JPH0240345A - ビフェニル化合物及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、重合性単量体として特に光学材料として有用
であシ、その他、血料、インク、接着剤。

ゴムの加硫剤１ｇｉ光性樹脂、架橋剤等に有用な新規ビ
フェニル化合物及びその製造方法に関するものである。

〔従来の技術〕

現在、広く用いられている光学材料としては、ジエチレ
ングリコールビスアリルカーＩネー）’に注型基台させ
た樹脂がるる。しかし、この樹脂は。

屈折率（ηＤ）が１．５０であり、無機レンズに比べて
小さく、同等の光学特性を得るためには、レンズの中心
厚、コバ厚及び曲率を大きくする必賛があシ、全体的に
肉厚になることが避けられない。

そこで、高屈折率樹脂及びそれを合成するための単賃体
の探求がなされている。例えば、特開昭６１−８６７０
１号公報の実施例では、ビフェニル骨格を有する核置換
ハログンビフェニルアクリレートトジビニルベンゼンの
共１ｉｉｃ合体カ１．６　ａ〜１．６５の屈折率を有す
ることが記載されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記Ｏ共重合体の屈折率は、従来のレンズ材料と比較す
るとかなシ高くなっている。しかしながら、ハロゲン原
子を多く導入しているためプラスチックの特徴である＠
量化が失なわれている。−方、軽蓋化のためにハロゲン
原子全導入しない場合においては、ビフェニル骨格の高
屈折率が十分く生かされず、無機ガラスの高屈折率品（
１，６０〜１．８０）に比べるとまだ不十分である。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは、これらの忌に鑑みて鋭意研究した結果、
ビフェニル骨格に屈折率の商いスチリル基金導入した化
合物が＠童が屈折率の高いム仕体金与えるのみならず、
スチレンと同じく硬化速度に優れ、しかも高沸点化合物
であることを見い出し本発明を提案するに至った。

すなわち、本発明は一致式（１） 〔但し、Ｒ１は水素原子又はアルキル基であシ、Ｒ２は
−ＣＨ２−又は−０ＣＨ２ＣＨ２−でらシ、Ｒ３は水累
原−ＣＨ２ＣＨ２０−であシ、Ｒ６は水素原子又はアル
キル基であり、Ｘ７及びＸ８は、夫々、同種又は異極の
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
又はアルキルチオ基であり、ｍは０以上の整数である。

）で示される基である。）で示される基であシ、ｘ、Ｉ
Ｘ２．Ｘ、ＩＸ４．Ｘ５及びＸ６は、夫々、同極又は異
種の水素原子、ハロゲン原子、プルキル基、アルコキシ
基、又はアルキルチオ基であシ、ｎは０以上の整数であ
る。〕 で示されるピフェニル化合物である。

本発明の前記−数式（１ンのＸ、Ｘ２．Ｘ６．Ｘ４．Ｘ
５゜Ｘ６．　Ｘ７及びＸ８で示されるハロゲン原子は、
塩素。

臭素、ヨウ素の各ハロゲン原子が好適に使用される。

前記−数式（１ン中の”　ｐ　Ｒ４’　Ｒ６’　Ｘｌ　
’　Ｘ２＋　Ｘ、５　ｒＸ４．Ｘ５．Ｘ６．Ｘ７及びＸ
８で示されるアルキル基は特に限定されないが、一般に
は炭素原子数１〜４個の直鎖状又は分校状のものが好適
である。一般に好適に使用される該アルキル基の具体例
で提示すると、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基。

１ｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｇｏ−ブチル基
、ｔ−ブチル基が挙けられる。

また、前記−数式（１）中のｘｌ、ｘ２．ｘ、　、ｘ４
．ｘ５゜Ｘ６．Ｘ７及びＸ８で示されるアルコキシ基は
特に限定さｎないが、一般には炭素原子数１〜４個の直
鎮状又は分枝状のアルキルＡｉヲ會む基が好適である。

一般に好適に使用される該アルコキシ基の具体例全提示
するとメトキシ基、エトキシ基、ｎ−グロポキシ基、ｔ
−ブトキシ基等が挙げられる。

また前記−数式（υ中のｘ、　ｅｘ２＃Ｘ、　、Ｘ４ｅ
ｘ５゜Ｘ６．　Ｘ、及びＸ８で示されるアルキルチオ基
は、特に限定されないが一般には炭素原子数１〜４個の
直鎖状又は分枝状のアルキル基を富む基が好適である。

一般に好適に使用される該プルキルチオ基の具体例を提
示すると、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピル
チオ基、ｔ−エチルチオ基等が挙けられる。

本発明において高屈折率の観点から前記−数式％式％ ハロゲン原子及びアルキルチオ基が好ましく、更に比重
全考慮するとアルキルチオ基が特に好ましい。

更に前記−数式（１）中のれ及びｍは０以上の整数であ
れば良いが、ｎ及びｍが犬きくなシすぎると屈折重金低
下させる為、ｎ及びｍは谷々１〜３が好適である。

本発明の前記−数式（υで示される化合物の構造は次の
手段によりて確認することができる。

（イ）赤外吸収スペクトル（ＩＲ）ａ−測定することに
よシ、３１５０〜２８００ｃｍ−’付近にＣＨ＠＠に基
つ〈吸収、１６５０〜１６００ｃｍ−’付近に不飽和炭
化水素基に基づく吸収、更に１７５０〜１７００ｃｍ−
’付近にエステル結合に基つく特性吸収全観察すること
が出来る。

（ロ）　１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（’Ｈ−ＮＭＲ）
　ｉ測定することによｐ、前記−数式（１ンで表わされ
る本発明の化合物中に存在する水素原子の結合様式を知
ることが出来る。前記−数式で示される化合物の’Ｈ−
ＮＭＲ（δ＊　ｐｐｍ　：テトラメチルシラン基準、ｌ
クロロホルム溶媒中）の代表例としてピフェニル−２−
メチルチオ−４′−力ルゴン酸−ｐ−エチニルベンジル
について’Ｈ−ＮＭＲ’ｉ第１図に示す。

その解析結果上水すと次のとおりである。

すなわち、２．３　ｐｐｍにプロトン２個分に相当する
一１線が認められ、メチルチオ基（ｄ）によるものと帰
属できる。ピークが亘なってはいるが、５．４ｐｐｍに
プロトン２個分に相当する−１株が認められ、エステル
基に結合したベンジル基のメチレン鎖（ｅ）によるもの
と帰属できる。

５．２〜ｓ、　ｓ　ｐｐｍにプロトン２個分に相当する
四Ｍ＆が認められエチニル基のメチレンＣ＆）によるも
のと帰属できる。又、６．４〜７．　Ｏｐｐｆｆｌにプ
ロトン１個分に相当する四Ｘ線が認められ、エチニル基
のメチン（ｂ）によるものと帰属できる。７．８〜８．
３ｐｐｍにプロトン１２個分に相当する多ｘｉが・認め
られ、フェニル基に置換したグロトス（ｅ）　ｔ　＜ｔ
）ｐ（ｇ）　ｓ　（ｈ）　、　（ｉ）　＋　（ｊ）　、
　（ｋ）ｔ　（Ａ　、　ｆｒｒｉ）　ｒ　（ｎ）　、　
（ｏン、切によるものと帰属できる。

前述の一般式（ＩＪで示される化合物のＨ−ＮＭＲの特
徴全総括すると、Ｒ１が水素原子の場合、エチニル基の
メチレンプロトンは通常５．θ〜５．８ｐｐｍに四ｊＩ
Ｌ線で、メチンプロトンは、通常６．３〜７．０ｐｐｍ
に四１縁で机われる。Ｒ１がメチル基の場合、プロペニ
ル基のメチルグロトンａ２．１〜２．３ｐｐｍ付近に一
重線で、メチレンプロトンは４．９〜５．５ｐ　ｐｍ　
Ｋ　二１１　Ｉｆａテ現われる。Ｒ２（２）　−Ｃ１２
−及び−ｏｃＨ２ｃ４−のプロトンについては１．０〜
４．５ｐｐｍに一定のカップリングｔ−ｂこして現われ
る。フェニル基に置換したプロトンｆｌ　７．０〜８．
５ｐｐｍに特徴的なピークを示す傾向がある。

（ハ）元素分析によって炭素、水素、イオウ、及びハロ
ゲンの各１鈑％を求め、さらに認知された各元素の！ｆ
％の和を１００から減じることによって酸素のｍｌｔｔ
％金算出することが出来、梃って、該化合物の組成式を
決定することが出来る。

本発明の前記−数式（１）で示される渦層折率を有する
化合物の製造方法は特に限定されるものではない。具体
例は後述する実施例に詳迅するが代表的な製造方法を記
述すれば以下のぶりになる。

（１）−数式（２） （但し、Ｒ１は水素原子又はアルキル基であシ、Ｒ２は
−ＣＨ２−又は−０ＣＨ２ＣＨ２−であシ、Ｘｌ、Ｘ２
は、夫々、同種又は異種の水素原子、）・ログン原子、
アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基であり、
ｎは０以上の整数である。） で示されるヒドロキシ化合物と、 一般式（３） （但し、Ｒ５は−ＣＨ２−又は−ＣＭ２ＣＭ２０−であ
り、Ｒ６は水素原子又はアルキル基であ、６．ｘ、及び
Ｘ８は、夫々、同種又は異種の水素原子、／Ｎロｒン原
子、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基であ
シ、ｍは０以上の整数である。）で示される基である。

）で示される基であシ、Ｘ、　、　Ｘ４１　Ｘ５及びＸ
６は、夫々、同種又はｐｍの水素原子、ハロダン原子、
アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基であシ、
Ｒ２は水素原子、塩素原子又はアルキル基である。） で示される化合物とをエステル化反応させることによっ
て前記−数式（１）で表わされる化付物を得ることがで
きる。

原料となる前記−数式（２）及び（３）で表わされる化
合物は如伺なる方法で得られたものでも使用出来る。

前記−数式（υで表わされる化合物を得るエステル化反
応の具体例を例示すれば以下の通りである。

中　−数式（２〕で示されるヒドロキシ化合物と一般式
（３）ＯＲ２が水素原子であるビフェニルカルボン酸と
をエステル化反応させる方法、すなわち、−数式（２）
で示されるヒドロキシ化合物と一般式（３）のＲ７が水
素原子であるビフェニルカルがン酸から脱水反応させる
。両化合物の仕込みモル比は必要に応じて適宜決定すれ
ば良いが、通常、どちらか−方の化合物ｔ−過剰に使用
するのが一般的である。

又、該反応において、一般に触媒として酸を用いるのが
好ましい、触媒として好適に使用される酸を例示すれば
、硫′酸、塩酸等の鉱酸、芳香族スルホン酸等の有機酸
あるいは７フ化ホウ素ニーチーラード等のルイス酸が挙
けられる。

前記反応においては水が副生する。また、該反応は平衡
反応である為、一般にディーソースターク水分離器を用
いて水金有機溶媒と共沸させて系外に取シ除くのが好ま
しい。

該溶媒として好適に使用されるものｔ例示すれば、ベン
ゼントルエン等が挙けられる。また、脱水の方法として
ソーレックス抽出器に無水硫酸マグネシウムあるいはモ
レキュラーシープ等の乾燥剤を入れて溶媒全還流させた
シ、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカル−ジイミド等の脱
水剤を系内に共存させても差しつかえない。

前記反応における温度は溶媒の′Ｓ類によって異なるが
、一般には溶媒全還流させる温度が好ましい。反応時間
＃′ｉ、Ｗ、料の臘類によってもちがうが、通常、３０
分から２０時間、好ましくは２時間から６時間の範囲か
ら選べば十分である。また反応中においては攪拌を行う
のが好ましい。

反応糸から目的生成物、すなわち、前記−数式（１ンで
示される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公
知の方法を採用出来る。

（１１）−数式（２）で示されるヒドロキシ化合物と一
般式（３）のＲ７が塩素原子であるビフェニルカルボン
酸塩化物とを塩基の？＋在任下反応させる方法。すなわ
ち、−数式（２）で示されるヒドロキシ化合物と一般式
（３）のＲ７が塩素原子であるビフェニルカルボン酸塩
化物から脱塩化水素反応させる。両化合物の仕込みモル
比は必要に応じて適宜決定すればよいが、通常、等モル
使用するのが一般的である。また、前記反応においては
塩化水素が副生ずる。−奴にはこの塩化水素全反応糸か
ら除く為、反応系内に塩化水素捕捉剤として塩基全共存
させることが好ましい。

該塩化水素捕捉剤としての塩基は特に限定されず公知の
ものを使用することができる。一般に好適に使用される
塩基としてトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
アルキルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、テ
トラメチル尿素、炭酸ナトリウム等が挙げられる。

本発明における前記反応に際しては、一般に有機溶媒を
用いるのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるも
のを例示すれば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタン、石油エーテル、クロロホルム、塩化メ
チレン、塩化エチレン等の脂肪族又は芳香族炭化水素類
あるいはノーログン化炭化水素類；ジエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン類；アセトニトリ
ル等のニトリル類；　Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ、Ｎ−ジエチルホルムアミド等のＮ、Ｎ−ジアルキル
アミド類；ジメチルスルホキシド等が李けられる。

前記反応における温度は広い範囲から選択出来。

一般には一２０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜５０℃
の範囲から選べば十分である。反応時間は原料の徨類に
よっても違うが、通常、５分〜２４時間、好ましくは１
〜４時間の範囲から選べば十分である。また反応中にお
いては攪拌全行うのが好ましい。

反応系から目的生成物、すなわち前記−数式（幻で示さ
れる化合物を単ａｍ製する方法は特に限定されず公知の
方法が採用できる。

θ１〇　　−数式（２）で示されるヒドロキシ化合物と
一般式（３）の８３がアルキル基であるビフェニルカル
ボン酸アルキルエステルとｔエステル交換反応させる方
法。すなわち、−ｉ式（２）で示されるヒドロキシ化合
物と一般式（３）のＲ５がアルキル基であるビフェニル
カルボン酸アルキルエステルかう脱アルコール反応させ
る。両化合物の仕込みモル比は必要に厄じて適宜決定す
れば良いが、通常、いずれか−万の化合物を過剰に使用
するのが一般的である。

該反応において一般に触媒として酸又は塩基を用いるの
が好ましく、触媒として好適に使用される酸を例示すれ
ば、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられ、塩基
を例示すれば、カリウム−ｔ−ブトキシド等のカリウム
アルコキシド等が挙けられる。

前反応においてはアルコールが副生する。また該反応は
平衡反応である為、一般に副生するアルコールを反応系
外に取除くのが好ましい。

本発明における前記反応に際しては一般には無溶媒で行
な゛われるが、原料が固体でおる場盆には、−ｊ生ずる
アルコールよりも沸点の高い溶媒を用いるのが好ましい
。

該溶媒として好適に使用されるものを例示すれハ、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等の芳香族炭化水素類あるいはハロデフ置換芳
香族炭化水素類；　Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、　
Ｎ、Ｎ−ジエチルホルムアミド等のＮ、Ｎ−ジアルキル
アミド類；ジメチルスルホキシド等が挙けられる。

前記反応における温度は、−生するアルコールの極類に
よってちがうが、一般には副生するアルコールが留出す
る温度が好ましい。

反応時間は原料の一類によってもちがうが、通常、３０
分〜２４時間、好ましくは２時間〜８時間の範囲から選
べば十分である。また反応中においては攪拌を行９のが
好ましい。

反応系から目的性成物すなわち前記−収式（１）で示さ
れる化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知の
方法を採用出来る。

本発明の前記−数式（ＩＪで示される化８１！＋は、載
量かつ屈折率の尚い１合体を与えるｌ付性Ｊ４Ｌ童体と
して有用であり、該化合物の単独ｉｋ８体又は該化合物
と他の不飽和＄に体との共ム當体は、ラジカル重合開始
剤あるいは紫外線や放射縁の照射等の公知のラジカル１
合方法を特に制限なく用いて得られる。

又、ラジカル１合開始剤については特に限定されず、過
酸化ベンゾイル、ｐ−クロロベンゾイルパーオキサイド
、ジイングロピルパーオキシカー〆ネート、シー２−エ
チルへキシルノ譬−オキシカーコネート、ｔ−ブナルノ
母−オキシピバレート等の過酸化物やアゾビスイソブチ
ロニトリル等のアゾ化合物を用いることが出来、全単量
体１００重量部に対して０．００１〜５１１１菫部の割
合で用いるのが一般的である。

１合温度、時間については、重合方法、ラジカル１合開
始剤の種類によっても異なシ、必要に応じて適宜決定す
れば良い。

また、重合に際して１ｌＩＩ型剤、紫外線吸収剤、酸化
防止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染料等の各種
安定剤、添加剤會必景に応じて選択して使用することが
できる。

更に本発明の前記−数式（υで示される化自−物の単独
重合体又はその化合物と他の不飽和単重体との共］Ｌ曾
体は、反射防止、為硬度付与、耐摩れ性、耐薬品性、防
愼性付与などの表面改質を行なうため、公知の物理的あ
るいは化学的方法１ｃ施すことが可能である。

本発明のピフェニル化８物を用いて光学材料とシわけレ
ンズ材料金得る際、ｗａ記−数式（１７で示される化合
物が１官詑性でるるとき、ラジカル共重合可能な多官能
性不飽和率重体と共凰曾するのが好ましい。該多官能性
不飽和単量体の例を挙げると次のとおシである。尚、ア
クリレート及びメタクリレートを総称して（メタ）アク
リレートと記す。エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、チオグリコールジ（メタンアクリレート等の）（メ
タ）アクリレート；ジビニルベンゼン、２．５−ジビニ
ルピリジン等が早けられる。高屈折半の重合体を得る観
点からその単独］！Ｌ曾体の屈折率が１．５５以上の多
官能性不飽和単量体金用いるのが良好である。具体的に
は、ビスフェノールＡ。

、ビスフェノールＳ　、　２．２’、６．６’−テトラ
クロロビスフェノールＡ、２．２’、６．６’−テトラ
クロロビスフェノールＳ　、２．２’、６．６’〜テト
ラブロモビスフェノールＡ若しくは２．２’、６．６’
−ナト２ブロモビスフエノールＳ等のビスフェノール類
のビスβ−メタリルカーメネート、ノアクリレート又は
ジメタクリレート；テトラクロロ７タル酸ビスヒドロキ
シエチルエステル、テトラクロロイソフタル戚ビスヒド
ロキシエチルエステル、テトラクロロテレフタル酸ビス
ヒドロキシエチルエステル、テトラブロモフタル酸ビス
ヒドロキシエチルエステル看しくにテトラブロモテレフ
タル酸ビスヒドロキシエチルエステル等のビスβ−メタ
リルカーざネート、ジアクリレート又はジメタクリレー
ト；ジビニルベンゼン、２，５ジビニルピリジン等が挙
けられる。

更に１合体の比！１−小さくする観点から上記の多官能
性不飽和単量体の中でビスフェノールＡ若しくはビスフ
ェノールＳのビスβ−メタリルカーゴネート、ジアクリ
レート又はジメタクリレート；ジビニルベンゼン；　２
．５−ジビニルピリジン及びこれらの混合物が特に有用
である。

一方、前記の多官能性不飽和率に体と共にラジカル共重
合可能な１官能性不飽和単量体を便用してもさしつかえ
ない。１官能性不飽和重電体は。

高屈折率の重合体を得る観点からその単独重合体の屈折
率が１．５５以上の単量体を用いるのが良好である。

具体的には下肥のとおシである。尚、アクリレート及び
メタクリレートを総称して（メタ〕アクリレートと記す
。フェニル（メタ）アクリレート、モノクロロフェニル
（メタ）アクリレート、ノクロロフェニル（メタンアク
リレート、トリクロロフェニル（メタ）アクリレート、
モノブロモフェニル（メタンアクリレート、ジブロモフ
ェニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メ
タ）アクリレート、ペンタブロモフェニル（メタ）アク
リレート、モノクロロフェノキシエチル（メタ）アクリ
レート、ジクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレー
ト、トリクロロフェノキシエチル（メタ）アクリレート
、モノブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、
ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリ
ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタ
ブロモフェノキシエチル（メタンアクリレート、スチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、グロモスチレ
ン、ジプロモスチレン、ヨードスチレン、メチルスチレ
ン、メトキシスチレン、２−ビニルチオフェン、ビニル
ナフタレン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ベンジル（メタ
）アクリレート、エチルビニルベンゼン等が挙ケラレル
。

史に重曾体の比重金小さくする観点から上記の１官能性
不飽和単量体の中でフェニル（メタ）アクリレート、ス
チレン、メチルスチレン、メトキシスチレン、ビニルナ
フタレン、ベンジル（メタ）アクリレート、エチルビニ
ルベンゼン及び乙れらの混合物が特に有用である。

本発明において光学材料とシわけレンズ材料を得る際、
その単重体の組成比は前記−数式（１ンで示される化合
物が１官能性化合物のときは全率重体中に占める割合が
５０〜９０：ｉ！［：ｉｔ％、％に６０〜８０１１Ｌ量
慢の範囲で使用するのが好ましく、２官能性化会物のと
きは全単量体中に占める割合が１０〜ｘｏｏｘ童饅、特
に６０〜１００Ｎ重チの範囲で使用するのが好ましい。

一方、ラジカル共′Ｘ曾可能な多官能性不飽和率証体の
使用量は、前記−数式（υで示される化合賓が１官能性
化合物のときは、全単重体中に占める割合で１０〜５０
重重％、特に２０〜４０１Ｌ１％が好ましく、２官能性
化合物のときは全単重体中に占める割合で０〜９０］Ｌ
量饅、特に０〜４０重ｔ％の範囲が好ましい。

更に、ラジカル共重合可能な１官能性不飽和率重体の使
用量は、前記−数式（１）で示される化合物が１官能性
化合物のときは、全単重体中に占める割合で０〜４０ム
童％特に０〜２０＊ｔ％の範囲が好ましく、２官能性化
合物のときは全単重体中に占める割合でθ〜９０ｍ意囁
、特に０〜４０１１ｋｑｂの範囲が好ましい。

前記−数式（υで示される化合物の使用量が５０１菫チ
以下になると本発明の目的でおる高屈折率な１合体が得
られにくい。

一方、多官能性成分の使用量が少ないと、架橋が十分に
進まないために耐食５＃性、耐熱性が低下しやすいとい
う傾向がみられる。

〔効果〕

本発明において前記−数式（１）で示される化付物はム
合性率重体として有用であり、その単独１合体及び核化
合物と他の不飽和率魚体との共１合体は高屈折率’ｋＷ
している為、特にレンズ材料の様な光学材料として有用
である。

前記−数式（１７で示される化合物がハロダン置換され
ていれば更に屈折率が高く、ハロダン置換されていない
ものは、高屈折率の割に比ｌが小さいという特徴がある
。

これらの重合体音用いると、現在、レンズ材料として広
く用いられるジエチレングリコールビスアリルカーゴネ
ートの１合体音用いて製造したレンズよりも薄肉のレン
ズを製造することが可能である。

以下実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定するものでない。

尚、前記−数式（υで示される化付物が固体である場合
の屈折率の測定は、他の液状の不飽和単量体に浴牌させ
、外挿法によシ屈折″４−會求めた。

実施例１ 温度計、滴下ロート及び冷細管を付けた３００―の三つ
ロフラスコに２−メチルチオ−４１〜カルゴン酸ビフエ
ニルＱ３９．０４ｇ、塩化チオニル５５−を仕込み、攪
拌しながら徐々に加熱し７０℃にした。ガスの発生がお
さまったら、過剰の塩化チオニル全アスピレータ−で除
去し、次いでピリジン１３．９．ｐ乾燥エーテル８０ば
ｔ加えた。更にｐ−ヒドロキシメチルメチンｙ２１．４
４．！９ｔ−乾燥エーテル３５ゴに俗解させた浴液を徐
々に滴下し、滴下が終了したら、反応ａ’を還流した。

反応終了後１反応液を冷却し、水に投入した後、エーテ
ル抽出を行った。有機層を分離し、１０％硫酸で２回洗
浄５％水酸化ナトリウム水浴液で２回洗浄、最後に水で
３回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した後、エーテ
ルを減圧除去し、粘稠な液体３４．６ｇを得た。

このものの赤外スペクトル（品性製ＩＲスペクトロホト
メーターｌＲ４４０使用）會側足した結果は第２図に示
すとｂ５であシ、３１５０〜２８００ｃｍ−’にＣ−Ｈ
結合に基づく吸収、１７２０３−’にエステル基のカル
メニル結合に基づく強い吸収、１６１０ｚにＣＨ２＝　
ＣＨ結合に基づく吸収を示した。

その元素分析値Ｆｉｃ７６．７１優、Ｈ５，６１チ、８
８．９２９６であって組成式Ｃ２３Ｈ２ｏＳＯ□に対す
る計算値であるＣ７６．６７優、Ｈ５，５６％、８８．
８９％に良く一致した。

更ＫＨ−核磁気共鳴スベクトル（ＪＥＯＬ社製ＪＮＭ　
−ＰＭＸ　６０　ａＸＮＭＲスペクトロメーター使用δ
；ｐｐｍ　：テトラメチルシラン基準１重クロロホルム
温媒）全測定した結果ｔ−第１図に示した。その解析結
果は次のとおりである。

すなわち２．３　ｐｐｍにプロトン２個分に相当する一
重線が認められメチルチオ基（ｄ）によるものと帰属で
きる。ピークが蔦なりてはいるが、５．４　ｐｐｍにプ
ロトン２個分に相当する一ＩＬ線が酪められ、エステル
基に結合したベンノル基のメチレン＠（Ｃ）によるもの
と帰属できる。

５゜２〜５．８ｐｐｍにプロトン２伽分に相当する四重
線が認められエチニル基のメチン／（ａ）によるものと
帰属できる。又６．４〜７．０　ｐｐｍにプロ）７１個
分に相当する四ｘｈが認められエチニル基のメチン（ｂ
）によるものと帰属できる。７．０〜８．３ｐｐｍにプ
ロトン１２個分く相当する多ｆＬａが認められフェニル
基に置換したプロトン＜＠）　、　（ｆ）、　（Ｘ）　
、　（トン。

（１）　、　（ｊ）　、　（呻、（４，（ホ）、　（ｎ
）　、　（０）　、φ）によるものと帰属できる。

上記の結果から生成物がビフェニル−２−メチルチオ−
４′−カルボン酸ｐ−エチニルベンジルであるとａ緒し
た。

又、アツベの屈折計（アタが社製、精密アツベ屈折率３
Ｔ）′ｔ−用いて２０℃における屈折率音測定したとこ
ろηｏ　　１．６３２であっ九。

実施例２ 温度計、滴下ロート及び冷却管を付けた５００−の三つ
ロフラスコに２，２′ビフエニルジカルボン酸を３Ｂ、
７５９．塩化チオニル１１〇−仕込み、攪拌しながら、
徐々に加熱し７０℃にした。ガスの発生がおさまっ九ら
、過剰の塩化チオニル全アスピレータ−で除去し、次い
で、ピリジン２７．８ｇ、乾燥エーテル１６０−を加え
た。

更にｐ−ヒドロキシメチルスチレン４２．８ＥＭ９を乾
燥エーテル７０ｍＫ溶解させた溶液を徐々に滴下し、滴
下が終了し良ら、反応液を還流した。

反応終了後、反応液を冷却し、水に投入した後エーテル
抽出を行った。有機層全停離し、１０％硫酸で２回洗浄
、５ｓ水酸化す）　ＩＪウム水溶液で２回洗浄、最後に
水で３回洗浄し、（ｊｉｃ［マグネシウム上で乾燥した
後、エーテルを減圧除去し粘稠な液体４４．７Ｉｉｔ−
得た。

このものの赤外スペクトルを測定した結果は第３図に示
すとお９であり、３１５０〜２８００ｙ＋＋−’にＣ−
Ｈ結合に基づく吸収、１７３０３−’にエステル基のカ
ル＆ニル結合に基づく強い吸収、１６３０４−１にＣＨ
２＝ＣＨ結合に基づく吸収を示した。

その元素分析値はＣ８１，３２％、Ｈ５，５６％であっ
て組成式Ｃ，６Ｈ１，Ｏ□に対する計算値であるＣ８１
．０１優、Ｈ５，４９チに艮〈一致した。

更に１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（δｐ　ＰＰｍ：テト
ラメチルシラン基準、重クロロホルム浴媒）ｔ−測定し
た結果全第４図に示した。その４ｓ１ｆ′ｒ結果は次の
とおりである。

対称形であるので（ａ）〜（唖のグロトン金考えれば良
い。

すなわち４．９　ｐｐｍにプロトン２個分に相当する一
Ｘ線が認められ、エステル基に結付したベンジル基のメ
チレン鎖（Ｃ）によるものと帰属できる。

５．０〜５．７　ｐｐｍにプロトン２個分に相当する四
重線が認められ、エチニル基のメチレン（＆）によるも
のと帰属できる。又６．３〜６．９ｐｐｍにプロトン１
個分に相当する四ＸＷが認められエチニル基のメチン（
ｂ）によるものとＮＩ属できる。７，０〜８．０ｐｐｍ
にプロトン８個分に相当する多ｌＩ線が餡められフェニ
ル基Ｋｍ換したプロトン（ｄ）　、　（ｅ）　ｌ　（ｆ
）　、　（ｇＪ　、　（坤。

（１）　＊　（ｊ）　＋（転）によるものと帰属できる
。

上記の結果から生成物が２，２′−ビス（カルメン酸ｐ
−エチニルベンジル）ビフェニルであると確認した。

又アツベの屈折計を用いて２０℃における屈折重金測定
したところ、ηｏ　　１．６１４であった。

実施例３ 実施例１，２において詳細に記述したのと同様な方法に
よｐ表１に記載したビフェニル化合物ｒ合成した。尚、
表１には合成したピフェニル化合物の形態、赤外吸収ス
ペクトルにおける特性吸収、元素分析結果、及び屈折率
ｔも併せて記した。

実施例４ 実施例１で合成したピフェニル−２−メチルチオ−４７
−カルゲン酸Ｐ−エチニルベンジル７０′ｘ量部ジビニ
ルベンゼン３０重量部からなる重合性混合物を７０℃に
加熱し、得られた液状混合物を６５℃に保持した後、過
酸化ベンゾイル２３！Ｅ：ｌｉｔ部加えた。次いで、こ
の混合物を予め６５℃に予熱したガラス板２枚と７ツ索
糸ゴムから成るガスケットで構成されたモールドの中へ
注入し、注型１合を行った。

１合は空気炉を用いて６５℃で８時間、７５℃で８時間
さらに９０℃で４時間保持して共重合を行った。

得られた重合体の屈折率（ηＤ）は１．６３４比１は１
．１４であった。

実施例５ 実施例１で合成したビフェニル−２−メチルチオ−４′
−カルデン酸ｐエチニルベンジル７０ｍ菫都及び第２表
に示す単独１合体の屈折率が１．５５以上の共１合可能
な多官能性不飽和単重体３０Ｊ［置部からなる重合性混
会物金実施例４と同様に重合した。これらの１合体の屈
折率と比重を表２に併せて示した。

表 比較例１ ２−　（２，４−ジツロモフェ二ル）　−４，６−ジプ
ロモフエノキシエチルアクリレート７０重重部ノビニル
ベンゼン３０１Ｌ蓋部からなる１合性混付物を実施例４
と同様に重合した。得られｆｃ］ｉ合体の屈折率は１．
６４０であシ、比重は１．６２でありた。

実施例６ 実施例２で合成した２、２′−ビス（カルボン（ｌｉｐ
−エチニルベンジル）ピフェニル′ｆｔ６５℃ＫＭＬ、
過酸化ベンゾイル２１１（ｆｓ加えた。次いで、この混
合物を予め６５℃に予熱したガラス板２枚とフッ素系ゴ
ムから成るｆスケットで構成されたモールドの中へ注入
し注型１合を行なった。

重合は空気炉を用いて６５℃で８時間、７５℃で８時間
さらに９０℃で４時間保持してＸ盆を行なった。

得られた重合体の屈折率（ηＤ）は１．６２８比Ｉは１
，１５でおった。

実施例７ 実施例２で合成した２、２′−ビス（カル？ン酸ｐ−エ
チニルベンジル）ビフェニル７０！ｆＬ部及ヒｆｉ３に
示す単独重合体の屈折率が１，５５以上の共重合可能な
不飽和率重体からなる１合性混合物を実施例４と同様に
重合した。これらの重合体の屈折率と比！を表３に併せ
て示した。

実施例８ 実施例３で合成したビフェニル化分物及び表４に示す単
独１合体の屈折率が１．５５以上の共１合可能な不飽和
単量体と全表４に示す組成で混合し、得られた菖合性混
合物を実施例４と同様に１合した。これらの重合体の屈
折率と比重ｔ−表４に併せて示した。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第３図は、夫々、実施例１及び実施例２で得
られた本発明のビフェニル化合物の赤外吸収スペクトル
を示す。また、第２図及び第４図は、夫々、実施例１及
び実施例２で得られた本発明Ｏ？”　７　：ｔニヤ化合
物。１Ｈ−核磁気共鳴スペクトルを示す。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、Ｒ＿１は水素原子又はアルキル基であり、Ｒ＿
   ２は−ＣＨ＿２−又は−ＯＣＨ＿２ＣＨ＿２−であり、
   Ｒ＿３は水素原子又は▲数式、化学式、表等があります
   ▼（但し、Ｒ＿４は水素原子、アルキル基又は▲数式、
   化学式、表等があります▼（但し、Ｒ＿５は−ＣＨ＿２
   −又は−ＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏ−であり、Ｒ＿６は水素原
   子又はアルキル基であり、Ｘ＿７及びＸ＿８は、夫々、
   同種又は異種の水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
   アルコキシ基、又はアルキルチオ基であり、ｍは０以上
   の整数である。）で示される基である。） で示される基であり、Ｘ＿１、Ｘ＿２、Ｘ＿３、Ｘ＿４
   、Ｘ＿５及びＸ＿６は、夫々、同種又は異種の水素原子
   、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアル
   キルチオ基であり、ｎは０以上の整数である。〕で示さ
   れるビフェニル化合物。
2. （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但しＲ＿１は水素原子又はアルキル基であり、Ｒ＿２
   は−ＣＨ＿２−又は−ＯＣＨ＿２ＣＨ＿２−であり、Ｘ
   ＿１、Ｘ＿２は、夫々、同種又は異種の水素原子、ハロ
   ゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ
   基であり、ｎは０以上の整数である。） で示されるヒドロキシ化合物と、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＿３は水素原子又は▲数式、化学式、表等が
   あります▼（但し、Ｒ＿４は水素原子、アルキル基、又
   は ▲数式、化学式、表等があります▼（但しＲ＿５は−Ｃ
   Ｈ＿２−又は −ＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏ−であり、Ｒ＿６は水素原子又は
   アルキル基であり、Ｘ＿７及びＸ＿８は、夫々、同種又
   は異種の水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコ
   キシ基又はアルキルチオ基であり、ｍは０以上の整数で
   ある。）で示される基である。）で示される基であり、
   Ｘ＿３、Ｘ＿４、Ｘ＿５及びＸ＿６は、夫々、同種又は
   異種の水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
   シ基又はアルキルチオ基であり、Ｒ＿７は水素原子、塩
   素原子又はアルキル基である。） で示される化合物とをエステル化反応させることを特徴
   とする特許請求の範囲第（１）項記載のビフェニル化合
   物の製造方法。