JPH0259570A - ジチアン化合物及びその製造方法 - Google Patents
ジチアン化合物及びその製造方法Info
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Landscapes
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、特に光学材料を与える単量体として有用であ
り、その他、塗料、インク、接着剤、ゴムの加硫剤、感
光性樹脂、架橋剤等に有用な新規ジチアン化合物及びそ
の製造方法に関する。
り、その他、塗料、インク、接着剤、ゴムの加硫剤、感
光性樹脂、架橋剤等に有用な新規ジチアン化合物及びそ
の製造方法に関する。
C従来の技術〕
現在、広く用いられている光学材料としては、ジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネートを注型重合させた
樹脂がある。しかし、この樹脂は屈折率(no)が1.
50であり、無機レンズに比べて小さく、無機レンズと
同等の光学特性を得るためには、レンズの中心厚、コバ
厚及び曲率を大きくする必要があり、全体的に肉厚にな
ることが避けられない。
ングリコールビスアリルカーボネートを注型重合させた
樹脂がある。しかし、この樹脂は屈折率(no)が1.
50であり、無機レンズに比べて小さく、無機レンズと
同等の光学特性を得るためには、レンズの中心厚、コバ
厚及び曲率を大きくする必要があり、全体的に肉厚にな
ることが避けられない。
この欠点を改良した高屈折率樹脂も種々提案されている
。例えば、ポリカーボネートやポリスルホン系の高屈折
率樹脂が提案されている。これらの樹脂は屈折率が約1
.60と高いものの、光透過率が低く、光学的均質性に
欠け、また着色するなどの問題がある。
。例えば、ポリカーボネートやポリスルホン系の高屈折
率樹脂が提案されている。これらの樹脂は屈折率が約1
.60と高いものの、光透過率が低く、光学的均質性に
欠け、また着色するなどの問題がある。
このため架橋性の高屈折率樹脂が種々提案されている。
例えば、特開昭61−28901号公報などにフェニル
基をハロゲン原子で置換したフェニルメタクリレートな
どのハロゲン原子を多数含んだ樹脂が提案されている。
基をハロゲン原子で置換したフェニルメタクリレートな
どのハロゲン原子を多数含んだ樹脂が提案されている。
しかし、これらの樹脂は比重が大きくなり、耐候性も劣
るという問題を有している。
るという問題を有している。
また、特開昭60−197711号公報などにα−ナフ
チルメタクリレートを主成分とする高屈折率樹脂用組成
物が提案されている。これから得られる樹脂は高屈折率
を有するものの、高分散であり、また、ナフチル基を有
するために、耐候性が劣っている。
チルメタクリレートを主成分とする高屈折率樹脂用組成
物が提案されている。これから得られる樹脂は高屈折率
を有するものの、高分散であり、また、ナフチル基を有
するために、耐候性が劣っている。
以上のような先行技術の下で、特に光学材料に好適に使
用し得る樹脂、即ち、高屈折率、良好な透明性、耐候性
及び比重が小さいなどの諸性質のバランスのとれた樹脂
が強(望まれている。
用し得る樹脂、即ち、高屈折率、良好な透明性、耐候性
及び比重が小さいなどの諸性質のバランスのとれた樹脂
が強(望まれている。
従って、本発明が解決しようとする課題は、高屈折率且
つ低分散であり、比重が小さく透明性、硬度、耐候性等
に優れ、研磨可能な樹脂を与える架橋性単量体を提供す
ることである。
つ低分散であり、比重が小さく透明性、硬度、耐候性等
に優れ、研磨可能な樹脂を与える架橋性単量体を提供す
ることである。
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意研究を
重ねた結果、下記一般式で示されるジチアン化合物を重
合して得た重合体が上記の諸性質を具備した優れた樹脂
であることを見い出し、本発明を完成するに至った。
重ねた結果、下記一般式で示されるジチアン化合物を重
合して得た重合体が上記の諸性質を具備した優れた樹脂
であることを見い出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、
一般式(1)
で示されるジチアン化合物である。
前記一般式(1)中、R3、R4、R2、R6、R7及
びR,は、夫々同種又は異種の水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基又はアルキルチオ基である。上記のハロゲ
ン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素の各ハロゲン原子
が用いられ、得られる樹脂の屈折率を太き(し、比重を
小さくする観点から塩素原子及び臭素原子が好ましい。
びR,は、夫々同種又は異種の水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基又はアルキルチオ基である。上記のハロゲ
ン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素の各ハロゲン原子
が用いられ、得られる樹脂の屈折率を太き(し、比重を
小さくする観点から塩素原子及び臭素原子が好ましい。
また上記のアルキル基の炭素数は特に制限されないが、
得られる樹脂の屈折率の観点から炭素数は1〜5である
ことが好ましく、特にメチル基が好ましい。アルキルチ
オ基の炭素数も特に制限されないが、得られる樹脂の屈
折率の観点から、炭素数は1〜5であることが好ましく
、特にメチルチオ基又は工チルチオ基が好ましい。
得られる樹脂の屈折率の観点から炭素数は1〜5である
ことが好ましく、特にメチル基が好ましい。アルキルチ
オ基の炭素数も特に制限されないが、得られる樹脂の屈
折率の観点から、炭素数は1〜5であることが好ましく
、特にメチルチオ基又は工チルチオ基が好ましい。
前記一般式(I)中、R2、R,、Rs 、R,、R1
及びR8は、得られる樹脂の屈折率の観点から、水素原
子、ハロゲン原子又はアルキルチオ基であることが好ま
しい。本発明のジチアン化合物中に含まれるハロゲン原
子及びアルキルチオ基の数は、得られる樹脂の屈折率、
比重及び着色の観点から、夫々、O〜4の範囲で且つ両
者の合計が0〜4の範囲であることが好ましい。
