JPH01294718A - 新規な透明樹脂、高屈折率透明光学用樹脂、塗料用樹脂及び単量体 - Google Patents
新規な透明樹脂、高屈折率透明光学用樹脂、塗料用樹脂及び単量体Info
- Publication number
- JPH01294718A JPH01294718A JP30154188A JP30154188A JPH01294718A JP H01294718 A JPH01294718 A JP H01294718A JP 30154188 A JP30154188 A JP 30154188A JP 30154188 A JP30154188 A JP 30154188A JP H01294718 A JPH01294718 A JP H01294718A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monomer
- resin
- formula
- refractive index
- high refractive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title claims abstract description 75
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 66
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 29
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 11
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 26
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 abstract description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 abstract description 5
- 239000012778 molding material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 abstract description 5
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 abstract description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 abstract description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 abstract 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 abstract 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 abstract 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 32
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- -1 Alternatively Substances 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 8
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 8
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- GVIJJXMXTUZIOD-UHFFFAOYSA-N thianthrene Chemical compound C1=CC=C2SC3=CC=CC=C3SC2=C1 GVIJJXMXTUZIOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GZFSZTZOMJMFSM-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylthianthrene Chemical compound C1=CC=C2SC3=CC(C=C)=CC=C3SC2=C1 GZFSZTZOMJMFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 4
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 3
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000011017 operating method Methods 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSVFYHKZQNDJEV-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-tribromophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(Br)C(Br)=C1Br ZSVFYHKZQNDJEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUPRYTFTHBNSBD-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-tribromophenyl) prop-2-enoate Chemical compound BrC1=CC=C(OC(=O)C=C)C(Br)=C1Br BUPRYTFTHBNSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLOIRPJHPDQHHN-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-trichlorophenyl) prop-2-enoate Chemical compound ClC1=CC=C(OC(=O)C=C)C(Cl)=C1Cl JLOIRPJHPDQHHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBRUEJWTPFYVRF-UHFFFAOYSA-N (2,3-dibromophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC(Br)=C1Br QBRUEJWTPFYVRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYQXPEYCYNAMNO-UHFFFAOYSA-N (2,3-dibromophenyl) prop-2-enoate Chemical compound BrC1=CC=CC(OC(=O)C=C)=C1Br HYQXPEYCYNAMNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEFNMVUNWYUUGC-UHFFFAOYSA-N (2,3-dichlorophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC(Cl)=C1Cl HEFNMVUNWYUUGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N (2,4-dichlorobenzoyl) 2,4-dichlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEZWIIUNRMEKGW-UHFFFAOYSA-N (2-bromophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1Br OEZWIIUNRMEKGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNYTWDAWZSFABS-UHFFFAOYSA-N (2-bromophenyl) prop-2-enoate Chemical compound BrC1=CC=CC=C1OC(=O)C=C VNYTWDAWZSFABS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKZMWXJHPKWFLS-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1Cl YKZMWXJHPKWFLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C(C)(C)C HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYKVVLTXXXVRT-UHFFFAOYSA-N (4-chlorobenzoyl) 4-chlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OXYKVVLTXXXVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTJWFFXZUSGGKB-UHFFFAOYSA-N (4-octoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 WTJWFFXZUSGGKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(OC)=CC=C1CC(N)C1=CC=C(OC)C=C1 ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNYXCUDBQKCMU-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichloro-1-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C(Cl)=C1 OMNYXCUDBQKCMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOHVUQIYUWSVFX-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]sulfanylphenoxy]ethanol Chemical compound C1=CC(OCCO)=CC=C1SC1=CC=C(OCCO)C=C1 DOHVUQIYUWSVFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTNSTOOXQPHXJQ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]ethanol Chemical compound C1=CC(OCCO)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 UTNSTOOXQPHXJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBQGJPPQIBWNAY-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyldibenzo-p-dioxin Chemical compound C1=CC=C2OC3=CC(C=C)=CC=C3OC2=C1 NBQGJPPQIBWNAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWDKRGRPEWCCIO-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-2-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C(Cl)Cl)C1=CC=CC=C1 DWDKRGRPEWCCIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWECMOXUNJKPPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-2-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound ClC=C(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 SWECMOXUNJKPPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 4,4'-thiodiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1SC1=CC=C(O)C=C1 VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N Allyl benzoate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 229940024874 benzophenone Drugs 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N biphenyl ether Natural products C1=C(CC=C)C(O)=CC(OC=2C(=CC(CC=C)=CC=2)O)=C1 ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C=C1 ZDNFTNPFYCKVTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- CCRCUPLGCSFEDV-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid methyl ester Natural products COC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 CCRCUPLGCSFEDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- VNVOVTURKAGCKE-UHFFFAOYSA-N dibenzo-p-dioxin-1-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound O1C2=CC=CC=C2OC2=C1C=CC=C2OC(=O)C(=C)C VNVOVTURKAGCKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABDOUIKDOGKURI-UHFFFAOYSA-N dibenzo-p-dioxin-1-yl prop-2-enoate Chemical compound O1C2=CC=CC=C2OC2=C1C=CC=C2OC(=O)C=C ABDOUIKDOGKURI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNRZUKWWLOZXSM-UHFFFAOYSA-N dibenzo-p-dioxin-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2OC3=CC(OC(=O)C=C)=CC=C3OC2=C1 UNRZUKWWLOZXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000002320 enamel (paints) Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical group C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002100 high-refractive-index polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- CCRCUPLGCSFEDV-BQYQJAHWSA-N methyl trans-cinnamate Chemical compound COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 CCRCUPLGCSFEDV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- CXOYJPWMGYDJNW-UHFFFAOYSA-N naphthalen-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C21 CXOYJPWMGYDJNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLVJUZOHXPZVLR-UHFFFAOYSA-N naphthalen-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OC(=O)C=C)=CC=C21 SLVJUZOHXPZVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFBOHOGPQUYFRF-UHFFFAOYSA-N oxanthrene Chemical compound C1=CC=C2OC3=CC=CC=C3OC2=C1 NFBOHOGPQUYFRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 210000004417 patella Anatomy 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- NBFNGRDFKUJVIN-VAWYXSNFSA-N phenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1/C=C/C(=O)OC1=CC=CC=C1 NBFNGRDFKUJVIN-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl propan-2-yloxycarbonyloxy carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(=O)OC(C)C BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- GTROKBLHFWRCII-UHFFFAOYSA-N thianthren-1-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound S1C2=CC=CC=C2SC2=C1C=CC=C2OC(=O)C(=C)C GTROKBLHFWRCII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAVSRJNGHKPBGE-UHFFFAOYSA-N thianthren-1-yl prop-2-enoate Chemical compound S1C2=CC=CC=C2SC2=C1C=CC=C2OC(=O)C=C XAVSRJNGHKPBGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDOUIMAZKFAFT-UHFFFAOYSA-N thianthren-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2SC3=CC(OC(=O)C=C)=CC=C3SC2=C1 KFDOUIMAZKFAFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F18/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an acyloxy radical of a saturated carboxylic acid, of carbonic acid or of a haloformic acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D327/00—Heterocyclic compounds containing rings having oxygen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D327/02—Heterocyclic compounds containing rings having oxygen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms one oxygen atom and one sulfur atom
- C07D327/06—Six-membered rings
- C07D327/08—[b,e]-condensed with two six-membered carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/32—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing two or more rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は透明樹脂、高屈折率透明光学用樹脂、塗料用樹
脂及び単量体に関し、更に詳細には、光学材料、成型材
料、光フアイバー用材料、フィルム、塗料等に利用可能
な透明樹脂、高屈折率、且つ透明であり、しかも軽量な
高屈折率透明光学用樹脂、高屈折率、且つ透明性に優れ
た塗料用樹脂及びこれらを重合する際に供給原料モノマ
ーとして利用可能な新規な単量体に関する。
脂及び単量体に関し、更に詳細には、光学材料、成型材
料、光フアイバー用材料、フィルム、塗料等に利用可能
な透明樹脂、高屈折率、且つ透明であり、しかも軽量な
高屈折率透明光学用樹脂、高屈折率、且つ透明性に優れ
た塗料用樹脂及びこれらを重合する際に供給原料モノマ
ーとして利用可能な新規な単量体に関する。
〈従来の技術〉
近年、光学材料用素材としては、従来から使用されてい
る無機ガラスに代って、有機光学材料が注目され、実用
化が急速に進んでいる。これは、有機光学材料が無機ガ
ラスに比べて軽量、耐衝撃性、加工性等の点において、
優れているためであり、特に安全上の理由から、眼鏡レ
ンズ等は、無機ガラスにかわり有機光学材料が用いられ
つつある。現在、実用に供されている有機光学材料は主
として、ポリメチルメタクリレート及びジエチレングリ
コールビスアリルカーボネートの単独重合体または多官
能性単量体との共重合体がある。
る無機ガラスに代って、有機光学材料が注目され、実用
化が急速に進んでいる。これは、有機光学材料が無機ガ
ラスに比べて軽量、耐衝撃性、加工性等の点において、
優れているためであり、特に安全上の理由から、眼鏡レ
ンズ等は、無機ガラスにかわり有機光学材料が用いられ
つつある。現在、実用に供されている有機光学材料は主
として、ポリメチルメタクリレート及びジエチレングリ
コールビスアリルカーボネートの単独重合体または多官
能性単量体との共重合体がある。
しかしながら、前記有機光学材料は屈折率が1.5前後
と低く、そのため、例えば視力矯正用レンズ素材として
用いる場合には、同じ度数を得る際に、無機ガラスに比
して、レンズの厚みを大きくしなければならないという
欠点が生じ需要者からの軽量、薄型化の要望に対し、か
ならずしも満足され得るものではない。
と低く、そのため、例えば視力矯正用レンズ素材として
用いる場合には、同じ度数を得る際に、無機ガラスに比
して、レンズの厚みを大きくしなければならないという
欠点が生じ需要者からの軽量、薄型化の要望に対し、か
ならずしも満足され得るものではない。
したがって、高屈折率であって、透明であり。
しかも軽量な有機光学材料の開発が強く望まれている。
一方塗料分野では、自動車用塗料を中心に塗膜の外観性
能を向上させるために、塗料の乾燥時及び硬化時におけ
る流動性の調節、塗膜の収縮低減化等積々の検討がなさ
れている。しかしながら塗料組成物に含有される樹脂自
身の屈折率を高め。
能を向上させるために、塗料の乾燥時及び硬化時におけ
る流動性の調節、塗膜の収縮低減化等積々の検討がなさ
れている。しかしながら塗料組成物に含有される樹脂自
身の屈折率を高め。
塗膜の光沢を向上させる試みは十分なされていないのが
実状であって、例えば塗料用アクリル樹脂として一般的
に用いられる単量体であるメチルメタクリレート、ブチ
ルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、エチルア
クリレート又はブチルアクリレートのホモポリマーの屈
折率は各々、1.490.1.483.1.481.1
.469又は1.4.66であり、また屈折率の高いポ
リマーとして知られる単量体であるフェニルメタクリレ
ート又はスチレンのホモポリマーの屈折率でさえ1.5
71又は1.592であって、1.600を超える材料
は用いられていないのが実状である。従って、高屈折率
で且つ透明である塗料用樹脂の開発が強く望まれている
。
実状であって、例えば塗料用アクリル樹脂として一般的
