B1 (en) 2016-05-04 2019-06-25 Moxtek, Inc. Symmetric cube polarizing beam splitter
KR102609587B1 (ko) 2016-07-19 2023-12-05 삼성디스플레이 주식회사 임프린트 스탬프의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 표시 장치
US10444410B2 (en) 2016-08-16 2019-10-15 Moxtek, Inc. Overcoat wire grid polarizer having conformal coat layer with oxidation barrier and moisture barrier
KR102656857B1 (ko) 2016-08-25 2024-04-12 삼성디스플레이 주식회사 편광소자, 편광소자 제조방법 및 표시 장치
KR102602238B1 (ko) 2016-08-29 2023-11-15 삼성디스플레이 주식회사 편광 소자, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치
KR20180039228A (ko) 2016-10-07 2018-04-18 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치의 제조 방법
US10139537B2 (en) * 2016-11-22 2018-11-27 Moxtek, Inc. Multiple-stack wire grid polarizer
WO2018106079A1 (ko) * 2016-12-08 2018-06-14 한국과학기술원 고투과성 나노와이어 그리드 편광자 및 그의 제조 방법
JP6230689B1 (ja) * 2016-12-28 2017-11-15 デクセリアルズ株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
JP6935318B2 (ja) * 2016-12-28 2021-09-15 デクセリアルズ株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
JP6302040B1 (ja) * 2016-12-28 2018-03-28 デクセリアルズ株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器
US10520782B2 (en) 2017-02-02 2019-12-31 James David Busch Display devices, systems and methods capable of single-sided, dual-sided, and transparent mixed reality applications
US10838220B2 (en) 2017-04-14 2020-11-17 Moxtek, Inc. Miniature, durable polarization devices
KR102404724B1 (ko) 2017-06-07 2022-06-02 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
JP6401837B1 (ja) 2017-08-10 2018-10-10 デクセリアルズ株式会社 偏光板及び光学機器
JP6410906B1 (ja) 2017-09-26 2018-10-24 デクセリアルズ株式会社 偏光素子及び光学機器
KR20190055283A (ko) 2017-11-13 2019-05-23 삼성디스플레이 주식회사 편광 소자 및 이를 포함하는 표시 장치
US10852464B2 (en) 2018-03-01 2020-12-01 Moxtek, Inc. High-contrast polarizer
US11079528B2 (en) 2018-04-12 2021-08-03 Moxtek, Inc. Polarizer nanoimprint lithography
JP7101028B2 (ja) * 2018-04-12 2022-07-14 デクセリアルズ株式会社 偏光素子及びその製造方法、並びに光学機器
US10964507B2 (en) 2018-05-10 2021-03-30 Moxtek, Inc. X-ray source voltage shield
JP2018189980A (ja) * 2018-07-19 2018-11-29 デクセリアルズ株式会社 偏光板
US11728122B2 (en) 2020-10-23 2023-08-15 Moxtek, Inc. X-ray tube backscatter suppression

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0384502A (ja) * 1989-08-29 1991-04-10 Shimadzu Corp グリッド偏光子
JPH08184711A (ja) * 1994-12-29 1996-07-16 Sony Corp 偏光光学素子
WO1999059005A1 (en) * 1998-05-14 1999-11-18 Moxtek Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light

Family Cites Families (87)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE416157C (de) 1925-07-14 Siemens & Halske Akt Ges Schaltungsanordnung zur gleichzeitigen Einstellung mehrerer Schrittschaltwerke, insbesondere in Fernsprechanlagen
DE296391C (ja)
US2224214A (en) 1937-12-28 1940-12-10 Polaroid Corp Light polarizing body
US2287598A (en) 1937-12-28 1942-06-23 Polaroid Corp Method of manufacturing lightpolarizing bodies
US2748659A (en) 1951-02-26 1956-06-05 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Light source, searchlight or the like for polarized light
US2887566A (en) 1952-11-14 1959-05-19 Marks Polarized Corp Glare-eliminating optical system
US3046839A (en) 1959-01-12 1962-07-31 Polaroid Corp Processes for preparing light polarizing materials
US3479168A (en) 1964-03-09 1969-11-18 Polaroid Corp Method of making metallic polarizer by drawing fusion
US3436143A (en) 1965-11-30 1969-04-01 Bell Telephone Labor Inc Grid type magic tee
US3566099A (en) 1968-09-16 1971-02-23 Polaroid Corp Light projection assembly
US3631288A (en) 1970-01-23 1971-12-28 Polaroid Corp Simplified polarized light projection assembly
CH558023A (de) 1972-08-29 1975-01-15 Battelle Memorial Institute Polarisationsvorrichtung.
US4049944A (en) 1973-02-28 1977-09-20 Hughes Aircraft Company Process for fabricating small geometry semiconductive devices including integrated components
US3969545A (en) 1973-03-01 1976-07-13 Texas Instruments Incorporated Light polarizing material method and apparatus
US3857627A (en) 1973-08-29 1974-12-31 Hoffmann La Roche Polarizer arrangement for liquid crystal displays
US3912369A (en) 1974-07-02 1975-10-14 Gen Electric Single polarizer reflective liquid crystal display
US4025688A (en) 1974-08-01 1977-05-24 Polaroid Corporation Polarizer lamination
CH582894A5 (ja) 1975-03-17 1976-12-15 Bbc Brown Boveri & Cie
US4009933A (en) 1975-05-07 1977-03-01 Rca Corporation Polarization-selective laser mirror
US4073571A (en) 1976-05-05 1978-02-14 Hughes Aircraft Company Circularly polarized light source
US4181756A (en) 1977-10-05 1980-01-01 Fergason James L Process for increasing display brightness of liquid crystal displays by bleaching polarizers using screen-printing techniques
DE2818103A1 (de) 1978-04-25 1979-11-08 Siemens Ag Verfahren zur herstellung von aus einer vielzahl von auf einer glastraegerplatte angeordneten parallel zueinander ausgerichteten elektrisch leitenden streifen bestehenden polarisatoren
JPS6033246B2 (ja) 1978-07-26 1985-08-01 三立電機株式会社 多色表示用偏光板の製造方法
DE2915847C2 (de) 1978-09-29 1986-01-16 Nitto Electric Industrial Co., Ltd., Ibaraki, Osaka Elektrooptisch aktivierbare Anzeige
US4221464A (en) 1978-10-17 1980-09-09 Hughes Aircraft Company Hybrid Brewster's angle wire grid infrared polarizer
US4289381A (en) 1979-07-02 1981-09-15 Hughes Aircraft Company High selectivity thin film polarizer
US4514479A (en) 1980-07-01 1985-04-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method of making near infrared polarizers
US4466704A (en) 1981-07-20 1984-08-21 Polaroid Corporation Patterned polarizer having differently dyed areas
JPS5842003A (ja) * 1981-09-07 1983-03-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 偏光板
US4512638A (en) 1982-08-31 1985-04-23 Westinghouse Electric Corp. Wire grid polarizer
US4515441A (en) 1982-10-13 1985-05-07 Westinghouse Electric Corp. Dielectric polarizer for high average and high peak power operation
DE3244885A1 (de) 1982-12-02 1984-06-07 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Farbselektiver zirkularpolarisator und seine verwendung
US4688897A (en) 1985-06-17 1987-08-25 Hughes Aircraft Company Liquid crystal device
JPS626225A (ja) 1985-07-02 1987-01-13 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置
JPS6231822A (ja) 1985-08-02 1987-02-10 Hitachi Ltd 液晶表示素子
JPS6275418A (ja) 1985-09-27 1987-04-07 Alps Electric Co Ltd 液晶素子
US4743092A (en) 1986-11-26 1988-05-10 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Polarizing grids for far-infrared and method for making same
US4759611A (en) 1986-12-19 1988-07-26 Polaroid Corporation, Patent Department Liquid crystal display having silylated light polarizers
DE3707984A1 (de) 1987-03-12 1988-09-22 Max Planck Gesellschaft Polarisierender spiegel fuer optische strahlung
FR2623649B1 (fr) 1987-11-23 1992-05-15 Asulab Sa Cellule d'affichage a cristal liquide
US4865670A (en) 1988-02-05 1989-09-12 Mortimer Marks Method of making a high quality polarizer
FR2629924B1 (fr) 1988-04-08 1992-09-04 Comp Generale Electricite Polariseur a couches dielectriques
JP2703930B2 (ja) 1988-06-29 1998-01-26 日本電気株式会社 複屈折回折格子型偏光子
JPH0212105A (ja) 1988-06-29 1990-01-17 Nec Corp 複屈折回折格子型偏光子
JPH0223304A (ja) 1988-07-12 1990-01-25 Toray Ind Inc 可視偏光フイルム
US4895769A (en) 1988-08-09 1990-01-23 Polaroid Corporation Method for preparing light polarizer
US4913529A (en) 1988-12-27 1990-04-03 North American Philips Corp. Illumination system for an LCD display system
US4946231A (en) 1989-05-19 1990-08-07 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Polarizer produced via photographic image of polarizing grid
US5486949A (en) 1989-06-20 1996-01-23 The Dow Chemical Company Birefringent interference polarizer
US5235443A (en) 1989-07-10 1993-08-10 Hoffmann-La Roche Inc. Polarizer device
DE59010516D1 (de) 1989-07-10 1996-10-31 Hoffmann La Roche Polarisator
EP0416157A1 (de) 1989-09-07 1991-03-13 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Polarisator
JPH03132603A (ja) 1989-10-18 1991-06-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 偏光子
JP2924055B2 (ja) 1989-12-08 1999-07-26 セイコーエプソン株式会社 反射型液晶表示素子
US5235449A (en) 1990-03-02 1993-08-10 Hitachi, Ltd. Polarizer with patterned diacetylene layer, method for producing the same, and liquid crystal display device including such polarizer
JPH03289692A (ja) 1990-04-06 1991-12-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 空間光変調素子及びこれを用いたホログラム画像情報記録装置
JP2681304B2 (ja) 1990-05-16 1997-11-26 日本ビクター株式会社 表示装置
US5157526A (en) 1990-07-06 1992-10-20 Hitachi, Ltd. Unabsorbing type polarizer, method for manufacturing the same, polarized light source using the same, and apparatus for liquid crystal display using the same
JP2902456B2 (ja) 1990-08-09 1999-06-07 株式会社豊田中央研究所 無機偏光薄膜
US5113285A (en) 1990-09-28 1992-05-12 Honeywell Inc. Full color three-dimensional flat panel display
US5122887A (en) 1991-03-05 1992-06-16 Sayett Group, Inc. Color display utilizing twisted nematic LCDs and selective polarizers
EP0518111B1 (en) 1991-05-29 1997-04-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Projection image display system
BR9206133A (pt) 1991-06-13 1994-11-29 Minnesota Mining & Mfg Polarizador retro-reflexivo e sistema ótico
US5245471A (en) 1991-06-14 1993-09-14 Tdk Corporation Polarizers, polarizer-equipped optical elements, and method of manufacturing the same
EP0522620B1 (en) 1991-06-28 1997-09-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Display device
US5122907A (en) 1991-07-03 1992-06-16 Polatomic, Inc. Light polarizer and method of manufacture
JP2796005B2 (ja) 1992-02-10 1998-09-10 三菱電機株式会社 投影露光装置及び偏光子
US5383053A (en) 1992-04-07 1995-01-17 Hughes Aircraft Company Virtual image display having a high efficiency grid beamsplitter
US5422756A (en) 1992-05-18 1995-06-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Backlighting system using a retroreflecting polarizer
JP3414399B2 (ja) 1992-06-30 2003-06-09 シチズン時計株式会社 液晶表示ユニット及び液晶表示ユニットを用いた液晶プロジェクタ
JPH06138413A (ja) 1992-10-29 1994-05-20 Canon Inc プレート型偏光分離装置及び該偏光分離装置を用いた偏光照明装置
JP3250853B2 (ja) 1992-11-09 2002-01-28 松下電器産業株式会社 液晶表示装置およびそれを用いた投写型表示装置
US5333072A (en) 1992-12-31 1994-07-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Reflective liquid crystal display overhead projection system using a reflective linear polarizer and a fresnel lens
US5325218A (en) 1992-12-31 1994-06-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Cholesteric polarizer for liquid crystal display and overhead projector
TW289095B (ja) 1993-01-11 1996-10-21
US5594561A (en) 1993-03-31 1997-01-14 Palomar Technologies Corporation Flat panel display with elliptical diffuser and fiber optic plate
JP3168765B2 (ja) 1993-04-01 2001-05-21 松下電器産業株式会社 偏光装置および該偏光装置を用いた投写型表示装置
US5486935A (en) 1993-06-29 1996-01-23 Kaiser Aerospace And Electronics Corporation High efficiency chiral nematic liquid crystal rear polarizer for liquid crystal displays having a notch polarization bandwidth of 100 nm to 250 nm
JPH0784252A (ja) 1993-09-16 1995-03-31 Sharp Corp 液晶表示装置
CA2148579C (en) 1993-10-01 1999-11-02 Raytheon Company Active matrix liquid crystal subtractive color display with integral light confinement
US5517356A (en) 1993-12-15 1996-05-14 Corning Incorporated Glass polarizer for visible light
BE1007993A3 (nl) 1993-12-17 1995-12-05 Philips Electronics Nv Belichtingsstelsel voor een kleurenbeeldprojectie-inrichting en circulaire polarisator geschikt voor toepassing in een dergelijk belichtingsstelsel en kleurenbeeldprojectie-inrichting bevattende een dergelijk belichtingsstelsel met circulaire polarisator.
JP3278521B2 (ja) 1994-01-28 2002-04-30 松下電器産業株式会社 背面投写型画像表示装置
US5513023A (en) 1994-10-03 1996-04-30 Hughes Aircraft Company Polarizing beamsplitter for reflective light valve displays having opposing readout beams onto two opposing surfaces of the polarizer
JPH1073722A (ja) * 1996-08-30 1998-03-17 Sony Corp 偏光光学素子及びその製造方法
US5833360A (en) 1996-10-17 1998-11-10 Compaq Computer Corporation High efficiency lamp apparatus for producing a beam of polarized light
US5991075A (en) * 1996-11-25 1999-11-23 Ricoh Company, Ltd. Light polarizer and method of producing the light polarizer

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0384502A (ja) * 1989-08-29 1991-04-10 Shimadzu Corp グリッド偏光子
JPH08184711A (ja) * 1994-12-29 1996-07-16 Sony Corp 偏光光学素子
WO1999059005A1 (en) * 1998-05-14 1999-11-18 Moxtek Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light
JP2002514778A (ja) * 1998-05-14 2002-05-21 モックステク 概して偏光した光ビームをつくり出すための偏光子装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015531077A (ja) * 2012-06-20 2015-10-29 バッテル メモリアル インスティチュート 2次元のメタマテリアル窓
US10393885B2 (en) 2012-06-20 2019-08-27 Battelle Memorial Institute Gamma radiation stand-off detection, tamper detection, and authentication via resonant meta-material structures
US10725208B2 (en) 2012-06-20 2020-07-28 Battelle Memorial Institute Two dimensional meta-material windows
JP2016536651A (ja) * 2013-10-24 2016-11-24 モックステック・インコーポレーテッド サイド領域を有するワイヤグリッド偏光子
WO2016126484A1 (en) * 2015-02-06 2016-08-11 Moxtek, Inc High contrast inverse polarizer
US10234613B2 (en) 2015-02-06 2019-03-19 Moxtek, Inc. High contrast inverse polarizer
US10459138B2 (en) 2015-02-06 2019-10-29 Moxtek, Inc. High contrast inverse polarizer

Also Published As

Publication number Publication date
EP1250614A4 (en) 2006-04-26
EP1250614A1 (en) 2002-10-23
JP4688394B2 (ja) 2011-05-25
AU2001226391A1 (en) 2001-07-24
CN1395692A (zh) 2003-02-05
JP4809929B2 (ja) 2011-11-09
KR100744863B1 (ko) 2007-08-01
WO2001051964A1 (en) 2001-07-19
US6288840B1 (en) 2001-09-11
KR20020066406A (ko) 2002-08-16
CN1222790C (zh) 2005-10-12
JP2003519818A (ja) 2003-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4809929B2 (ja) 可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子
KR101234986B1 (ko) 다중 막 와이어 그리드 편광 장치
KR100714531B1 (ko) 가시 스펙트럼에 대한 광대역 와이어 그리드 편광자
KR102484474B1 (ko) 브래그 액정 편광 격자
EP1743197B1 (en) High efficiency optical diffraction device
US7050233B2 (en) Precision phase retardation devices and method of making same
EP1510838B1 (en) Polarization beam splitter, optical system and image displaying apparatus using the same
JP4294264B2 (ja) 集積型光学素子
US7012747B2 (en) Polarizing beam splitter and polarizer using the same
JP3584257B2 (ja) 偏光ビームスプリッタ
JPH1195027A (ja) 多層構造偏光素子
JP3023572B2 (ja) 偏光素子
JPH06130224A (ja) 偏光ビームスプリッタ
JP3879246B2 (ja) 偏光光学素子
WO2024059644A2 (en) Waveguide-based displays incorporating evacuated periodic structures
JP2002182026A (ja) 光学素子およびそれを用いた分光装置
JP2003279746A (ja) 偏光分離素子とその製造法
JP2003029032A (ja) 偏光分離変換素子

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110307

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110606

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110714

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110808

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110819

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140826

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4809929

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees