CN114308946B - 反应炉的清洗装置及反应炉 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种反应炉的清洗装置及反应炉，反应炉的清洗装置包括清洗部、支撑部和驱动部；清洗部被设置为与反应炉的内壁接触，支撑部设置于反应炉内，清洗部安装于支撑部；驱动部设置于支撑部的远离清洗部的一侧，并与支撑部的第一端部固定连接；其中，驱动部被设置为驱动支撑部转动，支撑部带动清洗部相对反应炉的内壁运动。本公开中的清洗部与反应炉的内壁接触，并由驱动部驱动，使得清洗部能够相对反应炉的内壁运动，实现了自动清洁的效果，无需人工手动清洁，提升清洁制程中的安全性；且自动清洁，可以掌控清洁力度，提升清洁效果。

Description

反应炉的清洗装置及反应炉

技术领域

本公开涉及半导体技术领域，尤其涉及一种反应炉的清洗装置及反应炉。

背景技术

半导体制造工艺中，通常配置有炉管设备，以便于制备半导体产品。其中，炉管设备比如包括反应炉。炉管设备的反应炉在制程时，其内部材料产生化学反应，形成鳍或者颗粒物等副产物，副产物会附着于反应炉的内壁，降低反应炉的性能，且副产物因长时间的累积，可能引发炉管设备宕机的问题，影响生产进程，给厂商造成经济损失。

发明内容

以下是对本公开详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

本公开提供一种反应炉的清洗装置及反应炉。

本公开的第一方面提供一种反应炉的清洗装置，包括：

清洗部，所述清洗部被设置为与所述反应炉的内壁接触；

支撑部，所述支撑部设置于所述反应炉内，所述清洗部安装于所述支撑部；

驱动部，所述驱动部设置于所述支撑部的远离所述清洗部的一侧，并与所述支撑部的第一端部固定连接；

其中，所述驱动部被设置为驱动所述支撑部转动，所述支撑部带动所述清洗部相对所述反应炉的内壁运动。

根据本公开的一些实施例，所述清洗部包括至少一个刷头组件，所述刷头组件设置于所述支撑部的远离所述驱动部的一侧，所述刷头组件安装于所述支撑部的外周侧壁上。

根据本公开的一些实施例，所述刷头组件包括刷头本体和承载体，所述承载体的第一端部与所述刷头本体固定连接，所述承载体的第二端部与所述支撑部转动连接。

根据本公开的一些实施例，所述清洗部还包括吸尘组件，所述吸尘组件分别设置在所述刷头组件和所述支撑部上。

根据本公开的一些实施例，所述吸尘组件包括吸尘部、以及设置于所述刷头组件内的第一吸尘通道、以及设置于所述支撑部的第二吸尘通道；

所述第一吸尘通道与所述反应炉的内部连通，所述第二吸尘通道和所述第一吸尘通道连通，所述吸尘部与所述第二吸尘通道连通。

根据本公开的一些实施例，所述反应炉的清洗装置还包括控制单元，所述控制单元与所述清洗部电连接。

根据本公开的一些实施例，所述控制单元包括安装部和第一操控部，所述安装部设置在所述反应炉上，所述第一操控部安装于所述安装部，所述第一操控部与所述清洗部电连接。

根据本公开的一些实施例，所述控制单元还包括检测单元，所述检测单元被设置为检测所述清洗部与所述反应炉的内壁接触时的压力参数。

根据本公开的一些实施例，所述检测单元包括感应部和显示部，所述感应部设置于所述清洗部，所述显示部设置于所述安装部，所述感应部与所述显示部电连接。

根据本公开的一些实施例，所述控制单元还包括安装于所述安装部的第二操控部，所述支撑部与所述第二操控部电连接；

所述支撑部呈伸缩杆状，所述第二操控部被设置为带动所述支撑部沿其轴向方向伸展或者收缩。

根据本公开的一些实施例，所述反应炉的清洗装置还包括供电部，所述供电部分别与所述控制单元和所述驱动部电连接。

根据本公开的一些实施例，所述反应炉的清洗装置还包括第一保护部，所述第一保护部套设于所述支撑部的第二端部。

根据本公开的一些实施例，所述第一保护部包括橡胶结构。

根据本公开的一些实施例，所述反应炉的清洗装置还包括承接部，所述承接部设置在所述反应炉内，所述承接部位于所述反应炉的远离所述支撑部的第二端部的一侧。

根据本公开的一些实施例，所述驱动部包括驱动电机，所述驱动电机的输出轴穿过所述承接部与所述支撑部的第一端部固定连接。

本公开的第二方面提供一种反应炉，所述反应炉包括反应炉本体和如上所述的反应炉的清洗装置；

所述反应炉本体包括炉体和炉座，所述炉体安装于所述炉座；所述炉体呈中空结构，且所述炉体的部分具有开口，所述炉座覆盖所述开口。

根据本公开的一些实施例，所述反应炉还包括第二保护部，所述第二保护部设置于所述炉体和所述炉座之间。

本公开实施例所提供的反应炉的清洗装置及反应炉中，反应炉的清洗装置中的清洗部与反应炉的内壁接触，并由驱动部驱动，使得清洗部能够相对反应炉的内壁运动，实现了自动清洁的效果，无需人工手动清洁，提升清洁制程中的安全性。且自动清洁，可以掌控清洁力度，提升清洁效果。

在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其他方面。

附图说明

并入到说明书中并且构成说明书的一部分的附图示出了本公开的实施例，并且与描述一起用于解释本公开实施例的原理。在这些附图中，类似的附图标记用于表示类似的要素。下面描述中的附图是本公开的一些实施例，而不是全部实施例。对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据一示例性实施例示出的一种反应炉的清洗装置的结构示意图。

图2是本公开一个示例性实施例示出的反应炉的清洗装置的支撑部的爆炸示意图。

图3是本公开一个示例性实施例示出的反应炉的清洗装置的支撑部的结构示意图。

图4是本公开一个示例性实施例示出的反应炉的清洗装置的刷头组件的结构示意图

图5是本公开一个示例性实施例示出的反应炉的清洗装置的支撑部的截面示意图。

图6是图5示出的反应炉的清洗装置的A处局部放大图。

图7是本公开一个示例性实施例示出反应炉的清洗装置的反应炉本体的爆炸示意图。

附图标记：

1、清洗部；

11、刷头组件；111、刷头本体；1111、主体；1112、刺状结构；112、承载体；

12、吸尘组件；121、吸尘部；122、第一吸尘通道；1221、第一贯穿通孔；1222、腔体；1223、吸尘口；

123、第二吸尘通道；1231、第一支路吸尘通道；12311、第二贯穿通孔；1232、第二支路吸尘通道；12321、第三贯穿通孔；

2、支撑部；21、第一支撑管；211、内底壁；22、第二支撑管；221、外底壁；23、微型气缸；

3、驱动部；4、反应炉；

5、控制单元；51、安装部；52、第一操控部；53、检测单元；531、感应部；532、显示部；54、第二操控部；55、第三操控部；

6、供电部；7、第一保护部；

8、承接部；81、第一安装通孔；82、第二安装通孔。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例中的附图，对公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。需要说明的是，在不冲突的情况下，本公开中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

相关技术中，炉管设备的反应炉在制程时，例如制备晶圆，其材料经过化学反应产生的鳍或者胶体颗粒物等副产物附着于反应炉的内壁或晶舟上，干扰晶圆反应环境，使其粒子偏高，影响晶圆的良率。因此，利用反应炉制备半导体时，需要对反应炉定期维护清洗。

一个示例中，采用化学药剂对反应炉的内壁进行喷洒清除。其中，化学药剂比如是酸泡等。但是，清洗过程中，其内部的副产物不易剥落和清除，清洁效果不佳。

另一个示例中，采用刷子对反应炉的内壁进行人工手动清洁。但是，清洗过程中，安全性低，其副产物会飞溅至作业人员身上，给作业人员造成危害。

本公开示例性的实施例中提供一种反应炉的清洗装置，其包括清洗部、支撑部和驱动部。清洗部被设置为与反应炉的内壁接触，支撑部设置于反应炉内，清洗部安装于支撑部。驱动部设置于支撑部的远离清洗部的一侧，并与支撑部的第一端部固定连接。其中，驱动部被设置为驱动支撑部转动，支撑部带动清洗部相对反应炉的内壁运动。本公开中的清洗部与反应炉的内壁接触，并由驱动部驱动，使得清洗部能够相对反应炉的内壁运动，实现了自动清洁的效果，无需人工手动清洁，提升清洁制程中的安全性。且自动清洁，可以掌控清洁力度，提升清洁效果。

