JP2609486B2 - 亜リン酸エステル化合物 - Google Patents
亜リン酸エステル化合物Info
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- JP2609486B2 JP2609486B2 JP7311091A JP7311091A JP2609486B2 JP 2609486 B2 JP2609486 B2 JP 2609486B2 JP 7311091 A JP7311091 A JP 7311091A JP 7311091 A JP7311091 A JP 7311091A JP 2609486 B2 JP2609486 B2 JP 2609486B2
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- Japan
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- atom
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- meth
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、重合性単量体として、
特に光学材料として有用であり、その他、塗料、イン
ク、接着剤等に有用な新規亜リン酸エステル化合物に関
するものである。
特に光学材料として有用であり、その他、塗料、イン
ク、接着剤等に有用な新規亜リン酸エステル化合物に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】現在、広く用いられている光学材料とし
ては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートを
注型重合させた樹脂がある。しかし、この樹脂は屈折率
(nD )が1.50であり、無機レンズに比べて小さ
く、同等の光学特性を得るためにはレンズの中心厚、コ
バ厚及び曲率を大きくする必要があり、全体的に肉厚に
なることが避けられない。そこで樹脂の高屈折率化を計
る手段として樹脂の分子構造、即ち単量体の分子構造中
にフッ素以外のハロゲン原子、芳香環及びイオウ原子を
導入することが検討されている(特開昭61−8670
1号公報、同63−45081号公報、同63−130
614号公報)。
ては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートを
注型重合させた樹脂がある。しかし、この樹脂は屈折率
(nD )が1.50であり、無機レンズに比べて小さ
く、同等の光学特性を得るためにはレンズの中心厚、コ
バ厚及び曲率を大きくする必要があり、全体的に肉厚に
なることが避けられない。そこで樹脂の高屈折率化を計
る手段として樹脂の分子構造、即ち単量体の分子構造中
にフッ素以外のハロゲン原子、芳香環及びイオウ原子を
導入することが検討されている(特開昭61−8670
1号公報、同63−45081号公報、同63−130
614号公報)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の単量体から得ら
れる樹脂は、従来のレンズ材料と比較すると屈折率がか
なり高くなっている。しかしながら、比重、透明性、耐
候性等の光学特性の点でバランスのとれた材料ではな
く、レンズ材料としては必ずしも満足できるものではな
かった。
れる樹脂は、従来のレンズ材料と比較すると屈折率がか
なり高くなっている。しかしながら、比重、透明性、耐
候性等の光学特性の点でバランスのとれた材料ではな
く、レンズ材料としては必ずしも満足できるものではな
かった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決すべく鋭意研究した結果、亜リン酸エステル骨格
を有する化合物が上記目的に達成し得る新規重合性単量
体であることを見い出し、本発明を提案するに至った。
を解決すべく鋭意研究した結果、亜リン酸エステル骨格
を有する化合物が上記目的に達成し得る新規重合性単量
体であることを見い出し、本発明を提案するに至った。
【0005】即ち、本発明は、下記式(1)
【0006】
【化4】
【0007】[但し、A1 は、−(X1 −R3)m −また
は−R4 −(X1 −R3)m −(但し、X1 は、酸素原子
またはイオウ原子であり、R3 及びR4 は、それぞれ同
種または異種のアルキレン基、ファニレン基、トルエン
−α−ジイル基またはキシレン−α,α′−ジイル基で
あり、mは0以上の整数である。)であり、Y1 及びY
2 は、それぞれ同種または異種の水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基またはアルキルチオ基で
あり、R1 及びR2 は、それぞれ同種または異種のアル
キル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、
は−R4 −(X1 −R3)m −(但し、X1 は、酸素原子
またはイオウ原子であり、R3 及びR4 は、それぞれ同
種または異種のアルキレン基、ファニレン基、トルエン
−α−ジイル基またはキシレン−α,α′−ジイル基で
あり、mは0以上の整数である。)であり、Y1 及びY
2 は、それぞれ同種または異種の水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基またはアルキルチオ基で
あり、R1 及びR2 は、それぞれ同種または異種のアル
キル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、
【0008】
【化5】
【0009】または
【0010】
【化6】
【0011】{但し、A2 は、−(R5 −X2)n −、−
(X2 −R5)n −、−R6 −(X2 −R5)n −、−X3
−(R5 −X2)n −、−R6 −X3 −(R5 −X2)n −
または−X3 −R6 −(X2 −R5)n −であり、A
3 は、−X3 −(R5 −X2)n −または−X3 −R6 −
(X2 −R5)n −(但し、X2 及びX3 は、それぞれ酸
素原子またはイオウ原子であり、R5 及びR6 は、それ
ぞれ同種または異種のアルキレン基、フェニレン基、ト
ルエン−α−ジイル基またはキシレン−α,α′−ジイ
ル基であり、nは0以上の整数である。)であり、Y3
及びY4 は、それぞれ同種または異種の水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアルキルチ
オ基であり、R7 は、水素原子またはメチル基であ
る。}である。]で示される亜リン酸エステル化合物で
ある。
(X2 −R5)n −、−R6 −(X2 −R5)n −、−X3
−(R5 −X2)n −、−R6 −X3 −(R5 −X2)n −
または−X3 −R6 −(X2 −R5)n −であり、A
3 は、−X3 −(R5 −X2)n −または−X3 −R6 −
(X2 −R5)n −(但し、X2 及びX3 は、それぞれ酸
素原子またはイオウ原子であり、R5 及びR6 は、それ
ぞれ同種または異種のアルキレン基、フェニレン基、ト
ルエン−α−ジイル基またはキシレン−α,α′−ジイ
ル基であり、nは0以上の整数である。)であり、Y3
及びY4 は、それぞれ同種または異種の水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアルキルチ
オ基であり、R7 は、水素原子またはメチル基であ
る。}である。]で示される亜リン酸エステル化合物で
ある。
【0012】本発明の前記一般式(1)中のY1 ,
Y2 ,Y3 及びY4 で示されるハロゲン原子は塩素、臭
素、ヨウ素の各ハロゲン原子が好適に使用される。
Y2 ,Y3 及びY4 で示されるハロゲン原子は塩素、臭
素、ヨウ素の各ハロゲン原子が好適に使用される。
【0013】前記一般式(1)中のY1 ,Y2 ,Y3 及
びY4 で示されるアルキル基は特に限定されないが、一
般には炭素原子数1〜4個の直鎖状又は分枝状のものが
好適である。一般に好適に使用される該アルキル基の具
体例を提示すると、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、iso−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基
等が挙げられる。
びY4 で示されるアルキル基は特に限定されないが、一
般には炭素原子数1〜4個の直鎖状又は分枝状のものが
好適である。一般に好適に使用される該アルキル基の具
体例を提示すると、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、iso−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基
等が挙げられる。
【0014】また、前記一般式(1)中のY1 ,Y2 ,
Y3 及びY4 で示されるアルコキシ基は特に限定されな
いが、一般には炭素原子数1〜4個の直鎖状又は分枝状
のアルキル基を含む基が好適である。一般に好適に使用
される該アルコキシ基の具体例を定時すると、メトキシ
基、エトキシ基、n−プロポキシ基、t−ブトキシ等が
挙げられる。
Y3 及びY4 で示されるアルコキシ基は特に限定されな
いが、一般には炭素原子数1〜4個の直鎖状又は分枝状
のアルキル基を含む基が好適である。一般に好適に使用
される該アルコキシ基の具体例を定時すると、メトキシ
基、エトキシ基、n−プロポキシ基、t−ブトキシ等が
挙げられる。
【0015】また、前記一般式(1)中のY1 ,Y2 ,
Y3 及びY4 で示されるアルキルチオ基は特に限定され
ないが、一般には炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の
アルキル基を含む基が好適である。一般に好適に使用さ
れる該アルキルチオ基の具体例を提示すると、メチルチ
オ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、t−ブチル
チオ基等が挙げられる。
Y3 及びY4 で示されるアルキルチオ基は特に限定され
ないが、一般には炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状の
アルキル基を含む基が好適である。一般に好適に使用さ
れる該アルキルチオ基の具体例を提示すると、メチルチ
オ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、t−ブチル
チオ基等が挙げられる。
【0016】本発明において高屈折率の観点から前記一
般式(1)中のY1,Y2 ,Y3 及びY4 はハロゲン原
子及びアルキルチオ基が好ましく、更に比重を考慮する
とアルキルチオ基が特に好ましい。
般式(1)中のY1,Y2 ,Y3 及びY4 はハロゲン原
子及びアルキルチオ基が好ましく、更に比重を考慮する
とアルキルチオ基が特に好ましい。
【0017】更に前記一般式(1)中のR3 ,R4 ,R
5 及びR6 で示されるアルキレン基は特に制限はない
が、炭素原子数の増加に伴い屈折率が低下するため炭素
数が2〜6個の範囲で、特に2〜4個の範囲で選択する
ことが好ましい。
5 及びR6 で示されるアルキレン基は特に制限はない
が、炭素原子数の増加に伴い屈折率が低下するため炭素
数が2〜6個の範囲で、特に2〜4個の範囲で選択する
ことが好ましい。
【0018】また、前記一般式(1)中のR3 ,R4 ,
R5 及びR6 は、フェニレン基、トルエン−α−ジイル
基
R5 及びR6 は、フェニレン基、トルエン−α−ジイル
基
【0019】
【化7】
【0020】及び、キシレン−α,α′−ジイル基
【0021】
【化8】
【0022】であってもよい。
【0023】また、前記一般式(1)中のm及びnは0
以上の整数であれば良いが、m及びnが大きくなりすぎ
ると得られる樹脂の耐熱性がそこなわれるといった問題
が生じてくるため、好ましくは0〜5、特に0〜2の範
囲が好適である。尚、m及びnが0のときは−(X1 −
R3)m −、−(R5 −X2)n −及び−(X2 −R5)n −
は結合手を表す。
以上の整数であれば良いが、m及びnが大きくなりすぎ
ると得られる樹脂の耐熱性がそこなわれるといった問題
が生じてくるため、好ましくは0〜5、特に0〜2の範
囲が好適である。尚、m及びnが0のときは−(X1 −
R3)m −、−(R5 −X2)n −及び−(X2 −R5)n −
は結合手を表す。
【0024】前記一般式(1)中のX1 ,X2 及びX3
は酸素原子又はイオウ原子であれば良いが、得られる樹
脂を高屈折率にするためにはイオウ原子が特に好まし
い。
は酸素原子又はイオウ原子であれば良いが、得られる樹
脂を高屈折率にするためにはイオウ原子が特に好まし
い。
【0025】さらに、前記一般式(1)中のR1 及びR
2 で示されるアルキル基は、既にY1 ,Y2 ,Y3 及び
Y4 で説明した基を採用することができる。また、R1
及びR2 で示されるアリール基としては、炭素数に特に
制限されるものではないが、フェニル基、ナフチル基、
フェナンスリル基、アンスリル基、トリル基又はキシリ
ル基等の炭素数6〜14のアリール基が好ましい。ま
た、R1 及びR2 で示されるアラルキル基としては、炭
素数に特に制限されないが、ベンジル基、フェネチル
基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等の炭素数
7〜10のアラルキル基が好ましい。
2 で示されるアルキル基は、既にY1 ,Y2 ,Y3 及び
Y4 で説明した基を採用することができる。また、R1
及びR2 で示されるアリール基としては、炭素数に特に
制限されるものではないが、フェニル基、ナフチル基、
フェナンスリル基、アンスリル基、トリル基又はキシリ
ル基等の炭素数6〜14のアリール基が好ましい。ま
た、R1 及びR2 で示されるアラルキル基としては、炭
素数に特に制限されないが、ベンジル基、フェネチル
基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等の炭素数
7〜10のアラルキル基が好ましい。
【0026】さらに、前記一般式(1)中のR1 及びR
2 で示されるアルコキシ基及びアルキルチオ基は、既述
のY1 ,Y2 ,Y3 及びY4 で説明した基を採用するこ
とができる。また、R1 及びR2 で示されるアリールチ
オ基としては、炭素数に特に制限されるものではない
が、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、フェナンスリル
チオ基、アンスリルチオ基、トリルチオ基又はキシリル
チオ基等の炭素数6〜14のアリールチオ基が好まし
い。また、R1 及びR2 で示されるアラルキルチオ基と
