CN205628841U - 一种用于多晶硅还原炉的清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于多晶硅还原炉的清洗装置，包括底座、驱动电机、液压伸缩杆、转盘、中心柱、清洗刷和弹簧，驱动电机设于所述底座上，所述液压伸缩杆竖直连接于所述驱动电机上方，所述驱动电机可驱动所述液压伸缩杆旋转，所述转盘水平套设于所述中心柱上并与所述中心柱固定连接，所述中心柱固定于所述液压伸缩杆的顶端，所述转盘的上表面和下表面均设有滑槽，所述滑槽内均可滑动的设置有所述清洗刷，所述清洗刷通过所述弹簧与所述中心柱连接。本实用新型所述的清洗装置可提高清洗效果和清洗效率。

Description

一种用于多晶硅还原炉的清洗装置

技术领域

本实用新型涉及多晶硅还原炉清洗设备技术领域，特别涉及一种用于多晶硅还原炉的清洗装置。

背景技术

多晶硅，是单质硅的一种形态，是极为重要的优良半导体材料。 多晶硅是电子工业中广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、电子计算机等的基础材料，多晶硅生产主要是采用改良西门子法，改良西门子法生产多晶硅的反应器主要采用多晶硅还原炉，该方法是将多晶硅还原炉内安装沉积载体通电发热，在多晶硅还原炉内将高纯度氯硅烷与氢气的混合气体加热到 1000℃以上发生反应生成硅，硅沉积在上述沉积载体上的过程，伴随着多晶硅生产，多晶硅还原炉内表面会被高温混合气烧黑，同时也会在多晶硅还原炉内表面上沉积一定厚度的多晶硅和副产物，多晶硅生产过程中，多晶硅还原炉内表面要求洁净、光滑，最好呈镜面。而多晶硅还原炉内表面发黑并沉积多晶硅、无定型 硅、高硅氯聚物，多晶硅还原炉内表面粗糙不平等因素会造成多晶硅还原炉内热场分布不均匀、无反射，从而引起多晶硅生产成本的上升，生产效率的下降，因此，对还原炉内的清洗十分重要。

目前，一般使用的炉筒清洗方法是通过喷淋装置，使用热碱液及脱盐水对炉筒内壁进行喷淋清洗，之后再用白布蘸取无水乙醇将炉筒内壁及底部接触面擦洗干净，最后在炉筒内架梯或平台，作业人员人工手持氮气软管，进入炉筒内再将炉筒彻底吹干，但这样的清洗方式，效率较低，且难以保证清洗效果。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供一种用于多晶硅还原炉的清洗装置，可提高清洗效果和清洗效率。

本实用新型通过以下技术手段解决上述问题：

本实用新型提供的用于多晶硅还原炉的清洗装置，包括底座、驱动电机、液压伸缩杆、转盘、中心柱、清洗刷和弹簧，驱动电机设于所述底座上，所述液压伸缩杆竖直连接于所述驱动电机上方，所述驱动电机可驱动所述液压伸缩杆旋转，所述转盘水平套设于所述中心柱上并与所述中心柱固定连接，所述中心柱固定于所述液压伸缩杆的顶端，所述转盘的上表面和下表面均设有滑槽，所述滑槽内均可滑动的设置有所述清洗刷，所述清洗刷通过所述弹簧与所述中心柱连接。

进一步，所述清洗刷包括刷柄和刷头，所述刷头卡合于所述刷柄的端部，所述刷柄滑动连接于所述滑槽内，且所述刷柄通过所述弹簧与所述中心柱连接，所述刷头用于擦洗容器内壁。

进一步，所述转盘的上表面和下表面均设有多个滑槽，各个所述滑槽内均可滑动的设置有所述清洗刷，各个所述清洗刷的刷柄均通过所述弹簧与所述中心柱连接。

进一步，所述中心柱沿周向设有环形槽，所述转盘卡合于所述环形槽内。

进一步，所述底座底面设有防滑垫。

本实用新型所述的清洗装置，在使用时，可将待清洗的还原炉吊至所述清洗装置的上方，通过所述液压伸缩杆可实现所述转盘的升降，同时将所述清洗刷向所述中心柱按压，使所述弹簧处于压缩状态，此时，可将所述清洗刷伸入所述还原炉，再释放所述清洗刷，所述弹簧回弹，通过所述弹簧使所述清洗刷顶紧所述还原炉的内壁，利用所述驱动电机可带动所述转盘转动，从而使所述清洗刷相对所述还原炉内壁转动，从而可自动进行擦洗，即使在所述还原炉的内壁不光滑时，也可通过所述弹簧保证所述清洗刷始终紧贴所述还原炉的内壁，保证清洗效果，同时，由于所述转盘的上表面和下表面均设有所述清洗刷，从而可扩大清洗面，有利于提高清洗效率。由此，可提高清洗效果和清洗效率。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步描述。

图1为本实用新型的用于多晶硅还原炉的清洗装置的示意图。

具体实施方式

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

以下将结合附图对本实用新型进行详细说明，如图1所示：本实施例所述的用于多晶硅还原炉的清洗装置，包括底座1、驱动电机2、液压伸缩杆3、转盘4、中心柱5、清洗刷6和弹簧7，驱动电机2设于所述底座1上，所述液压伸缩杆3竖直连接于所述驱动电机2上方，所述驱动电机2可驱动所述液压伸缩杆3旋转，所述转盘4水平套设于所述中心柱5上并与所述中心柱5固定连接，所述中心柱5固定于所述液压伸缩杆3的顶端，所述转盘4的上表面和下表面均设有滑槽，所述滑槽内均可滑动的设置有所述清洗刷6，所述清洗刷6通过所述弹簧7与所述中心柱5连接。

本实施例所述的清洗装置，在使用时，可将待清洗的还原炉吊至所述清洗装置的上方，通过所述液压伸缩杆3可实现所述转盘4的升降，同时将所述清洗刷6向所述中心柱5按压，使所述弹簧7处于压缩状态，此时，可将所述清洗刷6伸入所述还原炉，再释放所述清洗刷6，所述弹簧7回弹，通过所述弹簧7使所述清洗刷6顶紧所述还原炉的内壁，利用所述驱动电机2可带动所述转盘4转动，从而使所述清洗刷6相对所述还原炉内壁转动，从而可自动进行擦洗，即使在所述还原炉的内壁不光滑时，也可通过所述弹簧7保证所述清洗刷6始终紧贴所述还原炉的内壁，保证清洗效果，同时，由于所述转盘4的上表面和下表面均设有所述清洗刷6，从而可扩大清洗面，有利于提高清洗效率。由此，可提高清洗效果和清洗效率。

作为上述技术方案的进一步改进，所述清洗刷6包括刷柄61和刷头62，所述刷头62卡合于所述刷柄61的端部，所述刷柄61滑动连接于所述滑槽内，且所述刷柄61通过所述弹簧7与所述中心柱5连接，所述刷头62用于擦洗容器内壁，方便更换刷头62。

作为上述技术方案的进一步改进，所述转盘4的上表面和下表面均设有多个滑槽（图中未示出），各个所述滑槽内均可滑动的设置有所述清洗刷6，各个所述清洗刷6的刷柄61均通过所述弹簧7与所述中心柱5连接，从而保证所述清洗刷6不会偏斜和脱落。

作为上述技术方案的进一步改进，所述中心柱5沿周向设有环形槽，所述转盘4卡合于所述环形槽内，方便安装和拆卸。

作为上述技术方案的进一步改进，所述底座1底面设有防滑垫8，防止所述底座1转动，也可起到缓冲的作用。

具体的，所述防滑垫8的可采用橡胶材质。

作为上述技术方案的进一步改进，可在所述底座1上设有配重块（图中未示出），从而使底座1更加稳固，不易晃动，也可防止因所述清洗刷6与容器内壁的摩擦力过大而使底座1转动。

最后说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。

Claims (5)

1.一种用于多晶硅还原炉的清洗装置，其特征在于：包括底座（1）、驱动电机（2）、液压伸缩杆（3）、转盘（4）、中心柱（5）、清洗刷（6）和弹簧（7），驱动电机（2）设于所述底座（1）上，所述液压伸缩杆（3）竖直连接于所述驱动电机（2）上方，所述驱动电机（2）可驱动所述液压伸缩杆（3）旋转，所述转盘（4）水平套设于所述中心柱（5）上并与所述中心柱（5）固定连接，所述中心柱（5）固定于所述液压伸缩杆（3）的顶端，所述转盘（4）的上表面和下表面均设有滑槽，所述滑槽内均可滑动的设置有所述清洗刷（6），所述清洗刷（6）通过所述弹簧（7）与所述中心柱（5）连接。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于：所述清洗刷（6）包括刷柄（61）和刷头（62），所述刷头（62）卡合于所述刷柄（61）的端部，所述刷柄（61）滑动连接于所述滑槽内，且所述刷柄（61）通过所述弹簧（7）与所述中心柱（5）连接，所述刷头（62）用于擦洗容器内壁。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于：所述转盘（4）的上表面和下表面均设有多个滑槽，各个所述滑槽内均可滑动的设置有所述清洗刷（6），各个所述清洗刷（6）的刷柄（61）均通过所述弹簧（7）与所述中心柱（5）连接。

4.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于：所述中心柱（5）沿周向设有环形槽，所述转盘（4）卡合于所述环形槽内。

5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于：所述底座（1）底面设有防滑垫（8）。