JP2009096197A - 感熱転写受像シートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 高い最高濃度を達成でき、カスレや印画ムラといった画像故障が少なく、更には搬送ローラー跡の残らない感熱転写受像シートの製造方法を提供する。さらには、得られた画像の堅牢性に優れ、上述の膜剥がれの少ない感熱転写受像シートの製造方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、断熱層と受容層を有する感熱転写受像シートの製造方法であって、該断熱層に中空粒子およびガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以上８０℃以下である樹脂をそれぞれ少なくとも１種含有し、該断熱層および該受容層を水系同時重層塗布する感熱転写受像シートの製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】 支持体上に、断熱層と受容層を有する感熱転写受像シートの製造方法であって、該断熱層に中空粒子およびガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以上８０℃以下である樹脂をそれぞれ少なくとも１種含有し、該断熱層および該受容層を水系同時重層塗布する感熱転写受像シートの製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明は、感熱転写受像シートの製造方法に関し、詳しくは高濃度、画像内の故障が少なく、搬送ローラー跡の残らない感熱転写受像シートの製造方法に関する。
従来、種々の熱転写記録方法が知られているが、中でも染料拡散転写記録方式は、銀塩写真の画質に最も近いカラーハードコピーが作製できるプロセスとして注目されている。しかも、銀塩写真に比べて、ドライであること、デジタルデータから直接可視像化できる、複製作りが簡単であるなどの利点を持っている。
この染料拡散転写記録方式では、色素（以下、染料、またはインクともいう。）を含有する感熱転写シート（以下、単にインクシートともいう。）と感熱転写受像シート（以下、単に受像シートともいう。）を重ね合わせ、次いで、電気信号によって発熱が制御されるサーマルヘッドによってインクシートを加熱することでインクシート中の色素を受像シートに転写して画像情報の記録を行うものであり、シアン、マゼンタ、イエローの３色あるいはこれにブラックを加えた４色を重ねて記録することで色の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像を転写記録することができる。
この方式の受像シートの支持体には通常の紙を用いることができ、低コストで製造することができる。このような紙を支持体に用いた受像シートは、支持体のクッション性を補うために、通常、支持体とインク受容層（単に受容層ともいう）との間にクッション性の高い層、例えば樹脂と発泡剤からなる発泡層を形成してクッション性を付与し、受像シートと転写シートとの密着性を高めている。また、この発泡層と受容層との間にさらに中間層を設けて、印字時の加熱により発泡層が潰れるのを防いでいる。しかし、従来の受像シートでは、この中間層を有機溶剤系の樹脂塗工液にて形成していたため、該塗工液が発泡層の気泡・空隙を潰してしまい、所望のクッション性が得られず画像形成の際にカスレや濃度ムラが発生してしまったり、発泡層の断熱性が低下して染料の転写に必要な熱量が受像シートの裏面方向に拡散して印字時の感度の低下を招いたりするという問題があった。
これに対して、例えば特許文献１には、発泡層と受容層との間の中間層を水系の塗工液により形成し発泡層の微妙な凹凸をそのまま受容層の表面形状にすることが開示されているが、この方法では、支持体上に発泡層を塗布しこれを加熱乾燥させた後に受容層を塗布するため、受容層表面に凹凸が形成されるために画像欠陥が多く発生するだけでなく、感度も不十分でしかもコストが高いという問題があった。また、例えば特許文献２には中空の粒子と耐有機溶剤性の高分子を主成分とした中間層を支持体と受容層との間に形成することが開示されているが、この方法も同様に、中間層や樹脂層を塗布しこれを加熱乾燥させた後に受容層を塗布するため、受容層表面に凹凸が形成されるために画像欠陥が多く発生し、層間密着も十分ではないため扱い方によっては膜剥れが生じるという問題点、さらに、感度も不十分でしかもコストが高いという問題があった。
また、特許文献３では、中空粒子の存在する層の塗膜形成結合剤の最低塗膜形成温度を２５℃以上とすること、中空粒子の存在比を４〜３０質量％とすることで、画像欠陥のないプリント品質を得ることはできたが、昨今要求されている、高速プリント時においては、高速搬送のために必要な搬送ローラー圧の上昇に起因する、搬送ローラー跡が顕在化するなど、新たな問題が発生していた。
本発明により、高い最高濃度を達成でき、カスレや印画ムラといった画像故障が少なく、更には搬送ローラー跡の残らない感熱転写受像シートの製造方法を提供する。
さらには、得られた画像の堅牢性に優れ、上述の膜剥がれの少ない感熱転写受像シートの製造方法を提供する。
さらには、得られた画像の堅牢性に優れ、上述の膜剥がれの少ない感熱転写受像シートの製造方法を提供する。
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、下記手段で本発明の上記目的が達成できることを見出した。
（１）支持体上に、断熱層と受容層を有する感熱転写受像シートの製造方法であって、該断熱層に中空粒子およびガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以上８０℃以下である樹脂をそれぞれ少なくとも１種含有し、該断熱層および該受容層を水系同時重層塗布することを特徴とする感熱転写受像シートの製造方法。
（２）前記断熱層中の前記中空粒子の固形分含有量が、５０〜９５質量％であることを特徴とする（１）に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
（３）前記感熱転写受像シートのＪＩＳ Ｐ ８１２７に従う方法で測定した含水率が、２〜８質量％であることを特徴とする（１）または（２）に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
（４）下記一般式〔Ｉ〕〜〔ＩＩＩ〕のいずれかで表される化合物を、前記受容層または前記断熱層のいずれかの層に少なくとも１種含有することを特徴とする（１）〜（３）いずれか１項に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
（１）支持体上に、断熱層と受容層を有する感熱転写受像シートの製造方法であって、該断熱層に中空粒子およびガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以上８０℃以下である樹脂をそれぞれ少なくとも１種含有し、該断熱層および該受容層を水系同時重層塗布することを特徴とする感熱転写受像シートの製造方法。
（２）前記断熱層中の前記中空粒子の固形分含有量が、５０〜９５質量％であることを特徴とする（１）に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
（３）前記感熱転写受像シートのＪＩＳ Ｐ ８１２７に従う方法で測定した含水率が、２〜８質量％であることを特徴とする（１）または（２）に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
（４）下記一般式〔Ｉ〕〜〔ＩＩＩ〕のいずれかで表される化合物を、前記受容層または前記断熱層のいずれかの層に少なくとも１種含有することを特徴とする（１）〜（３）いずれか１項に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
［一般式〔Ｉ〕中、Ｒ１およびＲ２は同じでも異なっていてもよく、水素原子、ヒドロキシ基または炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アリール基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、アラルキル基、アルコキシ基、−ＣＯＲ３、−ＳＯ２Ｒ４または−Ｎ（Ｒ５）Ｒ６を表し、Ｒ３およびＲ４は同じでも異なっていてもよく、水素原子、−ＯＭ、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基または−Ｎ（Ｒ７）Ｒ８を表す。
Ｒ５およびＲ６は同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、−ＣＯＲ９、または−ＳＯ２Ｒ１０を表す。Ｒ９およびＲ１０は同じでも異なっていてもよく、炭素数１〜８のアルキル基または−Ｎ（Ｒ１１）Ｒ１２を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１１およびＲ１２は同じであっても異なっていてもよく、水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。
Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子、または１価のカチオンを形成するに必要な原子群を表し、ｌは２〜６の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは６−ｍを表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｘが複数存在する時はそれぞれが互いに異なっていてもよい。］
Ｒ５およびＲ６は同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、−ＣＯＲ９、または−ＳＯ２Ｒ１０を表す。Ｒ９およびＲ１０は同じでも異なっていてもよく、炭素数１〜８のアルキル基または−Ｎ（Ｒ１１）Ｒ１２を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１１およびＲ１２は同じであっても異なっていてもよく、水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。
Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子、または１価のカチオンを形成するに必要な原子群を表し、ｌは２〜６の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは６−ｍを表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｘが複数存在する時はそれぞれが互いに異なっていてもよい。］
［一般式〔ＩＩ〕中、Ｒ１３は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、複素環基、
を表し、Ｒ１４およびＲ１５は同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基、シアノ基、複素環基、アルキルチオ基、アルキルスルホキシ基またはアルキルスルホニル基を表し、Ｒ１４とＲ１５は互いに結合して芳香環を形成していても良い。
Ｒ１６およびＲ１７は同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。］
Ｒ１６およびＲ１７は同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。］
［一般式〔ＩＩＩ〕中、Ｒ１８は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基またはヒドロキシメチル基を表し、Ｒ１９は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。］
（５）前記支持体と前記断熱層、あるいは前記断熱層と前記受容層のいずれかの層間に、中間層を有することを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
（５）前記支持体と前記断熱層、あるいは前記断熱層と前記受容層のいずれかの層間に、中間層を有することを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
本発明により、高濃度でかつ、画像内の故障が少なく、搬送ローラー跡が残らないという優れた効果を奏する感熱転写受像シートの製造方法が提供できる。また、得られた画像の堅牢性に優れ、膜剥がれの少ない感熱転写受像シートの製造方法が提供できる。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の感熱転写受像シート（以下本発明の受像シートともいう）は、支持体上に少なくとも１層の受容層（インク受容層、または染料受容層ともいう）を有し、支持体と受容層との間に少なくとも１層の断熱層（多孔質層ともいう）を有する。また、支持体と受容層との間に、例えば白地調整、帯電防止、接着性、レベリングなどの各種機能を付与した中間層が形成されているのは、本発明の好ましい様態である。また、感熱転写シートと重ね合わせられる面の最外層には、離型層が形成されてもよい。
本発明においては、受容層、および断熱層は水系同時重層塗布で塗設する。これは、スライドコート、カーテンコート等の一般的な方法で行う。
支持体の、受容層を塗設した面の他方の面にはカール調整層、筆記層、帯電調整層を設けてもよい。
本発明の感熱転写受像シート（以下本発明の受像シートともいう）は、支持体上に少なくとも１層の受容層（インク受容層、または染料受容層ともいう）を有し、支持体と受容層との間に少なくとも１層の断熱層（多孔質層ともいう）を有する。また、支持体と受容層との間に、例えば白地調整、帯電防止、接着性、レベリングなどの各種機能を付与した中間層が形成されているのは、本発明の好ましい様態である。また、感熱転写シートと重ね合わせられる面の最外層には、離型層が形成されてもよい。
本発明においては、受容層、および断熱層は水系同時重層塗布で塗設する。これは、スライドコート、カーテンコート等の一般的な方法で行う。
支持体の、受容層を塗設した面の他方の面にはカール調整層、筆記層、帯電調整層を設けてもよい。
本発明の感熱転写受像シートに塗設される断熱層は１層でも２層以上でも良い。断熱層は、受容層と支持体の間に設けられる。
本発明の感熱転写受像シートにおいて、断熱層は中空粒子、好ましくは中空ポリマー粒子を含有する。
本発明における中空ポリマーとは粒子内部に空隙を有するポリマー粒子であり、好ましくは水分散物であり、例えば、１）ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂等により形成された隔壁内部に水などの分散媒が入っており、塗布乾燥後、粒子内の水が粒子外に蒸発して粒子内部が中空となる非発泡型の中空ポリマー粒子、２）ブタン、ペンタンなどの低沸点液体を、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステルのいずれか又はそれらの混合物もしくは重合物よりなる樹脂で覆っており、塗工後、加熱により粒子内部の低沸点液体が膨張することにより内部が中空となる発泡型マイクロバルーン、３）上記の２）をあらかじめ加熱発泡させて中空ポリマーとしたマイクロバルーンなどが挙げられる。
前記１）の具体例としてはロームアンドハース社製ローペイク１０５５、大日本インキ社製ボンコートＰＰ−１０００、ＪＳＲ社製ＳＸ８６６（Ｂ）、日本ゼオン社製ニッポールＭＨ５０５５（いずれも商品名）などが挙げられる。前記２）の具体例としては松本油脂製薬社製のＦ−３０、Ｆ−５０（いずれも商品名）などが挙げられる。前記３）の具体例としては松本油脂製薬社製のＦ−３０Ｅ、日本フェライト社製エクスパンセル４６１ＤＥ、５５１ＤＥ、５５１ＤＥ２０（いずれも商品名）が挙げられる。
これらの中でも、１）の非発泡型の中空ポリマー粒子が好ましく、必要に応じて２種以上混合して使用することができる。
本発明における中空ポリマーとは粒子内部に空隙を有するポリマー粒子であり、好ましくは水分散物であり、例えば、１）ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂等により形成された隔壁内部に水などの分散媒が入っており、塗布乾燥後、粒子内の水が粒子外に蒸発して粒子内部が中空となる非発泡型の中空ポリマー粒子、２）ブタン、ペンタンなどの低沸点液体を、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステルのいずれか又はそれらの混合物もしくは重合物よりなる樹脂で覆っており、塗工後、加熱により粒子内部の低沸点液体が膨張することにより内部が中空となる発泡型マイクロバルーン、３）上記の２）をあらかじめ加熱発泡させて中空ポリマーとしたマイクロバルーンなどが挙げられる。
前記１）の具体例としてはロームアンドハース社製ローペイク１０５５、大日本インキ社製ボンコートＰＰ−１０００、ＪＳＲ社製ＳＸ８６６（Ｂ）、日本ゼオン社製ニッポールＭＨ５０５５（いずれも商品名）などが挙げられる。前記２）の具体例としては松本油脂製薬社製のＦ−３０、Ｆ−５０（いずれも商品名）などが挙げられる。前記３）の具体例としては松本油脂製薬社製のＦ−３０Ｅ、日本フェライト社製エクスパンセル４６１ＤＥ、５５１ＤＥ、５５１ＤＥ２０（いずれも商品名）が挙げられる。
これらの中でも、１）の非発泡型の中空ポリマー粒子が好ましく、必要に応じて２種以上混合して使用することができる。
これらの中空ポリマーの平均粒子径は０．１〜５．０μｍであることが好ましく、０．２〜３．０μｍであることがさらに好ましく、０．３〜２．０μｍであることが特に好ましい。
また、中空ポリマーは、空隙率が２０〜７０％程度のものが好ましく、２０〜５０％のものがより好ましい。
また、中空ポリマーは、空隙率が２０〜７０％程度のものが好ましく、２０〜５０％のものがより好ましい。
本発明において、中空ポリマー粒子のサイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、その外径の円相当換算直径を測定し算出する。平均粒径は、中空ポリマー粒子を少なくとも３００個透過電子顕微鏡を用いて観察し、その外形の円相当径を算出し、平均して求める。
中空ポリマーの空隙率とは、粒子体積に対する空隙部分の体積の割合から求める。
本発明の感熱転写受像シートに用いる中空ポリマー粒子は、ガラス転移温度が７０℃以上２００℃以下であることが好ましく、９０℃以上１８０℃以下である中空ポリマーが更に好ましい。
本発明の感熱転写受像シートに用いる中空ポリマー粒子は、ガラス転移温度が７０℃以上２００℃以下であることが好ましく、９０℃以上１８０℃以下である中空ポリマーが更に好ましい。
中空ポリマーを含む断熱層中には、中空ポリマー以外にバインダーとしてＴｇが２０℃以上８０℃以下であるポリマー樹脂を含む。より好ましくは２５℃以上７５℃以下である。Ｔｇが２０℃未満の場合には、高い最高濃度の画像を得ることができず、画像均一性やローラー跡の品質が向上しない。また、Ｔｇが８０℃を超える場合には、高い最高濃度の画像を得ることができるが、画像均一性やローラー跡の品質が向上しない。
水系塗布を必要とする本発明において好ましい例としては、下記に挙げられるラテックスである。これらラテックスは単独又は混合して用いることができる。
中空ポリマーを含む断熱層の厚みは５〜５０μｍであることが好ましく、５〜４０μｍであることがより好ましい。
水系塗布を必要とする本発明において好ましい例としては、下記に挙げられるラテックスである。これらラテックスは単独又は混合して用いることができる。
中空ポリマーを含む断熱層の厚みは５〜５０μｍであることが好ましく、５〜４０μｍであることがより好ましい。
本発明において、中空ポリマーを含む断熱層中には、中空ポリマー粒子が、乾燥後の固形分含有量として５０質量％以上含まれることが好ましく、６０質量％以上含まれることがより好ましい。固形分含有量の上限は、９５質量％以下が好ましい。この含有量が小さすぎると、断熱性不足による感度や濃度の低下が生じ、逆にこの含有量が多すぎる場合は、バインダーの不足に起因するヒビ割れなどを生じるが、実用範囲内では問題がない。
本発明の断熱層には、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以上８０℃以下のポリマー樹脂を含有する。ここでいう樹脂は、水系塗布を行う観点から、水分散ラテックスであることが好ましく、またポリマー樹脂自体の種類、（ポリマー種、組成、分子量など）は特に限定はない。以下、各種ポリマーラテックスの商品名を列挙するが、これらに限定されるものではない。
アクリル系ポリマーの例としては、日本ゼオン（株）製Ｎｉｐｏｌ ＬＸ８５５（Ｐ−１７：Ｔｇ３６℃）、８５７ｘ２（Ｐ−１８：Ｔｇ４３℃）、大日本インキ化学（株）製Ｖｏｎｃｏａｔ Ｒ３３７０（Ｐ−１９：Ｔｇ２５℃）、日本純薬（株）製ジュリマーＥＴ−４１０（Ｐ−２１：Ｔｇ４４℃）、ＪＳＲ（株）製ＡＥ１１６（Ｐ−２２：Ｔｇ５０℃）、ＡＥ１１９（Ｐ−２３：Ｔｇ５５℃）、ＡＥ１２１（Ｐ−２４：Ｔｇ５８℃）、ＡＥ１２５（Ｐ−２５：Ｔｇ６０℃）、ＡＥ１３４（Ｐ−２６：Ｔｇ４８℃）、ＡＥ１３７（Ｐ−２７：Ｔｇ４８℃）、ＡＥ１４０（Ｐ−２８：Ｔｇ５３℃）、ＡＥ１７３（Ｐ−２９：Ｔｇ６０℃）、東亞合成（株）製アロンＡ−１０４（Ｐ−３０：Ｔｇ４５℃）、など（いずれも商品名）が挙げられる。
ポリエステル類の例としては、大日本インキ化学（株）製ＦＩＮＥＴＥＸ ＥＳ６５０、６１１、６７５、８５０、イーストマンケミカル製ＷＤ−ｓｉｚｅ、ＷＭＳ、高松油脂（株）製Ａ−１１０、Ａ−１１５ＧＥ、Ａ−１２０、Ａ−１２１、Ａ−１２４ＧＰ、Ａ−１２４Ｓ、Ａ−１６０Ｐ、Ａ−２１０、Ａ−２１５ＧＥ、Ａ−５１０、Ａ−５１３Ｅ、Ａ−５１５ＧＥ、Ａ−５２０、Ａ−６１０、Ａ−６１３、Ａ−６１５ＧＥ、Ａ−６２０、ＷＡＣ−１０、ＷＡＣ−１５、ＷＡＣ−１７ＸＣ、ＷＡＣ−２０、Ｓ−１１０、Ｓ−１１０ＥＡ、Ｓ−１１１ＳＬ、Ｓ−１２０、Ｓ−１４０、Ｓ−１４０Ａ、Ｓ−２５０、Ｓ−２５２Ｇ、Ｓ−２５０Ｓ、Ｓ−３２０、Ｓ−６８０、ＤＮＳ−６３Ｐ、ＮＳ−１２２Ｌ、ＮＳ−１２２ＬＸ、ＮＳ−２４４ＬＸ、ＮＳ−１４０Ｌ、ＮＳ−１４１ＬＸ、ＮＳ−２８２ＬＸ、東亞合成（株）製アロンメルトＰＥＳ−１０００シリーズ、ＰＥＳ−２０００シリーズ、東洋紡（株）製バイロナールＭＤ−１１００、ＭＤ−１２００、ＭＤ−１２２０、ＭＤ−１２４５、ＭＤ−１２５０、ＭＤ−１３３５、ＭＤ−１４００、ＭＤ−１４８０、ＭＤ−１５００、ＭＤ−１９３０、ＭＤ−１９８５、住友精化（株）製セポルジョンＥＳなど（いずれも商品名）が挙げられる。
ポリウレタン類の例としては、大日本インキ化学（株）製ＨＹＤＲＡＮ ＡＰ１０、ＡＰ２０、ＡＰ３０、ＡＰ４０、１０１Ｈ、Ｖｏｎｄｉｃ １３２０ＮＳ、１６１０ＮＳ、大日精化（株）製Ｄ−１０００、Ｄ−２０００、Ｄ−６０００、Ｄ−４０００、Ｄ−９０００、高松油脂（株）製ＮＳ−１５５Ｘ、ＮＳ−３１０Ａ、ＮＳ−３１０Ｘ、ＮＳ−３１１Ｘ、第一工業製薬（株）製エラストロンなど（いずれも商品名）が挙げられる。
ゴム類の例としては、ＬＡＣＳＴＡＲ ７３１０Ｋ、３３０７Ｂ、４７００Ｈ、７１３２Ｃ（以上、大日本インキ化学（株）製）、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１６、ＬＸ４１０、ＬＸ４３０、ＬＸ４３５、ＬＸ１１０、ＬＸ４１５Ａ、ＬＸ４１５Ｍ、ＬＸ４３８Ｃ、２５０７Ｈ、ＬＸ３０３Ａ、ＬＸ４０７ＢＰシリーズ、Ｖ１００４、ＭＨ５０５５（以上日本ゼオン（株）製）など（いずれも商品名）が挙げられる。
ポリ塩化ビニル類の例としては、日本ゼオン（株）製Ｇ３５１、Ｇ５７６、日信化学工業（株）製ビニブラン２４０、２７０、２７７、３７５、３８６、６０９、５５０、６０１、６０２、６３０、６６０、６７１、６８３、６８０、６８０Ｓ、６８１Ｎ、６８５Ｒ、２７７、３８０、３８１、４１０、４３０、４３２、８６０、８６３、８６５、８６７、９００、９００ＧＴ、９３８、９５０、ＳＯＬＢＩＮ Ｃ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＬ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＨ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＮ、ＳＯＬＢＩＮ Ｃ５、ＳＯＬＢＩＮ Ｍ、ＳＯＬＢＩＮ ＭＦ、ＳＯＬＢＩＮ Ａ、ＳＯＬＢＩＮ ＡＬ、積水化学工業（株）製 エスレックＡ、エスレックＣ、エスレックＭ、電気化学工業（株）製 デンカビニル１０００ＧＫＴ、デンカビニル１０００Ｌ、デンカビニル１０００ＣＫ、デンカビニル１０００Ａ、デンカビニル１０００ＬＫ２、デンカビニル１０００ＡＳ、デンカビニル１０００ＧＳ、デンカビニル１０００ＬＴ３、デンカビニル１０００Ｄ、デンカビニル１０００Ｗなど（いずれも商品名）が挙げられる。
ポリ塩化ビニリデン類の例としては、旭化成工業（株）製Ｌ５０２、Ｌ５１３、大日本インキ化学（株）製Ｄ−５０７１など（いずれも商品名）が挙げられる。
ポリオレフィン類の例としては、三井石油化学（株）製ケミパールＳ１２０、ＳＡ１００、Ｖ３００、大日本インキ化学（株）製Ｖｏｎｃｏａｔ ２８３０、２２１０、２９６０、住友精化（株）製ザイクセン、セポルジョンＧ、共重合ナイロン類の例としては、住友精化（株）製セポルジョンＰＡ、など（いずれも商品名）が挙げられる。
ポリ塩化ビニリデン類の例としては、旭化成工業（株）製Ｌ５０２、Ｌ５１３、大日本インキ化学（株）製Ｄ−５０７１など（いずれも商品名）が挙げられる。
ポリオレフィン類の例としては、三井石油化学（株）製ケミパールＳ１２０、ＳＡ１００、Ｖ３００、大日本インキ化学（株）製Ｖｏｎｃｏａｔ ２８３０、２２１０、２９６０、住友精化（株）製ザイクセン、セポルジョンＧ、共重合ナイロン類の例としては、住友精化（株）製セポルジョンＰＡ、など（いずれも商品名）が挙げられる。
ポリ酢酸ビニル類の例としては、日信化学工業（株）製ビニブラン１０８０、１０８２、１０８５Ｗ、１１０８Ｗ、１１０８Ｓ、１５６３Ｍ、１５６６、１５７０、１５８８Ｃ、Ａ２２Ｊ７−Ｆ２、１１２８Ｃ、１１３７、１１３８、Ａ２０Ｊ２、Ａ２３Ｊ１、Ａ２３Ｊ１、Ａ２３Ｋ１、Ａ２３Ｐ２Ｅ、Ａ６８Ｊ１Ｎ、１０８６Ａ、１０８６、１０８６Ｄ、１１０８Ｓ、１１８７、１２４１ＬＴ、１５８０Ｎ、１０８３、１５７１、１５７２、１５８１、４４６５、４４６６、４４６８Ｗ、４４６８Ｓ、４４７０、４４８５ＬＬ、４４９５ＬＬ、１０２３、１０４２、１０６０、１０６０Ｓ、１０８０Ｍ、１０８４Ｗ、１０８４Ｓ、１０９６、１５７０Ｋ、１０５０、１０５０Ｓ、３２９０、１０１７ＡＤ、１００２、１００６、１００８、１１０７Ｌ、１２２５、１２４５Ｌ、ＧＶ−６１７０、ＧＶ−６１８１、４４６８Ｗ、４４６８Ｓなど（いずれも商品名）が挙げられる。
さらに、ポリマーラテックスの好ましい例としては、ポリ乳酸エステル類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリアセタール類、ＳＢＲ類、ポリ塩化ビニル類を挙げることができ、この中でも、ポリ塩化ビニル類、ポリエステル類、ポリカーボネート類、ＳＢＲ類を含むことがより好ましく、ポリ塩化ビニル類、ポリエステル類、ＳＢＲ類を含むことがさらに好ましい。特に好ましくは、ポリ塩化ビニル類であり、そのなかでも塩化ビニル−アクリル共重合体のポリマーラテックスまたは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体ポリマーラテックスであり、特に塩化ビニル−アクリル共重合体ポリマーラテックスが好ましい。
これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて２種以上ブレンドしてもよい。本発明においては、ポリマーラテックスは２種以上ブレンドして用いるのが好ましい。
これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて２種以上ブレンドしてもよい。本発明においては、ポリマーラテックスは２種以上ブレンドして用いるのが好ましい。
本発明では、受容層、断熱層を水系の塗布液で塗布するものであるが、複数の受容層および、または複数の断熱層を有する場合、これらの全ての層を水系で同時塗布し、塗布液を塗布後乾燥して作製することが必要である。ただし、ここで言う「水系」とは、塗布する層に含有する素材に水溶性ポリマー、ポリマーラテックスのいずれかを含有するか、塗布液の溶媒（分散媒）の６０質量％以上が水であることをいう。塗布液の水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、オキシエチルフェニルエーテルなどの水混和性の有機溶媒を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
本発明において、ＪＩＳ Ｐ ８１２７にて測定する感熱転写受像シートの含水率が２〜８質量％であることは好ましい様態である。これらは低湿化でのクラックや、高湿化での接着、或いはカールの湿度依存性などの問題を懸念するものであるが、本発明ではこの範囲外においても効果は発揮されており、また、範囲内においてはより高品質なプリントが得られる。より好ましくは２〜７質量％であり、さらに好ましくは３〜７質量％である。
本発明の感熱転写受像シートは、少なくとも染料を受容し得る熱可塑性の受容ポリマーを有する少なくとも１層（好ましくは少なくとも２層）の受容層を有する。
好ましい受容ポリマーの例としては、ポリ酢酸ビニル、エチレン酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルアクリル酸エステル共重合体、塩化ビニルメタクリル酸エステル共重合体、ポリアクリルエステル、ポリスチレン、ポリスチレンアクリル等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール等のアセタール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカプロラクトン等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、尿素樹脂・メラミン樹脂・ベンゾグアナミン樹脂等のアミノ樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、相溶する範囲内で任意にブレンドして用いることもできる。
上記ポリマー中でもポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリカプロラクトンまたはこれらの混合物を含有することが好ましく、ポリエステル、ポリ塩化ビニル共重合体、あるいはこれらの混合物がさらに好ましい。
以上に挙げたポリマーは、有機溶剤（メチルエチルケトン、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）を適宜用いて溶解させることで、支持体上に塗布することができるし、ポリマーラテックスとして水系の塗工液に加えて支持体上に塗布することもできる。
好ましい受容ポリマーの例としては、ポリ酢酸ビニル、エチレン酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルアクリル酸エステル共重合体、塩化ビニルメタクリル酸エステル共重合体、ポリアクリルエステル、ポリスチレン、ポリスチレンアクリル等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール等のアセタール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカプロラクトン等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、尿素樹脂・メラミン樹脂・ベンゾグアナミン樹脂等のアミノ樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、相溶する範囲内で任意にブレンドして用いることもできる。
上記ポリマー中でもポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリカプロラクトンまたはこれらの混合物を含有することが好ましく、ポリエステル、ポリ塩化ビニル共重合体、あるいはこれらの混合物がさらに好ましい。
以上に挙げたポリマーは、有機溶剤（メチルエチルケトン、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）を適宜用いて溶解させることで、支持体上に塗布することができるし、ポリマーラテックスとして水系の塗工液に加えて支持体上に塗布することもできる。
また受容層には、紫外線吸収剤、離型剤、滑剤、酸化防止剤、防腐剤、界面活性剤を含有させてもよい。
本発明の感熱転写受像シートに塗設される受容層にはポリマーラテックスを含有させることが好ましい。
受容層に用いるポリマーラテックスは水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなどいずれでもよく、分散粒子の平均粒径は１〜５００００ｎｍ、より好ましくは５〜１０００ｎｍ程度の範囲である。
本発明に用いるポリマーラテックスのガラス転移温度（Ｔｇ）は、−３０℃〜１００℃が好ましく、０℃〜８０℃がより好ましく、１０℃〜８０℃がさらに好ましく、１５℃〜７０℃が特に好ましい。
受容層に用いるポリマーラテックスは水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなどいずれでもよく、分散粒子の平均粒径は１〜５００００ｎｍ、より好ましくは５〜１０００ｎｍ程度の範囲である。
本発明に用いるポリマーラテックスのガラス転移温度（Ｔｇ）は、−３０℃〜１００℃が好ましく、０℃〜８０℃がより好ましく、１０℃〜８０℃がさらに好ましく、１５℃〜７０℃が特に好ましい。
このガラス転移温度（Ｔｇ）は下記式で計算することができる。
１／Ｔｇ＝Σ（Ｘｉ／Ｔｇｉ）
ここでは、ポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ個のモノマー成分が共重合しているとする。Ｘｉはｉ番目のモノマーの質量分率（ΣＸｉ＝１）、Ｔｇｉはｉ番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。尚、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値（Ｔｇｉ）は「Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（３ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ）」（Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｅ．Ｈ．Ｉｍｍｅｒｇｕｔ著（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ、１９８９））の値を採用できる。
１／Ｔｇ＝Σ（Ｘｉ／Ｔｇｉ）
ここでは、ポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ個のモノマー成分が共重合しているとする。Ｘｉはｉ番目のモノマーの質量分率（ΣＸｉ＝１）、Ｔｇｉはｉ番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。尚、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値（Ｔｇｉ）は「Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（３ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ）」（Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｅ．Ｈ．Ｉｍｍｅｒｇｕｔ著（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ、１９８９））の値を採用できる。
本発明の感熱転写受像シートに用いるポリマーラテックスの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリエステル類、ゴム類（例えばＳＢＲ樹脂）、ポリウレタン類、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルアクリル酸エステル共重合体、塩化ビニルメタアクリル酸共重合体等の共重合体を含めたポリ塩化ビニル共重合体、エチレン酢酸ビニル共重合体等の共重合体を含めたポリ酢酸ビニル共重合体、ポリオレフィン等のポリマーラテックスを好ましく用いることができる。これらポリマーラテックスとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、２種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。これらポリマーの分子量は数平均分子量で５０００〜１００００００が好ましく、より好ましくは１００００〜５０００００である。
本発明のポリマーラテックスとしては、ポリエステルラテックス、塩化ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス等の塩化ビニル共重合体ラテックスのいずれか１つまたは任意の組み合わせが好ましい。
本発明のポリマーラテックスとしては、ポリエステルラテックス、塩化ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス等の塩化ビニル共重合体ラテックスのいずれか１つまたは任意の組み合わせが好ましい。
このような塩化ビニル共重合体としては、前述のものが挙げられるが、なかでもビニブラン２４０、ビニブラン２７０、ビニブラン２７６、ビニブラン２７７、ビニブラン３７５、ビニブラン３８０、ビニブラン３８６、ビニブラン４１０、ビニブラン４３０、ビニブラン４３２、ビニブラン５５０、ビニブラン６０１、ビニブラン６０２、ビニブラン６０９、ビニブラン６１９、ビニブラン６８０、ビニブラン６８０Ｓ、ビニブラン６８１Ｎ、ビニブラン６８３、ビニブラン６８５Ｒ、ビニブラン６９０、ビニブラン８６０、ビニブラン８６３、ビニブラン６８５、ビニブラン８６７、ビニブラン９００、ビニブラン９３８、ビニブラン９５０（以上いずれも日信化学工業（株）製）、ＳＥ１３２０、Ｓ−８３０（以上いずれも住友ケムテック（株）製）が好ましい。
また、ポリエステル系ラテックスとしては、バイロナール ＭＤ１２００、バイロナール ＭＤ１２２０、バイロナール ＭＤ１２４５、バイロナール ＭＤ１２５０、バイロナール ＭＤ１５００、バイロナール ＭＤ１９３０、バイロナール ＭＤ１９８５（以上いずれも東洋紡（株）製）が好ましい。
これらのなかでも、塩化ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス等の塩化ビニル共重合体ラテックスがもっとも好ましい。
これらのなかでも、塩化ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体ラテックス、塩化ビニル／酢酸ビニル／アクリル化合物共重合体ラテックス等の塩化ビニル共重合体ラテックスがもっとも好ましい。
本発明の感熱転写受像シートにおいては、受容層は水溶性ポリマーを含有することも好ましい態様の一つである。
ここで、水溶性ポリマーとは、２０℃における水１００ｇに対し０．０５ｇ以上溶解すればよく、より好ましくは０．１ｇ以上、さらに好ましくは０．５ｇ以上、特に好ましくは１ｇ以上である。水溶性ポリマーとしては、天然高分子、半合成高分子および合成高分子のいずれも好ましく用いられる。
ここで、水溶性ポリマーとは、２０℃における水１００ｇに対し０．０５ｇ以上溶解すればよく、より好ましくは０．１ｇ以上、さらに好ましくは０．５ｇ以上、特に好ましくは１ｇ以上である。水溶性ポリマーとしては、天然高分子、半合成高分子および合成高分子のいずれも好ましく用いられる。
本発明の感熱転写受像シートに用いることのできる水溶性ポリマーのうち、天然高分子および半合成高分子について詳しく説明する。植物系多糖類としては、κ−カラギーナン、ι−カラギーナン、λ−カラギーナン、ペクチンなど、微生物系多糖類としては、キサンタンガム、デキストリンなど、動物系天然高分子としては、ゼラチン、カゼインなどが挙げられる。セルロース系としては、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどが挙げられる。
本発明に用いることのできる天然高分子、半合成高分子のうちゼラチンが好ましい。本発明に用いるゼラチンは分子量１０，０００から１，０００，０００までのものを用いることができる。本発明に用いられるゼラチンはＣｌ−、ＳＯ４ ２−等の陰イオンを含んでいてもよいし、Ｆｅ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｓｎ２＋、Ｚｎ２＋などの陽イオンを含んでいても良い。ゼラチンは水に溶かして添加することが好ましい。
本発明に用いることのできる天然高分子、半合成高分子のうちゼラチンが好ましい。本発明に用いるゼラチンは分子量１０，０００から１，０００，０００までのものを用いることができる。本発明に用いられるゼラチンはＣｌ−、ＳＯ４ ２−等の陰イオンを含んでいてもよいし、Ｆｅ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｓｎ２＋、Ｚｎ２＋などの陽イオンを含んでいても良い。ゼラチンは水に溶かして添加することが好ましい。
本発明の感熱転写受像シートに用いることのできる水溶性ポリマーのうち、合成高分子については、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、水溶性ポリエステルなどである。
本発明に用いることのできる合成高分子のうちポリビニルアルコール類が好ましい。
本発明に用いることのできる合成高分子のうちポリビニルアルコール類が好ましい。
ポリビニルアルコールについては、完全けん化物、部分けん化物、変性ポリビニルアルコール等、各種ポリビニルアルコールを用いることができる。これらポリビニルアルコールについては、長野浩一ら共著，「ポバール」（高分子刊行会発行）に記載のものが用いられる。
ポリビニルアルコールは、その水溶液に添加する微量の溶剤あるいは無機塩類によって粘度調整をしたり粘度安定化させたりすることが可能であって、詳しくは上記文献、長野浩一ら共著，「ポバール」，高分子刊行会発行，１４４〜１５４頁記載のものを使用することができる。その代表例としてホウ酸を含有させることで塗布面質を向上させることができ、好ましい。ホウ酸の添加量は、ポリビニルアルコールに対し０．０１〜４０質量％であることが好ましい。
ポリビニルアルコールの具体例としては、完全けん化物としてはＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈなど、部分けん化物としてはＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２２０など、変性ポリビニルアルコールとしてはＣ−１１８、ＨＬ−１２Ｅ、ＫＬ−１１８、ＭＰ−２０３が挙げられる(以上いずれも(株)クラレ製)。
ポリマーラテックスの添加量は、ポリマーラテックスの固形分が受容層中の全ポリマーの５０〜９８質量％であることが好ましく、７０〜９５質量％であることがより好ましい。受容層を複数層構成とした場合は、全受容層中の全ポリマーに対して、ポリマーラテックスの固形分が、５０〜９８質量％であることが好ましく、７０〜９５質量％であることがより好ましい。
本発明の感熱転写受像シートには、紫外線吸収剤を含有させてもよい。その紫外線吸収剤としては、従来公知の無機系紫外線吸収剤、有機系紫外線吸収剤が使用できる。有機系紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、置換アクリロニトリル系、ヒンダートアミン系等の非反応性紫外線吸収剤や、これらの非反応性紫外線吸収剤に、例えば、ビニル基やアクリロイル基、メタアクリロイル基等の付加重合性二重結合、あるいは、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基等を導入し、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂に共重合若しくは、グラフトしたものを使用することができる。また、樹脂のモノマーまたはオリゴマーに紫外線吸収剤を溶解させた後、このモノマーまたはオリゴマーを重合させる方法が開示されており（特開２００６−２１３３３）、こうして得られた紫外線遮断性樹脂を用いることもできる。この場合には紫外線吸収剤は非反応性のものでも良い。
これら紫外線吸収剤に中でも、特にベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系が好ましい。これら紫外線吸収剤は画像形成に使用する染料の特性に応じて、有効な紫外線吸収波長域をカバーするように組み合わせて使用することが好ましく、また、非反応性紫外線吸収剤の場合には紫外線吸収剤が析出しないように構造が異なるものを複数混合して用いることが好ましい。
紫外線吸収剤の市販品としては、チヌビン−Ｐ（チバガイギー製）、ＪＦ−７７（城北化学製）、シーソープ７０１（白石カルシウム製）、スミソーブ２００（住友化学製）、バイオソープ５２０（共同薬品製）、アデカスタブＬＡ−３２（旭電化製）等が挙げられる。
これら紫外線吸収剤に中でも、特にベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系が好ましい。これら紫外線吸収剤は画像形成に使用する染料の特性に応じて、有効な紫外線吸収波長域をカバーするように組み合わせて使用することが好ましく、また、非反応性紫外線吸収剤の場合には紫外線吸収剤が析出しないように構造が異なるものを複数混合して用いることが好ましい。
紫外線吸収剤の市販品としては、チヌビン−Ｐ（チバガイギー製）、ＪＦ−７７（城北化学製）、シーソープ７０１（白石カルシウム製）、スミソーブ２００（住友化学製）、バイオソープ５２０（共同薬品製）、アデカスタブＬＡ−３２（旭電化製）等が挙げられる。
本発明の感熱転写受像シートには、画像印画時の感熱転写シートと受像シートとの離型性を確保するために離型剤を添加してもよい。
離型剤としては、例えば、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス、脂肪酸エステルワックス、アミドワックス等の固形ワックス類、シリコーンオイル、リン酸エステル系化合物、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他当該技術分野で公知の離型剤を使用することができる。これらの中で、脂肪酸エステルワックス、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、シリコーンオイルおよび／またはその硬化物等のシリコーン系化合物が好ましく用いられる。
離型剤としては、例えば、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス、脂肪酸エステルワックス、アミドワックス等の固形ワックス類、シリコーンオイル、リン酸エステル系化合物、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他当該技術分野で公知の離型剤を使用することができる。これらの中で、脂肪酸エステルワックス、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、シリコーンオイルおよび／またはその硬化物等のシリコーン系化合物が好ましく用いられる。
また、本発明の感熱転写受像シートは、前記の任意の層に界面活性剤を含有させることが出来る。その中でも、受容層及び中間層中に含有させることが好ましい。
界面活性剤の添加量は、全固形分量に対して０．０１〜５質量％であることが好ましく、０．０１〜１質量％であることがより好ましく、０．０２〜０．２質量％であることが特に好ましい。
界面活性剤としては、アニオン系、ノニオン系、カチオン系など種々の界面活性剤が知られている。本発明で用いることのできる界面活性剤としては、公知のものが使用でき、例えば、「機能性界面活性剤監修／角田光雄、発行／２０００年８月、第６章」で紹介されているもの等を用いることができるが、その中でもアニオン系のフッ素含有界面活性剤が好ましい。
アニオン系のフッ素含有界面活性剤としては、下記の基を有するものが好ましい。
−（ＣＨ２）ｎ−（ＣＦ２）ｍ−Ｘ
式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、ｎは１〜６を表し、ｍは１〜６を表す。
ここで、Ｘはフッ素原子が好ましく、ｎは１または２が好ましく、ｍは２〜４が好ましい。また、−（ＣＨ２）ｎ−（ＣＦ２）ｍ−Ｘが結合する原子は酸素原子が好ましく、−（ＣＨ２）ｎ−（ＣＦ２）ｍ−Ｘが分子中に少なくとも２個以上、好ましくは２個有するものが好ましい。また、アニオン基としては−ＯＳＯ３ −、−ＯＳＯ２ −、−ＣＯ２ −が好ましく、−ＯＳＯ３ −、−ＯＳＯ２ −がより好ましく、−ＯＳＯ３ −が最も好ましい。
界面活性剤の添加量は、全固形分量に対して０．０１〜５質量％であることが好ましく、０．０１〜１質量％であることがより好ましく、０．０２〜０．２質量％であることが特に好ましい。
界面活性剤としては、アニオン系、ノニオン系、カチオン系など種々の界面活性剤が知られている。本発明で用いることのできる界面活性剤としては、公知のものが使用でき、例えば、「機能性界面活性剤監修／角田光雄、発行／２０００年８月、第６章」で紹介されているもの等を用いることができるが、その中でもアニオン系のフッ素含有界面活性剤が好ましい。
アニオン系のフッ素含有界面活性剤としては、下記の基を有するものが好ましい。
−（ＣＨ２）ｎ−（ＣＦ２）ｍ−Ｘ
式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、ｎは１〜６を表し、ｍは１〜６を表す。
ここで、Ｘはフッ素原子が好ましく、ｎは１または２が好ましく、ｍは２〜４が好ましい。また、−（ＣＨ２）ｎ−（ＣＦ２）ｍ−Ｘが結合する原子は酸素原子が好ましく、−（ＣＨ２）ｎ−（ＣＦ２）ｍ−Ｘが分子中に少なくとも２個以上、好ましくは２個有するものが好ましい。また、アニオン基としては−ＯＳＯ３ −、−ＯＳＯ２ −、−ＣＯ２ −が好ましく、−ＯＳＯ３ −、−ＯＳＯ２ −がより好ましく、−ＯＳＯ３ −が最も好ましい。
本発明の感熱転写受像シートにおいて、ブロッキング防止、離型性付与、滑り性付与のためにマット剤を添加しても良い。マット剤は感熱転写受像シートの受容層が塗布される面、受容層が塗布される他方の面、あるいはその両方の面に添加することができる。
マット剤は、一般に水に不溶の有機化合物の微粒子、無機化合物の微粒子を挙げることができるが、本発明では、分散性の観点から、有機化合物を含有する微粒子が好ましい。有機化合物を含有していれば、有機化合物単独からなる有機化合物微粒子であっても良いし、有機化合物だけでなく無機化合物をも含有した有機／無機複合微粒子であっても良い。マット剤の例としては、例えば米国特許第１，９３９，２１３号、同２，７０１，２４５号、同２，３２２，０３７号、同３，２６２，７８２号、同３，５３９，３４４号、同３，７６７，４４８号等の各明細書に記載の有機マット剤を用いることができる。
本発明の感熱転写受像シートでは、何れかの層に一般式〔Ｉ〕〜〔ＩＩＩ〕で表される化合物を少なくとも１種以上含有させることが好ましい。以下、それぞれの一般式について詳細に説明する。
一般式〔Ｉ〕において、Ｒ１、Ｒ２は同じでも異なっていてもよく水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基）、を表わす。Ｘは水素原子、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子）、ニトロ基、シアノ基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、好ましい炭素数は６〜１２）、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基）、炭素数２〜８のアルケニル基（例えば、アリル基、プロペニル基）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、好ましい炭素数は７〜１５）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メトキシエトキシ基、好ましい炭素数は１〜８）、−ＣＯＲ３、−ＳＯ２Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｒ６を表し、Ｒ３、Ｒ４は同じでも異なっていてもよく、水素原子、−ＯＭ、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基）、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基）、−Ｎ（Ｒ７）Ｒ８を表わす。Ｒ５、Ｒ６は同じでも異なっていてもよく水素原子、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、２−エチルヘキシル基）、−ＣＯＲ９、−ＳＯ２Ｒ１０を表わす。Ｒ９、Ｒ１０は同じでも異なっていてもよく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、２−メトキシエチル基）、−Ｎ（Ｒ１１）Ｒ１２を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１１、Ｒ１２は同じでも異なっていてもよく水素原子、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、２−エチルヘキシル基）を表わす。Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子（例えば、ナトリウム、カリウム）または、１価のカチオンを形成するに必要な原子群（例えば、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン）を表し、ｌは２〜６の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表わし、ｎは６−ｍの整数を表わす。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｘが複数存在する時はそれぞれが同じでも異なっていてもよい。
上記一般式〔Ｉ〕で示される化合物においては、Ｒ１、Ｒ２で規定される炭素数１〜８のアルキル基と、Ｘで表されるアルコキシ基が、好ましくは炭素数２〜８の範囲のものである。
さらに、上記一般式で好ましいのはＲ１、Ｒ２で規定される炭素数１〜８のアルキル基、Ｘで表されるアルコキシ基が、それぞれ炭素数２〜４の範囲であるか、あるいは、Ｘは水素原子、炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ１、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基であり、ｍは１、２の整数であり、ｎは、５、４の整数で表わされる化合物である。
次に一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物の代表的具体例を示すが本発明に用いる一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物はこれらに限定されるものではない。なお、以下の例示化合物は、試薬として一般的に市販されており、容易に入手可能である。
上記一般式〔Ｉ〕で示される化合物においては、Ｒ１、Ｒ２で規定される炭素数１〜８のアルキル基と、Ｘで表されるアルコキシ基が、好ましくは炭素数２〜８の範囲のものである。
さらに、上記一般式で好ましいのはＲ１、Ｒ２で規定される炭素数１〜８のアルキル基、Ｘで表されるアルコキシ基が、それぞれ炭素数２〜４の範囲であるか、あるいは、Ｘは水素原子、炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ１、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基であり、ｍは１、２の整数であり、ｎは、５、４の整数で表わされる化合物である。
次に一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物の代表的具体例を示すが本発明に用いる一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物はこれらに限定されるものではない。なお、以下の例示化合物は、試薬として一般的に市販されており、容易に入手可能である。
次に一般式〔ＩＩ〕の化合物について記述する。
Ｒ１３は水素原子、直鎖もしくは分岐鎖の置換または無置換の炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクタデシル基、２−ヒドロキシエチル基、２−カルボキシエチル基、２−シアノエチル基、スルホブチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル基）、置換または無置換の環状アルキル基（例えば、シクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、２−オキソシクロペンチル基、好ましい炭素数は５〜８）、置換または無置換のアルケニル基（例えば、アリル基、メチルアリル基、好ましい炭素数は２〜８）、置換または無置換のアラルキル基（例えば、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｏ−クロロベンジル基、ｐ−イソプロピルベンジル基、好ましい炭素数は７〜１５）、置換または無置換のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｏ−メチルフェニル基、ｍ−ニトロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、好ましい炭素数は６〜１２）、複素環基（例えば、２−イミダゾリル基、２−フリル基、２−チアゾリル基、２−ピリジル基、好ましい炭素数は０〜１２）、
Ｒ１３は水素原子、直鎖もしくは分岐鎖の置換または無置換の炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクタデシル基、２−ヒドロキシエチル基、２−カルボキシエチル基、２−シアノエチル基、スルホブチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル基）、置換または無置換の環状アルキル基（例えば、シクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、２−オキソシクロペンチル基、好ましい炭素数は５〜８）、置換または無置換のアルケニル基（例えば、アリル基、メチルアリル基、好ましい炭素数は２〜８）、置換または無置換のアラルキル基（例えば、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｏ−クロロベンジル基、ｐ−イソプロピルベンジル基、好ましい炭素数は７〜１５）、置換または無置換のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｏ−メチルフェニル基、ｍ−ニトロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、好ましい炭素数は６〜１２）、複素環基（例えば、２−イミダゾリル基、２−フリル基、２−チアゾリル基、２−ピリジル基、好ましい炭素数は０〜１２）、
を表し、Ｒ１４、Ｒ１５は同じでも異なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、置換または無置換の炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、クロロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基）、置換または無置換の環状アルキル基（例えば、シクロヘキシル基、２−オキソシクロペンチル基、好ましい炭素数は５〜８）、置換または無置換のアリール基（例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、ナフチル基、４−ニトロフェニル基、４−アミノフェニル基、３−アセトアミドフェニル基、好ましい炭素数は６〜１２）、シアノ基、複素環基（例えば、２−イミダゾリル基、２−チアゾリル基、２−ピリジル基、好ましい炭素数は０〜１２）、置換または無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、２−シアノエチルチオ基、２−エトキシカルボニルチオ基、好ましい炭素数は１〜８）、置換または無置換のアルキルスルホキシ基（例えば、メチルスルホキシ基、２−ヒドロキシエチルスルホキシ基、好ましい炭素数は１〜８）、置換または無置換のアルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、２−ブロモエチルスルホニル基、好ましい炭素数は１〜８）を表わし、Ｒ１４とＲ１５は互に結合して芳香環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、好ましい炭素数は６〜１２）を形成してもよい。
Ｒ１６、Ｒ１７は同じでも異なっていてもよく、各々水素原子、置換または無置換の炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、２−シアノエチル基、２−ｎ−ブトキシカルボニルエチル基）、置換または無置換のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、２−メトキシフェニル基、ｍ−ニトロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、３−アセトアミドフェニル基、好ましい炭素数は６〜１２）、置換または無置換のアラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、ｐ−イソプロピルベンジル基、ｏ−クロロベンジル基、ｍ−メトキシベンジル基、好ましい炭素数は７〜１５）を表わす。
さらに、上記一般式〔ＩＩ〕で好ましいのは、Ｒ１３は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基を表わし、Ｒ１４、Ｒ１５は互いに結合して芳香環を形成する場合である。
次に一般式〔ＩＩ〕で表わされる化合物の代表的具体例を以下に示すが、本発明に用いることができる一般式〔ＩＩ〕で表される化合物はこれらに限定されるものではない。以下の化合物の一部は市販されており容易に入手することが可能であり、またフランス国特許１，５５５，４１６号明細書に記載の合成法に準じて製造することができる。
次に一般式〔ＩＩ〕で表わされる化合物の代表的具体例を以下に示すが、本発明に用いることができる一般式〔ＩＩ〕で表される化合物はこれらに限定されるものではない。以下の化合物の一部は市販されており容易に入手することが可能であり、またフランス国特許１，５５５，４１６号明細書に記載の合成法に準じて製造することができる。
次に一般式〔ＩＩＩ〕の化合物について記述する。
Ｒ１８は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基）、ヒドロキシメチル基を表し、Ｒ１９は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、ｎ−ブチル基、イソペンチル基）を表わす。炭素数１〜８のアルキル基のなかでも好ましくは炭素原子数１〜５、特に炭素数１のものがよい。
以下に一般式〔ＩＩＩ〕で表される化合物の代表的具体例を示すが、本発明に用いることができる一般式〔ＩＩＩ〕で表される化合物はこれらに限定されるものではない。
Ｒ１８は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基）、ヒドロキシメチル基を表し、Ｒ１９は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、ｎ−ブチル基、イソペンチル基）を表わす。炭素数１〜８のアルキル基のなかでも好ましくは炭素原子数１〜５、特に炭素数１のものがよい。
以下に一般式〔ＩＩＩ〕で表される化合物の代表的具体例を示すが、本発明に用いることができる一般式〔ＩＩＩ〕で表される化合物はこれらに限定されるものではない。
これらの化合物の一部は三愛石油（株）から市販されている。また以下の文献を参考にして合成することができる。
（１）Ｈｅｎｒｙ Ｒｅｃｕｅｌｌ ｄｅｓ ｔｒａｖａｕｘ ｃｈｉｎｉｑｕｅｓ ｄｅｓ Ｒａｙｓ−Ｂａｓ，１６，２５１．
（２）Ｍａｓｓ．ｃｈｅｍｉｓｃｈｅｓ Ｚｅｎｔｒａｌｂｌａｔｔ．１８９９ Ｉ １７９．
（３）Ｅ．Ｓｃｈｍｉｄｔ．Ｂｅｒｉｃｈｔｅ ｄｅｒ Ｄｅｕｔｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅｎ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ３９７．
（４）Ｅ，Ｓｃｈｍｉｄｔ．ｉｂｉｄ．５５ ３１７．
（５）Ｈｅｎｒｙ Ｃｈｅｍｉｃｈｅｓ Ｚｅｎｔｒａｂｌａｔｔ．１８９７ ＩＩ ３８８．
この場合ＩＩＩ−１の合成は文献（１）、（２）ないし（３）、ＩＩＩ−２の合成は文献（２）、ＩＩＩ−３の合成は文献（５）、ＩＩＩ−４の合成は文献（２）に従うのがよい。
（１）Ｈｅｎｒｙ Ｒｅｃｕｅｌｌ ｄｅｓ ｔｒａｖａｕｘ ｃｈｉｎｉｑｕｅｓ ｄｅｓ Ｒａｙｓ−Ｂａｓ，１６，２５１．
（２）Ｍａｓｓ．ｃｈｅｍｉｓｃｈｅｓ Ｚｅｎｔｒａｌｂｌａｔｔ．１８９９ Ｉ １７９．
（３）Ｅ．Ｓｃｈｍｉｄｔ．Ｂｅｒｉｃｈｔｅ ｄｅｒ Ｄｅｕｔｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅｎ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ３９７．
（４）Ｅ，Ｓｃｈｍｉｄｔ．ｉｂｉｄ．５５ ３１７．
（５）Ｈｅｎｒｙ Ｃｈｅｍｉｃｈｅｓ Ｚｅｎｔｒａｂｌａｔｔ．１８９７ ＩＩ ３８８．
この場合ＩＩＩ−１の合成は文献（１）、（２）ないし（３）、ＩＩＩ−２の合成は文献（２）、ＩＩＩ−３の合成は文献（５）、ＩＩＩ−４の合成は文献（２）に従うのがよい。
一般式〔Ｉ〕〜〔ＩＩＩ〕で表される化合物は、水溶性の化合物であるものが好ましく総炭素数は２０以下が好ましく、１５以下がさらに好ましい。
一般式〔Ｉ〕〜〔ＩＩＩ〕で表される化合物は、受容層に含有させても良いし、断熱層に含有させても良く、受容層と断熱層の両方に含有させても良い。
一般式〔Ｉ〕〜〔ＩＩＩ〕で表される化合物は、受容層に含有させても良いし、断熱層に含有させても良く、受容層と断熱層の両方に含有させても良い。
一般式〔Ｉ〕〜〔ＩＩＩ〕で示される化合物の添加量は、塗布後の固形分換算で、０．０１〜１質量％が好ましく、より好ましくは０．０２〜０．５質量％であり、更に好ましくは０．０３〜０．１質量％である。添加量が０．０１質量％未満となると、添加効果が発揮できず、１質量％より多くなると、プリント時の感度低下を引き起こすため好ましくない。
受容層の塗布量は、０．５〜１０ｇ／ｍ２（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましい。受容層の膜厚は１〜２０μｍであることが好ましい。
受容層、断熱層、支持体、各々との間に中間層が形成されていることは、本発明の好ましい様態である。中間層は、受容層と断熱層の間に設けても良いし、断熱層と支持体の間に設けても良いし、その両方に設けても良い。断熱層と支持体の間に中間層を設ける場合、下引き層と称する場合がある。中間層の機能としては白地調整、帯電防止、接着性付与、平滑性付与などが挙げられるが、これらに限定されることはない。本発明の中間層に用いられる素材としては、受容層、断熱層同様にポリマーラテックス、または水溶性ポリマーなどがあげられる。具体的には、ポリマーラテックスの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリエステル類、ゴム類（例えばＳＢＲ、ＭＢＲ樹脂）、ポリウレタン類、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルアクリル酸エステル共重合体、塩化ビニルメタアクリル酸共重合体等の共重合体を含めたポリ塩化ビニル共重合体、エチレン酢酸ビニル共重合体等の共重合体を含めたポリ酢酸ビニル共重合体、ポリオレフィン等のポリマーラテックスを好ましく用いることができ、塩化ビニル共重合体、ゴム類を用いることがより好ましい。これらポリマーラテックスとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、２種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。これらポリマーの分子量は数平均分子量で５０００〜１００００００が好ましく、より好ましくは１００００〜５０００００である。
具体的には、ゴム類としては、ＬＡＣＳＴＡＲ ７３１０Ｋ、３３０７Ｂ、４７００Ｈ、７１３２Ｃ（以上、大日本インキ化学（株）製）、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１６、ＬＸ４１０、ＬＸ４３０、ＬＸ４３５、ＬＸ１１０、ＬＸ４１５Ａ、ＬＸ４１５Ｍ、ＬＸ４３８Ｃ、２５０７Ｈ、ＬＸ３０３Ａ、ＬＸ４０７ＢＰシリ−ズ、Ｖ１００４、ＭＨ５０５５（以上日本ゼオン（株）製）、ＳＮ−３０７、ＳＲ−１０３、ＳＲ−１０４、ＳＲ−１０７、ＳＲ−１０８、ＳＲ−１１０、ＳＲ−１１１、ＳＲ−１１２、ＳＲ−１１３、ＳＲ−１１４、ＳＲ−１３０、ＳＲ−１４０、ＳＲ−１４１、ＳＲ−１４２、ＭＲ−１７１、ＭＲ−１７２、ＭＲ−１７３、ＭＲ−１７４、ＭＲ−１８０（以上日本エイアンドエル（株）製）など（いずれも商品名）。
具体的には、ゴム類としては、ＬＡＣＳＴＡＲ ７３１０Ｋ、３３０７Ｂ、４７００Ｈ、７１３２Ｃ（以上、大日本インキ化学（株）製）、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１６、ＬＸ４１０、ＬＸ４３０、ＬＸ４３５、ＬＸ１１０、ＬＸ４１５Ａ、ＬＸ４１５Ｍ、ＬＸ４３８Ｃ、２５０７Ｈ、ＬＸ３０３Ａ、ＬＸ４０７ＢＰシリ−ズ、Ｖ１００４、ＭＨ５０５５（以上日本ゼオン（株）製）、ＳＮ−３０７、ＳＲ−１０３、ＳＲ−１０４、ＳＲ−１０７、ＳＲ−１０８、ＳＲ−１１０、ＳＲ−１１１、ＳＲ−１１２、ＳＲ−１１３、ＳＲ−１１４、ＳＲ−１３０、ＳＲ−１４０、ＳＲ−１４１、ＳＲ−１４２、ＭＲ−１７１、ＭＲ−１７２、ＭＲ−１７３、ＭＲ−１７４、ＭＲ−１８０（以上日本エイアンドエル（株）製）など（いずれも商品名）。
ポリ塩化ビニル類の例としては日本ゼオン（株）製Ｇ３５１、Ｇ５７６、日信化学工業（株）製ビニブラン２４０、２７０、２７７、３７５、３８６、６０９、５５０、６０１、６０２、６３０、６６０、６７１、６８３、６８０、６８０Ｓ、６８１Ｎ、６８５Ｒ、２７７、３８０、３８１、４１０、４３０、４３２、８６０、８６３、８６５、８６７、９００、９００ＧＴ、９３８、９５０、ＳＯＬＢＩＮ Ｃ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＬ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＨ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＮ、ＳＯＬＢＩＮ Ｃ５、ＳＯＬＢＩＮ Ｍ、ＳＯＬＢＩＮ ＭＦ、ＳＯＬＢＩＮ Ａ、ＳＯＬＢＩＮ ＡＬ、積水化学工業（株）製 エスレックＡ、エスレックＣ、エスレックＭ、電気化学工業（株）製 デンカビニル１０００ＧＫＴ、デンカビニル１０００Ｌ、デンカビニル１０００ＣＫ、デンカビニル１０００Ａ、デンカビニル１０００ＬＫ２、デンカビニル１０００ＡＳ、デンカビニル１０００ＧＳ、デンカビニル１０００ＬＴ３、デンカビニル１０００Ｄ、デンカビニル１０００Ｗなど（いずれも商品名）。
中間層のバインダーとして、水溶性ポリマーを用いることは、本発明の好ましい様態である。本発明の中間層に好ましく用いることのできる水溶性ポリマーには、合成高分子、天然高分子および半合成高分子などがあげられる。本発明の中間層においては、合成高分子を用いることがより好ましい。
本発明の中間層に好ましく用いることのできる水溶性ポリマーのうち、合成高分子については、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、水溶性ポリエステルなどである。
本発明に用いることのできる合成高分子のうちポリビニルアルコール類が好ましい。
本発明の中間層に好ましく用いることのできる水溶性ポリマーのうち、合成高分子については、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、水溶性ポリエステルなどである。
本発明に用いることのできる合成高分子のうちポリビニルアルコール類が好ましい。
ポリビニルアルコールについては、完全けん化物、部分けん化物、変性ポリビニルアルコール等、各種ポリビニルアルコールを用いることができる。これらポリビニルアルコールについては、長野浩一ら共著，「ポバール」（高分子刊行会発行）に記載のものが用いられる。
ポリビニルアルコールは、その水溶液に添加する微量の溶剤あるいは無機塩類によって粘度調整をしたり粘度安定化させたりすることが可能であって、詳しくは上記文献、長野浩一ら共著，「ポバール」，高分子刊行会発行，１４４〜１５４頁記載のものを使用することができる。その代表例としてホウ酸を含有させることで塗布面質を向上させることができ、好ましい。ホウ酸の添加量は、ポリビニルアルコールに対し０．０１〜４０質量％であることが好ましい。
ポリビニルアルコールの具体例としては、完全けん化物としてはＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈなど、部分けん化物としてはＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２２０など、変性ポリビニルアルコールとしてはＣ−１１８、ＨＬ−１２Ｅ、ＫＬ−１１８、ＭＰ−２０３が挙げられる(以上いずれも(株)クラレ製)。
次に、天然高分子および半合成高分子について説明する。植物系多糖類としては、κ−カラギーナン、ι−カラギーナン、λ−カラギーナン、ペクチンなど、微生物系多糖類としては、キサンタンガム、デキストリンなど、動物系天然高分子としては、ゼラチン、カゼインなどが挙げられる。セルロース系としては、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどが挙げられる。
本発明では天然高分子、半合成高分子のうちゼラチンが好ましい。本発明に用いるゼラチンは分子量１００００から１００００００までのものを用いることができる。本発明に用いられるゼラチンはＣｌ−、ＳＯ４ ２−等の陰イオンを含んでいてもよいし、Ｆｅ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｓｎ２＋、Ｚｎ２＋などの陽イオンを含んでいても良い。ゼラチンは水に溶かして添加することが好ましい。
中間層の膜厚としては、１〜３０μｍ、好ましくは１〜２５μｍ、１〜２０μｍであることがさらに好ましい。また、中間層は、単層塗布にて形成することもできるが、他層と同時重層塗布にて形成させることがより好ましい。
本発明では天然高分子、半合成高分子のうちゼラチンが好ましい。本発明に用いるゼラチンは分子量１００００から１００００００までのものを用いることができる。本発明に用いられるゼラチンはＣｌ−、ＳＯ４ ２−等の陰イオンを含んでいてもよいし、Ｆｅ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｓｎ２＋、Ｚｎ２＋などの陽イオンを含んでいても良い。ゼラチンは水に溶かして添加することが好ましい。
中間層の膜厚としては、１〜３０μｍ、好ましくは１〜２５μｍ、１〜２０μｍであることがさらに好ましい。また、中間層は、単層塗布にて形成することもできるが、他層と同時重層塗布にて形成させることがより好ましい。
本発明の感熱転写受像シートに用いる支持体は、従来公知の支持体を用いることができる。その中でも耐水性支持体が好ましく用いられる。耐水性支持体を用いることで支持体中に水分が吸収されるのを防止して、受容層の経時による性能変化を防止することができる。耐水性支持体としては例えばコート紙やラミネート紙、合成紙を用いることができる。なかでもラミネート紙が好ましい。
本発明に用いる感熱転写受像シートには、必要に応じてカール調整層を形成することが好ましい。カール調整層には、ポリエチレンラミネートやポリプロピレンラミネート等が用いられる。具体的には、例えば特開昭６１−１１０１３５号公報、特開平６−２０２２９５号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。
本発明に用いる感熱転写受像シートには、必要に応じて筆記層・帯電調整層を設けることができる。筆記層、帯電調整層には、無機酸化物コロイドやイオン性ポリマー等を用いることができる。帯電防止剤として、例えば第四級アンモニウム塩、ポリアミン誘導体等のカチオン系帯電防止剤、アルキルホスフェート等のアニオン系帯電防止剤、脂肪酸エステル等のノニオン系帯電防止剤など任意のものを用いることができる。具体的には、例えば特許第３５８５５８５号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。
以下、本発明の感熱転写受像シートの製造方法について説明する。
本発明の感熱転写受像シートの製造方法では、受容層および断熱層を支持体上に同時重層塗布する。
支持体上に複数の機能の異なる複数の層（気泡層、断熱層、中間層、受容層など）からなる多層構成の感熱転写受像シートを製造する場合、特開２００４−１０６２８３号、同２００４−１８１８８８号、同２００４−３４５２６７号等の各公報に示されている如く各層を順次塗り重ねていくか、あらかじめ各層を支持体上に塗布したものを張り合わせることにより製造することが知られている。一方、写真業界では例えば複数の層を同時に重層塗布することにより生産性を大幅に向上させることが知られている。例えば米国特許第２，７６１，７９１号、同第２，６８１，２３４号、同第３，５０８，９４７号、同第４，４５７，２５６号、同第３，９９３，０１９号、特開昭６３−５４９７５号、特開昭６１−２７８８４８号、同５５−８６５５７号、同５２−３１７２７号、同５５−１４２５６５号、同５０−４３１４０号、同６３−８０８７２号、同５４−５４０２０号、特開平５−１０４０６１号、同５−１２７３０５号、特公昭４９−７０５０号の公報または明細書やＥｄｇａｒ Ｂ． Ｇｕｔｏｆｆら著，「Ｃｏａｔｉｎｇ ａｎｄ Ｄｒｙｉｎｇ Ｄｅｆｅｃｔｓ：Ｔｒｏｕｂｌｅｓｈｏｏｔｉｎｇ Ｏｐｅｒａｔｉｎｇ Ｐｒｏｂｌｅｍｓ」，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ社，１９９５年，１０１〜１０３頁などに記載のいわゆるスライド塗布（スライドコーティング法）、カーテン塗布（カーテンコーティング法）といわれる方法が知られている。しかしながら、ハロゲン化銀写真材料では、本発明のように中空粒子のような、塗布によって粒子が変形したり凝集したりしやすい比較的サイズの大きい粒子の塗布を想定しておらず、またポリマーラテックスが主成分である層を塗布する点でもハロゲン化銀写真材料とは異質のものである。
本発明では、同時重層塗布を行うことで、生産性を大幅に向上させると同時に、画像のムラをより低減させることができる。
本発明の感熱転写受像シートの製造方法では、受容層および断熱層を支持体上に同時重層塗布する。
支持体上に複数の機能の異なる複数の層（気泡層、断熱層、中間層、受容層など）からなる多層構成の感熱転写受像シートを製造する場合、特開２００４−１０６２８３号、同２００４−１８１８８８号、同２００４−３４５２６７号等の各公報に示されている如く各層を順次塗り重ねていくか、あらかじめ各層を支持体上に塗布したものを張り合わせることにより製造することが知られている。一方、写真業界では例えば複数の層を同時に重層塗布することにより生産性を大幅に向上させることが知られている。例えば米国特許第２，７６１，７９１号、同第２，６８１，２３４号、同第３，５０８，９４７号、同第４，４５７，２５６号、同第３，９９３，０１９号、特開昭６３−５４９７５号、特開昭６１−２７８８４８号、同５５−８６５５７号、同５２−３１７２７号、同５５−１４２５６５号、同５０−４３１４０号、同６３−８０８７２号、同５４−５４０２０号、特開平５−１０４０６１号、同５−１２７３０５号、特公昭４９−７０５０号の公報または明細書やＥｄｇａｒ Ｂ． Ｇｕｔｏｆｆら著，「Ｃｏａｔｉｎｇ ａｎｄ Ｄｒｙｉｎｇ Ｄｅｆｅｃｔｓ：Ｔｒｏｕｂｌｅｓｈｏｏｔｉｎｇ Ｏｐｅｒａｔｉｎｇ Ｐｒｏｂｌｅｍｓ」，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ社，１９９５年，１０１〜１０３頁などに記載のいわゆるスライド塗布（スライドコーティング法）、カーテン塗布（カーテンコーティング法）といわれる方法が知られている。しかしながら、ハロゲン化銀写真材料では、本発明のように中空粒子のような、塗布によって粒子が変形したり凝集したりしやすい比較的サイズの大きい粒子の塗布を想定しておらず、またポリマーラテックスが主成分である層を塗布する点でもハロゲン化銀写真材料とは異質のものである。
本発明では、同時重層塗布を行うことで、生産性を大幅に向上させると同時に、画像のムラをより低減させることができる。
本発明の製造方法により製造した受像シートによれば、インクシート(感熱転写シート)と組み合わせて染料拡散転写記録方式によって画像を形成することができる。そのインクシートとしては、従来公知の任意のものを用いることができる。
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中で、部または％とあるのは、特に断りのない限り質量基準である。
（感熱転写シートの作製）
支持体として片面に易接着処理がされている厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ダイアホイルＫ２００Ｅ−６Ｆ、商品名、三菱化学ポリエステルフィルム（株）製）の易接着処理がされていない面に、乾燥後の固形分塗布量が１ｇ／ｍ２となるように背面層塗工液を塗布した。乾燥後、６０℃で熱処理を行い硬化させた。
このようにして作製したポリエステルフィルムの易接着層塗布側に前記塗工液により、イエロー、マゼンタ、シアンの各染料層および転写性保護層積層体を面順次となるように塗布した感熱転写シートを作製した。各染料層の固形分塗布量は、０．８ｇ／ｍ２とした。
なお、転写性保護層積層体の形成は、離型層用塗工液を塗布し、乾燥した後に、その上に保護層用塗工液を塗布し、乾燥した後に、さらにその上に接着層塗工液を塗布した。
支持体として片面に易接着処理がされている厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ダイアホイルＫ２００Ｅ−６Ｆ、商品名、三菱化学ポリエステルフィルム（株）製）の易接着処理がされていない面に、乾燥後の固形分塗布量が１ｇ／ｍ２となるように背面層塗工液を塗布した。乾燥後、６０℃で熱処理を行い硬化させた。
このようにして作製したポリエステルフィルムの易接着層塗布側に前記塗工液により、イエロー、マゼンタ、シアンの各染料層および転写性保護層積層体を面順次となるように塗布した感熱転写シートを作製した。各染料層の固形分塗布量は、０．８ｇ／ｍ２とした。
なお、転写性保護層積層体の形成は、離型層用塗工液を塗布し、乾燥した後に、その上に保護層用塗工液を塗布し、乾燥した後に、さらにその上に接着層塗工液を塗布した。
背面層塗工液
アクリル系ポリオール樹脂 ２５．９質量部
（アクリディックＡ−８０１、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
ステアリン酸亜鉛 ０．４３質量部
（ＳＺ−２０００、商品名、堺化学工業（株）製）
リン酸エステル １．２７質量部
（プライサーフＡ２１７、商品名、第一工業製薬（株）製）
イソシアネート（５０％溶液） ８．０質量部
（バーノックＤ−８００、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１） ６４．１質量部
イエロー染料層塗工液
染料化合物（Ｙ−１） ３．９質量部
染料化合物（Ｙ−２） ３．９質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ６．２質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
ポリビニルブチラール樹脂 ２．１質量部
（デンカブチラール＃６０００−Ｃ、商品名、電気化学工業（株）製）
離型剤 ０．０５質量部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ、商品名、信越化学工業（株）製）
離型剤 ０．０３質量部
（ＴＳＦ４７０１、商品名、モメンティブ・パフォーマンス・
マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
マット剤 ０．１５質量部
（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１） ８３．９質量部
アクリル系ポリオール樹脂 ２５．９質量部
（アクリディックＡ−８０１、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
ステアリン酸亜鉛 ０．４３質量部
（ＳＺ−２０００、商品名、堺化学工業（株）製）
リン酸エステル １．２７質量部
（プライサーフＡ２１７、商品名、第一工業製薬（株）製）
イソシアネート（５０％溶液） ８．０質量部
（バーノックＤ−８００、商品名、大日本インキ化学工業（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１） ６４．１質量部
イエロー染料層塗工液
染料化合物（Ｙ−１） ３．９質量部
染料化合物（Ｙ−２） ３．９質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ６．２質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
ポリビニルブチラール樹脂 ２．１質量部
（デンカブチラール＃６０００−Ｃ、商品名、電気化学工業（株）製）
離型剤 ０．０５質量部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ、商品名、信越化学工業（株）製）
離型剤 ０．０３質量部
（ＴＳＦ４７０１、商品名、モメンティブ・パフォーマンス・
マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
マット剤 ０．１５質量部
（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１） ８３．９質量部
マゼンタ染料層塗工液
染料化合物（Ｍ−１） ０．１質量部
染料化合物（Ｍ−２） ０．７質量部
染料化合物（Ｍ−３） ６．６質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ８．１質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
ポリビニルブチラール樹脂 ０．２質量部
（デンカブチラール＃６０００−Ｃ、商品名、電気化学工業（株）製）
離型剤 ０．０５質量部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ、商品名、信越化学工業（株）製）
離型剤 ０．０３質量部
（ＴＳＦ４７０１、商品名、モメンティブ・パフォーマンス・
マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
マット剤 ０．１５質量部
（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１） ８３．９質量部
染料化合物（Ｍ−１） ０．１質量部
染料化合物（Ｍ−２） ０．７質量部
染料化合物（Ｍ−３） ６．６質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ８．１質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
ポリビニルブチラール樹脂 ０．２質量部
（デンカブチラール＃６０００−Ｃ、商品名、電気化学工業（株）製）
離型剤 ０．０５質量部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ、商品名、信越化学工業（株）製）
離型剤 ０．０３質量部
（ＴＳＦ４７０１、商品名、モメンティブ・パフォーマンス・
マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
マット剤 ０．１５質量部
（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１） ８３．９質量部
シアン染料層塗工液
染料化合物（Ｃ−１） １．２質量部
染料化合物（Ｃ−２） ６．６質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ７．５質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
ポリビニルブチラール樹脂 ０．８質量部
（デンカブチラール＃６０００−Ｃ、商品名、電気化学工業（株）製）
離型剤 ０．０５質量部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ、商品名、信越化学工業（株）製）
離型剤 ０．０３質量部
（ＴＳＦ４７０１、商品名、モメンティブ・パフォーマンス・
マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
マット剤 ０．１５質量部
（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１） ８３．９質量部
染料化合物（Ｃ−１） １．２質量部
染料化合物（Ｃ−２） ６．６質量部
ポリビニルアセタール樹脂 ７．５質量部
（エスレックＫＳ−１、商品名、積水化学工業（株）製）
ポリビニルブチラール樹脂 ０．８質量部
（デンカブチラール＃６０００−Ｃ、商品名、電気化学工業（株）製）
離型剤 ０．０５質量部
（Ｘ−２２−３０００Ｔ、商品名、信越化学工業（株）製）
離型剤 ０．０３質量部
（ＴＳＦ４７０１、商品名、モメンティブ・パフォーマンス・
マテリアルズ・ジャパン合同会社製）
マット剤 ０．１５質量部
（フローセンＵＦ、商品名、住友精工（株）製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１） ８３．９質量部
（転写性保護層積層体）
染料層の作製に使用したものと同じポリエステルフィルムに、以下に示す組成の離型層、保護層および接着層用塗工液を塗布し、転写性保護層積層体を形成した。乾膜時の塗布量は離型層０．３ｇ／ｍ２、保護層０．５ｇ／ｍ２、接着層２．２ｇ／ｍ２とした。
離型層塗工液
変性セルロース樹脂 ５．１質量部
（Ｌ−３０、商品名、ダイセル化学）
メチルエチルケトン ９４．９質量部
保護層塗工液
アクリル樹脂溶液（固形分４０％） ９０．１質量部
（ＵＮＯ−１、商品名、岐阜セラミック（有）製）
メタノール／イソプロパノール（質量比１／１） ９．９質量部
接着層塗工液
アクリル樹脂 ２４．９質量部
（ダイアナールＢＲ−７７、商品名、三菱レイヨン（株）製）
下記紫外線吸収剤ＵＶ−１ １質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−２ ２質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−３ １質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−４ １質量部
ＰＭＭＡ微粒子（ポリメチルメタクリレート微粒子） ０．４質量部
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１） ７０．１質量部
染料層の作製に使用したものと同じポリエステルフィルムに、以下に示す組成の離型層、保護層および接着層用塗工液を塗布し、転写性保護層積層体を形成した。乾膜時の塗布量は離型層０．３ｇ／ｍ２、保護層０．５ｇ／ｍ２、接着層２．２ｇ／ｍ２とした。
離型層塗工液
変性セルロース樹脂 ５．１質量部
（Ｌ−３０、商品名、ダイセル化学）
メチルエチルケトン ９４．９質量部
保護層塗工液
アクリル樹脂溶液（固形分４０％） ９０．１質量部
（ＵＮＯ−１、商品名、岐阜セラミック（有）製）
メタノール／イソプロパノール（質量比１／１） ９．９質量部
接着層塗工液
アクリル樹脂 ２４．９質量部
（ダイアナールＢＲ−７７、商品名、三菱レイヨン（株）製）
下記紫外線吸収剤ＵＶ−１ １質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−２ ２質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−３ １質量部
下記紫外線吸収剤ＵＶ−４ １質量部
ＰＭＭＡ微粒子（ポリメチルメタクリレート微粒子） ０．４質量部
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／１） ７０．１質量部
（感熱転写受像シートの作製）
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コロナ放電処理を施した後、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗層を設けた。この上に、下記組成の下引き層（中間層）、断熱層、受容層下層、受容層上層を支持体側からこの順に積層させた状態で、米国特許第２，７６１，７９１号明細書に記載の第９図に例示された方法により、同時重層塗布を行った（試料Ｎｏ．１０１）。それぞれの乾燥時の塗布量が下引き層：６．７ｇ／ｍ２、断熱層：８．７ｇ／ｍ２、受容層下層：２．６ｇ／ｍ２、受容層上層：２．７ｇ／ｍ２となるように塗布を行った。また、下記の組成は、固形分としての質量部を表す。
また、各ラテックス中に含まれる樹脂のＴｇは、熱量示差熱分析装置（ＳＩＩ製 ＴＧ−ＤＴＡ ３２０）にて測定を行った。
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コロナ放電処理を施した後、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗層を設けた。この上に、下記組成の下引き層（中間層）、断熱層、受容層下層、受容層上層を支持体側からこの順に積層させた状態で、米国特許第２，７６１，７９１号明細書に記載の第９図に例示された方法により、同時重層塗布を行った（試料Ｎｏ．１０１）。それぞれの乾燥時の塗布量が下引き層：６．７ｇ／ｍ２、断熱層：８．７ｇ／ｍ２、受容層下層：２．６ｇ／ｍ２、受容層上層：２．７ｇ／ｍ２となるように塗布を行った。また、下記の組成は、固形分としての質量部を表す。
また、各ラテックス中に含まれる樹脂のＴｇは、熱量示差熱分析装置（ＳＩＩ製 ＴＧ−ＤＴＡ ３２０）にて測定を行った。
受容層上層
塩化ビニル系ラテックス ２２．１質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業（株）製）
塩化ビニル系ラテックス ２．３質量部
（ビニブラン２７６、商品名、日信化学工業（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液） ２．０質量部
下記エステル系ワックスＥＷ−１ ２．０質量部
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．０７質量部
下記界面活性剤Ｆ−２ ０．３６質量部
ＩＩ−２５で表される添加物 ０．０３質量部
受容層下層
塩化ビニル系ラテックス １２．１質量部
（ビニブラン６９０、商品名、日信化学工業（株）製）
塩化ビニル系ラテックス １２．１質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液） １０．０質量部
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．０４質量部
ＩＩ−２５で表される添加物 ０．０３質量部
断熱層（乾燥後膜厚 １２．２μｍ）
中空ポリマー粒子ラテックス ６０．０質量部
（ＭＨ５０５５、商品名、日本ゼオン（株）製）
平均粒子径０．５μｍ、空隙率５５％、Ｔｇ＝１０５℃
スチレン・ブタジエンラテックス １１．２質量部
（ＬＸ４１５Ｍ 商品名、日本ゼオン（株）製 Ｔｇ＝２７℃）
下引き層
ポリビニルアルコール ６．７質量部
（ポバールＰＶＡ２０５、商品名、（株）クラレ製）
スチレンブタジエンゴムラテックス ６０．１質量部
（ＳＮ−３０７、商品名、日本エイ アンド エル（株）製）
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．０３質量部
塩化ビニル系ラテックス ２２．１質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業（株）製）
塩化ビニル系ラテックス ２．３質量部
（ビニブラン２７６、商品名、日信化学工業（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液） ２．０質量部
下記エステル系ワックスＥＷ−１ ２．０質量部
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．０７質量部
下記界面活性剤Ｆ−２ ０．３６質量部
ＩＩ−２５で表される添加物 ０．０３質量部
受容層下層
塩化ビニル系ラテックス １２．１質量部
（ビニブラン６９０、商品名、日信化学工業（株）製）
塩化ビニル系ラテックス １２．１質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業（株）製）
ゼラチン（１０％水溶液） １０．０質量部
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．０４質量部
ＩＩ−２５で表される添加物 ０．０３質量部
断熱層（乾燥後膜厚 １２．２μｍ）
中空ポリマー粒子ラテックス ６０．０質量部
（ＭＨ５０５５、商品名、日本ゼオン（株）製）
平均粒子径０．５μｍ、空隙率５５％、Ｔｇ＝１０５℃
スチレン・ブタジエンラテックス １１．２質量部
（ＬＸ４１５Ｍ 商品名、日本ゼオン（株）製 Ｔｇ＝２７℃）
下引き層
ポリビニルアルコール ６．７質量部
（ポバールＰＶＡ２０５、商品名、（株）クラレ製）
スチレンブタジエンゴムラテックス ６０．１質量部
（ＳＮ−３０７、商品名、日本エイ アンド エル（株）製）
下記界面活性剤Ｆ−１ ０．０３質量部
断熱層のスチレン・ブタジエンラテックスをＬＸ４３０（商品名、日本ゼオン（株）製Ｔｇ＝１２℃）に変更し、乾燥後の固形分塗設量が同じになるように塗布した以外は同様にして、試料Ｎｏ．１０２を作製した。
断熱層のスチレン・ブタジエンラテックスをビニブラン６９０（商品名、日信化学工業（株）製 Ｔｇ＝４６℃）に変更し、さらに、ゼラチンを１質量部加えて、乾燥後の固形分塗設量が同じになるように塗布した以外は同様にして、試料Ｎｏ．１０３を作製した。
試料Ｎｏ．１０３に対して、ビニブラン６９０からビニブラン９００（商品名、日信化学工業（株）製 Ｔｇ＝７０℃）に変更し、乾燥後の固形分塗設量が同じになるように塗布した以外は同様にして、試料Ｎｏ．１０４を作製した。
試料Ｎｏ．１０３に対して、ビニブラン６９０から、下記方法にて作製したＴｇ＝８７℃の樹脂を含むポリマーラテックスに変更し、乾燥後の固形分塗設量が同じになるように塗布した以外は同様にして、試料Ｎｏ．１０５を作製した。ポリマーラテックスの作製は以下のように行った。ステンレス製の耐圧容器に、イオン交換水を１７０質量部、ラウリル硫酸ナトリウム３．０質量部入れ、窒素ガスによる置換を３０分行った後、塩化ビニルモノマーを添加し４５℃まで昇温し、その後過硫酸アンモニウムを０．２質量部加え、攪拌を２時間行い、重合を完結させ、その後アンモニアにてｐＨを７．５とした後、スミライザーＧＰを０．０１質量部添加し、塩化ビニルラテックスを作製した。
各々の試料において、乾燥後の断熱層の中空粒子の質量％（固形分比）が４５％となるように塗布液処方を変更し、塗布した試料を、試料Ｎｏ．１０６〜１１０とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、下引き層、断熱層、受容層下層、受容層上層をそれぞれ１層ずつスライドコーターにより塗布後乾燥し、その後同様の塗布を行い、逐次で水系塗布した試料を、試料Ｎｏ．１１１とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、下引き層、断熱層を、試料Ｎｏ．１０１と同様に水系同時塗布した試料の上層に、受容層を下記溶剤塗布液を用いて形成させた試料を、試料Ｎｏ．１１２とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、２５℃で、湿度１０％の環境下に１６時間保存した試料、および、湿度７０％の環境下に１６時間保存し、含水率を１．８％、８．３％とした試料を、各々試料Ｎｏ．１１３、試料Ｎｏ．１１４とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、受容層上層、及び、受容層下層の塗工液からＩＩ−２５で表される化合物を抜いて塗布を行い作製した試料を試料Ｎｏ．１１５とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、下引き層を抜いて、他層は試料Ｎｏ．１０１と同様に同時重層塗布を行い作製した試料を試料Ｎｏ．１１６とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、断熱層塗布液から中空ポリマー粒子ラテックスを抜いて、乾燥固形分量を同じになるようにして塗布した試料を作製したが、プリント感度が著しく低く、後述する性能評価ができなかった。
断熱層のスチレン・ブタジエンラテックスをビニブラン６９０（商品名、日信化学工業（株）製 Ｔｇ＝４６℃）に変更し、さらに、ゼラチンを１質量部加えて、乾燥後の固形分塗設量が同じになるように塗布した以外は同様にして、試料Ｎｏ．１０３を作製した。
試料Ｎｏ．１０３に対して、ビニブラン６９０からビニブラン９００（商品名、日信化学工業（株）製 Ｔｇ＝７０℃）に変更し、乾燥後の固形分塗設量が同じになるように塗布した以外は同様にして、試料Ｎｏ．１０４を作製した。
試料Ｎｏ．１０３に対して、ビニブラン６９０から、下記方法にて作製したＴｇ＝８７℃の樹脂を含むポリマーラテックスに変更し、乾燥後の固形分塗設量が同じになるように塗布した以外は同様にして、試料Ｎｏ．１０５を作製した。ポリマーラテックスの作製は以下のように行った。ステンレス製の耐圧容器に、イオン交換水を１７０質量部、ラウリル硫酸ナトリウム３．０質量部入れ、窒素ガスによる置換を３０分行った後、塩化ビニルモノマーを添加し４５℃まで昇温し、その後過硫酸アンモニウムを０．２質量部加え、攪拌を２時間行い、重合を完結させ、その後アンモニアにてｐＨを７．５とした後、スミライザーＧＰを０．０１質量部添加し、塩化ビニルラテックスを作製した。
各々の試料において、乾燥後の断熱層の中空粒子の質量％（固形分比）が４５％となるように塗布液処方を変更し、塗布した試料を、試料Ｎｏ．１０６〜１１０とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、下引き層、断熱層、受容層下層、受容層上層をそれぞれ１層ずつスライドコーターにより塗布後乾燥し、その後同様の塗布を行い、逐次で水系塗布した試料を、試料Ｎｏ．１１１とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、下引き層、断熱層を、試料Ｎｏ．１０１と同様に水系同時塗布した試料の上層に、受容層を下記溶剤塗布液を用いて形成させた試料を、試料Ｎｏ．１１２とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、２５℃で、湿度１０％の環境下に１６時間保存した試料、および、湿度７０％の環境下に１６時間保存し、含水率を１．８％、８．３％とした試料を、各々試料Ｎｏ．１１３、試料Ｎｏ．１１４とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、受容層上層、及び、受容層下層の塗工液からＩＩ−２５で表される化合物を抜いて塗布を行い作製した試料を試料Ｎｏ．１１５とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、下引き層を抜いて、他層は試料Ｎｏ．１０１と同様に同時重層塗布を行い作製した試料を試料Ｎｏ．１１６とした。
試料Ｎｏ．１０３に対して、断熱層塗布液から中空ポリマー粒子ラテックスを抜いて、乾燥固形分量を同じになるようにして塗布した試料を作製したが、プリント感度が著しく低く、後述する性能評価ができなかった。
（溶剤塗布系受像シートの作製； 試料Ｎｏ．１１２）
下記溶剤系受容層塗布液を、バーコーターにより塗布を行った。乾燥時の塗布量は、受容層４．０ｇ／ｍ２となるように塗布を行い、乾燥は各層１１０℃、３０秒間行った。
受容層
塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂 １００質量部
（ソルバインＡ、商品名、日信化学工業（株）製）
アミノ変性シリコーン ５質量部
（信越化学工業（株）製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン ５質量部
（信越化学工業（株）製、商品名、Ｘ２２−３０００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１） ４００質量部
下記溶剤系受容層塗布液を、バーコーターにより塗布を行った。乾燥時の塗布量は、受容層４．０ｇ／ｍ２となるように塗布を行い、乾燥は各層１１０℃、３０秒間行った。
受容層
塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂 １００質量部
（ソルバインＡ、商品名、日信化学工業（株）製）
アミノ変性シリコーン ５質量部
（信越化学工業（株）製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン ５質量部
（信越化学工業（株）製、商品名、Ｘ２２−３０００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１） ４００質量部
（画像形成）
上記インクシート、受像シートを用いて、熱転写型プリンターＡ（ＡＳＫ２０００ 富士フイルム（株）製）又は熱転写型プリンターＢ（特開平５−２７８２４７号公報の図６に記載のプリンター）により１５２ｍｍ×１０２ｍｍサイズ画像の出力を行った。なお、プリンターＡの搬送速度は８秒／１枚であった。熱転写型プリンターＢは、画像形成時の感熱転写受像シートの搬送速度を５秒／１枚（高速）、５０秒／１枚（低速）に設定してプリントを行った。この際、熱転写型プリンターＡでプリントした時と同等の総熱量を与えるようサーマルヘッドの発熱量を調節した。
上記インクシート、受像シートを用いて、熱転写型プリンターＡ（ＡＳＫ２０００ 富士フイルム（株）製）又は熱転写型プリンターＢ（特開平５−２７８２４７号公報の図６に記載のプリンター）により１５２ｍｍ×１０２ｍｍサイズ画像の出力を行った。なお、プリンターＡの搬送速度は８秒／１枚であった。熱転写型プリンターＢは、画像形成時の感熱転写受像シートの搬送速度を５秒／１枚（高速）、５０秒／１枚（低速）に設定してプリントを行った。この際、熱転写型プリンターＡでプリントした時と同等の総熱量を与えるようサーマルヘッドの発熱量を調節した。
（性能評価）
下記項目について性能評価を行った。
下記項目について性能評価を行った。
（Ｄｍａｘ）
Ｄｍａｘ（黒の最高濃度）画像をプリンターＡで出力し最大転写濃度の測定を行った。ビジュアル濃度測定を行いその値を試料１０１に対する相対値を表に示した。この値が大きいほど画像の締まりが増し好ましい。ビジュアル濃度はＰｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｄｅｎｓｉｔｏｍｅｔｅｒ（Ｘ−Ｒｉｔｅ ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ社製、商品名）で測定した。
Ｄｍａｘ（黒の最高濃度）画像をプリンターＡで出力し最大転写濃度の測定を行った。ビジュアル濃度測定を行いその値を試料１０１に対する相対値を表に示した。この値が大きいほど画像の締まりが増し好ましい。ビジュアル濃度はＰｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｄｅｎｓｉｔｏｍｅｔｅｒ（Ｘ−Ｒｉｔｅ ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ社製、商品名）で測定した。
（画像均一性、画像乱れ）
ビジュアル濃度１．０のプリントをプリンターＡ、プリンターＢ（高速、低速）で各々連続５枚出力し、印画したプリントのカスレ、濃度ムラなどの発生を画像乱れとし、この画像乱れの有無を目視観察し、下記基準に従って画像乱れを評価した。本評価を１５人の評価者により行い、その平均値を求めた。
ビジュアル濃度１．０のプリントをプリンターＡ、プリンターＢ（高速、低速）で各々連続５枚出力し、印画したプリントのカスレ、濃度ムラなどの発生を画像乱れとし、この画像乱れの有無を目視観察し、下記基準に従って画像乱れを評価した。本評価を１５人の評価者により行い、その平均値を求めた。
５： プリントに画像乱れが全く確認できず、実用上問題ないレベルである
４： プリントに画像乱れをほとんど確認できず、実用上問題ないレベルである
３： プリントに画像乱れが認められるが、実用上問題ないレベルである
２： プリントに画像乱れが散発しており、実用上問題のあるレベルである
１： プリントに画像乱れが非常に多く、実用上問題のあるレベルである
４： プリントに画像乱れをほとんど確認できず、実用上問題ないレベルである
３： プリントに画像乱れが認められるが、実用上問題ないレベルである
２： プリントに画像乱れが散発しており、実用上問題のあるレベルである
１： プリントに画像乱れが非常に多く、実用上問題のあるレベルである
（搬送ローラー跡）
ビジュアル濃度１．０のプリントをプリンターＡ、及びプリンターＢ高速モードで連続５枚出力し、印画したプリントの搬送ローラー跡の発生有無を目視観察し、下記基準に従って評価した。本評価を１５人の評価者により行い、その平均値を求めた。
ビジュアル濃度１．０のプリントをプリンターＡ、及びプリンターＢ高速モードで連続５枚出力し、印画したプリントの搬送ローラー跡の発生有無を目視観察し、下記基準に従って評価した。本評価を１５人の評価者により行い、その平均値を求めた。
５： プリントにローラー跡が全く確認できず、実用上問題ないレベルである
４： プリントにローラー跡がほとんど確認できず、実用上問題ないレベルである
３： プリントにローラー跡が認められるが、実用上問題ないレベルである
２： プリントにローラー跡が散発しており、実用上問題のあるレベルである
１： プリントにローラー跡が非常に多く、実用上問題のあるレベルである
４： プリントにローラー跡がほとんど確認できず、実用上問題ないレベルである
３： プリントにローラー跡が認められるが、実用上問題ないレベルである
２： プリントにローラー跡が散発しており、実用上問題のあるレベルである
１： プリントにローラー跡が非常に多く、実用上問題のあるレベルである
また、ＪＩＳ Ｐ ８１２７に規定される方法により、全ての試料の含水率を測定した。
この結果を下記表１に示す。
この結果を下記表１に示す。
表１の結果から、断熱層に中空粒子を用い、かつＴｇが２０〜８０℃の樹脂を含み、さらに水系同時塗布にて断熱層と受容層を形成した本発明の試料においては、最高濃度が高く、画像均一性がよく、さらにローラー跡が改善されることがわかる。また、断熱層中の中空粒子固形分量が高い試料（Ｎｏ．１０１、１０３）においては、画像均一性、ローラー跡の品質を損なうことなく、高い最高濃度の画像を得ることができ、より好ましいことがわかる。また、含水率が本発明のより好ましい範囲の試料Ｎｏ．１０３においては、画像均一性、ローラー跡の品質が向上することがわかった。
Claims (5)
- 支持体上に、断熱層と受容層を有する感熱転写受像シートの製造方法であって、該断熱層に中空粒子およびガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以上８０℃以下である樹脂をそれぞれ少なくとも１種含有し、該断熱層および該受容層を水系同時重層塗布することを特徴とする感熱転写受像シートの製造方法。
- 前記断熱層中の前記中空粒子の固形分含有量が、５０〜９５質量％であることを特徴とする請求項１に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
- 前記感熱転写受像シートのＪＩＳ Ｐ ８１２７に従う方法で測定した含水率が、２〜８質量％であることを特徴とする請求項１または２に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
- 下記一般式〔Ｉ〕〜〔ＩＩＩ〕のいずれかで表される化合物を、前記受容層または前記断熱層のいずれかの層に少なくとも１種含有することを特徴とする請求項１〜３いずれか１項に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
Ｒ５およびＲ６は同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、−ＣＯＲ９、または−ＳＯ２Ｒ１０を表す。Ｒ９およびＲ１０は同じでも異なっていてもよく、炭素数１〜８のアルキル基または−Ｎ（Ｒ１１）Ｒ１２を表し、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１１およびＲ１２は同じであっても異なっていてもよく、水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。
Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子、または１価のカチオンを形成するに必要な原子群を表し、ｌは２〜６の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表し、ｎは６−ｍを表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｘが複数存在する時はそれぞれが互いに異なっていてもよい。］
Ｒ１６およびＲ１７は同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。］
- 前記支持体と前記断熱層、あるいは前記断熱層と前記受容層のいずれかの層間に、中間層を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の感熱転写受像シートの製造方法。
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