しては、炭素数に特に制限されるものではないが、ベン
ジルチオ基、フェネチルチオ基、フェニルプロピルチオ
基、フェニルブチルチオ基等の炭素数7〜10のアラル
キルチオ基が好ましい。
2 で示されるアルコキシ基及びアルキルチオ基は、既述
のY1 ,Y2 ,Y3 及びY4 で説明した基を採用するこ
とができる。また、R1 及びR2 で示されるアリールチ
オ基としては、炭素数に特に制限されるものではない
が、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、フェナンスリル
チオ基、アンスリルチオ基、トリルチオ基又はキシリル
チオ基等の炭素数6〜14のアリールチオ基が好まし
い。また、R1 及びR2 で示されるアラルキルチオ基と
しては、炭素数に特に制限されるものではないが、ベン
ジルチオ基、フェネチルチオ基、フェニルプロピルチオ
基、フェニルブチルチオ基等の炭素数7〜10のアラル
キルチオ基が好ましい。
【0027】本発明の前記一般式(1)で示される化合
物の構造は次の手段によって確認することができる。
物の構造は次の手段によって確認することができる。
【0028】(イ)赤外吸収スペクトル(IR)を測定
することにより3150〜2800cm-1付近にC−H結
合に基づく吸収、1650〜1600cm-1付近に末端の
不飽和炭化水素基に基づく吸収を観察することができ
る。
することにより3150〜2800cm-1付近にC−H結
合に基づく吸収、1650〜1600cm-1付近に末端の
不飽和炭化水素基に基づく吸収を観察することができ
る。
【0029】(ロ) 1H−核磁気共鳴スペクトル( 1H
−NMR)を測定することにより前記一般式(1)で示
される未発明の化合物中に存在する水素原子の結合様式
を知ることができる。
−NMR)を測定することにより前記一般式(1)で示
される未発明の化合物中に存在する水素原子の結合様式
を知ることができる。
【0030】(ハ)元素分析によって、炭素、水素、イ
オウ、リン及びハロゲンの各重量%を求め、さらに認知
された各元素の重量%の和を100から減じることによ
って酸素の重量%を算出することができ、従って該化合
物の組成式を決定することができる。
オウ、リン及びハロゲンの各重量%を求め、さらに認知
された各元素の重量%の和を100から減じることによ
って酸素の重量%を算出することができ、従って該化合
物の組成式を決定することができる。
【0031】一般式(1)で示される亜リン酸エステル
化合物は、どのような方法により得ても良いが代表的な
製造方法を記述すると下記の方法を挙げることができ
る。
化合物は、どのような方法により得ても良いが代表的な
製造方法を記述すると下記の方法を挙げることができ
る。
【0032】一般式(2)
【0033】
【化9】
【0034】{但し、A1 は、−(X1 −R3)m −また
は−R4 −(X1 −R3)m −(但し、X1 は、酸素原子
またはイオウ原子であり、R3 及びR4 は、それぞれ同
種または異種のアルキレン基、フェニレン基、トルエン
−α−ジイル基またはキシレン−α,α′−ジイル基で
あり、mは0以上の整数である。)であり、Y1 及びY
2 は、それぞれ同種または異種の水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基またはアルキルチオ基で
あり、Mは水素原子又はアルカリ金属である。}で示さ
れる化合物と、下記式(3) [但し、R1 及びR2 は、それぞれ同種または異種の
アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ
基、
は−R4 −(X1 −R3)m −(但し、X1 は、酸素原子
またはイオウ原子であり、R3 及びR4 は、それぞれ同
種または異種のアルキレン基、フェニレン基、トルエン
−α−ジイル基またはキシレン−α,α′−ジイル基で
あり、mは0以上の整数である。)であり、Y1 及びY
2 は、それぞれ同種または異種の水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基またはアルキルチオ基で
あり、Mは水素原子又はアルカリ金属である。}で示さ
れる化合物と、下記式(3) [但し、R1 及びR2 は、それぞれ同種または異種の
アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ
基、
【0035】
【化10】
【0036】または
【0037】
【化11】
【0038】{但し、A2 は、−(R5 −X2)n −、−
(X2 −R5)n −、−R6 −(X2 −R5)n −、−X3
−(R5 −X2)n −、−R6 −X3 −(R5 −X2)n −
または−X3 −R6 −(X2 −R5)n −であり、A
3 は、−X3 −(R5 −X2)n −または−X3 −R6 −
(X2 −R5)n −(但し、X2 及びX3 は、それぞれ酸
素原子またはイオウ原子であり、R5 及びR6 は、それ
ぞれ同種または異種のアルキレン基、フェニレン基、ト
ルエン−α−ジイル基またはキシレン−α,α′−ジイ
ル基であり、nは0以上の整数である。)であり、Y3
及びY4 は、それぞれ同種または異種の水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアルキルチ
オ基であり、R7 は、水素原子またはメチル基であ
る。}であり、Zはハロゲン原子であり、k及びeはそ
れぞれ0又は1である。]で示されるハロゲン化リン化
合物とを反応させる方法である。
(X2 −R5)n −、−R6 −(X2 −R5)n −、−X3
−(R5 −X2)n −、−R6 −X3 −(R5 −X2)n −
または−X3 −R6 −(X2 −R5)n −であり、A
3 は、−X3 −(R5 −X2)n −または−X3 −R6 −
(X2 −R5)n −(但し、X2 及びX3 は、それぞれ酸
素原子またはイオウ原子であり、R5 及びR6 は、それ
ぞれ同種または異種のアルキレン基、フェニレン基、ト
ルエン−α−ジイル基またはキシレン−α,α′−ジイ
ル基であり、nは0以上の整数である。)であり、Y3
及びY4 は、それぞれ同種または異種の水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアルキルチ
オ基であり、R7 は、水素原子またはメチル基であ
る。}であり、Zはハロゲン原子であり、k及びeはそ
れぞれ0又は1である。]で示されるハロゲン化リン化
合物とを反応させる方法である。
【0039】一般式(2)及び(3)で示される化合物
の仕込みモル比は必要に応じて適宜決定すれば良いが、
通常、化学量論量、すなわち等モルで反応させるのが一
般的である。また、該反応においては、一般に生成して
くるハロゲン化水素を反応径から除く為、反応系内にハ
ロゲン化水素捕捉剤として塩基を共存させることが好ま
しい。該ハロゲン化水素捕捉剤としての塩基は特に限定
されず公知のものを使用することができる。一般に好適
に使用される塩基として、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、テトラメ
チル尿素等が挙げられる。また炭酸アルカリ金属、水酸
化アルカリ金属、水素化アルカリ金属等のアルカリ金属
化合物を反応系内で反応させ、アルコラートまたはチオ
ラートとし、脱ハロゲン化金属させても差しつかえな
い。
の仕込みモル比は必要に応じて適宜決定すれば良いが、