に用いられる単量体であるメチルメタクリレート、ブチ
ルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、エチルア
クリレート又はブチルアクリレートのホモポリマーの屈
折率は各々、1.490.1.483.1.481.1
.469又は1.4.66であり、また屈折率の高いポ
リマーとして知られる単量体であるフェニルメタクリレ
ート又はスチレンのホモポリマーの屈折率でさえ1.5
71又は1.592であって、1.600を超える材料
は用いられていないのが実状である。従って、高屈折率
で且つ透明である塗料用樹脂の開発が強く望まれている
。
一般に有機化合物の化学構造と屈折率との関係は(VI
)式のLorentz−Lorenz式で示されること
が知られている(r高分子」33巻3月号、1984年
p、266〜273) rし。=&≧「−レi+に〕[;;21:■ニーー==
=;t−]]Σ・ ・ ・ (VI)■ ここでn口:屈折率 〔R〕 :分子屈折、[Rコニ4π/3・NA・α(N
Aはアボガドロ数、αは 分極率) V :分子量 V=M/ρ (Mは分子量、ρは密度) 従って、化合物の屈折率を上げるためには、分子屈折[
R]を大きくする。すなわち分極率の大きい化学構造を
導入するか、あるいは分子量Vを小さくする。すなわち
密度を大きくする原子を導入する手法がとられている。
)式のLorentz−Lorenz式で示されること
が知られている(r高分子」33巻3月号、1984年
p、266〜273) rし。=&≧「−レi+に〕[;;21:■ニーー==
=;t−]]Σ・ ・ ・ (VI)■ ここでn口:屈折率 〔R〕 :分子屈折、[Rコニ4π/3・NA・α(N
Aはアボガドロ数、αは 分極率) V :分子量 V=M/ρ (Mは分子量、ρは密度) 従って、化合物の屈折率を上げるためには、分子屈折[
R]を大きくする。すなわち分極率の大きい化学構造を
導入するか、あるいは分子量Vを小さくする。すなわち
密度を大きくする原子を導入する手法がとられている。
このような観点に基づき、プラスチック分野を中心にい
くつかの高屈折率有機光学材料が研究されており、前者
の分子屈折[R]が大きい有機光学材料としては、塩素
、臭素等のハロゲン原子、あるいは芳香族環を多量に含
有する樹脂が、また後者の分子量Vが小さい有機光学材
料としては、鉛、バリウム、ランタン等の重金属を含有
する樹脂が開発されている。
くつかの高屈折率有機光学材料が研究されており、前者
の分子屈折[R]が大きい有機光学材料としては、塩素
、臭素等のハロゲン原子、あるいは芳香族環を多量に含
有する樹脂が、また後者の分子量Vが小さい有機光学材
料としては、鉛、バリウム、ランタン等の重金属を含有
する樹脂が開発されている。
しかしながら、上記の有機光学材料のうち、ハロゲン原
子を多量に含有する樹脂は、該ハロゲン原子の化学的活
性の故に、耐候性が劣るという欠点を有し、また、芳香
族環を多量に含む場合には、単量体の融点が上昇し成型
重合性が悪くなるという問題がある。一方、重金属を含
有する樹脂は。
子を多量に含有する樹脂は、該ハロゲン原子の化学的活
性の故に、耐候性が劣るという欠点を有し、また、芳香
族環を多量に含む場合には、単量体の融点が上昇し成型
重合性が悪くなるという問題がある。一方、重金属を含
有する樹脂は。
密度が大きくなり、軽量化できなくなるという欠点を生
じ、また、金属と有機化合物との結合点が加水分解され
易く、耐水性上の問題点を有している。
じ、また、金属と有機化合物との結合点が加水分解され
易く、耐水性上の問題点を有している。
更に透明樹脂を製造するための単量体として、従来3−
ビニルフェノキサチン、1−アリルフェノキサチン、1
−メタクリロイルオキシフェノキサチン及び1−アクリ
ロイルオキシフェノキチサンは全く知られていないのが
現状である。
ビニルフェノキサチン、1−アリルフェノキサチン、1
−メタクリロイルオキシフェノキサチン及び1−アクリ
ロイルオキシフェノキチサンは全く知られていないのが
現状である。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の主目的は、光学材料、成形材料、光ファイバー
用材料、フィルム又は塗料等に利用可能な透明樹脂を提
供することにある。
用材料、フィルム又は塗料等に利用可能な透明樹脂を提
供することにある。
本発明の別の目的は、軽量であり、高屈折率を有し、且
つ透明性に優れた高屈折率透明光学用樹脂を提供するこ
とにある。
つ透明性に優れた高屈折率透明光学用樹脂を提供するこ
とにある。
本発明の更に別の目的は、高屈折率を示し、且つ透明性
に優れた塗料用樹脂を提供することにある。
に優れた塗料用樹脂を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、光学材料、成形材料、光フア
イバー用材料、フィルム又は塗料等の製造にあたり供給
原料モノマーとして利用可能であり、重合性に富んだ単
量体を提供することにある。
イバー用材料、フィルム又は塗料等の製造にあたり供給
原料モノマーとして利用可能であり、重合性に富んだ単
量体を提供することにある。
〈課題を解決するための手段〉
本発明によれば、下記一般式(I)
(式中R1−は−CIl=CI(、、−CH,−C)I
=CH2、−COOC(CH,)=CH,、−COOC
H2−CH=CH2、−0C00−CH2−CH=CH
2、−0COO−CH2−C(CH,)=CH□、−0
COCR=CH,、−0COC(CH3)=CH,を示
し、R2−は−II、−0CH3、−5CH3、−CH
,、−C,H,、−CH=CH2を表わし、A1及びA
2は夫々0又はSを表わす、)で示される単量体の単独
重合体または該単量体と共重合可能な共単量体との共重
合体を含むことを特徴とする新規な透明樹脂が提供され
る。
=CH2、−COOC(CH,)=CH,、−COOC
H2−CH=CH2、−0C00−CH2−CH=CH
2、−0COO−CH2−C(CH,)=CH□、−0
COCR=CH,、−0COC(CH3)=CH,を示
し、R2−は−II、−0CH3、−5CH3、−CH
,、−C,H,、−CH=CH2を表わし、A1及びA
2は夫々0又はSを表わす、)で示される単量体の単独
重合体または該単量体と共重合可能な共単量体との共重
合体を含むことを特徴とする新規な透明樹脂が提供され
る。
また本発明によれば前記一般式(I)で示される単量体
の単独重合体または該単量体と共重合可能な共単量体と
の共重合体を含むことを特徴とする新規な高屈折率透明
光学用樹脂が提供される。
の単独重合体または該単量体と共重合可能な共単量体と
の共重合体を含むことを特徴とする新規な高屈折率透明
光学用樹脂が提供される。
更に本発明によれば、前記一般式(I)で示される単量
体の単独重合体または該単量体と共重合可能な共単量体
との共重合体を含むことを特徴とする新規な塗料用樹脂
が提供される。
体の単独重合体または該単量体と共重合可能な共単量体
との共重合体を含むことを特徴とする新規な塗料用樹脂
が提供される。
更にまた本発明によれば、下記構造式(II)で示され
る単量体が提供される。
る単量体が提供される。
更にまた本発明によれば、下記構造式(m)で示される
単量体が提供される。
単量体が提供される。
更にまた本発明によれば、下記構造式(rV)で示され
る単量体が提供される。
る単量体が提供される。
更にまた本発明によれば、下記構造式(V)で示される
単量体が提供される。
単量体が提供される。
以下本発明を更に詳細に説明する。
本発明の透明樹脂、高屈折率光学用樹脂及び塗料用樹脂
の供給原料モノマーとして使用する単量体は、下記一般
式(I)で表わすことができ、式中R1−は−CH=C
H2、−C11,−CH=CH2,、−COOC(CH
,)=CH2、−COOCI+、−CH=CH,、−〇
C00−CI□−C11=CI(2、−0COO−CI
+2−C(CI+、 )=CH,、−0COC1+=C
I□、−0COC(C)+3)=C)I2を示し、R2
−は−Hl−0C15、−5CH3、−C1+3、−C
2+!、、−CH=CH2を表わし、A8及びA2は夫
々O又はSを表わす。
の供給原料モノマーとして使用する単量体は、下記一般
式(I)で表わすことができ、式中R1−は−CH=C
H2、−C11,−CH=CH2,、−COOC(CH
,)=CH2、−COOCI+、−CH=CH,、−〇
C00−CI□−C11=CI(2、−0COO−CI
+2−C(CI+、 )=CH,、−0COC1+=C
I□、−0COC(C)+3)=C)I2を示し、R2
−は−Hl−0C15、−5CH3、−C1+3、−C
2+!、、−CH=CH2を表わし、A8及びA2は夫
々O又はSを表わす。
本発明に用いる前記一般式(I)で示される単量体とし
ては、例えば2−ビニルジベンゾ−p −ダイオキシン
、1−アリルジベンゾ−p−ダイオキシン、1−アクリ
ロイルオキシジベンゾ−p −ダイオキシン、1−メタ
クリロイルオキシジベンゾ−p−ダイオキシン、1−ア
リルオキシカルボニルジベンゾ−p−ダイオキシン、1
−メタリルオキシカルボニルジベンゾ−p−ダイオキシ
ン、1−アリルオキシカルボニルオキシジベンゾ−p−
ダイオキシン、1−メタリルオキシカルボニルオキシジ
ベンゾ−p−ダイオキシン、2−アクリロイルオキシジ
ベンゾ−p−ダイオキシン、2−アリルオキシカルボニ
ルジベンゾ−p−ダイオキシン、1−メタクリロイルフ
ェノキサチン、1−アリルオキシカルボニルフェノキサ
チン、1−メタリルオキシカルボニルフェノキサチン ルオキシカルボニルオキシフェノキサチンメタリルオキ
シ力ルボニルオキシフエノキサチン、2−ビニルチアン
トレン、1−アリルチアントレン、1−アクリロイルオ
キシチアントレン、1−メタクリロイルオキシチアント
レン、1−アリルオキシカルボニルチアントレン、1−
メタリルオキシカルボニルオキシチアントレン、2−ア
クリロイルオキシチアントレン、3−ビニルフェノキサ
チン、1−アリルフェノキサチン、1−メタクリロイル
オキシフェノキサチン又は1−アクリロイルオキシフェ
ノキサチン等を好ましく挙げることができ,特に下記構
造式(TI)、(III)、( +v )及び(V)で
示される3−ビニルフェノキサチン、1−アリルフェノ
キサチン、1−メタクリロイルオキシフェノキサチン及
び1−アクリロイルオキシフェノキサチは、全く新規な
化合物であり、本発明の透明樹脂、高屈折率透明光学用
樹脂及び塗料用樹脂の原料となる単量体として優れた性
能を示す。また構造式(n)にフェノキサチンの位置関
係を同時に示す。
ては、例えば2−ビニルジベンゾ−p −ダイオキシン
、1−アリルジベンゾ−p−ダイオキシン、1−アクリ
ロイルオキシジベンゾ−p −ダイオキシン、1−メタ
クリロイルオキシジベンゾ−p−ダイオキシン、1−ア
リルオキシカルボニルジベンゾ−p−ダイオキシン、1
−メタリルオキシカルボニルジベンゾ−p−ダイオキシ
ン、1−アリルオキシカルボニルオキシジベンゾ−p−
ダイオキシン、1−メタリルオキシカルボニルオキシジ
ベンゾ−p−ダイオキシン、2−アクリロイルオキシジ
ベンゾ−p−ダイオキシン、2−アリルオキシカルボニ
ルジベンゾ−p−ダイオキシン、1−メタクリロイルフ
ェノキサチン、1−アリルオキシカルボニルフェノキサ
チン、1−メタリルオキシカルボニルフェノキサチン ルオキシカルボニルオキシフェノキサチンメタリルオキ
シ力ルボニルオキシフエノキサチン、2−ビニルチアン
トレン、1−アリルチアントレン、1−アクリロイルオ
キシチアントレン、1−メタクリロイルオキシチアント
レン、1−アリルオキシカルボニルチアントレン、1−
メタリルオキシカルボニルオキシチアントレン、2−ア
クリロイルオキシチアントレン、3−ビニルフェノキサ
チン、1−アリルフェノキサチン、1−メタクリロイル
オキシフェノキサチン又は1−アクリロイルオキシフェ
ノキサチン等を好ましく挙げることができ,特に下記構
造式(TI)、(III)、( +v )及び(V)で
示される3−ビニルフェノキサチン、1−アリルフェノ
キサチン、1−メタクリロイルオキシフェノキサチン及
び1−アクリロイルオキシフェノキサチは、全く新規な
化合物であり、本発明の透明樹脂、高屈折率透明光学用
樹脂及び塗料用樹脂の原料となる単量体として優れた性
能を示す。また構造式(n)にフェノキサチンの位置関
係を同時に示す。
また重合に際しては、単独若しくは混合物として用いる
ことができる。
ことができる。
本発明において前記単量体を合成するには、公知の反応
を組合せることにより容易に合成することができる。例
えば前記単量体の基本骨格である9、1o−へテロ環化
合物、具体的にはジベンゾ−p−ダイオキシン、フェノ
キサチン及びチアントレンの各々の合成は、以下の反応
式により合成することができる。
を組合せることにより容易に合成することができる。例
えば前記単量体の基本骨格である9、1o−へテロ環化
合物、具体的にはジベンゾ−p−ダイオキシン、フェノ
キサチン及びチアントレンの各々の合成は、以下の反応
式により合成することができる。
また前記9,10−へテロ環化合物のビニル誘導体を得
るには、例えば以下の反応式等により合成することがで
きる。
るには、例えば以下の反応式等により合成することがで
きる。
(式中A工及びA2は、夫々0又はSを示し、DMSO
はジメチルスルフオキシドを示す。)更に前記9,10
−へテロ環化合物のアリル誘導体を得るには、例えば以
下の反応式等により合成することができる。
はジメチルスルフオキシドを示す。)更に前記9,10
−へテロ環化合物のアリル誘導体を得るには、例えば以
下の反応式等により合成することができる。
(式中A工及びA2は、夫々O又はSを示す、)更にま
た前記9,10−へテロ環化合物の(メタ)アクリロイ
ルオキシ誘導体を得るには5例えば以下の反応式等によ
り合成することができる。
た前記9,10−へテロ環化合物の(メタ)アクリロイ
ルオキシ誘導体を得るには5例えば以下の反応式等によ
り合成することができる。
n
+1 1
R
(式中A1及びA2は、夫々○又はSを示し、Rは水素
原子又はメチル基を示す。) また前記9,10−へテロ環化合物のアリルオキシカル
ボニル誘導体又はアリルオキシカルボニルオキシ誘導体
を得るには、例えば以下の反応式等により合成すること
ができる。
原子又はメチル基を示す。) また前記9,10−へテロ環化合物のアリルオキシカル
ボニル誘導体又はアリルオキシカルボニルオキシ誘導体
を得るには、例えば以下の反応式等により合成すること
ができる。
(式中A工及びA2は、夫々0又はSを示す、)本発明
の透明樹脂、高屈折率光学用樹脂及び塗料用樹脂の供給
原料モノマーは、前記−形式(I)で表わされる単量体
の他に、該重量体と共重合可可能な共単量体を用いるこ
とができる。前記共単量体は、前記単量体と共重合可能
であれば特に制限されることはなく、単官能性単量体又
は多官能性単量体のいずれも用いることができる。前記
単官能性単量体としては、例えばスチレン、クロルスチ
レン、2,4−ジクロルスチレン、ブロモスチレン、2
,4−ジプロモスチレン、ビニルナフタレン等のビニル
芳香族系コモノマー;メチルアクリレート、エチルアク
リレート、ブチルアクリレート、オクチルアクリレート
、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、クロ
ルフェニルアクリレート、ジクロルフェニルアクリレー
ト、トリクロルフェニルアクリレート、ブロモフェニル
アクリレート、ジブロモフェニルアクリレート、トリブ
ロモフェニルアクリレート、β−ナフチルアクリレート
等のアクリレート系コモノマー;メチルメタクリレート
、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソ
ブチルメタクリレート。
の透明樹脂、高屈折率光学用樹脂及び塗料用樹脂の供給
原料モノマーは、前記−形式(I)で表わされる単量体
の他に、該重量体と共重合可可能な共単量体を用いるこ
とができる。前記共単量体は、前記単量体と共重合可能
であれば特に制限されることはなく、単官能性単量体又
は多官能性単量体のいずれも用いることができる。前記
単官能性単量体としては、例えばスチレン、クロルスチ
レン、2,4−ジクロルスチレン、ブロモスチレン、2
,4−ジプロモスチレン、ビニルナフタレン等のビニル
芳香族系コモノマー;メチルアクリレート、エチルアク
リレート、ブチルアクリレート、オクチルアクリレート
、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、クロ
ルフェニルアクリレート、ジクロルフェニルアクリレー
ト、トリクロルフェニルアクリレート、ブロモフェニル
アクリレート、ジブロモフェニルアクリレート、トリブ
ロモフェニルアクリレート、β−ナフチルアクリレート
等のアクリレート系コモノマー;メチルメタクリレート
、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソ
ブチルメタクリレート。
オクチルメタクリレート、シクロへキシルメタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレニド
、クロルフェニルメタクリレート。
ト、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレニド
、クロルフェニルメタクリレート。
ジクロルフェニルメタクリレート、トリクロルフェニル
メタクリレート、ブロモフェニルメタクリレート、ジブ
ロモフェニルメタクリレート、トリブロモフェニルメタ
クリレート、β−ナフチルメタクリレート等のメタクリ
レート系コモノマー;ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸フェニ
ル、ケイ皮酸クロルフェニル、ケイ皮酸ジクロルフェニ
ル、ケイ皮酸トリクロルフェニル、ケイ皮酸ブロモフェ
ニル、ケイ皮酸ジブロモフェニル、ケイ皮酸1−リブロ
モフェニル等のケイ皮酸エステル系コモノマー;安息香
酸アリルエステル、2−クロル−安息香酸アリルエステ
ル、フェニルアリルカーボネート、2−クロルフェニル
アリルカーボネート、2−ブロモフェニルアリルカーボ
ネート、ジクロルフェニルアリルカーボネート、ジブロ
モフェニルアリルカーボネート、トリクロルフェニルア
リルカーボネート、トリブロモフェニルアリルカーボネ
ート等のアリル系単量体及びこれらの混合物等から成る
群より選択することができる。また前記共単量体である
多官能性単量体としては1例えばエチレングリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
・ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジメタクリレート等の脂肪族ジオール系(メタ
)アクリル酸エステル系単量体、エチレングリコールビ
スアリルカーボネート、ジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート等の脂肪族ジオールのアリルカーボネー
ト系単量体、ジビニルベンゼン等のジビニル芳香族化合
物、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、テレフ
タル酸ジアリル等のジアリルエステル類又はこれらの核
ハロゲン化物、ハイドロキノンジアリルカーボネート、
カテコールジアリルカーボネート、ビスフェノールAジ
アリルカーボネート、2,2′−ビス(4−ヒドロキシ
エトキシフェニル)プロパンジアリルカーボネート、ビ
スフェノール−C5’)−ジアリルカーボネート、ビス
(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホンジアリル
カーボネート、チオビスフェノールジアリルカーボネー
ト、ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルフィ
ドジアリルカーボネート等のジアリルカーボネート類又
はこれらの核ハロゲン化物、前記芳香族多価アルコール
類のジアクリレート若しくは、ジメタクリレート又はこ
れらの核ハロゲン化物及びこれらの混合物から成る群よ
り選択することができる。
メタクリレート、ブロモフェニルメタクリレート、ジブ
ロモフェニルメタクリレート、トリブロモフェニルメタ
クリレート、β−ナフチルメタクリレート等のメタクリ
レート系コモノマー;ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸フェニ
ル、ケイ皮酸クロルフェニル、ケイ皮酸ジクロルフェニ
ル、ケイ皮酸トリクロルフェニル、ケイ皮酸ブロモフェ
ニル、ケイ皮酸ジブロモフェニル、ケイ皮酸1−リブロ
モフェニル等のケイ皮酸エステル系コモノマー;安息香
酸アリルエステル、2−クロル−安息香酸アリルエステ
ル、フェニルアリルカーボネート、2−クロルフェニル
アリルカーボネート、2−ブロモフェニルアリルカーボ
ネート、ジクロルフェニルアリルカーボネート、ジブロ
モフェニルアリルカーボネート、トリクロルフェニルア
リルカーボネート、トリブロモフェニルアリルカーボネ
ート等のアリル系単量体及びこれらの混合物等から成る
群より選択することができる。また前記共単量体である
多官能性単量体としては1例えばエチレングリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
・ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジメタクリレート等の脂肪族ジオール系(メタ
)アクリル酸エステル系単量体、エチレングリコールビ
スアリルカーボネート、ジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート等の脂肪族ジオールのアリルカーボネー
ト系単量体、ジビニルベンゼン等のジビニル芳香族化合
物、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、テレフ
タル酸ジアリル等のジアリルエステル類又はこれらの核
ハロゲン化物、ハイドロキノンジアリルカーボネート、
カテコールジアリルカーボネート、ビスフェノールAジ
アリルカーボネート、2,2′−ビス(4−ヒドロキシ
エトキシフェニル)プロパンジアリルカーボネート、ビ
スフェノール−C5’)−ジアリルカーボネート、ビス
(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホンジアリル
カーボネート、チオビスフェノールジアリルカーボネー
ト、ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルフィ
ドジアリルカーボネート等のジアリルカーボネート類又
はこれらの核ハロゲン化物、前記芳香族多価アルコール
類のジアクリレート若しくは、ジメタクリレート又はこ
れらの核ハロゲン化物及びこれらの混合物から成る群よ
り選択することができる。
更に前記単量体又は共単量体の他に1本発明の透明樹脂
及び塗料用樹脂に好ましく使用できる供給原料モノマー
としては、ポリイソシアネート化合物、アルキルエーテ
ル化メラミンホルムアルデヒド樹脂等のアミノ樹脂;ポ
リアミン化合物及びポリカルボン酸化合物等から成る群
より選択される塗料用樹脂等に用いる硬化剤と反応可能
な官能基を有し、且つ前記単量体と共重合可能な他の共
単量体を用いることができる。
及び塗料用樹脂に好ましく使用できる供給原料モノマー
としては、ポリイソシアネート化合物、アルキルエーテ
ル化メラミンホルムアルデヒド樹脂等のアミノ樹脂;ポ
リアミン化合物及びポリカルボン酸化合物等から成る群
より選択される塗料用樹脂等に用いる硬化剤と反応可能
な官能基を有し、且つ前記単量体と共重合可能な他の共
単量体を用いることができる。
前記他の共単量体としては、例えば2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート
、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート等の水酸基含有コモノマー;グリシジ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレート等のエポキ
シ基含有コモノマー;アクリル酸、メタクリル酸、マレ
イン酸等のカルボキシル基含有コモノマー及びこれらの
混合物から成る群より選択することができる。
ルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート
、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート等の水酸基含有コモノマー;グリシジ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレート等のエポキ
シ基含有コモノマー;アクリル酸、メタクリル酸、マレ
イン酸等のカルボキシル基含有コモノマー及びこれらの
混合物から成る群より選択することができる。
本発明の透明樹脂、高屈折率光学用樹脂及び塗料用樹脂
に使用する樹脂は、前記−形式(I)で示される単量体
から1種又は2種以上選択して重合させるか、若しくは
、該単量体と、前記共単量体及び他の共単量体から成る
群の一種又は2種以上より選択される共単量体とを共重
合させることにより得ることができる。この際前記使用
する樹脂の含有割合は、所望の用途に要求される屈折率
、硬さ、強度、靭性などの機械的強度、熱軟化性等に関
連するガラス転移温度、耐酸性、耐アルカリ性等の耐薬
品性等により異なるが、透明樹脂、高屈折率光学用樹脂
及び塗料用樹脂全体に対して。
に使用する樹脂は、前記−形式(I)で示される単量体
から1種又は2種以上選択して重合させるか、若しくは
、該単量体と、前記共単量体及び他の共単量体から成る
群の一種又は2種以上より選択される共単量体とを共重
合させることにより得ることができる。この際前記使用
する樹脂の含有割合は、所望の用途に要求される屈折率
、硬さ、強度、靭性などの機械的強度、熱軟化性等に関
連するガラス転移温度、耐酸性、耐アルカリ性等の耐薬
品性等により異なるが、透明樹脂、高屈折率光学用樹脂
及び塗料用樹脂全体に対して。
いずれも好ましくは5〜100重量%、特に好ましくは
20〜100重量%の範囲であることが望ましい。
20〜100重量%の範囲であることが望ましい。
前記重合又は共重合方法としては、公知のラジカル重合
法又は光重合法等を用いることができ。
法又は光重合法等を用いることができ。
前記ラジカル重合法としては、例えば塊状重合法、溶液
重合法、懸濁重合法等により行うことが可能であり、特
に眼鏡レンズ等の成型体を製造する際は、塊状重合法に
よる注型成型法が好ましく、また塗料用樹脂を得るには
溶液重合法が望ましい。
重合法、懸濁重合法等により行うことが可能であり、特
に眼鏡レンズ等の成型体を製造する際は、塊状重合法に
よる注型成型法が好ましく、また塗料用樹脂を得るには
溶液重合法が望ましい。
前記ラジカル重合法に用いられるラジカル重合開始剤と
しては1例えば、ベンゾイルペルオキシド。
しては1例えば、ベンゾイルペルオキシド。
p−クロルベンゾイルペルオキシド、2,4−ジクロル
ベンゾイルペルオキシド、tert−ブチルペルオキシ
ピバレート、 tart−ブチルペルオキシ−2−エチ
ルヘキサノエート、tert−ブチルペルオキシベンゾ
エート、アセチルペルオキシド、ジイソプロピルペルオ
キシジカーボネート、ジクミルペルオキシド等のペルオ
キシド及びアゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−2
,4−ジメチルバレロニトリル、ジメチル−2,2′−
アゾビスイソブチレート等のアゾビス化合物等から成る
群の1種又は2種以上より選択することができる。前記
ラジカル重合開始剤の含有割合は、重合方法、重合条件
、共重合成分の種類等により異なるが、好ましくは、全
単量体100重量部に対して、0.1〜10重量部の範
囲で用いることが望ましく、また重合温度及び重合時間
も、使用する単量体の成分組成、反応性及び重合開始剤
の種類及び使用量により異なるが、通常10〜150℃
にて、1〜100時間反応させることにより重合させる
ことが望ましく、多段階にて重合させることもできる。
ベンゾイルペルオキシド、tert−ブチルペルオキシ
ピバレート、 tart−ブチルペルオキシ−2−エチ
ルヘキサノエート、tert−ブチルペルオキシベンゾ
エート、アセチルペルオキシド、ジイソプロピルペルオ
キシジカーボネート、ジクミルペルオキシド等のペルオ
キシド及びアゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−2
,4−ジメチルバレロニトリル、ジメチル−2,2′−
アゾビスイソブチレート等のアゾビス化合物等から成る
群の1種又は2種以上より選択することができる。前記
ラジカル重合開始剤の含有割合は、重合方法、重合条件
、共重合成分の種類等により異なるが、好ましくは、全
単量体100重量部に対して、0.1〜10重量部の範
囲で用いることが望ましく、また重合温度及び重合時間
も、使用する単量体の成分組成、反応性及び重合開始剤
の種類及び使用量により異なるが、通常10〜150℃
にて、1〜100時間反応させることにより重合させる
ことが望ましく、多段階にて重合させることもできる。
前記光重合法を用いて、眼鏡レンズ等の成型体を製造す
る場合には、単量体単独又は、単量体と共単量体との混
合物に、光重合触媒、例えばベンゾフェノン、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル等を、全単量体100重
量部に対して、好ましくは0.01〜10重量部混合し
、次いで高圧水銀ランプ等の紫外線灯等の照射または熱
風乾燥炉等により加熱する方法等によって、好ましくは
重合温度5〜80℃、重合時間1〜100時間の範囲内
で反応させることが望ましい。この場合、前述のラジカ
ル重合法にて使用するラジカル重合開始剤を併用するこ
ともできる。
る場合には、単量体単独又は、単量体と共単量体との混
合物に、光重合触媒、例えばベンゾフェノン、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル等を、全単量体100重
量部に対して、好ましくは0.01〜10重量部混合し
、次いで高圧水銀ランプ等の紫外線灯等の照射または熱
風乾燥炉等により加熱する方法等によって、好ましくは
重合温度5〜80℃、重合時間1〜100時間の範囲内
で反応させることが望ましい。この場合、前述のラジカ
ル重合法にて使用するラジカル重合開始剤を併用するこ
ともできる。
また重合又は共重合を行う際に、必要に応じて。
例えば2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェ
ノン、ベンゾトリアゾール置換体等の紫外線吸収剤、ヒ
ンダードフェノール、ヒンダードアミン等の坑酸化剤、
第4級アンモニウム塩、非イオン系界面活性剤等の帯電
防止剤等を添加し、実用性を向上させることも可能であ
る。
ノン、ベンゾトリアゾール置換体等の紫外線吸収剤、ヒ
ンダードフェノール、ヒンダードアミン等の坑酸化剤、
第4級アンモニウム塩、非イオン系界面活性剤等の帯電
防止剤等を添加し、実用性を向上させることも可能であ
る。
本発明の塗料樹脂は1例えば溶剤揮発により乾燥硬化す
る熱可塑性樹脂塗料又は硬化剤と混合して用いる熱硬化
性樹脂塗料等として用いることができる。
る熱可塑性樹脂塗料又は硬化剤と混合して用いる熱硬化
性樹脂塗料等として用いることができる。
また、塗料形態としては、着色顔料等を含まないクリヤ
ー塗料、着色顔料又はアルミニウム顔料等を含むエナメ
ル塗料若しくはメタリック塗料等として用いることがで
きる。さらに、必要に応じて、例えば2−ヒドロキシ−
4−n−オクトキシベンゾフェノン、ベンゾトリアゾー
ル置換体等の紫外線吸収剤、ヒンダードフェノール、ヒ
ンダードアミン等の坑酸化剤又は光安定剤、シリコーン
樹脂等の表面調整剤、硬化触媒、流動性調整剤等、通常
、塗料に用いられる各種添加剤を添加して用いることも
できる。これら塗料の製造方法、塗装方法および乾燥、
硬化方法は所要の用途に応じ、公知の技術を用いて行う
ことができる。
ー塗料、着色顔料又はアルミニウム顔料等を含むエナメ
ル塗料若しくはメタリック塗料等として用いることがで
きる。さらに、必要に応じて、例えば2−ヒドロキシ−
4−n−オクトキシベンゾフェノン、ベンゾトリアゾー
ル置換体等の紫外線吸収剤、ヒンダードフェノール、ヒ
ンダードアミン等の坑酸化剤又は光安定剤、シリコーン
樹脂等の表面調整剤、硬化触媒、流動性調整剤等、通常
、塗料に用いられる各種添加剤を添加して用いることも
できる。これら塗料の製造方法、塗装方法および乾燥、
硬化方法は所要の用途に応じ、公知の技術を用いて行う
ことができる。
本発明の塗料樹脂において、光重合法により塗膜を形成
させる場合には、前記単量体単独又は前記単量体と前記
共単量体及び/又は他の共単量体との混合物を、重合時
間0.1秒〜30分とする以外は、前記高屈折率光学用
樹脂を用いて眼鏡レンズ等を光重合法で製造する際の方
法と同様にして塗膜を形成させることができる。
させる場合には、前記単量体単独又は前記単量体と前記
共単量体及び/又は他の共単量体との混合物を、重合時
間0.1秒〜30分とする以外は、前記高屈折率光学用
樹脂を用いて眼鏡レンズ等を光重合法で製造する際の方
法と同様にして塗膜を形成させることができる。
〈発明の効果〉
本発明の透明樹脂は、透明性に非常に優れているので、
光学材料、成形材料、フィルム、光フアイバー用材料、
塗料等に利用可能である。また本発明の高屈折率透明光
学用樹脂は、高屈折率、且つ透明性に優れているので、
特に矯正用眼鏡レンズ等に好適である6更に本発明の塗
料用樹脂は。
光学材料、成形材料、フィルム、光フアイバー用材料、
塗料等に利用可能である。また本発明の高屈折率透明光
学用樹脂は、高屈折率、且つ透明性に優れているので、
特に矯正用眼鏡レンズ等に好適である6更に本発明の塗
料用樹脂は。
従来、該塗料用樹脂自身からは達成が困難であった高屈
折率及び優れた透明性を有しているので、自動車塗料、
家電塗料、金属塗料、紫外線硬化塗料又はその他の分野
において高い光沢が望まれる塗料に利用することができ
る。更にまた1本発明の単量体は、重合性に富み1本発
明の透明樹脂。
折率及び優れた透明性を有しているので、自動車塗料、
家電塗料、金属塗料、紫外線硬化塗料又はその他の分野
において高い光沢が望まれる塗料に利用することができ
る。更にまた1本発明の単量体は、重合性に富み1本発
明の透明樹脂。
高屈折率透明光学用樹脂及び塗料用樹脂を得るための材
料として非常に有効である。
料として非常に有効である。
〈実施例〉
以下本発明を合成例、実施例、比較例及び試験例により
更に詳細に説明するが1本発明はこれらに限定されるも
のではない。
更に詳細に説明するが1本発明はこれらに限定されるも
のではない。
企暖桝上 フェノキサチンのA
仁M、 5uter等の合成法(Organic 5y
nthesesCoi1. Vol、 2,485.1
943)に従い、フェノキサチンを得た。すなわち、5
Qの丸底フラスコに1886gのビフェニルエーテル、
256gのイオウ粉末及び510gの良く粉砕した無水
塩化アルミニウムを仕込み、良く撹拌しながら、100
℃で4時間反応させた。次に250mQの濃塩酸と2Q
の氷とが入ったビーカーに反応生成物を除々に注ぎ込み
、加水分解を行った。次いで有機層をデカンテーション
により分層後CaCQ□で乾燥し、減圧蒸留により、沸
点116〜125℃76 mm11gの留分を得た後、
メタノール中において再結晶し、融点57℃の白色結晶
であるフェノキサチン700gを得た。
nthesesCoi1. Vol、 2,485.1
943)に従い、フェノキサチンを得た。すなわち、5
Qの丸底フラスコに1886gのビフェニルエーテル、
256gのイオウ粉末及び510gの良く粉砕した無水
塩化アルミニウムを仕込み、良く撹拌しながら、100
℃で4時間反応させた。次に250mQの濃塩酸と2Q
の氷とが入ったビーカーに反応生成物を除々に注ぎ込み
、加水分解を行った。次いで有機層をデカンテーション
により分層後CaCQ□で乾燥し、減圧蒸留により、沸
点116〜125℃76 mm11gの留分を得た後、
メタノール中において再結晶し、融点57℃の白色結晶
であるフェノキサチン700gを得た。
チアントレンのΔ
に、 Niume等の合成法(J、Polym、Sci
、、17.2371−2385、1979)に従い、チ
アントレンを得た。すなわち、IQのフラスコに乾燥ベ
ンゼン328g及び良く粉砕した無水塩化アルミ151
.5Eを仕込み、ベンゼンを還流させながら、405g
の52CQ2を5時間かけて滴下した。反応終了後、製
塩r11200mQ及びIQの氷の入ったビーカーに反
応生成物を注ぎ込み、加水分解させた後、温ベンゼンで
抽出、CaCQ、で乾燥を行った。次いでロータリーエ
バポレーターで脱溶媒した後、減圧蒸溜し、190〜1
95℃718 amllgの留分を得た。次にメタノー
ル中で再結晶し、融点が155℃の白色粉末であるチア
ントレン60gを得た。
、、17.2371−2385、1979)に従い、チ
アントレンを得た。すなわち、IQのフラスコに乾燥ベ
ンゼン328g及び良く粉砕した無水塩化アルミ151
.5Eを仕込み、ベンゼンを還流させながら、405g
の52CQ2を5時間かけて滴下した。反応終了後、製
塩r11200mQ及びIQの氷の入ったビーカーに反
応生成物を注ぎ込み、加水分解させた後、温ベンゼンで
抽出、CaCQ、で乾燥を行った。次いでロータリーエ
バポレーターで脱溶媒した後、減圧蒸溜し、190〜1
95℃718 amllgの留分を得た。次にメタノー
ル中で再結晶し、融点が155℃の白色粉末であるチア
ントレン60gを得た。
澄」(倒」ユ ビニル 導 のA
2QのフラスコにIQの二硫化炭素、合成例1で合成し
た200gのフェノキサチン及び94.2gの塩化アセ
チルを仕込み、反応容器を氷で冷却しながら撹拌下、微
粉砕した無水塩化アルミニウムを1時間かけて除々に添
加した。次に50’Cで5時間反応させ、250mQの
濃塩酸と2Qの氷とが入ったビーカーに反応生成物を注
ぎ加水分解し、クロロホルムで抽出した。次いで有Uを
5%NaOH1水で洗浄後、Na25o、で乾燥し、脱
溶媒後、減圧蒸留(I75〜200℃/ 2 nut!
g)し、融点113℃の3−アセチルフェノキサチン1
57gを得た。
た200gのフェノキサチン及び94.2gの塩化アセ
チルを仕込み、反応容器を氷で冷却しながら撹拌下、微
粉砕した無水塩化アルミニウムを1時間かけて除々に添
加した。次に50’Cで5時間反応させ、250mQの
濃塩酸と2Qの氷とが入ったビーカーに反応生成物を注
ぎ加水分解し、クロロホルムで抽出した。次いで有Uを
5%NaOH1水で洗浄後、Na25o、で乾燥し、脱
溶媒後、減圧蒸留(I75〜200℃/ 2 nut!
g)し、融点113℃の3−アセチルフェノキサチン1
57gを得た。
ついで、37.agのNaBH,を溶解した500mQ
の無水メタノール溶液に、48gの3−アセチルフェノ
キサチン、テトラハイドロフラン150mQ及び無水メ
タノール100mQの混合溶液を加え、室温で5時間、
還流状態で30分間還元反応を行った。反応終了後、ロ
ータリーエバポレーターでメタノール及びテトラハイド
ロフランの大部分を除去し、エチルエーテルで抽出、N
a、So、で乾燥後、脱溶媒し、黄色オイル状の3−α
−ハイドロキシエチルフェノキサチン41gを得た。
の無水メタノール溶液に、48gの3−アセチルフェノ
キサチン、テトラハイドロフラン150mQ及び無水メ
タノール100mQの混合溶液を加え、室温で5時間、
還流状態で30分間還元反応を行った。反応終了後、ロ
ータリーエバポレーターでメタノール及びテトラハイド
ロフランの大部分を除去し、エチルエーテルで抽出、N
a、So、で乾燥後、脱溶媒し、黄色オイル状の3−α
−ハイドロキシエチルフェノキサチン41gを得た。
ついで、前記3−α−ハイドロキシエチルフェノキサチ
ン48g、ジメチルスルフオキシド132g及び無水第
1塩化銅1gを混合し、175℃で2時間脱水反応を行
った。反応終了後、水を加え、有機層をエチルエーテル
で抽出し、無水硫酸マグネシュームで乾燥後、脱溶媒し
、淡黄色液状生成物を得た。次に、シリカゲルカラムに
より精成を行い、融点40℃の白色結晶である3−ビニ
ルフェノキサチン38gを得た。
ン48g、ジメチルスルフオキシド132g及び無水第
1塩化銅1gを混合し、175℃で2時間脱水反応を行
った。反応終了後、水を加え、有機層をエチルエーテル
で抽出し、無水硫酸マグネシュームで乾燥後、脱溶媒し
、淡黄色液状生成物を得た。次に、シリカゲルカラムに
より精成を行い、融点40℃の白色結晶である3−ビニ
ルフェノキサチン38gを得た。
前記3−ビニルフェノキサチンの核磁気共鳴(NMR)
スペクトルを第1図におよび赤外線(IR)スペクトル
を第2図に夫々示す。第1図に付記した位置記号は下記
式の通りである。
スペクトルを第1図におよび赤外線(IR)スペクトル
を第2図に夫々示す。第1図に付記した位置記号は下記
式の通りである。
また、前記フェノキサチンの代りに、等量モル数のチア
ントレンを使用し、淡黄色固体状化合物である2−ビニ
ルチアントレンを得た。同化合物のNMRスペクトルを
第3図に、及びIRスペクトルを第4図に示す。第3図
に付記した位置記号は下記式の通りである。
ントレンを使用し、淡黄色固体状化合物である2−ビニ
ルチアントレンを得た。同化合物のNMRスペクトルを
第3図に、及びIRスペクトルを第4図に示す。第3図
に付記した位置記号は下記式の通りである。
105mQの無水エーテルを一5℃に冷却し、1、59
M/Qのn−ブチルリチウムのヘキサン溶液94mQを
加えた。ついで、これに合成例1で合成した。フェノキ
サチン30gの無水エーテル90mQ溶液を滴下し、同
温度で1時間撹拌した後。
M/Qのn−ブチルリチウムのヘキサン溶液94mQを
加えた。ついで、これに合成例1で合成した。フェノキ
サチン30gの無水エーテル90mQ溶液を滴下し、同
温度で1時間撹拌した後。
2時間還流させ、1−リチウムフェノキサチンを得た。
次に0℃まで冷却し、臭化アリル18.2gを滴下した
。その後、還流下、2時間反応を続けた。反応終了後、
水を加えて未反応のブチルリチウムを分解し、有機層を
エチルエーテルで抽出後、無水Na、So、で乾燥を行
った。次いでローターリエバポレーターで脱溶媒後、減
圧蒸留を行い、沸点154〜160℃/2nn+)Ig
の無色透明な液状化合物である1−アリルフェノキサチ
ンを得た。
。その後、還流下、2時間反応を続けた。反応終了後、
水を加えて未反応のブチルリチウムを分解し、有機層を
エチルエーテルで抽出後、無水Na、So、で乾燥を行
った。次いでローターリエバポレーターで脱溶媒後、減
圧蒸留を行い、沸点154〜160℃/2nn+)Ig
の無色透明な液状化合物である1−アリルフェノキサチ
ンを得た。
得られた化合物の屈折率はn。2s=1.6377であ
り、またそのNMRスペクトルを第S図におよびIRス
ペクトルを第6図に示す6第5図に付記した位置記号は
下記式の通りである。
り、またそのNMRスペクトルを第S図におよびIRス
ペクトルを第6図に示す6第5図に付記した位置記号は
下記式の通りである。
ed
a a
金威舅± 」メタ アクリロイルオキシ (本例會衣
35mQの無水エーテルを一5℃に冷却し、1.59M
/flのn−ブチルリチウムのヘキサン溶液31.4m
Qを加え、これに合成例1で合成したフェノキサチンL
ogと、無水エーテル30mQとの溶液を15分間かけ
て滴下した。滴下終了後。
/flのn−ブチルリチウムのヘキサン溶液31.4m
Qを加え、これに合成例1で合成したフェノキサチンL
ogと、無水エーテル30mQとの溶液を15分間かけ
て滴下した。滴下終了後。
還流下、2時間反応を続け、再び一5℃に冷却し、2Q
の乾燥酸素を20分間かけて吹き込んだ。ついで、6.
3gの塩化メタクリロイルを20分間かけて滴下し、同
温度で1時間反応させた後、室温に戻してから50mQ
の水を加え、反応を終了させた。有機層をエチルエーテ
ルで抽出、無水Na、So、で乾燥後、脱溶媒を行い、
ついで生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精
製分離し、2.4gの1−メタクリロイルオキシフェノ
キサチンを得た。得られた化合物のNMRスペクトルを
第7図に、及びIRスペクトルを第8図に示す。第7図
に付記した位置記号は下記式の通りである。
の乾燥酸素を20分間かけて吹き込んだ。ついで、6.
3gの塩化メタクリロイルを20分間かけて滴下し、同
温度で1時間反応させた後、室温に戻してから50mQ
の水を加え、反応を終了させた。有機層をエチルエーテ
ルで抽出、無水Na、So、で乾燥後、脱溶媒を行い、
ついで生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精
製分離し、2.4gの1−メタクリロイルオキシフェノ
キサチンを得た。得られた化合物のNMRスペクトルを
第7図に、及びIRスペクトルを第8図に示す。第7図
に付記した位置記号は下記式の通りである。
a a
また、前記合成例の中で塩化メタクリロイルの代りに、
等量モル数の塩化アクリロイルを使用し。
等量モル数の塩化アクリロイルを使用し。
1−アクリロイルオキシフェノキサチンを得た。
得られた化合物の、NMRスペクトルを第9図に、及び
IRスペクトルを第10図に示す。第9図に付記した位
置記号は下記式の通りである。
IRスペクトルを第10図に示す。第9図に付記した位
置記号は下記式の通りである。
b。
a a
次に前記合成例で合成し、以下の実施例で用いる単量体
を下記に示す通り略記する。
を下記に示す通り略記する。
単量体として3−VPT50.0重量部、単官能性単量
体としてスチレン25.0重量部、多官能性単量体とし
てジビニルベンゼン25.0重量部及び重合開始剤とし
てベンゾイルペルオキシド2.0重量部を混合・溶解し
、2枚の球面ガラスとガスケットからなるレンズ注型枠
に注入し、90℃において、15時間、熱風加熱炉中で
重合させた。冷却後、型枠より取り出して、前記熱風加
熱炉中での重合を、50℃で4時間、90℃で15時間
行ったところ、透明なレンズが得られた。
体としてスチレン25.0重量部、多官能性単量体とし
てジビニルベンゼン25.0重量部及び重合開始剤とし
てベンゾイルペルオキシド2.0重量部を混合・溶解し
、2枚の球面ガラスとガスケットからなるレンズ注型枠
に注入し、90℃において、15時間、熱風加熱炉中で
重合させた。冷却後、型枠より取り出して、前記熱風加
熱炉中での重合を、50℃で4時間、90℃で15時間
行ったところ、透明なレンズが得られた。
このレンズの屈折率を、アツベ屈折計で測定したところ
、rlo2o1.649であった。
、rlo2o1.649であった。
尖X桝又二主
表1に記載した種類及び量の単量体と共単量体を用い、
且つ重合開始剤としてベンゾイルペルオキシドを用いて
、実施例1と同様の操作手順により透明なレンズを得た
。
且つ重合開始剤としてベンゾイルペルオキシドを用いて
、実施例1と同様の操作手順により透明なレンズを得た
。
得られたレンズの屈折率を表1に示す。
矢JJLL店
20mQの乾燥ベンゼンに単量体である1 −A Q
P 10 gを溶かし、ついでこれに重合触媒として4
IIllIlo12のテトラクロロチタンと51oao
Uのトリエチルアルミニウムクロライドとを加え、2
3℃で96時間反応させた0次に生成物を10%HCQ
メタノール溶液で洗浄後、減圧乾燥して透明な樹脂生成
物を得た。同樹脂をフィルム状にしてその屈折率を測定
したところ □′。は1.654であった。
P 10 gを溶かし、ついでこれに重合触媒として4
IIllIlo12のテトラクロロチタンと51oao
Uのトリエチルアルミニウムクロライドとを加え、2
3℃で96時間反応させた0次に生成物を10%HCQ
メタノール溶液で洗浄後、減圧乾燥して透明な樹脂生成
物を得た。同樹脂をフィルム状にしてその屈折率を測定
したところ □′。は1.654であった。
ス1主」」−
撹拌機、滴下ロート、温度計およびチッ素導入管を装備
した丸底フラスコに、ベンゼン64.1重量部を仕込み
チッ素気流下80℃で還流させた。
した丸底フラスコに、ベンゼン64.1重量部を仕込み
チッ素気流下80℃で還流させた。
次いでベンゼン5重量部、3−VPT7.5重量部、2
−エチルヒドロキシメタクリレート6.96重量部、ア
クリルfio、18重量部、メチルメタクリレート3.
76重量部、ブチルメタクリレート11.60重量部及
びアゾビスイソブチロニトリル0.90重量部の混合溶
液を、滴下ロートから2時間かけて滴下した後、1時間
同温度で反応させ、固形分30重量%の塗料組成物溶液
を得た。
−エチルヒドロキシメタクリレート6.96重量部、ア
クリルfio、18重量部、メチルメタクリレート3.
76重量部、ブチルメタクリレート11.60重量部及
びアゾビスイソブチロニトリル0.90重量部の混合溶
液を、滴下ロートから2時間かけて滴下した後、1時間
同温度で反応させ、固形分30重量%の塗料組成物溶液
を得た。
得られた組成物の酸価および水酸基価は、各々4.7K
OHmg/g、10100KOH/gであった・去m影
二」」一 実施例11の単量体および共単量体の種類と量とを表2
に記載するように代えた以外は、実施例11と同様の操
作手順により、塗料組成物を得た。
OHmg/g、10100KOH/gであった・去m影
二」」一 実施例11の単量体および共単量体の種類と量とを表2
に記載するように代えた以外は、実施例11と同様の操
作手順により、塗料組成物を得た。
得られた組成物の酸価及び水酸基価を表2に示す。
共JLLは二λ
実施例11の単量体および共単量体の種類と量とを表2
に記載するように代えた以外は、実施例11と同様の操
作手順により1本発明の必須成分である一般式(I)で
示される単量体を含有しない、従来型の塗料組成物を得
た。得られた組成物試l目1L 実施例11で得られた塗料組成物溶液82.4重量部に
架橋剤として商品名「ニーパン#220J(固形分60
重量%、三井東圧化学(株)ill)17.6重量部を
加え、塗料組成物を得た。ついで得られた塗料組成物を
、フォードカップ#4で20秒となるようキシレンで希
釈した後、あらかじめ黒色塗料を塗布したガラス板に、
乾燥膜厚が30μmとなるようスプレー塗装し、ついで
140℃で30分間焼付けた。
に記載するように代えた以外は、実施例11と同様の操
作手順により1本発明の必須成分である一般式(I)で
示される単量体を含有しない、従来型の塗料組成物を得
た。得られた組成物試l目1L 実施例11で得られた塗料組成物溶液82.4重量部に
架橋剤として商品名「ニーパン#220J(固形分60
重量%、三井東圧化学(株)ill)17.6重量部を
加え、塗料組成物を得た。ついで得られた塗料組成物を
、フォードカップ#4で20秒となるようキシレンで希
釈した後、あらかじめ黒色塗料を塗布したガラス板に、
乾燥膜厚が30μmとなるようスプレー塗装し、ついで
140℃で30分間焼付けた。
得られた、黒色塗膜/クリアー塗膜の2層からなる塗板
の光沢値をDori−gon変角光沢計、商品名rD4
7R−6FJ 、(Hunter社(株)lりで測定し
た。その結果Rs値が98.0、D/I値が98.9と
高い値であった。ここでRs値とは30’光沢値であり
、またD/I値とは、塗膜の鮮映性を表わす値であって
ともに高い程優れた鮮映性を示す。
の光沢値をDori−gon変角光沢計、商品名rD4
7R−6FJ 、(Hunter社(株)lりで測定し
た。その結果Rs値が98.0、D/I値が98.9と
高い値であった。ここでRs値とは30’光沢値であり
、またD/I値とは、塗膜の鮮映性を表わす値であって
ともに高い程優れた鮮映性を示す。
K腹何蛮二見
試験例1で使用した実施例11の塗料用樹脂を表3に示
す樹脂に代えた以外は、試験例1と同様の配合および操
作手順により塗板を得た。得られた塗板のDori−g
on変角光沢計での測定値を表3に示す。
す樹脂に代えた以外は、試験例1と同様の配合および操
作手順により塗板を得た。得られた塗板のDori−g
on変角光沢計での測定値を表3に示す。
(以下余白)
試験例1〜4は1本発明の塗料用樹脂をその構成4分と
して含有しているため、高い鮮映性、特にRs値におい
て高い数値を示した。一方試験例5〜6は、従来の塗料
用樹脂を使用しているため、本発明の塗料用樹脂に比し
て鮮映性に劣っていることが判った。
して含有しているため、高い鮮映性、特にRs値におい
て高い数値を示した。一方試験例5〜6は、従来の塗料
用樹脂を使用しているため、本発明の塗料用樹脂に比し
て鮮映性に劣っていることが判った。
第1図は合成例2で得られたビニル誘導体である3−ビ
ニルフェノキサチンの核磁気共鳴(NMR)スペクトル
を示すチャート、第2図は合成例2で得られたビニル誘
導体である3−ビニルフェノキサチンの赤外線吸収(I
R)スペクトルを示すチャート、第3図は合成例2で得
られた2−ビニルチアントレンのNMRスペクトルを示
すチャート、第4図は合成例2で得られた2−ビニルチ
アントレンのIRスペクトルを示すチャート、第5図は
合成例3で得られた1−アリルフェノキサチンのNMR
スペクトルを示すチャート、第6図は合成例3で得られ
た1−アリルフェノキサチンのIRスペクトルを示すチ
ャート、第7図は合成例4で得られた1−メタクリロイ
ルオキシフェノキサチンのNMRスペクトルを示すチャ
ート、第8図は合成例4で得られた1−メタクリロイル
オキシフェノキサチンのIRスペクトルを示すチャート
、第9図は合成例4で得ら扛た1−アクリロイルオキシ
フェノキサチンのNMRスペクトルを示すチャート、第
10図は合成例4で得られた1−アクリロイルオキシフ
エノキチサンのIRスペクトルを示すチャートである。
ニルフェノキサチンの核磁気共鳴(NMR)スペクトル
を示すチャート、第2図は合成例2で得られたビニル誘
導体である3−ビニルフェノキサチンの赤外線吸収(I
R)スペクトルを示すチャート、第3図は合成例2で得
られた2−ビニルチアントレンのNMRスペクトルを示
すチャート、第4図は合成例2で得られた2−ビニルチ
アントレンのIRスペクトルを示すチャート、第5図は
合成例3で得られた1−アリルフェノキサチンのNMR
スペクトルを示すチャート、第6図は合成例3で得られ
た1−アリルフェノキサチンのIRスペクトルを示すチ
ャート、第7図は合成例4で得られた1−メタクリロイ
ルオキシフェノキサチンのNMRスペクトルを示すチャ
ート、第8図は合成例4で得られた1−メタクリロイル
オキシフェノキサチンのIRスペクトルを示すチャート
、第9図は合成例4で得ら扛た1−アクリロイルオキシ
フェノキサチンのNMRスペクトルを示すチャート、第
10図は合成例4で得られた1−アクリロイルオキシフ
エノキチサンのIRスペクトルを示すチャートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (式中R_1−は−CH=CH_2、−CH_2−CH
=CH_2、−COOC(CH_3)=CH_2、−C
OOCH_2−CH=CH_2、−OCOO−CH_2
−CH=CH_2、−OCOO−CH_2−C(CH_
3)=CH_2、−OCOCH=CH_2、−OCOC
(CH_3)=CH_2を示し、R_2−は−H、−O
CH_3、−SCH_3、−CH_3、−C_2H_5
、−CH=CH_2を表わし、A_1及びA_2は夫々
O又はSを表わす。)で示される単量体の単独重合体ま
たは該単量体と共重合可能な共単量体との共重合体を含
むことを特徴とする新規な透明樹脂。 2)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (式中R_1−は−CH=CH_2、−CH_2−CH
=CH_2、−COOC(CH_3)=CH_2、−C
OOCH_2−CH=CH_2、−OCOO−CH_2
−CH=CH_2、−OCOO−CH_2−C(CH_
3)=CH_2、−OCOCH=CH_2、−OCOC
(CH_3)=CH_2を示し、R_2−は−H、−O
CH_3、−SCH_3、−CH_3、−C_2H_5
、−CH=CH_2を表わし、A_1、及びA_2は夫
々O又はSを表わす。)で示される単量体の単独重合体
または該単量体と共重合可能な共単量体との共重合体を
含むことを特徴とする新規な高屈折率透明光学用樹脂。 3)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (式中R_1−は−CH=CH_2、−CH_2−CH
=CH_2、−COOC(CH_3)=CH_2、−C
OOCH_2−CH=CH_2、−OCOO−CH_2
−CH=CH_2、−OCOO−CH_2−C(CH_
3)=CH_2、−OCOCH=CH_2、−OCOC
(CH_3)=CH_2を示し、R_2−は−H、−O
CH_3、−SCH_3、−CH_3、−C_2H_5
、−CH=CH_2を表わし、A_1及びA_2は夫々
O又はSを表わす。)で示される単量体の単独重合体ま
たは該単量体と共重合可能な共単量体との共重合体を含
むことを特徴とする新規な塗料用樹脂。 4)下記構造式(II)で示される単量体 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(II) 5)下記構造式(III)で示される単量体 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(III) 6)下記構造式(IV)で示される単量体 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(IV) 7)下記構造式(V)で示される単量体 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(V)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30154188A JPH01294718A (ja) | 1987-12-15 | 1988-11-29 | 新規な透明樹脂、高屈折率透明光学用樹脂、塗料用樹脂及び単量体 |
EP19880121042 EP0320954A3 (en) | 1987-12-15 | 1988-12-15 | Transparent resin and transparent resin products |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62-315267 | 1987-12-15 | ||
JP31526787 | 1987-12-15 | ||
JP30154188A JPH01294718A (ja) | 1987-12-15 | 1988-11-29 | 新規な透明樹脂、高屈折率透明光学用樹脂、塗料用樹脂及び単量体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01294718A true JPH01294718A (ja) | 1989-11-28 |
Family
ID=26562725
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30154188A Pending JPH01294718A (ja) | 1987-12-15 | 1988-11-29 | 新規な透明樹脂、高屈折率透明光学用樹脂、塗料用樹脂及び単量体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0320954A3 (ja) |
JP (1) | JPH01294718A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001076607A1 (fr) * | 2000-04-12 | 2001-10-18 | Nichiiko Pharmaceutical Co., Ltd. | Sirop sous forme de substance seche renfermant des microcapsules de theophylline a liberation prolongee |
JP2011168526A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Tokyo Institute Of Technology | 新規(メタ)アクリレート化合物及びその製造方法 |
JP2013213860A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-17 | Jsr Corp | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 |
JP2014038038A (ja) * | 2012-08-17 | 2014-02-27 | Kri Inc | 化学物質の屈折率推算方法 |
JP2019519897A (ja) * | 2016-08-05 | 2019-07-11 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH | 電荷貯蔵体としてのチアントレン含有ポリマーの使用 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8921069D0 (en) * | 1989-09-18 | 1989-11-01 | Wellcome Found | Pharmaceutically active compound,preparation and use |
EP3279223A1 (de) | 2016-08-05 | 2018-02-07 | Evonik Degussa GmbH | Verwendung thianthrenhaltiger polymere als ladungsspeicher |
KR20200054002A (ko) | 2018-11-09 | 2020-05-19 | 삼성전자주식회사 | 고분자, 이를 포함한 복합양극활물질, 및 상기 복합양극활물질을 포함한 전극을 포함한 리튬이차전지 |
US20200355997A1 (en) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | Facebook Technologies, Llc | Thianthrene derivatized monomers and polymers for volume bragg gratings |
US11718580B2 (en) | 2019-05-08 | 2023-08-08 | Meta Platforms Technologies, Llc | Fluorene derivatized monomers and polymers for volume Bragg gratings |
US11780819B2 (en) | 2019-11-27 | 2023-10-10 | Meta Platforms Technologies, Llc | Aromatic substituted alkane-core monomers and polymers thereof for volume Bragg gratings |
US11879024B1 (en) | 2020-07-14 | 2024-01-23 | Meta Platforms Technologies, Llc | Soft mold formulations for surface relief grating fabrication with imprinting lithography |
CN113736202B (zh) * | 2021-07-14 | 2023-07-28 | 上海葛蓝化工科技有限公司 | 一种纳米级高分散低烟阻燃高抗冲聚苯乙烯的制备方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2451818A (en) * | 1947-05-29 | 1948-10-19 | Gen Electric | Vinylphenoxthines and method of preparing the same |
US2449528A (en) * | 1947-05-29 | 1948-09-14 | Gen Electric | Copolymers of monovinylphenoxthines and method of preparing the same |
-
1988
- 1988-11-29 JP JP30154188A patent/JPH01294718A/ja active Pending
- 1988-12-15 EP EP19880121042 patent/EP0320954A3/en not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001076607A1 (fr) * | 2000-04-12 | 2001-10-18 | Nichiiko Pharmaceutical Co., Ltd. | Sirop sous forme de substance seche renfermant des microcapsules de theophylline a liberation prolongee |
JP2011168526A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Tokyo Institute Of Technology | 新規(メタ)アクリレート化合物及びその製造方法 |
JP2013213860A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-17 | Jsr Corp | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 |
JP2014038038A (ja) * | 2012-08-17 | 2014-02-27 | Kri Inc | 化学物質の屈折率推算方法 |
JP2019519897A (ja) * | 2016-08-05 | 2019-07-11 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH | 電荷貯蔵体としてのチアントレン含有ポリマーの使用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0320954A3 (en) | 1991-03-27 |
EP0320954A2 (en) | 1989-06-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH01294718A (ja) | 新規な透明樹脂、高屈折率透明光学用樹脂、塗料用樹脂及び単量体 | |
US5880170A (en) | Photopolymerizable composition and transparent cured product thereof | |
JPH0547544B2 (ja) | ||
JPS63307844A (ja) | アダマンチルジアクリレートもしくはジメタクリレート誘導体 | |
JPH0931136A (ja) | プラスチックレンズ成形用組成物及びそれを用いたプラスチックレンズ | |
JP4204391B2 (ja) | 重合性アダマンタン化合物 | |
US6528601B1 (en) | Polymerizable sulfur-containing (meth) acrylate, polymerizable composition and optical lens | |
JP2801494B2 (ja) | ジアリル化合物および該化合物を用いた架橋重合体の製造方法 | |
JP2509274B2 (ja) | 光架橋性含フツ素スチレン系重合体 | |
JP3543359B2 (ja) | チオアセタール化合物、単量体組成物及び光学用材料 | |
JPH0317107A (ja) | 新規な透明樹脂、高屈折率透明光学用樹脂塗料用樹脂及び単量体 | |
JPH0240345A (ja) | ビフェニル化合物及びその製造方法 | |
JPH02268170A (ja) | トリアジン化合物及びその製造方法 | |
JP2661142B2 (ja) | 高屈折率プラスチックレンズ | |
JPH01182312A (ja) | 新規な透明樹脂及び高屈折率透明光学用樹脂 | |
JPH0311054A (ja) | チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法 | |
JPH08198934A (ja) | プレポリマーおよび光学用材料 | |
JPH0812669A (ja) | イオウ含有芳香族ビニル化合物 | |
JPH01182310A (ja) | 新規な透明樹脂及び高屈折率透明光学用樹脂 | |
JP3981602B2 (ja) | ラジカル重合性含硫黄アダマンタン化合物および硬化体 | |
JPH01156306A (ja) | 新規な透明樹脂及び高屈折率透明光学用樹脂 | |
JPH02268152A (ja) | ノルボルナン化合物及びその製造方法 | |
JP5213100B2 (ja) | 新規含硫黄エチレン性不飽和基含有化合物、及びその重合体 | |
JPH07215963A (ja) | チオアセタール化合物、単量体組成物及び光学用材料 | |
JPH0224308A (ja) | 光学材料用樹脂 |