JP2008019234A - 側鎖に硫黄原子を有するグラフトポリマー及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明によれば、以下の化合物、グラフトポリマー及びその製造方法等が提供される。
1.下記式(1)で表される化合物。
2.下記式(2)で表される化合物。
3.下記式(3)で表される化合物。
4.前記式(2)又は(3)のR2〜R8の少なくとも1つが重合性基を有する2又は3に記載の化合物。
5.R1が−C6H4−CH2−である1〜4のいずれ一項に記載の化合物。
6.下記式(4)で表される高分子化合物。
7.R1が−C6H4−CH2−である6に記載の高分子化合物。
8.下記式(5)で表されるグラフトポリマー。
9.下記式(6)で表されるグラフトポリマー。
10.R1が−C6H4−CH2−である8又は9に記載のグラフトポリマー。
11.数平均分子量が400〜50,000の範囲内である2〜4のいずれかに記載の化合物。
12.数平均分子量が5,000〜500,000の範囲内である6に記載の高分子化合物。
13.数平均分子量が5,000〜500,000の範囲内である8又は9に記載のグラフトポリマー。
14.下記式で表される化合物にR2−COS−Y(R2は式(1)と同じであり、Yはアルカリ金属である。)を反応させる1に記載の化合物の製造方法。
15.上記1に記載の化合物に、下記式で示されるチイラン誘導体を反応させる2に記載の化合物の製造方法。
16.上記2に記載の化合物に、下記式で示されるエポキシ化合物又はチイラン化合物を反応させる3に記載の化合物の製造方法。
17.上記2〜4のいずれかに記載の化合物を、単独でラジカル重合又は炭素数2〜50のエチレン性不飽和結合を有する単量体とラジカル共重合させる8又は9に記載のグラフトポリマーの製造方法。
18.上記1に記載の化合物を、単独でラジカル重合又は炭素数2〜50のエチレン性不飽和結合を有する単量体とラジカル共重合させる6に記載の高分子化合物の製造方法。
19.上記6に記載の高分子化合物に、下記式で示されるチイラン誘導体を反応させる8に記載のグラフトポリマーの製造方法。
20.上記8に記載のグラフトポリマーに、下記式で示されるエポキシ化合物又はチイラン化合物を反応させる9に記載のグラフトポリマーの製造方法。
21.重合性基を有する8〜10のいずれかに記載のグラフトポリマー。
22.上記21に記載のグラフトポリマーを硬化させて得られる3次元硬化物。
23.上記21に記載のグラフトポリマーに加熱又は活性エネルギー線照射を行って硬化させる3次元硬化物の製造方法。
24.上記6又は7に記載の高分子化合物、8〜10のいずれか一項に記載のグラフトポリマー、又は22に記載の3次元硬化物を含む光学用樹脂。
具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシル等のアルキル基:シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロドデシル等のシクロアルキル基:フェニル、ナフチル、それらの置換体(トリル、キシリル、ベンジルフェニル等)等のアリール基:チエニル基、フリル基、ピリジル基、ピロリル基等のヘテロアリール基:ベンジル、フェネチル、フェニルベンジル、ナフチルメチル等のアラルキル基が例示可能である。また、これらの基はメトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、ジメチルアミノ基、ハロゲン、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。主鎖又は側鎖にハロゲン、硫黄、酸素又は窒素を含んでいてもよい。好ましくは、水素、ハロゲン、メチル基又は重水素である。尚、R3及びR4は同じでも異なっていてもよい。
式(3)、式(6)中のkは1〜1000の整数であり、好ましくは1〜500である。
に、R2−COS−Y(R2は式(1)と同じであり、Yはアルカリ金属である。)を反応させることにより得ることができる。好ましくは塩触媒存在下で反応を行う。
R2−COS−Yは式(II)で示される化合物に対し大過剰加え、反応途中でさらに追加してもよい。
反応は、アンプル封管等、水分を除去できる状態で行うのが望ましい。
を反応させることによって得ることができる。好ましくは塩触媒存在下で反応を行う。
さらに、3次元硬化物の特性を高める目的で、シリカや酸化チタン等無機フィラーや有機フィラーを任意の割合で加えてもよい。
実施例1
下記式(7)で示される化合物(以下(7)と略す)を下記の方法で合成した。
得られた化合物の分析結果を以下に示す。
IR(cm−1):1662、1629、1596、1510、1447
1H−NMR(500MHz、DMSO−d6):
δ(ppm)4.36(s、2H)、5.25(d、1H)、5.82(d、1H)、6.72(dd、1H)、7.42(dd、4H)、7.54(d、1H)、7.67(d、1H)、7.97(d、2H)
下記式(9)で示される高分子化合物(以下(9)と略す)を下記の方法で合成した。
(a)ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(SEC):東ソー株式会社製、ゲル浸透クロマトグラフィー(SEC)HLC−8020型
(b)カラム:TSKgelG1000H
(c)展開溶媒:テトラヒドロフラン
(d)標準物質:ポリスチレン
また、(9)20mgを、テトラヒドロフラン2mlに溶解させ、この溶液0.2mlをシリコンウエハー上に滴下し、スピンコータ(浅沼製作所株式会社製)により塗布した。次いで、この溶液が塗布されたシリコンウエハーを室温で24時間減圧乾燥後、エリプソメータ(ガードナー社製、115B型)により波長632.8nmにおける屈折率測定を5回行い、最大値と最小値を除いた3回の測定値の平均を屈折率とした。測定の結果、屈折率は1.668であった。
得られた化合物の分析結果を以下に示す。
IR(cm−1):1661、1596、1510、1447
1H−NMR(500MHz、CDCl3):
δ(ppm)0.71〜2.35(m、3H)、4.19(s、2H)、6.10〜8.27(m、9H)
また、下記式(10)で示されるグラフトポリマーを(以下(10)と略す)を下記の方法で合成した。
得られた化合物の分子量をGPC法で、実施例2と同じ条件で測定したところ、数平均分子量3.2×104、分散度4.6であった。
得られた化合物のIR結果を以下に示す。
IR(cm−1):1660、1599、1496、1460
1H−NMR(500MHz、CDCl3):
δ(ppm)1.56(s、1H)、2.95〜3.14(m、28H)、4.09(d、20H)、6.81〜7.26(m、55H)、7.92(d、2H)
また、スルフィドAの仕込み量、反応時間、触媒量を変えて反応を行い、得られた化合物について実施例2と同様の条件で屈折率を測定した。結果を表1に示す。
下記式(11)で示される高分子化合物(以下(11)と略す)を下記の方法で合成した。
得られた高分子化合物の分析結果を以下に示す。
IR(cm−1):1662、1510、1448
1H−NMR(500MHz、CDCl3):
δ(ppm)0.81〜2.49(m、6H)、4.21(s、2H)、6.12〜8.17(m、14H)
また、(7)とスチレンの共重合比(mol比)を変えて同様の条件で反応を行い、得られた化合物について実施例2と同じ条件で屈折率を測定した。結果を表2に示す。
下記式(12)で示されるグラフトポリマー(以下(12)と略す)を下記の方法で合成した。
得られた化合物の分子量をGPC法で測定したところ、数平均分子量1.9×104、分散度2.65であった。
下記式(13)で示される化合物(以下(13)と略す)を下記の方法で合成した。
得られた化合物の分子量をGPC法で測定したところ、数平均分子量3.7×103、分散度1.7であった。
また、得られた化合物のIR結果を以下に示す。
・IR(cm−1):1658、1630、1581、1510
・1H−NMR(500MHz、CDCl3):
δ(ppm) 1.38(s、138H)、2.61〜2.66(m、45H)、2.84〜2.92(m、92H)、3.73(s、2H)、3.85〜3.91(m、1H)5.24(d、1H)、5.74(d、1H)、6.70(dd、1H)、7.28(d、2H)、7.37(d、2H)、7.45(t、2H)、7.58(t、1H)、7.95(d、2H)
1H−NMRにおり算出されたスルフィドBの重合度は、(7)由来の芳香族環プロトンのピーク(7.95ppm)とスルフィドB由来のメチルプロトン(1.38ppm)との積分比から算出し、(7)に対する仕込み量とほぼ一致した。
また、プロピレンスルフィドの量、反応時間、反応温度を変えて検討を行い、得られた生成物の分子量、分子量分布を測定した。結果を表3に示す。
下記式(14)で示される化合物(以下(14)と略す)を下記の方法で合成した。
得られた化合物の分子量をGPC法で測定したところ、数平均分子量5.1×104、分散度2.8であった。得られた化合物のIR、NMR結果を以下に示す。
・IR(cm−1):1657、1597、1579、1508
・1H−NMR(500MHz、CDCl3):
δ(ppm) 1.18〜1.50(m、140H)、2.57〜3.15(m、138H)、3.45〜3.98(m、3H)、6.77〜7.24(m、4H)、7.54(t、2H)、7.58(t、1H)、7.95(d、2H)
下記式(15)で示されるグラフトポリマー(以下(15)と略す)を下記の方法で合成した。
得られた化合物の分子量をGPC法で、実施例2と同じ条件で測定したところ、数平均分子量2.4×104、分散度2.0であった。屈折率は1.620、硫黄含有量は30.1%であった。
得られた化合物のIR、NMR結果を以下に示す。
・IR(cm−1):1658、1597、1579、1508、1492
・1H−NMR(500MHz、CDCl3):
δ(ppm) 0.75〜1.46(m、16H)、2.34〜3.18(m、16H)、3.45〜3.80(m、3H)、6.21〜7.25(m、8H)、7.45(t、2H)、7.58(t、1H)、7.95(d、2H)
また、(13)とスチレンの共重合比(mol比)、及び(13)の側鎖部分の長さ(重合度l)を変えてグラフトポリマーを合成し、その分子量、屈折率、ガラス転移温度(Tg)を測定した。結果を表4に示す。
尚、ガラス転移温度の測定は、以下のように行った。
アルミニウムパンに合成したポリマーを約5mg秤とり、パンを密閉した後、示差走査熱量計(Seiko Instruments EXSTAR 6000/TG/DTA6200)により、窒素雰囲気下、昇温速度10℃/minの条件で行った。
下記式(16)で示されるグラフトポリマー(以下(16)と略す)を下記の方法で合成した。
得られた化合物の分子量をGPC法で測定したところ、数平均分子量2.7×104、分散度2.8であった。
また、(13)とp−ビニル安息香酸の共重合比(mol比)の異なるグラフトポリマーを合成し、その分子量、屈折率、ガラス転移温度(Tg)を測定した。結果を表4に示す。
Claims (24)
- 下記式(3)で表される化合物。
- 前記式(2)又は(3)のR2〜R8の少なくとも1つが重合性基を有する請求項2又は3に記載の化合物。
- R1が−C6H4−CH2−である請求項1〜4のいずれ一項に記載の化合物。
- R1が−C6H4−CH2−である請求項6に記載の高分子化合物。
- 下記式(5)で表されるグラフトポリマー。
- 下記式(6)で表されるグラフトポリマー。
- R1が−C6H4−CH2−である請求項8又は9に記載のグラフトポリマー。
- 数平均分子量が400〜50,000の範囲内である請求項2〜4のいずれか一項に記載の化合物。
- 数平均分子量が5,000〜500,000の範囲内である請求項6に記載の高分子化合物。
- 数平均分子量が5,000〜500,000の範囲内である請求項8又は9に記載のグラフトポリマー。
- 請求項2〜4のいずれか一項に記載の化合物を、単独でラジカル重合又は炭素数2〜50のエチレン性不飽和結合を有する単量体とラジカル共重合させる請求項8又は9に記載のグラフトポリマーの製造方法。
- 請求項1に記載の化合物を、単独でラジカル重合又は炭素数2〜50のエチレン性不飽和結合を有する単量体とラジカル共重合させる請求項6に記載の高分子化合物の製造方法。
- 重合性基を有する請求項8〜10のいずれか一項に記載のグラフトポリマー。
- 請求項21に記載のグラフトポリマーを硬化させて得られる3次元硬化物。
- 請求項21に記載のグラフトポリマーに加熱又は活性エネルギー線照射を行って硬化させる3次元硬化物の製造方法。
- 請求項6又は7に記載の高分子化合物、請求項8〜10のいずれか一項に記載のグラフトポリマー、又は請求項22に記載の3次元硬化物を含む光学用樹脂。
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