本公开示例性的实施例中提供一种反应炉的清洗装置，如图1所示，图1-7示出了根据本公开一示例性的实施例提供的反应炉的清洗装置的结构示意图，下面结合图1-图7对反应炉的清洗装置进行介绍。

本公开中的反应炉应用于半导体制造工艺中，本实施例对半导体不作限制，半导体例如可以是晶圆，但本实施例并不以此为限，本实施例中的半导体还可以为其他的结构。

在本公开的一个示例性实施例中，如图1、图7所示，一种反应炉的清洗装置，其包括清洗部1、支撑部2和驱动部3。清洗部1被设置为与反应炉4的内壁接触，以便于清洁反应炉4的内壁。

支撑部2设置于反应炉4内，清洗部1安装于支撑部2，驱动部3设置于支撑部2的远离清洗部1的一侧，以便于与支撑部2的第一端部形成固定连接。其中，驱动部3能够驱动支撑部2转动，使得支撑部2绕其轴向方向转动，进而带动清洗部1相对反应炉4的内壁运动，清洗部1沿反应炉4的周向方向运动，以便于清洁反应炉4的内壁上的副产物，提升清洁效果，满足反应炉4的清洁需求，实现了反应炉4的养护，保证半导体反应炉制程的正常进行。且取消人工手动清洁，避免对人造成伤害，提升清洁制程中的安全系数。

在本公开的一个示例性实施例中，如图1-图3所示，清洗部1包括至少一个刷头组件11，刷头组件11设置于支撑部2的远离驱动部3的一侧，刷头组件11安装于支撑部2的外周侧壁上。其中，为了提升清洁效率，刷头组件11例如可以设置两个以上，刷头组件11随支撑部2转动时，多个刷头组件11可以同步运动，并叠加反复洗刷反应炉4的内壁，有效提升清洁效果，实现了快速清洁。

一个示例中，参照图1、图3所示，刷头组件11设置多个，刷头组件11沿支撑部2的轴向方向分层布设，每层均包括至少两个刷头组件11，每层内的刷头组件11沿支撑部2的周向方向均布。沿支撑部2的轴向方向布满刷头组件11，保证反应炉4的内壁均可被清洁，避免出现遗漏，影响反应炉4的清洁效果。

另一个示例中，参照图1、图2所示，刷头组件11设置至少两个，且位于支撑部2的第二端部附近，沿支撑部2的周向均布。

其中，支撑部2呈伸缩杆状，支撑部2能够沿其轴向方向做伸展或者收缩运动，以带动刷头组件11随支撑部2运动。支撑部2的伸缩长度可以匹配不同尺寸的反应炉4，提升支撑部2的通用性。刷头组件11相对反应炉4的内壁做周向运动和竖向运动，扩大了清洁面积，提升了清洁效果。支撑部2比如可以由304不锈钢制成，提升支撑部2的强度，延长支撑部2的使用寿命。

参照图2所示，支撑部2例如包括第一支撑管21和第二支撑管22，第一支撑管21位于第二支撑管22的径向外侧，以套装在第二支撑管22上。第一支撑管21的第一端部与驱动部3固定连接，第二支撑管22能够相对第一支撑管21滑动。其中，第二支撑管22可以通过微型气缸23驱动，微型气缸23设置于第一支撑管21内，微型气缸23的缸体与第一支撑管21的内底壁211固定连接，微型气缸23的活塞端部与第二支撑管22的第一端部连接，刷头组件11与第二支撑管22固定连接。当微型气缸23带动第二支撑管21沿其轴向方向做线性运动时，进而带动第二支撑管22相对第一支撑管21相对运动，第二支撑管22带动刷头组件11运动，实现了刷头组件11竖向方向上的运动效果。

可以理解的是，支撑部2不限于第一支撑管21和第二支撑管22，也可以是多级套管依次套设连接，微型气缸23的缸体与位于其中一个边缘的套管固定连接，微型气缸23的缸体的活塞端与另一个边缘的套管固定连接，以实现其轴向方向的运动，在此，不对其做具体陈述。

需要说明的是，采用微型气缸23驱动呈伸缩杆状的支撑部2，仅用于解释本实施例，并不对本公开构成限制，驱动呈伸缩杆状的支撑部2也可以采用其他可实现的驱动机构，在此，不做具体举例。

在本实施例中，如图1、图2、图4所示，刷头组件11包括刷头本体111和承载体112，承载体112的第一端部与刷头本体111固定连接。

刷头本体111例如包括主体1111和多个刺状结构1112，多个刺状结构1112与主体1111可以为一体成型结构，多个刺状结构1112可以铺满主体1111，以增加主体1111的覆盖面积，提升清洁效率。尖刺状结构1112可以采用掺杂金属制成，例如钼、镍等，使其可以有效去除副产物，并防止发生污染。主体1111与承载体112的第一端部固定连接，使得主体1111与承载体112的连接更加可靠。

承载体112的第二端部与支撑部2转动连接，以便于能够带动承载体112相对支撑部2运动，改变刷头本体111与反应炉4内壁的接触状态。

一个示例中，支撑部2的外周侧壁上设置有多个球形安装槽，承载体112与每个球形安装槽一一对应，承载体112的第二端部呈与球形安装槽相匹配的球形状结构，使承载体112的第二端部能够插接至球形安装槽内。外力驱动作用下，承载体112的第二端部能够在球形安装槽内转动。

另一个示例中，支撑部2的外周侧壁设置有多个第一凸耳，承载体112的第二端部设置有第二凸耳，第二凸耳通过销轴装配于第一凸耳上。外力驱动作用下，承载体112的第二凸耳能够相对第一凸耳转动。

初始状态下，承载体112与支撑部2之间具有第一预设夹角，展开状态下，承载体112与支撑部2之间具有第二预设夹角，其中，第一预设夹角小于第二预设夹角。第一预设夹角和第二预设夹角比如可以是固定值，第一预设夹角比如可以为15°，第二预设夹角比如可以45，第一预设夹角和第二预设夹角呈固定值，参数单一，便于操作，提前预设至系统内即可。或者，第一预设夹角和第二预设夹角也可以是区间值，第一预设夹角比如可以是10°-30°内任意数值，第二预设夹角比如可以是20°-60°内的任意数值，使得承载体112与支撑部2之间形成的夹角更加灵活，适合于多种场景使用，例如清理死角场景。

使用状态下，外力驱动承载体112，实现了刷头组件11的伸展和收缩效果，使刷头本体111能够更贴近反应炉4的内壁，保证清洁效果；非使用状态下，使刷头本体111离开反应炉4的内壁，避免刷头本体111过于坚硬，进而损坏反应炉4的内壁。

可以理解的是，承载体112的第二端部与支撑部2的转动连接方式，不限于上述示例，承载体112也可以采用机械臂的形式与支撑部2连接，只要能够实现承载体112相对支撑部2的转动即可，在此，不做具体陈述。

还需说明的是，承载体112受外力驱动时，可以利用电机等驱动机构，以便于实现自动化控制，可以掌控第一预设夹角或者第二预设夹角的具体数值，提升精准度，保证刷头本体111能够更好的贴合反应炉4的内壁。

在本公开的一个示例性实施例中，如图1、图5、图7所示，清洗部1还包括吸尘组件12，吸尘组件12分别设置在刷头组件11和支撑部2上，以便于配合刷头组件11，能够及时抽除洗刷下来的副产物，避免副产物又回落至反应炉4的内壁，影响反应炉4的清洁效果。

在本实施例中，参照图1、图5-图7所示，吸尘组件12包括吸尘部121、以及设置于刷头组件11内的第一吸尘通道122、以及设置于支撑部2的第二吸尘通道123。

第一吸尘通道122与反应炉4的内部连通，第二吸尘通道123和第一吸尘通道122连通，吸尘部121与第二吸尘通道123连通。

其中，刷头组件11的承载体112内沿其轴向方向设置有第一贯穿通孔1221，刷头本体111的主体1111内设置有腔体1222，腔体1222与第一贯穿通孔1221连通，且主体1111的外周侧壁设置有多个与腔体1222连通的吸尘口1223，吸尘口1223与反应炉4的内部连通，吸尘口1223、腔体1222和第一贯穿通孔1221共同构造为第一吸尘通道122，以便于吸入副产物。吸尘口1223与刷头本体111的刺状结构1112相互避让，避免相互干扰。

参照图1、图5、图7所示，第二吸尘通道123包括第一支路吸尘通道1231和第二支路吸尘通道1232，支撑部2的第一支撑管21用于容置第二支撑管22的容置腔体，被构造成第一支路吸尘通道1231，第一支撑管21的内底壁211为容置腔体的内底壁，第一支撑管21的内底壁211形成有第二贯穿通孔12311，吸尘部121通过第二贯穿通孔12311与第一支路吸尘通道1231连通。

第二支路吸尘通道1232形成于支撑部2的第二支撑管22内，第二支撑管22的外底壁221设置有第三贯穿通孔12321，第一支路吸尘通道1231通过第三贯穿通孔12321与第二支路吸尘通道1232的一侧连通，第二支路吸尘通道1232的另一侧与承载体112的第一贯穿通孔1221连通，进而形成完整通路，以实现抽除的功能。

吸尘部121例如可以包括负压生成装置，负压生成装置抽除第二吸尘通道123内的气流，使得第二吸尘通道123内的气压低于第一吸尘通道122内的气压，第一吸尘通道122内的气压低于反应炉4的内部气压，副产物被吸入至第一吸尘通道122内，进而进入至第二吸尘通道123内，由第二吸尘通道123的第二贯穿通孔12311排出。

吸尘部121例如还可以包括驱动电机和驱动扇叶，驱动电机驱动驱动扇叶转动，以驱动第二吸尘通道123内的气流流动，排出第二吸尘通道123，使第一吸尘通道122内的气流进入至第二吸尘通道123内，副产物被吸入至第一吸尘通道122内，由第二吸尘通道123排出。

需要说明的是，第一吸尘通道122和第二吸尘通道123不限于上述方式实现，为了避免影响抽除效果，可以是在刷头组件11和支撑部2内埋设连通的管道，保证第一吸尘通道122和第二吸尘通道123的密闭性和连贯性，避免漏气。

在本公开的一个示例性实施例中，如图1、图7所示，反应炉的清洗装置还包括控制单元5，控制单元5与清洗部1电连接，以便于控制清洗部1，实现反应炉4的自动化模式，降低劳动力。

在本实施例中，参照图1、图7所示，控制单元5包括安装部51和第一操控部52，安装部51设置在反应炉4上，第一操控部52安装于安装部51，第一操控部52与清洗部1电连接。

一个示例中，安装部51可以是操作平台，平台内置触控屏幕，第一操作部52以虚拟按钮的形式显示于触控屏幕内，以便于工人对其点选操控，执行控制命令。

另一个示例中，安装部51可以是操作平台，第一操作部52以物理按钮的方式设置于安装部51上，以便于工人对其操控，执行控制命令。

在本实施例中，参照图1、图7所示，控制单元5还包括检测单元53，检测单元53被设置为检测清洗部1与反应炉4的内壁接触时的压力参数。若压力过大，发生过度清洁，反应炉4的内壁易损坏，若压力过小，则无法达到清洁的效果，因此，实时监控压力的具体数值，以保证清洗部1与反应炉4之间具有合适的压力状态。

压力参数例如可以是压力区间范围，若检测单元53检测到当前压力值在该压力区间范围内，则为正常压力状态；若检测单元53检测到当前压力值大于该区间范围，则压力过大，提示工人调整；若检测单元53检测到当前压力值小于该区间范围，则压力过大，无法满足清洁的基本需求，提示工人对其进行调整。

在本实施例中，参照图1、图4、图7所示，检测单元53包括感应部531和显示部532。感应部531设置于清洗部1，感应部531例如可以是压力传感器，压力传感器可以安装在刷头本体111的主体1111上，以便于更加准确的获取刷头本体111与反应炉4的内壁接触时的压力参数。

显示部532设置于安装部51，显示部532例如可以是显示屏幕，感应部531与显示部532电连接，以显示刷头本体111与反应炉4的内壁接触时的压力参数，便于工人快速获知并及时处理。

在本实施例中，参照图1、图7所示，控制单元5还包括安装于安装部51的第二操控部54，支撑部2与第二操控部54电连接。第二操控部54的具体设置方式和结构与上述第一操作部52的具体设置方式和结构相同，在此，不再详细赘述。

支撑部2呈伸缩杆状，支撑部2的具体结构在前述实施例中，已做详细说明，在此，不再重复赘述。第二操控部54被设置为带动支撑部2沿其轴向方向伸展或者收缩，实现了支撑部2的自动化模式。

其中，参照图1、图7所示，控制单元5还包括安装于安装部51的第三操控部55，第三操控部55与刷头组件11的承载体112电形成电连接，以便于控制承载体112相对支撑部2运动，实现刷头组件11的展开或者收缩，调整承载体112与支撑部2之间的夹角。

在本实施例中，参照图1、图7所示，反应炉的清洗装置还包括供电部6，供电部6例如可以是220V电源。供电部6分别与控制单元5和驱动部3电连接，为控制单元5和驱动部3供电，保证清洁制程的正常进行。

在本公开的一个示例性实施例中，如图1、图2所示，反应炉的清洗装置还包括第一保护部7，第一保护部7套设于支撑部2的第二端部。其中，第一保护部7包括橡胶结构71，使其具有弹性特质，能够达到保护的目的，避免支撑部2向上伸展时，支撑部2与反应炉4的内顶壁产生撞击或者摩擦等问题，进一步保护支撑部2和反应炉4的内顶壁。

第一保护部7例如还包括感应传感器，以便于监测支撑部2的第二端部与反应炉4的内顶壁的之间的距离。当二者之间的距离介于危险距离之间时，可以提醒工人，对其进行处理。其中，感应传感器例如可以是压力传感器，当支撑部2的第二端部抵接至反应炉4的内顶壁时，对其压力值进行监测，当压力值超过预设阈值时，则报警指示。

可以理解的是，感应传感器不限于压力传感器，上述示例仅用于示例性说明，并不对本公开构成限制。感应传感器还可以是红外传感器、位移传感器等，具有实现过程，在此，不做具体陈述。感应传感器采用何种方式实现，以实际需求为准，只要可以监测支撑部2的第二端部与反应炉4的内顶壁之间的状态即可。

在本实施例中，参照图1、图7所示，反应炉的清洗装置还包括承接部8，承接部8设置在反应炉4内，承接部8位于反应炉4的远离支撑部2的第二端部的一侧，以便于接住洗刷下来的副产物，集中回收处理。

承接部8可以设置与反应炉4的内部，沿支撑部2的轴向方向，承接部8位于反应炉4的内壁的下游侧，使其能够接住所有副产物，且不影响刷头组件11的正常运行。

其中，参照图1、如图5、图7所示，除尘组件12的第二吸尘通道123的第二贯穿通孔12311可以对应于承接部8，以便于接收部分副产物，集中处理，节省时间。例如，承接部8沿其轴向方向设置有第一安装通孔81，吸尘部121的管道安装至第一安装通孔81，以便于向承接部8的上游侧施加负压。其中，第一安装通孔81内可以覆盖防尘网(图中未示出)，避免副产物掉落至第一安装通孔81内，影响除尘效果。

在本实施例中，参照图1、图7所示，驱动部3包括驱动电机，驱动电机的输出轴穿过承接部8与支撑部2的第一端部固定连接，以便于驱动电机能够向支撑部2施加驱动力。其中，承接部8沿其轴向方向设置有第二安装通孔82，第二安装通孔82与承接部8同轴设置，驱动电机的输出轴通过第二安装通孔82穿过承接部8与支撑部2固定连接。

本公开中的反应炉的清洗装置，改变承载体与支撑部之间的夹角，以调整刷头本体与反应炉的内壁接触时的压力参数，保证清洁力度适中，既避免压力过小，影响清洁效果，还避免压力过大，影响反应炉的使用寿命。配合检测单元，实时监测且精准把控。

清洁组件和吸尘组件配合使用，有效提升清洁效率和清洁效果。清洁过程中，通过控制单元控制清洗部运行，实现反应炉的清洗装置的自动化模式。控制单元的第一操控部、第二操控部和第三操控部，可以分别控制刷头组件、支撑部和吸尘组件，人工干涉控制，使其更加人性化。且刷头组件、支撑部和吸尘组件在运行过程中，提升清洁覆盖面，有效避免出现清洁盲区，进一步提高了清洁效果。

本公开示例性的实施例中提供一种反应炉，反应炉包括反应炉本体和上述任一实施例中的反应炉的清洗装置，反应炉的清洗装置安装于反应炉本体，以便于对反应炉进行清洁处理，满足反应炉的养护需求。

反应炉本体包括炉体和炉座，炉体安装于炉座。炉体呈中空结构，且炉体的部分具有开口，炉座覆盖开口，以封闭炉体。

本公开示例性的实施例中提供一种反应炉，如图7所示，图7示出了根据本公开一示例性的实施例提供的反应炉的清洗装置的反应炉本体的结构示意图。下面结合图7对反应炉的清洗装置进行介绍。

本公开中的反应炉应用于半导体制造工艺中，本实施例对半导体不作限制，半导体例如可以是晶圆，但本实施例并不以此为限，本实施例中的半导体还可以为其他的结构。

在本公开的一个示例性实施例中，如图1、图7所示，反应炉4包括反应炉本体和反应炉的清洗装置，反应炉的清洗装置安装于反应炉本体上，满足反应炉的养护需求，延长反应炉本体的使用寿命。

反应炉本体包括炉体41和炉座42，炉座42形成有容置空间421，部分炉体41安装于炉座42的容置空间421内，炉体41与炉座42可以采用可拆卸连接的方式，装配为一体，以便于放置半导体或者取出半导体，并集中回收副产物等。其中，驱动部3、吸尘部121和承接部8均设置于容置空间421内，保证反应炉本体的平整性，避免外露，影响其使用寿命。

炉体41可以由石英材料制成，提升炉体41的通透性，便于工人获取炉体41的内部情况。炉体41呈中空结构，以便于炉体41能够容纳反应炉的清洁装置。炉体41的部分具有开口，炉座42覆盖开口，以封闭炉体41，避免反应炉4外部的污染物进入至炉体41内，干扰半导体制程的正常进行，也能保证清洁制程的稳定运行。

在本实施例中，参照图1、图7所示，反应炉4还包括第二保护部43，第二保护部43设置容置空间421内，第二保护部43位于炉体41和位于炉座42内的承接部8之间。

其中，第二保护部43由特氟龙材料制成，第二保护部43为环形板状结构，其环内径的尺寸略小于炉体41的外径尺寸，使得第二保护板43既可以支撑炉体41，又可以保证副产物能够顺利掉落至承接部8上。第二保护部43分别对炉体41和炉座42形成保护，防止炉体41的下端部与炉座42产生摩擦，出现划伤，并造成损坏等现象。

本公开中的反应炉，其包括可拆卸的反应炉本体，以便于可以更换其内部的反应炉的清洗装置，局部更换损坏部件，降低维修成本。反应炉的清洗装置辅助反应炉的内部进行刷洗工作，自动清洗代替手动清洗，减少人员不同所产生的清洗效率差异性。其中，清洁过程中，还可以辅助化学药剂，进行酸洗，以提升副产物的清洁效果。

本说明书中各实施例或实施方式采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分相互参见即可。

在本说明书的描述中，参考术语“实施例”、“示例性的实施例”、“一些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”等的描述意指结合实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本公开的至少一个实施方式或示例中。

在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。

在本公开的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。

可以理解的是，本公开所使用的术语“第一”、“第二”等可在本公开中用于描述各种结构，但这些结构不受这些术语的限制。这些术语仅用于将第一个结构与另一个结构区分。

在一个或多个附图中，相同的元件采用类似的附图标记来表示。为了清楚起见，附图中的多个部分没有按比例绘制。此外，可能未示出某些公知的部分。为了简明起见，可以在一幅图中描述经过数个步骤后获得的结构。在下文中描述了本公开的许多特定的细节，例如器件的结构、材料、尺寸、处理工艺和技术，以便更清楚地理解本公开。但正如本领域技术人员能够理解的那样，可以不按照这些特定的细节来实现本公开。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本公开的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本公开进行了详细的说明，本领域技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (16)

1.一种反应炉的清洗装置，其特征在于，包括：

清洗部，所述清洗部被设置为与所述反应炉的内壁接触；

支撑部，所述支撑部设置于所述反应炉内，所述清洗部安装于所述支撑部；

所述清洗部包括至少一个刷头组件，所述刷头组件包括刷头本体和承载体，所述承载体的第一端部与所述刷头本体固定连接，所述承载体的第二端部与所述支撑部转动连接，以便能够带动所述承载体相对所述支撑部运动，改变所述刷头本体与所述反应炉内壁的接触状态，初始状态下，所述承载体与所述支撑部之间具有第一预设夹角，展开状态下，所述承载体与所述支撑部之间具有第二预设夹角，其中，所述第一预设夹角小于所述第二预设夹角，所述第一预设夹角和所述第二预设夹角是区间值；

其中，所述承载体内沿其轴向方向设置有第一贯穿通孔，所述刷头本体的主体内设置有腔体，所述腔体与所述第一贯穿通孔连通，且所述刷头本体的外周侧壁设置有多个与所述腔体连通的吸尘口，所述吸尘口与所述反应炉的内部连通，所述吸尘口、所述腔体和所述第一贯穿通孔共同构造为第一吸尘通道；

驱动部，所述驱动部设置于所述支撑部的远离所述清洗部的一侧，并与所述支撑部的第一端部固定连接；

其中，所述驱动部被设置为驱动所述支撑部转动，所述支撑部带动所述清洗部相对所述反应炉的内壁运动。

2.根据权利要求1所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述刷头组件设置于所述支撑部的远离所述驱动部的一侧，所述刷头组件安装于所述支撑部的外周侧壁上。

3.根据权利要求2所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述清洗部还包括吸尘组件，所述吸尘组件分别设置在所述刷头组件和所述支撑部上。

4.根据权利要求3所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述吸尘组件包括吸尘部、以及设置于所述刷头组件内的所述第一吸尘通道、以及设置于所述支撑部的第二吸尘通道；

所述第一吸尘通道与所述反应炉的内部连通，所述第二吸尘通道和所述第一吸尘通道连通，所述吸尘部与所述第二吸尘通道连通。

5.根据权利要求1所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述反应炉的清洗装置还包括控制单元，所述控制单元与所述清洗部电连接。

6.根据权利要求5所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述控制单元包括安装部和第一操控部，所述安装部设置在所述反应炉上，所述第一操控部安装于所述安装部，所述第一操控部与所述清洗部电连接。

7.根据权利要求6所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述控制单元还包括检测单元，所述检测单元被设置为检测所述清洗部与所述反应炉的内壁接触时的压力参数。

8.根据权利要求7所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述检测单元包括感应部和显示部，所述感应部设置于所述清洗部，所述显示部设置于所述安装部，所述感应部与所述显示部电连接。

9.根据权利要求6所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述控制单元还包括安装于所述安装部的第二操控部，所述支撑部与所述第二操控部电连接；

所述支撑部呈伸缩杆状，所述第二操控部被设置为带动所述支撑部沿其轴向方向伸展或者收缩。

10.根据权利要求5所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述反应炉的清洗装置还包括供电部，所述供电部分别与所述控制单元和所述驱动部电连接。

11.根据权利要求1所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述反应炉的清洗装置还包括第一保护部，所述第一保护部套设于所述支撑部的第二端部。

12.根据权利要求11所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述第一保护部包括橡胶结构。

13.根据权利要求1所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述反应炉的清洗装置还包括承接部，所述承接部设置在所述反应炉内，所述承接部位于所述反应炉的远离所述支撑部的第二端部的一侧。

14.根据权利要求13所述的反应炉的清洗装置，其特征在于，所述驱动部包括驱动电机，所述驱动电机的输出轴穿过所述承接部与所述支撑部的第一端部固定连接。

15.一种反应炉，其特征在于，所述反应炉包括：反应炉本体和如权利要求1-14任一项所述的反应炉的清洗装置；

所述反应炉本体包括炉体和炉座，所述炉体安装于所述炉座；所述炉体呈中空结构，且所述炉体的部分具有开口，所述炉座覆盖所述开口。

16.根据权利要求15所述的反应炉，其特征在于，所述反应炉还包括第二保护部，所述第二保护部设置于所述炉体和所述炉座之间。

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