通常、化学量論量、すなわち等モルで反応させるのが一
般的である。また、該反応においては、一般に生成して
くるハロゲン化水素を反応径から除く為、反応系内にハ
ロゲン化水素捕捉剤として塩基を共存させることが好ま
しい。該ハロゲン化水素捕捉剤としての塩基は特に限定
されず公知のものを使用することができる。一般に好適
に使用される塩基として、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、テトラメ
チル尿素等が挙げられる。また炭酸アルカリ金属、水酸
化アルカリ金属、水素化アルカリ金属等のアルカリ金属
化合物を反応系内で反応させ、アルコラートまたはチオ
ラートとし、脱ハロゲン化金属させても差しつかえな
い。
【0040】前記反応に際しては、一般に有機溶媒を用
いるのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるもの
を例示すれば、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、ベ
ンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化メチレン、塩化
エチレン等の脂肪族または芳香族炭化水素類;ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;ア
セトニトリル等のニトリル類;N,N−ジメチルホルム
アミド等のジアルキルアミド類;ジメチルスルホキシド
等が挙げられる。
いるのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるもの
を例示すれば、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、ベ
ンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化メチレン、塩化
エチレン等の脂肪族または芳香族炭化水素類;ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;ア
セトニトリル等のニトリル類;N,N−ジメチルホルム
アミド等のジアルキルアミド類;ジメチルスルホキシド
等が挙げられる。
【0041】前記反応における温度は原料の種類、溶媒
の種類によって異なるが、一般には0℃〜溶媒を還流さ
せる温度が好ましい。反応時間も原料の種類によって異
なるが、通常、5分から40時間、好ましくは30分か
ら24時間の範囲から選べば十分である。また反応中に
おいては撹拌を行うのが好ましい。
の種類によって異なるが、一般には0℃〜溶媒を還流さ
せる温度が好ましい。反応時間も原料の種類によって異
なるが、通常、5分から40時間、好ましくは30分か
ら24時間の範囲から選べば十分である。また反応中に
おいては撹拌を行うのが好ましい。
【0042】反応系から目的生成物、すなわち前記一般
式(1)で示される化合物を単離精製する方法は特に限
定されず、公知の方法が採用できる。
式(1)で示される化合物を単離精製する方法は特に限
定されず、公知の方法が採用できる。
【0043】本発明の前記一般式(1)で示される化合
物は高屈折率で比重が小さく透明性に優れた樹脂を与え
る。
物は高屈折率で比重が小さく透明性に優れた樹脂を与え
る。
【0044】本発明の亜リン酸エステル化合物を用いて
光学材料、とりわけレンズ材料を得る際、前記一般式
(1)で示される化合物が1官能性であるときは、ラジ
カル共重合可能な多官能性不飽和単量体と共重合するの
が好ましい。該多官能性不飽和単量体の例を挙げると次
のとおりである。尚、アクリレート及びメタクリレート
を総称して(メタ)アクリレートと記す。エチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、チオグリコールジ(メタ)ア
クリレート等のジ(メタ)アクリレート;ジビニルベン
ゼン、2,5−ジビニルピリジン等が挙げられる。さら
に、高屈折率の重合体を得る観点からその単独重合体の
屈折率が1.55以上の多官能性不飽和単量体を用いる
のが良好である。このような多官能性不飽和単量体を具
体的に例示すると、ビスフェノールA、ビスフェノール
S、2,2′,6,6′−テトラクロロビスフェノール
A、2,2′,6,6′−テトラクロロビスフェノール
S、2,2′,6,6′−テトラブロモビスフェノール
A若しくは2,2′,6,6′−テトラブロモビスフェ
ノールS等のビスフェノール類のビスβ−メタリルカー
ボネート、ジアクリレート又はジメタクリレート;テト
ラクロロフタル酸ビスヒドロキシエチルエステル、テト
ラクロロイソフタル酸ビスヒドロキシエチルエステル、
テトラクロロテレフタル酸ビスヒドロキシエチルエステ
ル、テトラブロモフタル酸ビスヒドロキシエチルエステ
ル若しくはテトラブロモテレフタル酸ビスヒドロキシエ
チルエステル等のビスβ−メタリルカーボネート、ジア
クリレート又はジメタクリレート;ジビニルベンゼン、
2,5ジビニルピリジン等が挙げられる。
光学材料、とりわけレンズ材料を得る際、前記一般式
(1)で示される化合物が1官能性であるときは、ラジ
カル共重合可能な多官能性不飽和単量体と共重合するの
が好ましい。該多官能性不飽和単量体の例を挙げると次
のとおりである。尚、アクリレート及びメタクリレート
を総称して(メタ)アクリレートと記す。エチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、チオグリコールジ(メタ)ア
クリレート等のジ(メタ)アクリレート;ジビニルベン
ゼン、2,5−ジビニルピリジン等が挙げられる。さら
に、高屈折率の重合体を得る観点からその単独重合体の
屈折率が1.55以上の多官能性不飽和単量体を用いる
のが良好である。このような多官能性不飽和単量体を具
体的に例示すると、ビスフェノールA、ビスフェノール
S、2,2′,6,6′−テトラクロロビスフェノール
A、2,2′,6,6′−テトラクロロビスフェノール
S、2,2′,6,6′−テトラブロモビスフェノール
A若しくは2,2′,6,6′−テトラブロモビスフェ
ノールS等のビスフェノール類のビスβ−メタリルカー
ボネート、ジアクリレート又はジメタクリレート;テト
ラクロロフタル酸ビスヒドロキシエチルエステル、テト
ラクロロイソフタル酸ビスヒドロキシエチルエステル、
テトラクロロテレフタル酸ビスヒドロキシエチルエステ
ル、テトラブロモフタル酸ビスヒドロキシエチルエステ
ル若しくはテトラブロモテレフタル酸ビスヒドロキシエ
チルエステル等のビスβ−メタリルカーボネート、ジア
クリレート又はジメタクリレート;ジビニルベンゼン、
2,5ジビニルピリジン等が挙げられる。
【0045】一方、前記の多官能性不飽和単量体と共に
ラジカル共重合可能な1官能性不飽和単量体を使用して
もさしつえない。1官能性不飽和単量体は、高屈折率の
重合体を得る観点からその単独重合体の屈折率が1.5
5以上の単量体を用いるのが良好である。
ラジカル共重合可能な1官能性不飽和単量体を使用して
もさしつえない。1官能性不飽和単量体は、高屈折率の
重合体を得る観点からその単独重合体の屈折率が1.5
5以上の単量体を用いるのが良好である。
【0046】具体的には下記のとおりである。
【0047】フェニル(メタ)アクリレート、モノクロ
ロフェニル(メタ)アクリレート、ジクロロフェニル
(メタ)アクリレート、トリクロロフェニル(メタ)ア
クリレート、モノブロモフェニル(メタ)アクリレー
ト、ジブロモフェニル(メタ)アクリレート、トリブロ
モフェニル(メタ)アクリレート、ペンタブロモフェニ
ル(メタ)アクリレート、モノクロロフェノキシエチル
(メタ)アクリレート、ジクロロフェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、トリクロロフェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、モノブロモフェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、ジブロモフェノキシエチル(メタ)
アクリレート、トリブロモフェノキシエチル(メタ)ア
クリレート、ペンタブロモフェノキシエチル(メタ)ア
クリレート、フェニルチオ(メタ)アクリレート、ベン
ジルチオ(メタ)アクリレート、ベンジルチオエチルチ
オ(メタ)アクリレート、スチレン、クロロスチレン、
ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、メチルスチレン、メトキシスチレ
ン、2−ビニルチオフエン、ビニルナフタレン、N−ビ
ニルカルバゾール、ベンジル(メタ)アクリレート、エ
チルビニルベンゼン等が挙げられる。
ロフェニル(メタ)アクリレート、ジクロロフェニル
(メタ)アクリレート、トリクロロフェニル(メタ)ア
クリレート、モノブロモフェニル(メタ)アクリレー
ト、ジブロモフェニル(メタ)アクリレート、トリブロ
モフェニル(メタ)アクリレート、ペンタブロモフェニ
ル(メタ)アクリレート、モノクロロフェノキシエチル
(メタ)アクリレート、ジクロロフェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、トリクロロフェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、モノブロモフェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、ジブロモフェノキシエチル(メタ)
アクリレート、トリブロモフェノキシエチル(メタ)ア
クリレート、ペンタブロモフェノキシエチル(メタ)ア
クリレート、フェニルチオ(メタ)アクリレート、ベン
ジルチオ(メタ)アクリレート、ベンジルチオエチルチ
オ(メタ)アクリレート、スチレン、クロロスチレン、
ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、メチルスチレン、メトキシスチレ
ン、2−ビニルチオフエン、ビニルナフタレン、N−ビ
ニルカルバゾール、ベンジル(メタ)アクリレート、エ
チルビニルベンゼン等が挙げられる。
【0048】これらの単量体は一種又は二種以上を混合
して使用できる。
して使用できる。
【0049】本発明において光学材料とりわけレンズ材
料を得る際、その単量体の組成比は前記一般式(1)で
示される化合物が1官能性化合物のときは全単量体中に
占める割合が30〜90重量%、特に40〜80重量%
の範囲で使用するのが好ましく、多官能性化合物のとき
は全単量体中に占める割合が10〜100重量%、特に
40〜100重量%の範囲で使用するのが好ましい。
料を得る際、その単量体の組成比は前記一般式(1)で
示される化合物が1官能性化合物のときは全単量体中に
占める割合が30〜90重量%、特に40〜80重量%
の範囲で使用するのが好ましく、多官能性化合物のとき
は全単量体中に占める割合が10〜100重量%、特に
40〜100重量%の範囲で使用するのが好ましい。
【0050】一方、ラジカル共重合可能な多官能性不飽
和単量体の使用量は、前記一般式(1)で示される化合
物が1官能性化合物のときは、全単量体中に占める割合
で10〜70重量%、特に20〜60重量%が好まし
く、前記一般式(1)で示される化合物が多官能性化合
物のときは全単量体中に占める割合で0〜90重量%、
特に0〜60重量%の範囲が好ましい。
和単量体の使用量は、前記一般式(1)で示される化合
物が1官能性化合物のときは、全単量体中に占める割合
で10〜70重量%、特に20〜60重量%が好まし
く、前記一般式(1)で示される化合物が多官能性化合
物のときは全単量体中に占める割合で0〜90重量%、
特に0〜60重量%の範囲が好ましい。
【0051】更に、ラジカル共重合可能な1官能性不飽
和単量体の使用量は、前記一般式(1)で占めされる化
合物が1官能性化合物のときは、全単量体中に占める割
合で0〜40重量%、特に0〜20重量%の範囲が好ま
しく、前記一般式(1)で占される化合物が多官能性化
合物のときは全単量体中に占める割合で0〜90重量
%、特に0〜60重量%の範囲が好ましい。
和単量体の使用量は、前記一般式(1)で占めされる化
合物が1官能性化合物のときは、全単量体中に占める割
合で0〜40重量%、特に0〜20重量%の範囲が好ま
しく、前記一般式(1)で占される化合物が多官能性化
合物のときは全単量体中に占める割合で0〜90重量
%、特に0〜60重量%の範囲が好ましい。
【0052】前記の単量体組成物を用いて高屈折率樹脂
を得る重合方法は、特に限定的でなく、公知の注型重合
方法を採用できる。重合開始手段は、種々の過酸化物や
アゾ化合物等のカジカル重合開始剤の使用、又は紫外
線、α線、β線、γ線等の照射或いは両者の併用によっ
て行うことができる。代表的な重合方法を例示すると、
エラストマーガスケットまたはスペーサーで保存されて
いるモールド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記の単
量体組成物を注入し、空気炉中で硬化させた後、取出せ
ばよい。
を得る重合方法は、特に限定的でなく、公知の注型重合
方法を採用できる。重合開始手段は、種々の過酸化物や
アゾ化合物等のカジカル重合開始剤の使用、又は紫外
線、α線、β線、γ線等の照射或いは両者の併用によっ
て行うことができる。代表的な重合方法を例示すると、
エラストマーガスケットまたはスペーサーで保存されて
いるモールド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記の単
量体組成物を注入し、空気炉中で硬化させた後、取出せ
ばよい。
【0053】ラジカル重合開始剤としては、特に限定さ
れず、公知のものが使用できるが、代表的なものを例示
すると、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾ
イルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウ
ロイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド等のジ
アシルパーオキサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エ
チルヘキサネート、t−ブチルパーオキシネオデカネー
ト、クミルパーオキシネオデカネート、t−ブチルパー
オキシベンゾエート等のパーオキシエステル;ジイソプ
ロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキ
シルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパ
ーオキシジカーボネート等のパーカーボネート;アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ化合物である。該ラジカ
ル重合開始剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、前
記の単量体組成物の組成によって異なり、一概に限定は
できないが、一般には、単量体組成物100重量部に対
して0.01〜10重量部、好ましくは0.01〜5重
量部の範囲で用いるのが好適である。
れず、公知のものが使用できるが、代表的なものを例示
すると、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾ
イルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウ
ロイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド等のジ
アシルパーオキサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エ
チルヘキサネート、t−ブチルパーオキシネオデカネー
ト、クミルパーオキシネオデカネート、t−ブチルパー
オキシベンゾエート等のパーオキシエステル;ジイソプ
ロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキ
シルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパ
ーオキシジカーボネート等のパーカーボネート;アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ化合物である。該ラジカ
ル重合開始剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、前
記の単量体組成物の組成によって異なり、一概に限定は
できないが、一般には、単量体組成物100重量部に対
して0.01〜10重量部、好ましくは0.01〜5重
量部の範囲で用いるのが好適である。
【0054】重合条件のうち、特に温度は得られる高屈
折率樹脂の性状に影響を与える。この温度条件は、開始
剤の種類と量や単量体組成物の種類によって影響を受け
るので、一概に限定できないが、一般的に比較的低温下
で重合を開始し、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終
了時に高温下に硬化させる所謂テーパ型の2段重合を行
うのが好適である。重合時間も温度と同様に各種の要因
によって異なるので、予めこれらの条件に応じた最適の
時間を決定するのが好適であるが、一般に2〜40時間
で重合を完結するように条件を選ぶのが好ましい。
折率樹脂の性状に影響を与える。この温度条件は、開始
剤の種類と量や単量体組成物の種類によって影響を受け
るので、一概に限定できないが、一般的に比較的低温下
で重合を開始し、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終
了時に高温下に硬化させる所謂テーパ型の2段重合を行
うのが好適である。重合時間も温度と同様に各種の要因
によって異なるので、予めこれらの条件に応じた最適の
時間を決定するのが好適であるが、一般に2〜40時間
で重合を完結するように条件を選ぶのが好ましい。
【0055】勿論、前記重合に際し、離型剤、紫外線吸
収剤、酸化防止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染
料、染料、顔料、香料等の各種安定剤、添加剤は必要に
応じて選択して使用することが出来る。
収剤、酸化防止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染
料、染料、顔料、香料等の各種安定剤、添加剤は必要に
応じて選択して使用することが出来る。
【0056】さらに、上記の方法で得られる高屈折率樹
脂は、その用途に応じて以下のような処理を施すことも
出来る。即ち、分散染料などの染料を用いる染色、シラ
ンカップリング剤やケイ素、ジルコニア、アンチモン、
アルミニウム等の酸化物のゾルを主成分とするハードコ
ート剤や、有機高分子体を主成分とするハードコート剤
によるハードコーティング処理や、SiO2 ,Ti
O2 ,ZrO等の金属酸化物の薄膜の蒸着や有機高分子
体の薄膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止処理等
の加工及び2次処理を施すことも可能である。
脂は、その用途に応じて以下のような処理を施すことも
出来る。即ち、分散染料などの染料を用いる染色、シラ
ンカップリング剤やケイ素、ジルコニア、アンチモン、
アルミニウム等の酸化物のゾルを主成分とするハードコ
ート剤や、有機高分子体を主成分とするハードコート剤
によるハードコーティング処理や、SiO2 ,Ti
O2 ,ZrO等の金属酸化物の薄膜の蒸着や有機高分子
体の薄膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止処理等
の加工及び2次処理を施すことも可能である。
【0057】
【効果】本発明の亜リン酸エステル化合物は高屈折率で
比重が小さく、透明性、耐候性等に優れた樹脂を与える
単量体として有用である。このため、本発明の亜リン酸
エステル化合物の単独重合体又は該化合物と不飽和単量
体との共重合により得られる高屈折率樹脂は有機ガラス
として有用であり、例えば、メガネレンズ、光学機器レ
ンズ等の光学レンズとして最適であり、更にプリズム、
光ディスク基板、光ファイバー等の用途に好適に使用す
ることができる。
比重が小さく、透明性、耐候性等に優れた樹脂を与える
単量体として有用である。このため、本発明の亜リン酸
エステル化合物の単独重合体又は該化合物と不飽和単量
体との共重合により得られる高屈折率樹脂は有機ガラス
として有用であり、例えば、メガネレンズ、光学機器レ
ンズ等の光学レンズとして最適であり、更にプリズム、
光ディスク基板、光ファイバー等の用途に好適に使用す
ることができる。
【0058】
【実施例】以下、本発明を具体的に説明するために、実
施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。
施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。
【0059】なお、実施例において得られた亜リン酸エ
ステル化合物、及び高屈折率樹脂は、下記の試験法によ
って諸物性を測定した。
ステル化合物、及び高屈折率樹脂は、下記の試験法によ
って諸物性を測定した。
【0060】(1)IRスペクトル BIO−RAD製、DIGILAB FIS−7、フー
リエ変換赤外分光光度計を用い、KBr法により測定し
た。
リエ変換赤外分光光度計を用い、KBr法により測定し
た。
【0061】(2) 1H−NMRスペクトル 日本電子(株)製、PMX−60SI型(60MHz)
を用い、試料をCDCL3 に希釈し、テトラメチルシラ
ンを内部標準として測定した。
を用い、試料をCDCL3 に希釈し、テトラメチルシラ
ンを内部標準として測定した。
【0062】(3)屈折率 アタゴ(株)製、アッベ屈折計を用いて、20℃におけ
る屈折率を測定した。接触液にはブロモナフタリンまた
はヨウ化メチレンを使用した。
る屈折率を測定した。接触液にはブロモナフタリンまた
はヨウ化メチレンを使用した。
【0063】なお、亜リン酸エステル化合物の屈折率は
該化合物を液状の不飽和単量体に溶解し外挿法により求
めた。
該化合物を液状の不飽和単量体に溶解し外挿法により求
めた。
【0064】(4)外観 目視により測定した。
【0065】(5)耐候性 スガ試験機(株)製ロングライフキセノンフェードメー
ター(FAC−25AX−HC型)中に試料と、比較し
てポリスチレンを設置し、100時間キセノン光を露光
した後、ポリスチレンよりも試料の着色の程度の低いも
のを○、同等のものを△、高いものを×で評価した。
ター(FAC−25AX−HC型)中に試料と、比較し
てポリスチレンを設置し、100時間キセノン光を露光
した後、ポリスチレンよりも試料の着色の程度の低いも
のを○、同等のものを△、高いものを×で評価した。
【0066】なお、以下の実施例で使用した不飽和単量
体は下記の記号で表した。但し、[]内は単独重合体の
屈折率である。
体は下記の記号で表した。但し、[]内は単独重合体の
屈折率である。
【0067】St: スチレン [1.590] ClSt: クロルスチレン (o,m体の混合物)
[1.610] DVB: ジビニルベンゼン [1.615] 実施例1 温度計、滴下ロート及びメカニカルスターラーを付けた
500ml3つ口フラスコにクロルフォスフィン酸ジメチ
ルチオエステル10.0g(0.062mol)とピリジン
5.5g(0.07mol)を塩化メチレン200mlに溶解
し、0℃に冷却した。攪はんしながら、4−ビニルフェ
ニルメルカプタン8.4g(0.062mol)を徐々に滴
下した。この際、反応温度を0〜5℃に保ち、滴下終了
後さらに20℃で2時間攪はんした。その後、反応混合
物を水にあけ、希塩酸、及び希炭酸ナトリウム水溶液で
有機層を洗浄した後、水洗を行った。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下、留去することに
より、白色の固体を得た。これをトリエン−ヘキサン混
合溶媒から再結晶して無色針状の結晶10.3g(収率
6.4%)を得た。このもののIRチャートを図1に示
した。3150−2800cm-1にC−H結合に基づく吸
収、1640cm-1にCH2 =CH基に基づく吸収が認め
られた。また、このものの 1H−NMR(CDCl3 溶
媒中、テトラメチルシラン基準、ppm)のチャートを
図2に示した。δ5〜7ppm にビニルプロトン由来のシ
グナル(a)、7〜8ppm にはスチリル基のフェニル基
由来のシグナル(b)、3.1ppm にメチルチオ基由来
のシグナル(c)が観測された。
[1.610] DVB: ジビニルベンゼン [1.615] 実施例1 温度計、滴下ロート及びメカニカルスターラーを付けた
500ml3つ口フラスコにクロルフォスフィン酸ジメチ
ルチオエステル10.0g(0.062mol)とピリジン
5.5g(0.07mol)を塩化メチレン200mlに溶解
し、0℃に冷却した。攪はんしながら、4−ビニルフェ
ニルメルカプタン8.4g(0.062mol)を徐々に滴
下した。この際、反応温度を0〜5℃に保ち、滴下終了
後さらに20℃で2時間攪はんした。その後、反応混合
物を水にあけ、希塩酸、及び希炭酸ナトリウム水溶液で
有機層を洗浄した後、水洗を行った。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下、留去することに
より、白色の固体を得た。これをトリエン−ヘキサン混
合溶媒から再結晶して無色針状の結晶10.3g(収率
6.4%)を得た。このもののIRチャートを図1に示
した。3150−2800cm-1にC−H結合に基づく吸
収、1640cm-1にCH2 =CH基に基づく吸収が認め
られた。また、このものの 1H−NMR(CDCl3 溶
媒中、テトラメチルシラン基準、ppm)のチャートを
図2に示した。δ5〜7ppm にビニルプロトン由来のシ
グナル(a)、7〜8ppm にはスチリル基のフェニル基
由来のシグナル(b)、3.1ppm にメチルチオ基由来
のシグナル(c)が観測された。
【0068】
【化12】
【0069】更に、元素分析値(( )内は計算値であ
る。)はC:46.25%(46.12%)、H:4.
98%(5.03%)、S:37.03%(36.95
%)、P:11.74%(11.89%)であり、計算
値とよく一致した。また屈折率を外挿法により求めたと
ころnD =1.673であった。
る。)はC:46.25%(46.12%)、H:4.
98%(5.03%)、S:37.03%(36.95
%)、P:11.74%(11.89%)であり、計算
値とよく一致した。また屈折率を外挿法により求めたと
ころnD =1.673であった。
【0070】実施例2 温度計、滴下ロート及びメカニカルスターラーを付けた
500ml3つ口フラスコにフェニルジクロルホスフィン
10.0g(0.056mol)とピリジン9.7g(0.
123mol)を塩化メチレン200mlに溶解し、0℃に冷
却した。攪はんしながら、4−ビニルベンジルチオエチ
ルチオメルカプタン23.5g(0.112mol)を徐々
に滴下した。この際、反応温度を0〜5℃に保ち、滴下
終了後さらに20℃で2時間攪はんした。その後、反応
混合物を水にあけ、希塩酸、及び希炭酸ナトリウム水溶
液で有機層を洗浄した後、水洗を行った。有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下、留去するこ
とにより、白色の固体を得た。これをトリエンから再結
晶して無色針状の結晶18.8g(収率64%)を得
た。このもののIRチャートでは、3150〜2800
cm-1にC−H結合に基づく吸収、1640cm-1にCH2
=CH基に基づく吸収が認められた。また、このものの
1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチルシラン
基準、ppm)ではδ5−7ppm にビニルプロトン由来のシ
グナル(a)、7−8ppm にはスチリル基、及びリンに
結合したフェニル基由来のシグナル(b)(e)、3.
8ppm にベンジル基のメチレン由来のシグナル(c)、
さらに、2.6〜3.5ppm にネオエチル基のメチレン
由来のシグナル(d)が観測された。
500ml3つ口フラスコにフェニルジクロルホスフィン
10.0g(0.056mol)とピリジン9.7g(0.
123mol)を塩化メチレン200mlに溶解し、0℃に冷
却した。攪はんしながら、4−ビニルベンジルチオエチ
ルチオメルカプタン23.5g(0.112mol)を徐々
に滴下した。この際、反応温度を0〜5℃に保ち、滴下
終了後さらに20℃で2時間攪はんした。その後、反応
混合物を水にあけ、希塩酸、及び希炭酸ナトリウム水溶
液で有機層を洗浄した後、水洗を行った。有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下、留去するこ
とにより、白色の固体を得た。これをトリエンから再結
晶して無色針状の結晶18.8g(収率64%)を得
た。このもののIRチャートでは、3150〜2800
cm-1にC−H結合に基づく吸収、1640cm-1にCH2
=CH基に基づく吸収が認められた。また、このものの
1H−NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチルシラン
基準、ppm)ではδ5−7ppm にビニルプロトン由来のシ
グナル(a)、7−8ppm にはスチリル基、及びリンに
結合したフェニル基由来のシグナル(b)(e)、3.
8ppm にベンジル基のメチレン由来のシグナル(c)、
さらに、2.6〜3.5ppm にネオエチル基のメチレン
由来のシグナル(d)が観測された。
【0071】
【化13】
【0072】更に、元素分析値(( )内は計算値であ
る。)はC:62.55%(62.61%)、H:5.
58%(5.46%)、S:26.00%(25.72
%)と、P:5.87%(6.21%)であり、計算値
とよく一致した。また屈折率を外挿法により求めたとこ
ろnD =1.652であった。
る。)はC:62.55%(62.61%)、H:5.
58%(5.46%)、S:26.00%(25.72
%)と、P:5.87%(6.21%)であり、計算値
とよく一致した。また屈折率を外挿法により求めたとこ
ろnD =1.652であった。
【0073】実施例3〜86 種々の原料を用いて実施例1、及び2において詳細に記
述したのと同様な方法により、表1に記載した亜リン酸
エステル化合物を合成した。なお、表1には得られた亜
リン酸エステル化合物の性状、元素分析結果及び屈折率
も併せて記した。
述したのと同様な方法により、表1に記載した亜リン酸
エステル化合物を合成した。なお、表1には得られた亜
リン酸エステル化合物の性状、元素分析結果及び屈折率
も併せて記した。
【0074】
【表1】
【0075】
【表2】
【0076】
【表3】
【0077】
【表4】
【0078】
【表5】
【0079】
【表6】
【0080】
【表7】
【0081】
【表8】
【0082】
【表9】
【0083】
【表10】
【0084】
【表11】
【0085】
【表12】
【0086】
【表13】
【0087】
【表14】
【0088】
【表15】
【0089】
【表16】
【0090】
【表17】
【0091】
【表18】
【0092】
【表19】
【0093】
【表20】
【0094】
【表21】
【0095】
【表22】
【0096】
【表23】
【0097】実施例87 実施例1で合成した亜リン酸エステル化合物50重量部
と不飽和単量体としてジビニルベンゼン50重量部の混
合物100重量部に対して、ラジカル重合開始剤として
t−ブチルパーオキシ−2−エチレンヘキサネート1重
量部を添加してよく混合した。この混合液をガラス板と
エチレン−酢酸ビニル共重合体とから成るガスケットで
構成された鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。重合
は空気炉を用い、30℃から90℃まで18時間かけ徐
々に温度を上げて行き、90℃に2時間保持した。重合
終了後、鋳型を空気炉から取り出し、放冷後、重合体を
鋳型のガラスから取りはずした。
と不飽和単量体としてジビニルベンゼン50重量部の混
合物100重量部に対して、ラジカル重合開始剤として
t−ブチルパーオキシ−2−エチレンヘキサネート1重
量部を添加してよく混合した。この混合液をガラス板と
エチレン−酢酸ビニル共重合体とから成るガスケットで
構成された鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。重合
は空気炉を用い、30℃から90℃まで18時間かけ徐
々に温度を上げて行き、90℃に2時間保持した。重合
終了後、鋳型を空気炉から取り出し、放冷後、重合体を
鋳型のガラスから取りはずした。
【0098】得られた重合体は無色透明であり、屈折率
(nD 20)1.663比重1.29であり、耐候性も0
であった。
(nD 20)1.663比重1.29であり、耐候性も0
であった。
【0099】実施例88 表2に示す亜リン酸エステル化合物及びこれと共重合可
能な単量体とから成る組成物を用いた以外、実施例87
と同様に実施した。得られた重合体の物性を測定して表
2に示した。
能な単量体とから成る組成物を用いた以外、実施例87
と同様に実施した。得られた重合体の物性を測定して表
2に示した。
【0100】
【表24】
【0101】
【表25】
【0102】
【表26】
【図1】図1は実施例1で得られた本発明の亜リン酸エ
ステル化合物の赤外吸収スペクトルチャートである。
ステル化合物の赤外吸収スペクトルチャートである。
【図2】図2は実施例1で得られた本発明の亜リン酸エ
ステル化合物の 1H−核磁気共鳴スペクトルチャートで
ある。
ステル化合物の 1H−核磁気共鳴スペクトルチャートで
ある。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記式(1) 【化1】 [但し、A1 は、−(X1 −R3)m −または−R4 −
(X1 −R3)m −(但し、X1 は、酸素原子またはイオ
ウ原子であり、R3 及びR4は、それぞれ同種または異
種のアルキレン基、フェニレン基、トルエン−α−ジイ
ル基またはキシレン−α,α′−ジイル基であり、mは
0以上の整数である。)であり、Y1 及びY2 は、それ
ぞれ同種または異種の水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基またはアルキルチオ基であり、R1
及びR2 は、それぞれ同種または異種のアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アラルキルチオ基 【化2】 または 【化3】 {但し、A2 は、−(R5 −X2)n −、−(X2 −R5)
n −、−R6 −(X2 −R5)n −、−X3 −(R5 −X
2)n −、−R6 −X3 −(R5 −X2)n −または−X3
−R6 −(X2 −R5)n −であり、A3 は、−X3 −
(R5 −X2)n −または−X3 −R6 −(X2 −R5)n
−(但し、X2 及びX3 は、それぞれ酸素原子またはイ
オウ原子であり、R5 及びR6 は、それぞれ同種または
異種のアルキレン基、フェニレン基、トルエン−α−ジ
イル基またはキシレン−α,α′−ジイル基であり、n
は0以上の整数である。)であり、Y3 及びY4は、そ
れぞれ同種または異種の水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アルコキシ基またはアルキルチオ基であり、R
7 は、水素原子またはメチル基である。}である。]で
示される亜リン酸エステル化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7311091A JP2609486B2 (ja) | 1991-04-05 | 1991-04-05 | 亜リン酸エステル化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7311091A JP2609486B2 (ja) | 1991-04-05 | 1991-04-05 | 亜リン酸エステル化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04308597A JPH04308597A (ja) | 1992-10-30 |
JP2609486B2 true JP2609486B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=13508819
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7311091A Expired - Lifetime JP2609486B2 (ja) | 1991-04-05 | 1991-04-05 | 亜リン酸エステル化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2609486B2 (ja) |
-
1991
- 1991-04-05 JP JP7311091A patent/JP2609486B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04308597A (ja) | 1992-10-30 |
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