JP2009196882A - 反応炉洗浄装置 - Google Patents
反応炉洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009196882A JP2009196882A JP2009011808A JP2009011808A JP2009196882A JP 2009196882 A JP2009196882 A JP 2009196882A JP 2009011808 A JP2009011808 A JP 2009011808A JP 2009011808 A JP2009011808 A JP 2009011808A JP 2009196882 A JP2009196882 A JP 2009196882A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reactor
- shaft
- wall
- cleaning
- tray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 75
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 10
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 8
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/027—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
- C01B33/035—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds in the presence of heated filaments of silicon, carbon or a refractory metal, e.g. tantalum or tungsten, or in the presence of heated silicon rods on which the formed silicon is deposited, a silicon rod being obtained, e.g. Siemens process
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B9/08—Cleaning containers, e.g. tanks
- B08B9/20—Cleaning containers, e.g. tanks by using apparatus into or on to which containers, e.g. bottles, jars, cans are brought
- B08B9/28—Cleaning containers, e.g. tanks by using apparatus into or on to which containers, e.g. bottles, jars, cans are brought the apparatus cleaning by splash, spray, or jet application, with or without soaking
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B9/08—Cleaning containers, e.g. tanks
- B08B9/20—Cleaning containers, e.g. tanks by using apparatus into or on to which containers, e.g. bottles, jars, cans are brought
- B08B9/28—Cleaning containers, e.g. tanks by using apparatus into or on to which containers, e.g. bottles, jars, cans are brought the apparatus cleaning by splash, spray, or jet application, with or without soaking
- B08B9/34—Arrangements of conduits or nozzles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4407—Cleaning of reactor or reactor parts by using wet or mechanical methods
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D25/00—Devices or methods for removing incrustations, e.g. slag, metal deposits, dust; Devices or methods for preventing the adherence of slag
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
【解決手段】多結晶シリコンを生成する反応炉70の二重構造の炉壁の内壁面72を洗浄する反応炉洗浄装置1において、水平状態に設置された略円盤形状の受け皿10に排液口12を形成するとともに、受け皿10の外周部に反応炉70の開口縁部が設置されるフランジ部13を形成し、受け皿10の中央部に形成した貫通孔11に、回転自在かつ鉛直方向に移動自在にシャフト20を設け、シャフト20の上端部に、三次元方向に洗浄水を高圧噴射するノズル装置50を設け、シャフト20の受け皿10よりも下方部分に、該シャフト20を回転させるとともに鉛直方向に移動させる駆動機構30を設け、反応炉70の炉壁70に、その外壁70Aと内壁70Bの間にスチームを供給するためのスチーム配管62を設ける。
【選択図】図1
Description
また、特許文献2には、反応炉の内面に二酸化炭素ペレットを衝突させて、シリコン付着物を除去する方法が記載されている。
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、多結晶シリコン反応炉の内壁面の付着物及び洗浄廃液を容易かつ確実に除去することができる反応炉洗浄装置を提供することを目的とする。
即ち、本発明に係る反応炉洗浄装置は、多結晶シリコンを生成する反応炉の二重構造をなす炉壁の内壁面を洗浄する反応炉洗浄装置であって、水平状態に設置された略円盤形状の受け皿に排液口が形成されるとともに、前記受け皿の外周部に、前記反応炉の炉壁の下端開口縁部が設置されるフランジ部が形成され、前記受け皿の中央部に形成された貫通孔に、回転自在かつ鉛直方向に移動自在にシャフトが設けられ、前記シャフトの上端部に、三次元方向に洗浄水を高圧噴射するノズル装置が設けられるとともに、前記シャフトの前記受け皿よりも下方部分に、該シャフトを回転させるとともに鉛直方向に移動させる駆動機構が設けられ、前記反応炉の炉壁に、その外壁と内壁の間にスチームを供給するためのスチーム配管が設けられたことを特徴としている。
また、洗浄水を使用することにより、付着物の加水分解を促進して化学的に不活性なシリカとして除去することができる。
なお、洗浄中には塩化水素等の腐食性ガスが発生するが、反応炉の内部の空間は排液口を除きほぼ密閉状態となっており、該腐食性ガスは洗浄水に吸収されて排液口から系外に排出される。したがって、塩化水素が外部雰囲気を腐食することがなくなり、高品質な多結晶シリコンを製造可能な作業環境を維持できる。
前記駆動機構には、その動力源によって回転するプーリが設けられ、該プーリの中央部に前記シャフトが挿入され、前記プーリの内周面とシャフトの外周面との間に、これらを長さ方向に摺動可能に嵌合するスプライン溝とスプライン条とが配設されていることを特徴としている。
また、洗浄水を使用することにより、付着物の加水分解を促進して化学的に不活性なシリカとして除去することができる。洗浄後に炉壁70内面等に若干の残留物が残っていたとしても無害なシリカであり、安全である。
例えば、図6に示す構造としてもよく、この図6では、シャフト80を円柱状に形成し、その外周面の一部にシャフト80の長さ方向に1本のスプライン溝81が形成され、プーリ82には、シャフト80全体を挿入する円形孔83の内周部に、スプライン溝81に嵌合するスプライン条84が形成されている。これらスプライン条及びスプライン溝は、シャフトとプーリとの間で嵌合状態となるように配設されればよい。
また、このシャフト20の送りねじ25及びスプライン条は互いに独立して形成されたものであってもよい。即ち、本実施形態ではスプライン条としてシャフト20が断面十字状に形成され、その十字の端部に送りねじ25が形成されているが、シャフト20において、スプライン条が形成されている箇所と、送りねじ25が形成された箇所が長さ方向に離れた位置に分かれてあってもよい。
10 受け皿
10a 上面
11 貫通孔
12 排液口
13 フランジ部
20 シャフト
21 洗浄水供給路
25 送りねじ
30 駆動機構
31 動力源
32 プーリ
32a 十字孔(スプライン溝)
33 伝動ベルト
40 固定ナット
50 ノズル装置
62 スチーム配管
65 排液管
70 反応炉の炉壁
70A 外壁
70B 内壁
71 ゴムパッキン
80 シャフト
81 スプライン溝
82 プーリ
84 スプライン条
Claims (4)
- 多結晶シリコンを生成する反応炉の二重構造をなす炉壁の内壁面を洗浄する反応炉洗浄装置であって、
水平状態に設置された略円盤形状の受け皿に排液口が形成されるとともに、前記受け皿の外周部に、前記反応炉の炉壁の下端開口縁部が設置されるフランジ部が形成され、
前記受け皿の中央部に形成した貫通孔に、回転自在かつ鉛直方向に移動自在にシャフトが設けられ、
前記シャフトの上端部に、三次元方向に洗浄水を高圧噴射するノズル装置が設けられるとともに、前記シャフトの前記受け皿よりも下方部分に、該シャフトを回転させるとともに鉛直方向に移動させる駆動機構が設けられ、
前記反応炉の炉壁に、その外壁と内壁の間にスチームを供給するためのスチーム配管が設けられたことを特徴とする反応炉洗浄装置。 - 前記シャフトの外周部に送りねじが形成され、
前記受け皿に、前記送りねじと螺合し、前記シャフトの回転に伴い該シャフトを上方又は下方に案内する固定ナットが設けられ、
前記駆動機構には、その動力源によって回転するプーリが設けられ、該プーリの中央部に前記シャフトが挿入され、前記プーリの内周面とシャフトの外周面との間に、これらを長さ方向に摺動可能に嵌合するスプライン溝とスプライン条とが配設されていることを特徴とする請求項1に記載の反応炉洗浄装置。 - 前記受け皿の上面が前記排液口に向かって下り勾配を持つように傾斜していることを特徴とする請求項1又は2に記載の反応炉洗浄装置。
- 多結晶シリコンを生成する反応炉の二重構造をなす炉壁の内壁面を洗浄する反応炉洗浄方法であって、
前記反応炉の炉壁の下端開口縁部を略円盤形状の受け皿上に設置し、該受け皿の中央部に配置したシャフトを回転させるとともに鉛直方向に移動しながら、該シャフトの上端部のノズルから三次元方向に洗浄水を高圧噴射して前記反応炉の炉壁の内周面を洗浄し、その洗浄廃液を受け皿の排液口から排出した後、前記反応炉の炉壁の外壁と内壁の間にスチームを供給して、炉壁の内周面を乾燥することを特徴とする反応炉洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009011808A JP5218091B2 (ja) | 2008-01-25 | 2009-01-22 | 反応炉洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008014967 | 2008-01-25 | ||
JP2008014967 | 2008-01-25 | ||
JP2009011808A JP5218091B2 (ja) | 2008-01-25 | 2009-01-22 | 反応炉洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009196882A true JP2009196882A (ja) | 2009-09-03 |
JP5218091B2 JP5218091B2 (ja) | 2013-06-26 |
Family
ID=40671149
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009011808A Active JP5218091B2 (ja) | 2008-01-25 | 2009-01-22 | 反応炉洗浄装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7975709B2 (ja) |
EP (1) | EP2082814B1 (ja) |
JP (1) | JP5218091B2 (ja) |
KR (1) | KR101477817B1 (ja) |
CN (1) | CN101497443B (ja) |
DE (1) | DE602009001114D1 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011158404A1 (ja) | 2010-06-16 | 2011-12-22 | 信越化学工業株式会社 | ベルジャー清浄化方法、多結晶シリコンの製造方法、およびベルジャー用乾燥装置 |
WO2012008112A1 (ja) * | 2010-07-16 | 2012-01-19 | 信越化学工業株式会社 | 反応炉洗浄装置および反応炉洗浄方法 |
WO2012063432A1 (ja) * | 2010-11-11 | 2012-05-18 | 信越化学工業株式会社 | ベルジャー清浄化方法 |
JP2013049611A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Mitsubishi Materials Corp | 多結晶シリコン反応炉 |
JP2014073913A (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-24 | Osaka Titanium Technologies Co Ltd | 還元炉洗浄方法 |
JP2014518153A (ja) * | 2011-06-29 | 2014-07-28 | エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・ソシエタ・ペル・アチオニ | ポリシリコンリアクタの洗浄ツール |
CN106423976A (zh) * | 2016-12-08 | 2017-02-22 | 任长英 | 一种自动清洗机 |
JP2017039617A (ja) * | 2015-08-18 | 2017-02-23 | 三菱マテリアル株式会社 | 反応炉洗浄装置及び反応炉洗浄方法 |
JP2017528407A (ja) * | 2014-08-18 | 2017-09-28 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG | 多結晶シリコンの製造方法 |
JP6354926B1 (ja) * | 2017-02-08 | 2018-07-11 | 東レ株式会社 | 耐炎化炉の洗浄方法および耐炎化繊維、炭素繊維、黒鉛化繊維の製造方法 |
WO2018147107A1 (ja) * | 2017-02-08 | 2018-08-16 | 東レ株式会社 | 耐炎化炉の洗浄方法および耐炎化繊維、炭素繊維、黒鉛化繊維の製造方法 |
WO2018225497A1 (ja) | 2017-06-08 | 2018-12-13 | 株式会社トクヤマ | 洗浄装置、および洗浄方法 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5308288B2 (ja) * | 2009-09-14 | 2013-10-09 | 信越化学工業株式会社 | 多結晶シリコン製造用反応炉、多結晶シリコン製造システム、および多結晶シリコンの製造方法 |
CN102181844B (zh) | 2011-04-07 | 2015-04-22 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 清洁装置及清洁方法、薄膜生长反应装置及生长方法 |
CN102357493B (zh) * | 2011-07-28 | 2013-04-24 | 河北东明中硅科技有限公司 | 一种多晶硅还原炉炉筒清洗方法 |
CN103001538B (zh) * | 2011-09-09 | 2015-07-22 | 湘潭电机力源模具有限公司 | 碟式聚光器反射面的清洗装置 |
CN103042009B (zh) * | 2012-12-31 | 2015-08-05 | 江西赛维Ldk光伏硅科技有限公司 | 一种多晶硅料生产还原炉用电极保护罩的清洗方法 |
CN103302070B (zh) * | 2013-05-30 | 2016-08-10 | 昆明冶研新材料股份有限公司 | 清洗设备 |
CN103512380A (zh) * | 2013-07-10 | 2014-01-15 | 曲阜中联水泥有限公司 | 一种水泥生产设备结皮水汽清除方法及其所使用的设备 |
CN104818769B (zh) * | 2015-04-22 | 2016-08-24 | 中国核动力研究设计院 | 燃料水池清洗装置 |
CN105173445B (zh) * | 2015-09-14 | 2017-10-24 | 中国矿业大学 | 一种中心回转式全液压清仓机及其工作方法 |
CN105107806B (zh) * | 2015-09-14 | 2017-06-20 | 中国矿业大学 | 中心驱动水射流清仓机构及其清理方法 |
CN107433275B (zh) * | 2016-05-25 | 2021-02-12 | 上海新昇半导体科技有限公司 | 石英腔体的清洗装置及清洗方法 |
CN106839767B (zh) * | 2017-02-14 | 2019-04-02 | 新昌县七星街道菊燕百货批发部 | 一种便于冷却清洗的冶炼金属炉 |
CN106862134A (zh) * | 2017-02-20 | 2017-06-20 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种大口径反射镜清洗设备 |
CN107321724A (zh) * | 2017-05-26 | 2017-11-07 | 株洲冶炼集团股份有限公司 | 一种排气筒的清理方式 |
CN107282566A (zh) * | 2017-08-11 | 2017-10-24 | 中国化学工程第六建设有限公司 | 高效清洁的旋转喷淋清洗装置 |
CN111330922B (zh) * | 2020-03-06 | 2022-02-22 | 中广核工程有限公司 | 一种贮罐清洁去污系统及方法 |
CN111760863B (zh) * | 2020-07-29 | 2023-07-04 | 莹特丽科技(苏州工业园区)有限公司 | 一种用于瓶类外部清洁的等离子清洁装置 |
US11958022B2 (en) * | 2020-10-07 | 2024-04-16 | Mitsubishi Polycrystalline Silicon America Corporation (MIPSA) | Controlled hydrolysis of hazardous silicon polymer residue |
CN114308946B (zh) * | 2022-01-06 | 2023-03-28 | 长鑫存储技术有限公司 | 反应炉的清洗装置及反应炉 |
CN115365208B (zh) * | 2022-08-22 | 2023-07-14 | 中国科学院上海高等研究院 | 一种高压超纯水喷淋装置 |
CN117684253B (zh) * | 2023-12-07 | 2024-07-26 | 连城凯克斯科技有限公司 | 一种晶硅制造单晶炉投料设备 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56114815A (en) * | 1980-02-08 | 1981-09-09 | Koujiyundo Silicon Kk | Preliminary washing method of reaction furnace for preparing polycrystalline silicon |
JPS63296882A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-02 | 岸本産業株式会社 | 有底管状体の内周洗滌装置 |
JPH10277510A (ja) * | 1997-04-04 | 1998-10-20 | Kit:Kk | 昇降型洗浄装置 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1799525A (en) * | 1928-08-15 | 1931-04-07 | Armenl Company | Jar washer |
US1954222A (en) * | 1931-02-13 | 1934-04-10 | Olson Bennett | Can sterilizer and cleaner |
US3747614A (en) * | 1971-10-26 | 1973-07-24 | Inmont Corp | Washing device |
DE2930351C2 (de) * | 1979-07-26 | 1982-07-15 | Gewerkschaft Schalker Eisenhütte, 4650 Gelsenkirchen | Verfahren zur Innenreinigung von Steigrohren der Verkokungskammern eines Verkokungsofens und Reinigungseinrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
JPH044863Y2 (ja) * | 1986-05-10 | 1992-02-12 | ||
US4859249A (en) * | 1988-03-14 | 1989-08-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for cleaning enclosed vessels |
JPH0663096B2 (ja) * | 1988-11-25 | 1994-08-17 | コマツ電子金属株式会社 | 気相成長用反応炉の洗浄方法 |
US5071848A (en) | 1989-10-23 | 1991-12-10 | Abbott Laboratories | Tricyclic quinoline antineoplastic agents |
US5108512A (en) | 1991-09-16 | 1992-04-28 | Hemlock Semiconductor Corporation | Cleaning of CVD reactor used in the production of polycrystalline silicon by impacting with carbon dioxide pellets |
US5267533A (en) * | 1992-07-20 | 1993-12-07 | The Babcock & Wilcox Company | Self-adjusting packing gland for sootblower |
DE4445152A1 (de) * | 1994-12-17 | 1996-06-20 | Kodak Ag | Vorrichtung zur Entleerung und Innenreinigung fotografischer Chemikalienbehälter in eine Mischkammer |
JP3381925B2 (ja) * | 1995-06-08 | 2003-03-04 | 住友化学工業株式会社 | 容器内部の洗浄装置 |
JP3494327B2 (ja) * | 1995-10-03 | 2004-02-09 | 株式会社共立合金製作所 | スケール除去用ノズル |
JPH1045488A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-02-17 | Super Silicon Kenkyusho:Kk | 引上げチャンバ内壁用洗浄装置 |
AUPO797697A0 (en) * | 1997-07-16 | 1997-08-07 | Cooper, Norman William | Bin washer |
JPH11158635A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-15 | Toshiba Corp | 薄膜製造装置及びそのクリーニング方法 |
US6926017B2 (en) * | 1998-01-09 | 2005-08-09 | Entegris, Inc. | Wafer container washing apparatus |
KR20000003449U (ko) * | 1998-07-24 | 2000-02-15 | 이구택 | 고압수에 의한 소결용 믹서 세정장치 |
US6148832A (en) * | 1998-09-02 | 2000-11-21 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for in-situ cleaning of polysilicon-coated quartz furnaces |
US6738683B1 (en) * | 2000-09-05 | 2004-05-18 | Cxe Equipment Services, Llc | Apparatus and method for cleaning a bell jar in a barrel epitaxial reactor |
TW539237U (en) * | 2002-04-29 | 2003-06-21 | Nanya Technology Corp | Apparatus for automatically cleaning storing tank of polishing agent |
US20040000327A1 (en) * | 2002-06-26 | 2004-01-01 | Fabio Somboli | Apparatus and method for washing quartz parts, particularly for process equipment used in semiconductor industries |
KR100813131B1 (ko) * | 2006-06-15 | 2008-03-17 | 한국화학연구원 | 유동층 반응기를 이용한 다결정 실리콘의 지속 가능한제조방법 |
JP4739131B2 (ja) | 2006-06-30 | 2011-08-03 | 株式会社リコー | 電子写真用感光体の特性評価装置およびこれを使用した特性評価方法 |
TWI479559B (zh) * | 2007-06-28 | 2015-04-01 | Quantum Global Tech Llc | 以選擇性噴灑蝕刻來清潔腔室部件的方法和設備 |
JP3167191U (ja) | 2011-01-28 | 2011-04-07 | エンドー鞄株式会社 | 鞄用ベルト |
-
2009
- 2009-01-21 EP EP09151031A patent/EP2082814B1/en active Active
- 2009-01-21 KR KR1020090004988A patent/KR101477817B1/ko active IP Right Grant
- 2009-01-21 DE DE602009001114T patent/DE602009001114D1/de active Active
- 2009-01-22 JP JP2009011808A patent/JP5218091B2/ja active Active
- 2009-01-22 US US12/320,272 patent/US7975709B2/en active Active
- 2009-01-22 CN CN2009100027944A patent/CN101497443B/zh active Active
-
2011
- 2011-05-31 US US13/067,400 patent/US9216444B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56114815A (en) * | 1980-02-08 | 1981-09-09 | Koujiyundo Silicon Kk | Preliminary washing method of reaction furnace for preparing polycrystalline silicon |
JPS63296882A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-02 | 岸本産業株式会社 | 有底管状体の内周洗滌装置 |
JPH10277510A (ja) * | 1997-04-04 | 1998-10-20 | Kit:Kk | 昇降型洗浄装置 |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9126242B2 (en) | 2010-06-16 | 2015-09-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for cleaning bell jar, method for producing polycrystalline silicon, and apparatus for drying bell jar |
WO2011158404A1 (ja) | 2010-06-16 | 2011-12-22 | 信越化学工業株式会社 | ベルジャー清浄化方法、多結晶シリコンの製造方法、およびベルジャー用乾燥装置 |
WO2012008112A1 (ja) * | 2010-07-16 | 2012-01-19 | 信越化学工業株式会社 | 反応炉洗浄装置および反応炉洗浄方法 |
JP2012020917A (ja) * | 2010-07-16 | 2012-02-02 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 反応炉洗浄装置および反応炉洗浄方法 |
WO2012063432A1 (ja) * | 2010-11-11 | 2012-05-18 | 信越化学工業株式会社 | ベルジャー清浄化方法 |
JP2014518153A (ja) * | 2011-06-29 | 2014-07-28 | エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・ソシエタ・ペル・アチオニ | ポリシリコンリアクタの洗浄ツール |
JP2013049611A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Mitsubishi Materials Corp | 多結晶シリコン反応炉 |
JP2014073913A (ja) * | 2012-10-02 | 2014-04-24 | Osaka Titanium Technologies Co Ltd | 還元炉洗浄方法 |
JP2017528407A (ja) * | 2014-08-18 | 2017-09-28 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG | 多結晶シリコンの製造方法 |
JP2017039617A (ja) * | 2015-08-18 | 2017-02-23 | 三菱マテリアル株式会社 | 反応炉洗浄装置及び反応炉洗浄方法 |
CN106423976A (zh) * | 2016-12-08 | 2017-02-22 | 任长英 | 一种自动清洗机 |
JP6354926B1 (ja) * | 2017-02-08 | 2018-07-11 | 東レ株式会社 | 耐炎化炉の洗浄方法および耐炎化繊維、炭素繊維、黒鉛化繊維の製造方法 |
WO2018147107A1 (ja) * | 2017-02-08 | 2018-08-16 | 東レ株式会社 | 耐炎化炉の洗浄方法および耐炎化繊維、炭素繊維、黒鉛化繊維の製造方法 |
CN110168154A (zh) * | 2017-02-08 | 2019-08-23 | 东丽株式会社 | 耐火化炉的清洗方法和耐火化纤维、碳纤维、石墨化纤维的制造方法 |
US10612164B2 (en) | 2017-02-08 | 2020-04-07 | Toray Industries, Inc. | Method of cleaning oxidation oven and method of producing oxidized fiber, carbon fiber, and graphitized fiber |
CN110168154B (zh) * | 2017-02-08 | 2020-09-15 | 东丽株式会社 | 耐火化炉的清洗方法和耐火化纤维、碳纤维、石墨化纤维的制造方法 |
WO2018225497A1 (ja) | 2017-06-08 | 2018-12-13 | 株式会社トクヤマ | 洗浄装置、および洗浄方法 |
KR20200016271A (ko) | 2017-06-08 | 2020-02-14 | 가부시끼가이샤 도꾸야마 | 세정 장치, 및 세정 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2082814A1 (en) | 2009-07-29 |
CN101497443A (zh) | 2009-08-05 |
JP5218091B2 (ja) | 2013-06-26 |
KR101477817B1 (ko) | 2014-12-30 |
CN101497443B (zh) | 2012-11-21 |
EP2082814B1 (en) | 2011-04-27 |
US9216444B2 (en) | 2015-12-22 |
US20090188532A1 (en) | 2009-07-30 |
DE602009001114D1 (de) | 2011-06-09 |
US20110232694A1 (en) | 2011-09-29 |
US7975709B2 (en) | 2011-07-12 |
KR20090082127A (ko) | 2009-07-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5218091B2 (ja) | 反応炉洗浄装置 | |
CN101361166B (zh) | 用于对物品尤其对薄的盘片进行清洗的设备和方法 | |
KR102514939B1 (ko) | 세정 장치 | |
JP5726450B2 (ja) | 反応炉洗浄装置および反応炉洗浄方法 | |
JP6391467B2 (ja) | ポリシリコンリアクタの洗浄ツール | |
TWI600479B (zh) | 超音波及百萬赫超音波清洗裝置 | |
CN1796008A (zh) | 基板处理装置及其处理方法 | |
KR20110039040A (ko) | 2 유체 노즐 | |
WO2012063432A1 (ja) | ベルジャー清浄化方法 | |
KR20090037075A (ko) | 기판 처리 장치 및 그 세정 방법 | |
CN202447334U (zh) | 一种多晶硅反应炉清洗装置 | |
CN1516880A (zh) | 消除位于一空心体内的一表面上的放射性污染的方法和装置 | |
CN106141905A (zh) | 一种晶圆研磨头清洗装置及清洗方法 | |
WO2024041321A1 (en) | Devices for automatic cleaning of a monocrystalline silicon bar | |
JP6424776B2 (ja) | 反応炉洗浄装置及び反応炉洗浄方法 | |
CN103977920B (zh) | 清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置 | |
KR101035051B1 (ko) | 버블을 이용한 기판 세정장치 및 방법 | |
CN213468914U (zh) | 空气吹扫装置 | |
JP2015202439A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
JP2005087804A (ja) | 容器及び管状体の洗浄方法 | |
JP2006122811A (ja) | 洗浄装置 | |
JP2006114738A (ja) | レジスト剥離方法およびレジスト剥離装置 | |
JPS63141320A (ja) | キヤリア洗浄方法およびその装置 | |
CN103121025A (zh) | 一种多晶硅反应炉清洗装置 | |
JP2006114738A5 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110927 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130104 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130218 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160315 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5218091 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |