JPS63141320A - キヤリア洗浄方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体製造工程において、ウェハ処理用のキャ
リアを洗浄するキャリア洗浄方法およびその装置に関す
るものである。

〔従来の技術〕

従来の半導体製造工程においてウェハを処理するキャリ
アを洗浄する場合、超純水を用いて洗浄するのが一般的
である。第２図は従来のキャリア洗浄装置の概略を示す
断面図で、キャリア洗浄装置１は上部が開口され底部に
排水口を有する洗浄槽２を備えている。この洗浄槽２の
下部にはウェハを処理するキャリア３を保持する保持装
置４が設けられ、上部の両回側には前記キャリア３に向
かって超純水を噴射するシャワーノズル５が設けられて
いる。また、洗浄槽２の上部の中央部にはブラシ６が回
転自在にかつキャリア３に対して進退自在に配設されて
いる。

そして、先ずキャリア３を保持装置４で保持し、次いで
、シャワーノズル５から超純水を噴射すると同時に、ブ
ラシ６を回転させながら、キャリア３の内面に沿って走
査させることによって、キャリア３を洗浄している。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、このような装置では、キャリアの洗浄が必、ず
しも確実にはなされない不具合があった。

これは、超微小塵埃（１０μｍ以下）の情密洗浄が不可
能であるばかりでなく、ブラシ６の摩耗によってキャリ
ア３に汚染が生じたり、ブラシ６との摩擦によって静電
気が発生するために洗浄効果が低下するからである。ま
た、シャワーノズル５から噴出された高圧ジェットの水
によりキャリア３を形成しているＰＴＦＥ’ＰＰＰの表
面が削られてごみが発生したり材質がいたむ問題があっ
た。

本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、その目
的は、キャリアの洗浄をより確実にすることができ、し
かもキャリアを損傷するおそれがないキャリア洗浄方法
およびその装置を提供するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明に係るキャリア洗浄方法は、水から製造した氷粒
子をキャリアに吹きつけるものである。

また、キャリア洗浄装置は水から氷粒子を製造する氷粒
子製造装置と、この装置で製造された氷粒子をキャリア
に吹きつける噴出装置とを備えたものである。

〔作用〕

本発明においては、氷粒子がキャリアに衝突し、キャリ
ア表面の塵埃を付着させて反射すると考えられ、超微小
塵埃も洗浄される。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を図により詳細に説明する。第
１図は本発明に係るキャリア洗浄方法を実施するための
キャリア洗浄装置の概略を示す断面図で、同図において
符号１１で示すものはキャリア洗浄装置を示す。このキ
ャリア洗浄装置１１は図示しないが従来のものと同様に
キャリア３を保持する保持装置および、これらを収容す
る洗浄槽を備えている。

１２は水としての超純水を製造する超純水製造装置であ
る。１３は炭酸ガス管路１４を介して超純水製造装置１
２に接続された炭酸ガスボンベで、超純水製造袋２１２
で製造された超純水に炭酸ガスを混入するものである。

１５は炭酸ガスが混入された超純水から粒径が１μｍ〜
５ｍｍに制御された微氷粒子を製造する微氷粒子製造装
置である。この微氷粒子製造装置１５は液体窒素管路工
６を介して液化窒素タンク１７に接続された微氷粒子製
造容器１８を備えている。この微氷粒子製造容器１８は
高さが１２００ｍｍで断面が４００Ｘ４００ｍｍの四角
形胴部を有する筒形状に形成され、下部に液化窒素１９
が５００ｍｍの深さに溜められており、この液化窒素１
９中に散気管２１が配設されている。また、微米粒子製
造容器１８の頂部には混合器２２およびノズル２３が配
設されている。混合器２２は水管路２４で超純水製造装
置１２に接続され、窒素ガス管路２５で熱交換２Ｓ２６
を介して液化窒素タンク１７に接続されており、炭酸ガ
スを混入した低比抵抗の超純水（２，０ｋｇ／ｃｒＡ　
−Ｇ、　　０．１１　／　ｍ１ｎ）と窒素ガス（２，０
ｋｇ／ｃｎｌ−Ｇ、　　８　Ｎ　ｌ　７ｍ１ｎ）とを混
合する。ノズル２３は混合器２２で混合された超純水と
窒素ガスとを微氷粒子製造容器１８内に霧状にして噴射
する。

前記散気管２１は窒素ガス管路２７で熱交換器２６の下
流側に接続されており、窒素ガスが３０ＱＪ／ｍ１ｎ）
の割合で供給され、液化窒素１９の表面に波高が数ｍｍ
程度の波を生じさせる。

３１はノズル２３で霧状になった超純水と、散気管２１
で生じた波とによって、液化窒素１９中に２０μｍレベ
ルで製造された微氷粒子３２を微氷粒子製造容器１８外
へ搬出するスクリューフィーダで、下端部を液化窒素１
９中に沈ませた状態で微米粒子製造容器１８に取付けら
れている。このスクリューフィーダ３１の上端部は微氷
粒子３２を溜めるホッパー３３内に臨んでいる。このホ
ッパー３３の下方には木管路３４を介して噴出装置とし
てのエジェクタ３５が接続されている。このエジェクタ
３５は窒素ガス管路３６で熱交換器２６の下流側に接続
されており、窒素ガス管路３６から供給される窒素ガス
（５，０ｋｇ／ｃＪ　−Ｇ。

ＩＮｊ２／ｍ１ｎ）で微氷粒子３２を０．３１！　／ｍ
　ｉｎの割合で吸引し、微氷粒子３２を５〜１０ｋｇ／
Ｃｌ１１の圧力でキャリア３の表面に吹きつけるもので
ある。

次にこのキャリア洗浄装置１１を使用したキャリア洗浄
方法について説明すると、超純水製造装置１２および炭
酸ガスボンベ１３で炭酸ガスが混入された低比抵抗の超
純水を製造し、微氷粒子製造装置１５でこの超純水から
微米粒子３２を製造した後、微氷粒子３２をエジェクタ
３５でキャリア３に吹きつけるのである。すなわち、散
気管２１で表面が波立ってい不液化窒素１９の上方に、
超純水をノズル２３で霧化させた状態で供給することに
より、液化窒素１９中に粒径が２０μｍレベルの微氷粒
子３２を製造し、この微氷粒子３２をスクリューフィー
ダ３１で回収し、ホッパー３３に溜めてエジェクタ３５
から噴射するのである。

したがって、微氷粒子３２をキャリア３に衝突させるこ
とができ、キャリア表面に付着した塵埃、特に１０μｍ
以下の超微小塵埃も洗浄することができる。これは、微
米粒子３２がキャリア表面の塵埃をその表面に付着させ
た状態で反射するためと考えられる。その結果、微氷粒
子３２で洗浄効果が向上し、従来のようにブラシによっ
てキャリア３が汚染されたり、静電気が発生することが
ないので、キャリア３の洗浄をより確実にすることがで
きる。

本実施例においては、超純水に炭酸ガスを混入させるこ
とによって、微米粒子３２の比抵抗を低（することがで
きるから、静電気の発生をより低く抑え、洗浄をさらに
確実にすることができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、水から氷粒子を製
造する氷粒子製造装置と、この装置で製造された氷粒子
をキャリアに吹きつける噴出装置とを備え、水から製造
した氷粒子をキャリアに吹きつけるようにしたから、氷
粒子をキャリアに衝突させることができる。

したがって、氷粒子はキャリア表面の塵埃を付着させて
反射すると考えられ、超微小塵埃も洗浄することができ
ると共に、従来ブラシを使用することによって生じてい
たキャリアの汚染や静電気の発生を抑えて洗浄効果を向
上することができるので、キャリアの洗浄がより確実に
行える。また、氷粒子をキャリアにそれほど強く吹きつ
ける必要がないので、キャリアが氷粒子によって損傷す
ることがない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るキャリア洗浄方法を実施するため
のキャリア洗浄装置の概略を示す断面図、第２図は従来
のキャリア洗浄装置の概略を示す断面図である。 ３・・・・キャリア、１２・・・・超純水製造装置、１
５・・・・微米粒子製造装置、１７・・・・液化窒素タ
ンク、３２・・・・微氷粒子、３５・・・・エジェクタ
。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）水から製造した氷粒子をウェハ処理用のキャリア
   に吹きつけることを特徴とするキャリア洗浄方法。
2. （２）水は超純水であることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載のキャリア洗浄方法。
3. （３）超純水には炭酸ガスが混入されていることを特徴
   とする特許請求の範囲第２項記載のキャリア洗浄方法。
4. （４）水から氷粒子を製造する氷粒子製造装置と、この
   装置で製造された氷粒子をウェハ処理用のキャリアに吹
   きつける噴出装置とを備えたことを特徴とするキャリア
   洗浄装置。
5. （５）水は超純水であることを特徴とする特許請求の範
   囲第４項記載のキャリア洗浄装置。
6. （６）超純水には炭酸ガスが混入されていることを特徴
   とする特許請求の範囲第５項記載のキャリア洗浄装置。