及びR8は、得られる樹脂の屈折率の観点から、水素原
子、ハロゲン原子又はアルキルチオ基であることが好ま
しい。本発明のジチアン化合物中に含まれるハロゲン原
子及びアルキルチオ基の数は、得られる樹脂の屈折率、
比重及び着色の観点から、夫々、O〜4の範囲で且つ両
者の合計が0〜4の範囲であることが好ましい。
さらに、前記一般式中、Xl及びX2は酸素原子又はイ
オウ原子のいずれでも良いが、得られる樹脂の屈折率を
勘案するイオウ原子であることが好ましい。
オウ原子のいずれでも良いが、得られる樹脂の屈折率を
勘案するイオウ原子であることが好ましい。
本発明の前記一般式CI)で示される化合物の構造は次
の手段によって確認することができる。
の手段によって確認することができる。
(イ)赤外吸収スペクトル(IR)を測定することによ
り、3150〜2800cm−’付近にC−H結合に基
づく吸収、1650〜1600cm−’付近に末端の不
飽和炭化水素基に基づく吸収、更にX、又はX、が酸素
原子の場合は1725cm−’付近にエステル結合に基
づく特性吸収を、Xl又はXtがイオウ原子の場合には
1665cm−’付近にチオエステル結合に基づく特性
吸収を観察することができる。
り、3150〜2800cm−’付近にC−H結合に基
づく吸収、1650〜1600cm−’付近に末端の不
飽和炭化水素基に基づく吸収、更にX、又はX、が酸素
原子の場合は1725cm−’付近にエステル結合に基
づく特性吸収を、Xl又はXtがイオウ原子の場合には
1665cm−’付近にチオエステル結合に基づく特性
吸収を観察することができる。
(ロ)1H−核磁気共鳴スペクトル(’H−NMR)を
測定することにより前記一般式(1)で示される本発明
の化合物中に存在する水素原子の結合様式を知ることが
でき、容易に化合物の同定が出来る。
測定することにより前記一般式(1)で示される本発明
の化合物中に存在する水素原子の結合様式を知ることが
でき、容易に化合物の同定が出来る。
特に一般式(1)において、RI又はRzがメチル基の
場合は、61.9 ppm付近にメチル基のプロトンに
基づ(ピーク、65.7とδ6.1 ppm付近に末端
のビニリデンプロトンに基づくピークがそれぞれ3:3
:1の割合でメタクリル酸エステルに特有なパターンが
認められる。また、R7又はR2が水素原子の場合は、
δ5.6〜6、6 ppn+にアクリル酸エステルに特
有なパターンで6個分の水素が認められる。さらに、R
5又はR6が水素原子の場合は、δ6 ppta付近に
ピークが認められる。またRa 、Rs 、Rq又はR
8が水素原子の場合は、δ2.5〜δ4.5 ppm付
近に、それぞれの結合状態に応じたパターンのピークを
示す。さらにR1〜R,がアルキル基の場合は61〜2
ppmの通常のアルキルプロトンのピークが、またR
1〜R,がアルキルチオ基の場合はδ3〜4.5 pp
m付近にイオウ原子に結合した炭素上の水素に帰属され
るピークが観測される。
場合は、61.9 ppm付近にメチル基のプロトンに
基づ(ピーク、65.7とδ6.1 ppm付近に末端
のビニリデンプロトンに基づくピークがそれぞれ3:3
:1の割合でメタクリル酸エステルに特有なパターンが
認められる。また、R7又はR2が水素原子の場合は、
δ5.6〜6、6 ppn+にアクリル酸エステルに特
有なパターンで6個分の水素が認められる。さらに、R
5又はR6が水素原子の場合は、δ6 ppta付近に
ピークが認められる。またRa 、Rs 、Rq又はR
8が水素原子の場合は、δ2.5〜δ4.5 ppm付
近に、それぞれの結合状態に応じたパターンのピークを
示す。さらにR1〜R,がアルキル基の場合は61〜2
ppmの通常のアルキルプロトンのピークが、またR
1〜R,がアルキルチオ基の場合はδ3〜4.5 pp
m付近にイオウ原子に結合した炭素上の水素に帰属され
るピークが観測される。
(ハ)元素分析によって炭素、水素、イオウ、及びハロ
ゲンの各重量%を求めさらに認知された各元素の重量%
の和を100から減じることによって酸素の重量%を算
出することができ、従って該化合物の組成式を測定する
ことができる。
ゲンの各重量%を求めさらに認知された各元素の重量%
の和を100から減じることによって酸素の重量%を算
出することができ、従って該化合物の組成式を測定する
ことができる。
本発明の前記一般式(I)で示される化合物の製造方法
は、特に限定されるものではない。具体例は、後述する
実施例に詳述するが、代表的な製造方法を詳述すれば以
下の様になる。
は、特に限定されるものではない。具体例は、後述する
実施例に詳述するが、代表的な製造方法を詳述すれば以
下の様になる。
一般式(II)
で示される化合物と、−IC式(III)で示される化
合物とのエステル化反応により製造することが出来る。
合物とのエステル化反応により製造することが出来る。
(ア)カルボン酸を用いる方法
一般式(II)で示される化合物と一般式(III)で
示される化合物のうち、R8゜が水酸基であるカルボン
酸とを酸触媒の存在下脱水縮合させることにより一般式
(I)のジチアン化合物を製造することができる。両原
料は仕込みモル比は必要に応じて適宜決定すればよいが
、通常どちらか一方の化合物を過剰に使用するのが一般
的である。また、カルボン酸として2種類のカルボン酸
を同時又は逐次的に反応系に添加すれば、非対称のジチ
アン化合物を製造することができる。該反応において触
媒として使用される酸は、塩酸、硫酸等の鉱酸、芳香族
スルホン酸等の有機酸あるいは、フッ化ホウ素エーテラ
ート等のルイス酸が挙げられる。
示される化合物のうち、R8゜が水酸基であるカルボン
酸とを酸触媒の存在下脱水縮合させることにより一般式
(I)のジチアン化合物を製造することができる。両原
料は仕込みモル比は必要に応じて適宜決定すればよいが
、通常どちらか一方の化合物を過剰に使用するのが一般
的である。また、カルボン酸として2種類のカルボン酸
を同時又は逐次的に反応系に添加すれば、非対称のジチ
アン化合物を製造することができる。該反応において触
媒として使用される酸は、塩酸、硫酸等の鉱酸、芳香族
スルホン酸等の有機酸あるいは、フッ化ホウ素エーテラ
ート等のルイス酸が挙げられる。
本反応においては水が副生ずるが、その反応は平衡反応
である為、一般にディーンースターク水分離器等を用い
たり、ソックスレーの抽出器に無水硫酸ナトリウム又は
モレキュラーシーブ等の脱水剤を入れて溶媒を還流させ
たり、反応系内にN、N’−ジシクロへキシルカルボジ
イミド等の脱水剤を共存させるなどして系内から取除く
ことが好ましい。該溶媒としては、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素やクロロホルム、ジクロロメタン等
のハロゲン化脂肪族炭化水素が好ましい。
である為、一般にディーンースターク水分離器等を用い
たり、ソックスレーの抽出器に無水硫酸ナトリウム又は
モレキュラーシーブ等の脱水剤を入れて溶媒を還流させ
たり、反応系内にN、N’−ジシクロへキシルカルボジ
イミド等の脱水剤を共存させるなどして系内から取除く
ことが好ましい。該溶媒としては、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素やクロロホルム、ジクロロメタン等
のハロゲン化脂肪族炭化水素が好ましい。
反応温度は、溶媒の種類によって異なるが、一般には、
θ℃〜120℃が好ましい。反応時間は、原料の種類に
より一概に限定できないが、30分〜20時間、さらに
1時間から6時間の範囲から選択することが特に好まし
い。反応系から目的生成物、即ち前記一般式(I)で示
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。
θ℃〜120℃が好ましい。反応時間は、原料の種類に
より一概に限定できないが、30分〜20時間、さらに
1時間から6時間の範囲から選択することが特に好まし
い。反応系から目的生成物、即ち前記一般式(I)で示
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。
(イ)カルボン酸塩化物を用いる方法
−9式(II)で示される化合物と一般式[I[]で示
される化合物のうち、R1゜が塩素原子であるカルボン
酸塩化物とを塩基の存在下脱塩化水素反応させることに
より一般式(1)のジチアン化合物を製造することがで
きる。両原料の仕込みモル比は、通常(一般式(III
)で示される化合物)/(一般式(n)で示される化合
物)=0.8〜1.5の範囲から選択すればよいが、好
ましくは等重用いることが特に好ましい。また、カルボ
ン酸塩化物を2種以上同時又は逐次的に反応系に添加す
れば、非対称のジチアン化合物を製造することができる
。
される化合物のうち、R1゜が塩素原子であるカルボン
酸塩化物とを塩基の存在下脱塩化水素反応させることに
より一般式(1)のジチアン化合物を製造することがで
きる。両原料の仕込みモル比は、通常(一般式(III
)で示される化合物)/(一般式(n)で示される化合
物)=0.8〜1.5の範囲から選択すればよいが、好
ましくは等重用いることが特に好ましい。また、カルボ
ン酸塩化物を2種以上同時又は逐次的に反応系に添加す
れば、非対称のジチアン化合物を製造することができる
。
本反応においては塩化水素が副生ずる。一般にはこの塩
化水素を反応系から除く為、反応系内に塩化水素捕捉剤
として塩基を共存させることが好ましい。
化水素を反応系から除く為、反応系内に塩化水素捕捉剤
として塩基を共存させることが好ましい。
該塩化水素捕捉剤としての塩基は特に限定されず公知の
ものを使用することができる。一般に好適に使用される
塩基としてトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、テ
トラメチル尿素、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等
が挙げられる。塩基の量はカルボン酸塩化物1モルに対
して、1.1モル以上用いることが好ましい。
ものを使用することができる。一般に好適に使用される
塩基としてトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、テ
トラメチル尿素、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等
が挙げられる。塩基の量はカルボン酸塩化物1モルに対
して、1.1モル以上用いることが好ましい。
本発明における前記反応に際しては、一般に有機溶媒を
用いる事が好ましい。該溶媒として好適に使用されるも
のを例示すれば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタン、石油エーテル、クロロホルム、塩化メ
チレン、塩化エチレン等の脂肪族又は芳香族炭化水素類
あるいはハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、N、N
−ジメチルホルムアミド、N。
用いる事が好ましい。該溶媒として好適に使用されるも
のを例示すれば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタン、石油エーテル、クロロホルム、塩化メ
チレン、塩化エチレン等の脂肪族又は芳香族炭化水素類
あるいはハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、N、N
−ジメチルホルムアミド、N。
N−ジエチルホルムアミド等のN、 N−ジアルキルア
ミド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
ミド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
前記反応における温度は広い範囲から選択出来、一般に
は一20℃〜100℃、好ましくは0℃〜50℃の範囲
から選べばよい0反応時間は原料の種類によっても違う
が、通常、5分〜24時間、好ましくは1〜4時間の範
囲から選べばよい。また反応中においては攪拌を行うの
が好ましい。
は一20℃〜100℃、好ましくは0℃〜50℃の範囲
から選べばよい0反応時間は原料の種類によっても違う
が、通常、5分〜24時間、好ましくは1〜4時間の範
囲から選べばよい。また反応中においては攪拌を行うの
が好ましい。
反応系から目的生成物、すなわち前記一般式(1)で示
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法が採用できる。
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法が採用できる。
(つ)カルボン酸エステルを用いる方法一般式(II)
で示される化合物と一般式(I[)で示される化合物の
うち、RIGがアルコキシ基であるカルボン酸エステル
とを用いて、エステル交換させる方法で一般式(1)の
ジチアン化合物を製造することが出来る。本反応におい
ては、酸又は塩基を触媒として用いるのが好ましくミ触
媒として好適に使用される酸を例示すれば、硫酸、塩酸
、P−)ルエンスルホン酸等があげられ、塩基としては
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム
、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基や、ナトリウムメト
キシド又はカリウム−t−ブトキシド等のアルコキシド
等が挙げられる。
で示される化合物と一般式(I[)で示される化合物の
うち、RIGがアルコキシ基であるカルボン酸エステル
とを用いて、エステル交換させる方法で一般式(1)の
ジチアン化合物を製造することが出来る。本反応におい
ては、酸又は塩基を触媒として用いるのが好ましくミ触
媒として好適に使用される酸を例示すれば、硫酸、塩酸
、P−)ルエンスルホン酸等があげられ、塩基としては
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム
、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基や、ナトリウムメト
キシド又はカリウム−t−ブトキシド等のアルコキシド
等が挙げられる。
本反応においてはアルコール(R90H)が生成する。
該反応は平衡反応である為、このアルコールを蒸留又は
共沸等の方法で反応系外に取り除くことが好ましい。こ
のため、原料のカルボン酸エステルとしてR9が炭素数
1〜5、特に炭素数1〜3のアルキル基を有するものを
用いることが好ましい。また、R,とR8が異なる2種
のカルボン酸エステルを同時又は逐次的に反応系に添加
すれば、非対称のジチアン化合物を製造することができ
る。
共沸等の方法で反応系外に取り除くことが好ましい。こ
のため、原料のカルボン酸エステルとしてR9が炭素数
1〜5、特に炭素数1〜3のアルキル基を有するものを
用いることが好ましい。また、R,とR8が異なる2種
のカルボン酸エステルを同時又は逐次的に反応系に添加
すれば、非対称のジチアン化合物を製造することができ
る。
本反応は一般に無溶媒中で行なわれるが、原料が固体で
ある場合には、副生するアルコールよりも沸点の高い溶
媒を用いるのが好ましい。
ある場合には、副生するアルコールよりも沸点の高い溶
媒を用いるのが好ましい。
該溶媒として好適に使用されるものを例示すれば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等の芳香族炭化水素類あるいはハロゲン置換芳
香族炭化水素類;N、N−ジメチルホルムアミド、N、
N−ジエチルホルムアミド等のN、N−ジアルキルアミ
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等の芳香族炭化水素類あるいはハロゲン置換芳
香族炭化水素類;N、N−ジメチルホルムアミド、N、
N−ジエチルホルムアミド等のN、N−ジアルキルアミ
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
前記反応における温度は、副生ずるアルコールの種類に
よって異なるが、二股には副生するアルコールが留出す
る温度が好ましい。反応時間は原料の種類によってもち
がうが、通常、30分〜24時間、好ましくは2時間〜
8時間の範囲から選べばよい。また反応中においては攪
拌を行うのが好ましい。
よって異なるが、二股には副生するアルコールが留出す
る温度が好ましい。反応時間は原料の種類によってもち
がうが、通常、30分〜24時間、好ましくは2時間〜
8時間の範囲から選べばよい。また反応中においては攪
拌を行うのが好ましい。
反応系から目的生成物、すなわち前記一般式(1)で示
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。
本発明の前記一般式(1)で示される化合物は、高屈折
率且つ低分散で比重が小さく、透明性、硬度、耐候性等
に優れた高屈折率樹脂を与える架橋性単量体として有用
である。また、該化合物は常温で固体状態であり、重合
して得られる樹脂の屈折率、光学的均質性を保持するた
め、単独重合体の屈折率が1.560以上のラジカル重
合可能な液状不飽和単量体と共重合するのが好ましい。
率且つ低分散で比重が小さく、透明性、硬度、耐候性等
に優れた高屈折率樹脂を与える架橋性単量体として有用
である。また、該化合物は常温で固体状態であり、重合
して得られる樹脂の屈折率、光学的均質性を保持するた
め、単独重合体の屈折率が1.560以上のラジカル重
合可能な液状不飽和単量体と共重合するのが好ましい。
このような単量体を例示すれば、メタクリル酸ベンジル
、アクリル酸フヱニル、メタクリル酸ブロモフェニル、
ビスフェノールAジメタクリレート、2.2’、6.6
’−テトラブロモビスフェノールAジアクリレート、ビ
スフェノールSジメタクリレートなどのメタクリル酸エ
ステル及びアクリル酸エステル類;スチレン、クロロス
チレン、ブロモスチレン、ジプロモスチレン、トリブロ
モスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレンなど
のスチレン類;ジアリルフタレート、ジアリルイソフタ
レート、クロレンド酸ジアリルなどのアリル化合物類な
ど及びこれらの混合物などである。
、アクリル酸フヱニル、メタクリル酸ブロモフェニル、
ビスフェノールAジメタクリレート、2.2’、6.6
’−テトラブロモビスフェノールAジアクリレート、ビ
スフェノールSジメタクリレートなどのメタクリル酸エ
ステル及びアクリル酸エステル類;スチレン、クロロス
チレン、ブロモスチレン、ジプロモスチレン、トリブロ
モスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレンなど
のスチレン類;ジアリルフタレート、ジアリルイソフタ
レート、クロレンド酸ジアリルなどのアリル化合物類な
ど及びこれらの混合物などである。
本発明において光学材料、とりわけレンズ材料を得る際
、本発明の前記一般式(1)で示される化合物と、上記
のラジカル重合可能な液状不飽和単量体との組成割合は
、それぞれの単量体の種類によって好適な割合がある為
に一概に限定できないが、総じて、一般式(1)で示さ
れる化合物が20〜90重量%の範囲が好ましく用いら
れ、より好ましくは、30〜80重量%の範囲で使用さ
れる。
、本発明の前記一般式(1)で示される化合物と、上記
のラジカル重合可能な液状不飽和単量体との組成割合は
、それぞれの単量体の種類によって好適な割合がある為
に一概に限定できないが、総じて、一般式(1)で示さ
れる化合物が20〜90重量%の範囲が好ましく用いら
れ、より好ましくは、30〜80重量%の範囲で使用さ
れる。
前記一般式(1)で示される化合物の使用量が20重1
%未満になると、本発明の目的である高屈折率樹脂が得
られにくく、また、架橋が十分に進まない為に、耐衝撃
性、耐熱性が低下する傾向がみられる。
%未満になると、本発明の目的である高屈折率樹脂が得
られにくく、また、架橋が十分に進まない為に、耐衝撃
性、耐熱性が低下する傾向がみられる。
前記の単量体組成物を用いて高屈折率樹脂を得る重合方
法は、特に限定的でなく、公知の注型重合方法を採用で
きる0重合開始手段は、種々の過酸化物やアゾ化合物等
のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外線、α線、β線
、T線等の照射或いは両者の併用によって行うことがで
きる。代表的な重合方法を例示すると、エラストマーガ
スケットまたはスペーサーで保持されているモールド間
に、ラジカル重合開始剤を含む前記の単量体組成物を注
入し、空気炉中で硬化させた後、取出せばよい。
法は、特に限定的でなく、公知の注型重合方法を採用で
きる0重合開始手段は、種々の過酸化物やアゾ化合物等
のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外線、α線、β線
、T線等の照射或いは両者の併用によって行うことがで
きる。代表的な重合方法を例示すると、エラストマーガ
スケットまたはスペーサーで保持されているモールド間
に、ラジカル重合開始剤を含む前記の単量体組成物を注
入し、空気炉中で硬化させた後、取出せばよい。
ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、公知の
ものが使用できるが、代表的なものを例示すると、ベン
ゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキ
サイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、アセチルパーオキサイド等のジアシルパーオ
キサイド;を−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネ
ート、を−ブチルパーオキシネオデカネート、クミルパ
ーオキシネオデカネート、t−ブチルパーオキシベンゾ
エート等のパーオキシエステル:ジイソプロピルパーオ
キシジカーボネート、ジー2−エチルヘキシルパーオキ
シジカーボネート、ジーsec −ブチルパーオキシジ
カーボネート等のバーカーボネート;アゾビスイソブチ
ロニトリル等のアゾ化合物である。該ラジカル重合開始
剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、前記の単量体
組成物の組成によって異なり、−概に限定できないが、
−般には、単量体組成物100重量部に対して0.01
〜10重量部、好ましくは0.01〜5重量部の範囲で
用いるのが好適である。
ものが使用できるが、代表的なものを例示すると、ベン
ゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキ
サイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、アセチルパーオキサイド等のジアシルパーオ
キサイド;を−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネ
ート、を−ブチルパーオキシネオデカネート、クミルパ
ーオキシネオデカネート、t−ブチルパーオキシベンゾ
エート等のパーオキシエステル:ジイソプロピルパーオ
キシジカーボネート、ジー2−エチルヘキシルパーオキ
シジカーボネート、ジーsec −ブチルパーオキシジ
カーボネート等のバーカーボネート;アゾビスイソブチ
ロニトリル等のアゾ化合物である。該ラジカル重合開始
剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、前記の単量体
組成物の組成によって異なり、−概に限定できないが、
−般には、単量体組成物100重量部に対して0.01
〜10重量部、好ましくは0.01〜5重量部の範囲で
用いるのが好適である。
重合条件のうち、特に温度は得られる高屈折率樹脂の性
状に影響を与える。この温度条件は、開始剤の種類と量
や単量体組成物の種類によって影響を受けるので、−概
に限定はできないが、−i的に比較的低温下で重合を開
始し、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終了時に高温
下に硬化させる所謂テーパ型の2段重合を行うのが好適
である。
状に影響を与える。この温度条件は、開始剤の種類と量
や単量体組成物の種類によって影響を受けるので、−概
に限定はできないが、−i的に比較的低温下で重合を開
始し、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終了時に高温
下に硬化させる所謂テーパ型の2段重合を行うのが好適
である。
重合時間も温度と同様に各種の要因によって異なるので
、予めこれらの条件に応じた最適の時間を決定するのが
好適であるが、一般に2〜40時間で重合が完結するよ
うに条件を選ぶのが好ましい。
、予めこれらの条件に応じた最適の時間を決定するのが
好適であるが、一般に2〜40時間で重合が完結するよ
うに条件を選ぶのが好ましい。
勿論、前記重合に際し、離型剤、紫外線吸収剤、酸化防
止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染料、染料、顔
料等の各種安定剤、添加剤は必要に応じて選択して使用
することが出来る。
止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染料、染料、顔
料等の各種安定剤、添加剤は必要に応じて選択して使用
することが出来る。
さらに、上記の方法で得られる高屈折率樹脂は、その用
途に応じて以下のような処理を施すことも出来る。即ち
、分散染料などの染料を用いる染色、シランカップリン
グ剤やケイ素、ジルコニウム、アンチモン、アルミニウ
ム等の酸化物のゾルを主成分とするハードコート剤や、
有機高分子体を主成分とするハ−ドコート剤によるハー
ドコーティング処理や、Sr Ot STt Oz %
Zr O等の金属酸化物の薄膜の蒸着や有機高分子体
の薄膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止処理等の
加工及び2次処理を施すことも可能である。
途に応じて以下のような処理を施すことも出来る。即ち
、分散染料などの染料を用いる染色、シランカップリン
グ剤やケイ素、ジルコニウム、アンチモン、アルミニウ
ム等の酸化物のゾルを主成分とするハードコート剤や、
有機高分子体を主成分とするハ−ドコート剤によるハー
ドコーティング処理や、Sr Ot STt Oz %
Zr O等の金属酸化物の薄膜の蒸着や有機高分子体
の薄膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止処理等の
加工及び2次処理を施すことも可能である。
本発明のジチアン化合物は、高屈折率且つ低分散で比重
が小さく、透明性、硬度、耐候性等に優れ、研磨、玉摺
り可能な樹脂を与える架橋性単量体として有用である。
が小さく、透明性、硬度、耐候性等に優れ、研磨、玉摺
り可能な樹脂を与える架橋性単量体として有用である。
該化合物と液状不飽和単量体との共重合により得られる
高屈折率樹脂は、有機ガラスとして有用であり、例えば
、メガネレンズ、光学機器レンズ等の光学レンズとして
最適であり、さらにプリズム、光デイスク基板、光ファ
イバー等の用途に好適に使用することができる。
高屈折率樹脂は、有機ガラスとして有用であり、例えば
、メガネレンズ、光学機器レンズ等の光学レンズとして
最適であり、さらにプリズム、光デイスク基板、光ファ
イバー等の用途に好適に使用することができる。
以下、本発明を具体的に説明するために、実施例を挙げ
て説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
て説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
なお、本発明で得られたジチアン化合物の同定及び物性
は下記の分析方法によって実施した。
は下記の分析方法によって実施した。
(1) I Rスペクトル
島津製作所■製IR−440型を用いKBr法により測
定した。
定した。
(21’H−NMRスペクトル
日本電子■製PMX−60SI型(60MHz)を用い
、試料をCDCA3に希釈し、テトラメチルシランを°
内部基準として測定した。
、試料をCDCA3に希釈し、テトラメチルシランを°
内部基準として測定した。
(3)元素分析
■柳本製作所製CHNコーダMT−2型を用い、炭素及
び水素の分析を、イオウについてはフラスコ燃焼法を用
いて測定を行った。
び水素の分析を、イオウについてはフラスコ燃焼法を用
いて測定を行った。
(4)屈折率(Nゎ)
アタゴ■製アツベ屈折計(3T型)を用い液状の不飽和
単量体にジチアン化合物を溶解し、外挿法により求めた
。
単量体にジチアン化合物を溶解し、外挿法により求めた
。
また、実施例′において得られた高屈折率樹脂は、下記
の試験法によって諸物性を測定した。
の試験法によって諸物性を測定した。
+11屈折率(N、) アツベ数(ν)アタゴ■製アツ
ベ屈折計(3T型)を用いて20℃における屈折率及び
アツベ数を測定した。
ベ屈折計(3T型)を用いて20℃における屈折率及び
アツベ数を測定した。
接触液には、ブロモナフタリンを使用した。
(2)硬 度(HL )
ロックウェル硬度針を用い、厚さ21IIImの試験片
についてL−スケールでの値を測定した。
についてL−スケールでの値を測定した。
(3)外 観
目視により判定した。
(4)耐候性
スガ試験機■ロングライフキセノンフェードメーター(
FAC−25AX−HC型)中に試料を設置し、100
時間キセノン光を露光した後、試料の着色の程度を目視
で観察し、ポリスチレンに比べ着色の程度の低いものを
0、同等のものをΔ、高いものを×で評価した。
FAC−25AX−HC型)中に試料を設置し、100
時間キセノン光を露光した後、試料の着色の程度を目視
で観察し、ポリスチレンに比べ着色の程度の低いものを
0、同等のものをΔ、高いものを×で評価した。
(5)玉摺り性
東京光学機械■製ドブコン完全自動玉摺り機ALE−6
0型を用いて樹脂の玉摺りを行ない、玉摺りが可能なも
のを○、不可能なものを×で評価した。
0型を用いて樹脂の玉摺りを行ない、玉摺りが可能なも
のを○、不可能なものを×で評価した。
尚、以下の実施例で使用した共重合成分である液状不飽
和単量体は下記の記号で表わした。但し〔〕内は単独重
合体の屈折率である。
和単量体は下記の記号で表わした。但し〔〕内は単独重
合体の屈折率である。
St:スチレン(1,590)
cp:st:クロロスチレン(0体、m体の混合物)(
1,610) BzMA :ベンジルメタクリレート(1,568)実
施例1 攪拌機、滴下ロート及び温度計をつけた3つロフラスコ
に、1,4−ジチアン−2,5−ジオール2Bg、乾燥
ピリジン32g及び乾燥クロロホルム250−を仕込み
、0℃に冷却した。次にメタクリル酸クロライド42.
4 gを0〜5℃で攪拌しながら添加した。1時間5℃
で攪拌した後、室温まで昇温し、さらに1時間攪拌した
。反応混合物を水200−にあけた。有機層を希水酸化
ナトリウム水溶液で2度洗浄し、さらに2度水洗した。
1,610) BzMA :ベンジルメタクリレート(1,568)実
施例1 攪拌機、滴下ロート及び温度計をつけた3つロフラスコ
に、1,4−ジチアン−2,5−ジオール2Bg、乾燥
ピリジン32g及び乾燥クロロホルム250−を仕込み
、0℃に冷却した。次にメタクリル酸クロライド42.
4 gを0〜5℃で攪拌しながら添加した。1時間5℃
で攪拌した後、室温まで昇温し、さらに1時間攪拌した
。反応混合物を水200−にあけた。有機層を希水酸化
ナトリウム水溶液で2度洗浄し、さらに2度水洗した。
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧上留去し
た。得られた固体をエタノールから再結晶して目的の2
.5−ジ(メタクリロイルオキシ)1.4−ジチアンを
46.3 g得た。このものは融点105〜107℃の
無色針状結晶であった。
た。得られた固体をエタノールから再結晶して目的の2
.5−ジ(メタクリロイルオキシ)1.4−ジチアンを
46.3 g得た。このものは融点105〜107℃の
無色針状結晶であった。
このもののIRチャートを第2図に示した。
1725cm−’に強いカルボニル基、1640cm−
’に末端ビニリデン基による吸収が認められた。
’に末端ビニリデン基による吸収が認められた。
また、’ HN M R(CD C13溶媒中、テトラ
メチルシラン基準、ppm)チャートを第1図に示した
。δ2.00にメ、チル基の水素(C1に帰因する6個
分の水素がシングレットで、62.83に水素(e)又
は(flに帰因する2個分の水素が結合定数14Hz及
び5Hzのダブルダブレットで、63.73に水素(e
)又は(f)に帰因する2個分の水素が結合定数14H
z及び2tlzのダブルダブレットで、65.60に水
素(a)に帰因する2個分の水素が多重線で、δ5.8
5に水素(dlに帰因する2個分の水素が多重線で、6
6.23に水素(b)に帰因する2個分の水素が多重線
でそれぞれ観測された。
メチルシラン基準、ppm)チャートを第1図に示した
。δ2.00にメ、チル基の水素(C1に帰因する6個
分の水素がシングレットで、62.83に水素(e)又
は(flに帰因する2個分の水素が結合定数14Hz及
び5Hzのダブルダブレットで、63.73に水素(e
)又は(f)に帰因する2個分の水素が結合定数14H
z及び2tlzのダブルダブレットで、65.60に水
素(a)に帰因する2個分の水素が多重線で、δ5.8
5に水素(dlに帰因する2個分の水素が多重線で、6
6.23に水素(b)に帰因する2個分の水素が多重線
でそれぞれ観測された。
また元素分析値(()内は計算値である。)は、C=
49.90%(49,・98%)H:5.82%(5,
59%) S : 22.51 (22,24%)であ
り、計算値とよく一致した。また、スチレンを用いて外
挿法でこの2.5−ビス(メタクリロイルオキシ)−1
,4−ジチアンの屈折率を求めたところ、1.542で
あった。
49.90%(49,・98%)H:5.82%(5,
59%) S : 22.51 (22,24%)であ
り、計算値とよく一致した。また、スチレンを用いて外
挿法でこの2.5−ビス(メタクリロイルオキシ)−1
,4−ジチアンの屈折率を求めたところ、1.542で
あった。
実施例2〜7
種々の原料を用いて実施例1と同様にジチアン化合物を
得た。得られたジチアン化合物の性質を第1表に示した
。
得た。得られたジチアン化合物の性質を第1表に示した
。
実施例8
攪拌機、温度計、冷却管を有するディーンスターク分離
器を付けた3つロフラスコに2.5−ジヒドロキシ−1
,4−ジチアン30.4g、アクリル酸51.6g、)
ルエン300d、塩化第1銅3.0g及びp−1ルエン
スルホン酸5.0gを仕込んだ。攪拌しながら加熱還流
し、生成した水は系外に取除いた。6時間反応させ、冷
却後、不溶物を濾過して除去した。有機層を希水酸化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、十分に水洗した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧上留去して得ら
れた固体をエタノールから再結晶することで無色の針状
結晶として、2,5−ビス(アクリロイルオキシ)−1
,4−ジチアン41.5gを得た。このもののIRスペ
クトルにおいて1730C1m−’に強いカルボニル基
、1640cm−’に末端ビニル基による吸収が認めら
れた。
器を付けた3つロフラスコに2.5−ジヒドロキシ−1
,4−ジチアン30.4g、アクリル酸51.6g、)
ルエン300d、塩化第1銅3.0g及びp−1ルエン
スルホン酸5.0gを仕込んだ。攪拌しながら加熱還流
し、生成した水は系外に取除いた。6時間反応させ、冷
却後、不溶物を濾過して除去した。有機層を希水酸化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、十分に水洗した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧上留去して得ら
れた固体をエタノールから再結晶することで無色の針状
結晶として、2,5−ビス(アクリロイルオキシ)−1
,4−ジチアン41.5gを得た。このもののIRスペ
クトルにおいて1730C1m−’に強いカルボニル基
、1640cm−’に末端ビニル基による吸収が認めら
れた。
また、’H−NMRスペクトル(CDCJ3溶媒中、テ
トラメチルシラン基準、ppa+)で、62.85に水
素(e)又は(f)に帰因する2個分の水素が結合定数
14Hz及び5Hzのダブルダブレッドで、63.77
に水素(e)又は(f)に帰因する2個分の水素が結合
定数14Hz及び2H2のダブルダブレッドで、65.
8付近に水素(a)及び(d)に帰因する4個分の水素
が多重線で、66.12に水素(C1に帰因する2個分
の水素が多重線で、66.36に水素(b)に帰因する
2個分の水素が多重線でそれぞれ観測された。
トラメチルシラン基準、ppa+)で、62.85に水
素(e)又は(f)に帰因する2個分の水素が結合定数
14Hz及び5Hzのダブルダブレッドで、63.77
に水素(e)又は(f)に帰因する2個分の水素が結合
定数14Hz及び2H2のダブルダブレッドで、65.
8付近に水素(a)及び(d)に帰因する4個分の水素
が多重線で、66.12に水素(C1に帰因する2個分
の水素が多重線で、66.36に水素(b)に帰因する
2個分の水素が多重線でそれぞれ観測された。
また元素分析値(()内は計算値である。)は、C:4
5.88%(46,10%)、H:4.76%(4,6
5%)、S:24.51%(24,63%)であり、計
算値とよく一致した。
5.88%(46,10%)、H:4.76%(4,6
5%)、S:24.51%(24,63%)であり、計
算値とよく一致した。
また、スチレンを用いて外挿法でこの2.5ビス(アク
リロイルオキシ)1.4−ジチアンの屈折率を求めたと
ころ、1.545であった。
リロイルオキシ)1.4−ジチアンの屈折率を求めたと
ころ、1.545であった。
実施例9〜11
種々の原料を用いて実施例8と同様にしてジチアン化合
物を製造した。得られたジチアン化合物の性質を第2表
に示した。
物を製造した。得られたジチアン化合物の性質を第2表
に示した。
実施例13
実施例1〜12で製造したジチアン化合物50重量部と
スチレン50重量部の混合物100重量部に対してラジ
カル重合開始剤としてベンゾイルパーオキシド1重量部
゛を添加しよく混合した。この混合液をガラス板とエチ
レン−酢酸ビニル共重合体とから成るガスケットで構成
された鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。重合は、
空気炉を用い、60℃から130℃で18時間かけ、徐
々に温度を上げて行き、130℃に2時間保持した。
スチレン50重量部の混合物100重量部に対してラジ
カル重合開始剤としてベンゾイルパーオキシド1重量部
゛を添加しよく混合した。この混合液をガラス板とエチ
レン−酢酸ビニル共重合体とから成るガスケットで構成
された鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。重合は、
空気炉を用い、60℃から130℃で18時間かけ、徐
々に温度を上げて行き、130℃に2時間保持した。
重合終了後、鋳型を空気炉から取出し、放冷後、重合体
を鋳型のガラスからとりはずした。得られた重合体の諸
物性を測定して第3表に示した。
を鋳型のガラスからとりはずした。得られた重合体の諸
物性を測定して第3表に示した。
実施例14
第4表に示すジチアン化合物及び液状不飽和単量体から
成る組成物を用いた以外、実施例13と全く同様に実施
した。得られた樹脂の物性を測定して第4表に示した。
成る組成物を用いた以外、実施例13と全く同様に実施
した。得られた樹脂の物性を測定して第4表に示した。
第1図及び第2図は、夫々実施例1で得られた本発明の
化合物のIH−核共鳴スペクトル及び赤外吸収スペクト
ルである。
化合物のIH−核共鳴スペクトル及び赤外吸収スペクト
ルである。
Claims (2)
- (1)下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R_1及びR_2は、水素原子又はメチル基で
あり、R_3、R_4、R_5、R_6、R_7及びR
_8は、夫々、同種又は異種の水素原子、ハロゲン原子
、アルキル基又はア ルキルチオ基であり、X_1及びX_2は夫々酸素原子
又はイオウ原子である。〕 で示されるジチアン化合物。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、X_1及びX_2は夫々酸素原子又はイオウ原
子であり、R_3、R_4、R_5、R_6、R_7及
びR_8は、夫々同種又は異種の水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基又 はアルキルチオ基である。〕 で示される化合物と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R_9は水素原子又はメチル基であり、R_1
_0は水酸基、塩素原子又はアルコキシ基である。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項記載のジチアン化合物の製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20953088A JPH0259570A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | ジチアン化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20953088A JPH0259570A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | ジチアン化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0259570A true JPH0259570A (ja) | 1990-02-28 |
JPH0547544B2 JPH0547544B2 (ja) | 1993-07-19 |
Family
ID=16574318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20953088A Granted JPH0259570A (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | ジチアン化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0259570A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5294666A (en) * | 1991-09-03 | 1994-03-15 | Hoya Corporation | Polymer for optical products and process for preparation thereof |
US5326501A (en) * | 1989-12-28 | 1994-07-05 | Hoya Corporation | Polythiol compound, and optical material and product produced therefrom |
EP1081145A1 (en) * | 1999-08-26 | 2001-03-07 | Tokuyama Corporation | Polymerizable sulfur-containing (meth)acrylate, polymerizable composition and optical lens |
JP2008138073A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物用重合体、感放射線性樹脂組成物、及びレジストパターン形成方法 |
WO2009104722A1 (ja) * | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 株式会社クラレ | アクリル酸エステル誘導体および高分子化合物 |
WO2009104727A1 (ja) * | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 株式会社クラレ | アクリル酸エステル誘導体の製造方法並びにアクリル酸エステル誘導体およびその中間体 |
WO2009104726A1 (ja) * | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 株式会社クラレ | (メタ)アクリル酸エステル誘導体およびその中間体並びに高分子化合物 |
WO2009104717A1 (ja) * | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 株式会社クラレ | 高分子化合物 |
US7998656B2 (en) * | 2008-08-07 | 2011-08-16 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Chemically amplified positive resist composition |
US8003296B2 (en) * | 2008-08-07 | 2011-08-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Chemically amplified positive resist composition |
EP3950670A1 (en) * | 2020-08-03 | 2022-02-09 | Merck Patent GmbH | Polymerizable compounds |
-
1988
- 1988-08-25 JP JP20953088A patent/JPH0259570A/ja active Granted
Cited By (21)
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---|---|---|---|---|
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US5294666A (en) * | 1991-09-03 | 1994-03-15 | Hoya Corporation | Polymer for optical products and process for preparation thereof |
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AU764146B2 (en) * | 1999-08-26 | 2003-08-14 | Tokuyama Corporation | Polymerizable sulfur-containing (meth)acrylate, polymerizable composition and optical lens |
JP2008138073A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物用重合体、感放射線性樹脂組成物、及びレジストパターン形成方法 |
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US8431722B2 (en) | 2008-02-22 | 2013-04-30 | Kuraray Co., Ltd. | Acrylate ester derivatives and polymer compounds |
WO2009104726A1 (ja) * | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 株式会社クラレ | (メタ)アクリル酸エステル誘導体およびその中間体並びに高分子化合物 |
WO2009104717A1 (ja) * | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 株式会社クラレ | 高分子化合物 |
JP2009196943A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Kuraray Co Ltd | 新規なアルコールおよびその誘導体 |
WO2009104722A1 (ja) * | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 株式会社クラレ | アクリル酸エステル誘導体および高分子化合物 |
JP5466511B2 (ja) * | 2008-02-22 | 2014-04-09 | 株式会社クラレ | 高分子化合物 |
US8546587B2 (en) | 2008-02-22 | 2013-10-01 | Kuraray Co., Ltd. | Method for producing acrylate derivative, acrylate derivative, and intermediate thereof |
US8314258B2 (en) | 2008-02-22 | 2012-11-20 | Kuraray Co., Ltd. | Method for producing acrylate derivative, acrylate derivative, and intermediate thereof |
US8362169B2 (en) | 2008-02-22 | 2013-01-29 | Kuraray Co., Ltd. | Acrylate ester derivatives and polymer compounds |
WO2009104727A1 (ja) * | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 株式会社クラレ | アクリル酸エステル誘導体の製造方法並びにアクリル酸エステル誘導体およびその中間体 |
US8492562B2 (en) | 2008-02-22 | 2013-07-23 | Kuraray Co., Ltd. | (Meth)acrylate derivative, intermediate thereof, and polymer compound |
US8003296B2 (en) * | 2008-08-07 | 2011-08-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Chemically amplified positive resist composition |
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EP3950670A1 (en) * | 2020-08-03 | 2022-02-09 | Merck Patent GmbH | Polymerizable compounds |
US11760935B2 (en) | 2020-08-03 | 2023-09-19 | Merck Patent Gmbh | Polymerizable compounds |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0547544B2 (ja) | 1993-07-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |