JPH04300886A - リン酸エステル化合物及びその製造方法 - Google Patents
リン酸エステル化合物及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特に光学材料として有
用であり、その他、塗料、インク、接着剤、ゴムの加硫
剤、感光性樹脂、架橋剤等に特に有用な新規リン酸エス
テル化合物及びその製造方法に関するものである。
用であり、その他、塗料、インク、接着剤、ゴムの加硫
剤、感光性樹脂、架橋剤等に特に有用な新規リン酸エス
テル化合物及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】現在、広く用いられている光学材料とし
ては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートを
注型重合させた樹脂がある。しかし、この樹脂は、屈折
率(nD )が1.50であり、無機レンズに比べて小
さく、無機レンズと同等の光学特性を得るためには、レ
ンズの中心厚、コバ厚及び曲率を大きくする必要があり
、全体的に肉厚になることが避けられない。そこで、樹
脂の高屈折率化を計る手段として樹脂の分子構造、即ち
、単量体の分子構造中にフッ素以外のハロゲン原子、芳
香環、及びイオウ原子を導入することが検討されている
。 例えば、特開昭61−86701号公報、同63−45
081号公報、同63−130614号公報等があげら
れる。
ては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートを
注型重合させた樹脂がある。しかし、この樹脂は、屈折
率(nD )が1.50であり、無機レンズに比べて小
さく、無機レンズと同等の光学特性を得るためには、レ
ンズの中心厚、コバ厚及び曲率を大きくする必要があり
、全体的に肉厚になることが避けられない。そこで、樹
脂の高屈折率化を計る手段として樹脂の分子構造、即ち
、単量体の分子構造中にフッ素以外のハロゲン原子、芳
香環、及びイオウ原子を導入することが検討されている
。 例えば、特開昭61−86701号公報、同63−45
081号公報、同63−130614号公報等があげら
れる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の単量体から得ら
れる樹脂は、従来のレンズ材料と比較すると屈折率がか
なり高くなっている。しかしながら、比重、透明性、耐
光性等の光学特性の点でバランスのとれた材料ではなく
、レンズ材料としては必ずしも満足のゆくものではなか
った。
れる樹脂は、従来のレンズ材料と比較すると屈折率がか
なり高くなっている。しかしながら、比重、透明性、耐
光性等の光学特性の点でバランスのとれた材料ではなく
、レンズ材料としては必ずしも満足のゆくものではなか
った。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を克服すべく鋭意研究した結果、リン酸エステル骨格を
有する重合性化合物が上記目的を達成し得る新規化合物
であることを見い出し、本発明を提案するに至った。
を克服すべく鋭意研究した結果、リン酸エステル骨格を
有する重合性化合物が上記目的を達成し得る新規化合物
であることを見い出し、本発明を提案するに至った。
【0005】すなわち、本発明は、下記式(I)
【00
06】
06】
【化13】
{但し、R1 は
【0007】
【化14】
又は
【0008】
【化15】
〔但し、A1 は、−(R4 −X4 ) n −、−
(X4 −R4 )n −、−(R4 −X4 )n
−R5 −、−(R4 −X4 )n −R5 −X5
−又は−(X4 −R4 )n −X5 −、A2
は、−(X4 −R4 ) n −X5 −R5 −又
は、−(X4 −R4 )n −X5 −(但し、X4
及びX5 は、夫々酸素原子又はイオウ原子であり、
R4 及びR5 は夫々同種又は異種のアルキレン基、
フェニレン基、トルエン−α−ジイル基又はキシレン−
α,α′−ジイル基であり、nは0以上の整数である。 )であり、Y1 及びY2 は、夫々、同種又は異種の
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又
はアルキルチオ基であり、R3 は水素原子又はメチル
基である。〕であり、R2 は、炭素数2〜5のアルキ
レン基、−R6 −X6 −R7 −(但し、R6 及
びR7 は夫々炭素数2〜4のアルキレン基であり、X
6 は酸素原子又はイオウ原子である。)又は
(X4 −R4 )n −、−(R4 −X4 )n
−R5 −、−(R4 −X4 )n −R5 −X5
−又は−(X4 −R4 )n −X5 −、A2
は、−(X4 −R4 ) n −X5 −R5 −又
は、−(X4 −R4 )n −X5 −(但し、X4
及びX5 は、夫々酸素原子又はイオウ原子であり、
R4 及びR5 は夫々同種又は異種のアルキレン基、
フェニレン基、トルエン−α−ジイル基又はキシレン−
α,α′−ジイル基であり、nは0以上の整数である。 )であり、Y1 及びY2 は、夫々、同種又は異種の
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又
はアルキルチオ基であり、R3 は水素原子又はメチル
基である。〕であり、R2 は、炭素数2〜5のアルキ
レン基、−R6 −X6 −R7 −(但し、R6 及
びR7 は夫々炭素数2〜4のアルキレン基であり、X
6 は酸素原子又はイオウ原子である。)又は
【0009】
【化16】
(但し、p及びqは、夫々0〜2の整数である。)であ
り、X1 、X2 、及びX3 は夫々酸素原子又はイ
オウ原子である。}で示されるリン酸エステル化合物で
ある。
り、X1 、X2 、及びX3 は夫々酸素原子又はイ
オウ原子である。}で示されるリン酸エステル化合物で
ある。
【0010】本発明の前記一般式(I)中のY1 及び
Y2 で示されるハロゲン原子は、塩素、臭素、ヨウ素
の各ハロゲン原子が好適に使用される。
Y2 で示されるハロゲン原子は、塩素、臭素、ヨウ素
の各ハロゲン原子が好適に使用される。
【0011】前記一般式(I)中のY1 及びY2 で
示されるアルキル基は特に限定されないが、一般には炭
素原子数1〜4個の直鎖状又は分枝状のものが好適であ
る。 一般に好適に使用される該アルキル基の具体例を提示す
ると、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−
プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、t−ブ
チル基等が挙げられる。
示されるアルキル基は特に限定されないが、一般には炭
素原子数1〜4個の直鎖状又は分枝状のものが好適であ
る。 一般に好適に使用される該アルキル基の具体例を提示す
ると、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−
プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、t−ブ
チル基等が挙げられる。
【0012】また、前記一般式(I)中のY1 及びY
2 で示されるアルコキシ基は特に限定されないが、一
般には炭素原子数1〜4個の直鎖状又は分枝状のアルキ
ル基を含む基が好適である。一般に好適に使用される該
アルコキシ基の具体例を提示すると、メトキシ基、エト
キシ基、n−プロポキシ基、t−ブトキシ基等が挙げら
れる。
2 で示されるアルコキシ基は特に限定されないが、一
般には炭素原子数1〜4個の直鎖状又は分枝状のアルキ
ル基を含む基が好適である。一般に好適に使用される該
アルコキシ基の具体例を提示すると、メトキシ基、エト
キシ基、n−プロポキシ基、t−ブトキシ基等が挙げら
れる。
【0013】また、前記一般式(I)中のY1 及びY
2 で示されるアルキルチオ基は特に限定されないが、
一般には炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状のアルキル
基を含む基が好適である。一般に好適に使用される該ア
ルキルチオ基の具体例を提示すると、メチルチオ基、エ
チルチオ基、n−プロピルチオ基、t−ブチルチオ基等
が挙げられる。
2 で示されるアルキルチオ基は特に限定されないが、
一般には炭素数1〜4個の直鎖状又は分枝状のアルキル
基を含む基が好適である。一般に好適に使用される該ア
ルキルチオ基の具体例を提示すると、メチルチオ基、エ
チルチオ基、n−プロピルチオ基、t−ブチルチオ基等
が挙げられる。
【0014】本発明において高屈折率の観点から前記一
般式(I)中のY1及びY2 は、ハロゲン原子又はア
ルキルチオ基が好ましく、更に比重を考慮するとアルキ
ルチオ基が特に好ましい。
般式(I)中のY1及びY2 は、ハロゲン原子又はア
ルキルチオ基が好ましく、更に比重を考慮するとアルキ
ルチオ基が特に好ましい。
【0015】更に前記一般式(I)中のA1 及びA2
で示される基の中に含まれるR4 及びR5 で示さ
れるアルキレン基は特に制限はないが、炭素原子数の増
加に伴い屈折率が低下するため、炭素数は2〜6個の範
囲で、特に2〜4個の範囲であることが好ましい。
で示される基の中に含まれるR4 及びR5 で示さ
れるアルキレン基は特に制限はないが、炭素原子数の増
加に伴い屈折率が低下するため、炭素数は2〜6個の範
囲で、特に2〜4個の範囲であることが好ましい。
【0016】また、上記のR4 及びR5 は、フェニ
レン基、トルエン−α−ジイル基
レン基、トルエン−α−ジイル基
【0017】
【化17】
又はキシレン−α,α′−ジイル基
【0018】
【化18】
を表す。
【0019】前記一般式(I)中、A1 及びA2 で
示される基の繰返しを示すnは0以上の整数であれば良
いが、nが大きくなりすぎると得られる樹脂の耐熱性が
損われるという問題が生じてくるため、好ましくは0〜
5、特に0〜2の範囲が好適である。
示される基の繰返しを示すnは0以上の整数であれば良
いが、nが大きくなりすぎると得られる樹脂の耐熱性が
損われるという問題が生じてくるため、好ましくは0〜
5、特に0〜2の範囲が好適である。
【0020】尚、A1 が−(R4 −X4 )n −
又は−(X4 −R4 )n −である場合においてn
が0のときは、A1 は結合手である。
又は−(X4 −R4 )n −である場合においてn
が0のときは、A1 は結合手である。
【0021】前記一般式(I)中、R2 は炭素数2〜
5のアルキレン基、R6 及びR7 は炭素数2〜4の
アルキレン基であり、具体的には、エチレン基、トリメ
チレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、プロ
ピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等を挙げることが
できる。
5のアルキレン基、R6 及びR7 は炭素数2〜4の
アルキレン基であり、具体的には、エチレン基、トリメ
チレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、プロ
ピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等を挙げることが
できる。
【0022】前記一般式(I)中のX1 、X2 及び
X3 は、酸素原子又はイオウ原子であれば良いが、高
屈折率の観点からイオウ原子が特に好ましい。
X3 は、酸素原子又はイオウ原子であれば良いが、高
屈折率の観点からイオウ原子が特に好ましい。
【0023】一般式(I)で示される亜リン酸エステル
化合物は、どのような方法により得ても良いが、一般に
は次に述べる2種の方法により製造することができる。
化合物は、どのような方法により得ても良いが、一般に
は次に述べる2種の方法により製造することができる。
【0024】〔A〕下記式
【0025】
【化19】
〔但し、X1 、X2 及びX3 は、夫々酸素原子又
はイオウ原子であり、R2 は、炭素数2〜5のアルキ
レン基、−R6 −X6 −R7 −(但し、R6 及
びR7 は夫々炭素数2〜4のアルキレン基であり、X
6 は酸素原子又はイオウ原子である。)又は
はイオウ原子であり、R2 は、炭素数2〜5のアルキ
レン基、−R6 −X6 −R7 −(但し、R6 及
びR7 は夫々炭素数2〜4のアルキレン基であり、X
6 は酸素原子又はイオウ原子である。)又は
【0026】
【化20】
(但し、p及びqは、夫々0〜2の整数である。)であ
り、Z1 はハロゲン原子である。〕で示されるハロゲ
ン化リン化合物と 下記式(III)又は(IV) R′1 −MgZ2 (III)R′1 −L
i (IV){但し、R′1 は、
り、Z1 はハロゲン原子である。〕で示されるハロゲ
ン化リン化合物と 下記式(III)又は(IV) R′1 −MgZ2 (III)R′1 −L
i (IV){但し、R′1 は、
【0027】
【化21】
又は、
【0028】
【化22】
〔但し、A3 は、−(X4 −R4 ) n −、又
は、−(R4 −X4 ) n −R5 −、A4 は
、−(X4 −R4 ) n −X5 −R5 −(但
し、X4 及びX5 は、夫々酸素原子又はイオウ原子
であり、R4 及びR5 は、夫々、同種又は異種のア
ルキレン基、フェニル基、トルエン−α−ジイル基又は
キシレン−α,α′−ジイル基であり、nは0以上の整
数である。)であり、Y1 及びY2 は、夫々、同種
又は異種の水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アル
コキシ基又はアルキルチオ基であり、R3 は水素原子
又はメチル基である。〕であり、Z2 はハロゲン原子
である。}で示される化合物とを反応させる方法。
は、−(R4 −X4 ) n −R5 −、A4 は
、−(X4 −R4 ) n −X5 −R5 −(但
し、X4 及びX5 は、夫々酸素原子又はイオウ原子
であり、R4 及びR5 は、夫々、同種又は異種のア
ルキレン基、フェニル基、トルエン−α−ジイル基又は
キシレン−α,α′−ジイル基であり、nは0以上の整
数である。)であり、Y1 及びY2 は、夫々、同種
又は異種の水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アル
コキシ基又はアルキルチオ基であり、R3 は水素原子
又はメチル基である。〕であり、Z2 はハロゲン原子
である。}で示される化合物とを反応させる方法。
【0029】〔B〕下記式(II)
【0030】
【化23】
〔但し、X1 、X2 及びX3 は、夫々酸素原子又
はイオウ原子であり、R2 は、炭素数2〜5のアルキ
レン基、−R6 −X6 −R7 −(但し、R6 及
びR7 は夫々炭素数2〜4のアルキレン基であり、X
6 は酸素原子又はイオウ原子である。)又は
はイオウ原子であり、R2 は、炭素数2〜5のアルキ
レン基、−R6 −X6 −R7 −(但し、R6 及
びR7 は夫々炭素数2〜4のアルキレン基であり、X
6 は酸素原子又はイオウ原子である。)又は
【0031】
【化24】
(但し、p及びqは、夫々0〜2の整数である。)であ
り、Zは、ハロゲン原子である。〕で示されるハロゲン
化リン化合物と 下記式(V) R″1 −M (V){但し、R″
1 は、
り、Zは、ハロゲン原子である。〕で示されるハロゲン
化リン化合物と 下記式(V) R″1 −M (V){但し、R″
1 は、
【0032】
【化25】
又は
【0033】
【化26】
〔但し、A5 は、−(R4 −X4 )n −、−(
R4 −X4 )n −R5 −X5 −又は−(X4
−R4 )n −X5 −、A6 は、−(X4 −
R4 )n −X5 −(但し、X4 及びX5 は、
夫々酸素原子又はイオウ原子であり、R4 及びR5
は、夫々、同種又は異種のアルキレン基、フェニレン基
、トルエン−α−ジイル基又はキシレン−α,α′−ジ
イル基であり、nは0以上の整数である。)であり、Y
1 及びY2 は、夫々、同種又は異種の水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチ
オ基であり、R3 は水素原子又はメチル基である。〕
であり、Mは水素原子又はアルカリ金属である。}で示
される化合物とを反応させる方法。
R4 −X4 )n −R5 −X5 −又は−(X4
−R4 )n −X5 −、A6 は、−(X4 −
R4 )n −X5 −(但し、X4 及びX5 は、
夫々酸素原子又はイオウ原子であり、R4 及びR5
は、夫々、同種又は異種のアルキレン基、フェニレン基
、トルエン−α−ジイル基又はキシレン−α,α′−ジ
イル基であり、nは0以上の整数である。)であり、Y
1 及びY2 は、夫々、同種又は異種の水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチ
オ基であり、R3 は水素原子又はメチル基である。〕
であり、Mは水素原子又はアルカリ金属である。}で示
される化合物とを反応させる方法。
【0034】原料となる前記一般式(II)、(III
)、(IV)、及び(V)で示される化合物は如何なる
方法で得られたものでも使用できる。
)、(IV)、及び(V)で示される化合物は如何なる
方法で得られたものでも使用できる。
【0035】前記一般式(I)で示される化合物を得る
反応の具体例を例示すれば以下の通りである。
反応の具体例を例示すれば以下の通りである。
【0036】〔A〕一般式(II)で示される化合物と
一般式(III)及び(IV)で示される化合物を反応
させる方法は、高い反応性を有するハロゲン化ホスホリ
ル又はハロゲン化チオホスホリル化合物と有機金属化合
物との反応であり、ハロゲン化リチウム又はハロゲン化
マグネシウムの生成を伴う反応である。
一般式(III)及び(IV)で示される化合物を反応
させる方法は、高い反応性を有するハロゲン化ホスホリ
ル又はハロゲン化チオホスホリル化合物と有機金属化合
物との反応であり、ハロゲン化リチウム又はハロゲン化
マグネシウムの生成を伴う反応である。
【0037】両化合物の仕込みモル比は必要に応じて適
宜決定すれば良いが、通常等モル使用するのが一般的で
ある。
宜決定すれば良いが、通常等モル使用するのが一般的で
ある。
【0038】前記反応に際しては、一般に原料類と反応
しない溶媒であれば公知のものが特に限定されずに使用
できる。該溶媒として好適に使用されるものを例示すれ
ば、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン等の脂肪
族炭化水素、あるいは芳香族炭化水素類;ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類
が挙げられる。
しない溶媒であれば公知のものが特に限定されずに使用
できる。該溶媒として好適に使用されるものを例示すれ
ば、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン等の脂肪
族炭化水素、あるいは芳香族炭化水素類;ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類
が挙げられる。
【0039】前記反応における温度は、原料の種類、溶
媒の種類によって異なるが、一般には−50〜50℃、
より好ましくは−30〜30℃の範囲から選べば良い。 反応時間も原料の種類によって異なるが、通常5分〜2
4時間、好ましくは10分〜12時間の範囲から選べば
十分である。また反応中においては攪拌を行うのが好ま
しい。
媒の種類によって異なるが、一般には−50〜50℃、
より好ましくは−30〜30℃の範囲から選べば良い。 反応時間も原料の種類によって異なるが、通常5分〜2
4時間、好ましくは10分〜12時間の範囲から選べば
十分である。また反応中においては攪拌を行うのが好ま
しい。
【0040】反応系から目的生成物、すなわち、前記一
般式(I)で示される化合物を単離精製する方法は特に
限定されず公知の方法が採用できる。
般式(I)で示される化合物を単離精製する方法は特に
限定されず公知の方法が採用できる。
【0041】〔B〕一般式(II)で示される化合物と
一般式(V)で示される化合物を反応させる方法は、反
応系から脱ハロゲン化水素又は脱ハロゲン化アルカリ金
属させる方法である。
一般式(V)で示される化合物を反応させる方法は、反
応系から脱ハロゲン化水素又は脱ハロゲン化アルカリ金
属させる方法である。
【0042】両化合物の仕込みモル比は必要に応じて適
宜決定すれば良いが、通常等モル使用するのが一般的で
ある。又、該反応においては、一般に生成してくるハロ
ゲン化水素を反応系から除く為、反応系内にハロゲン化
水素捕捉剤として塩基を共存させることが好ましい。該
ハロゲン化水素捕捉剤としての塩基は特に限定されず公
知のものを使用することができる。一般に好適に使用さ
れる塩基として、トリメチルアミン、トルエチルアミン
等のトリアルキルアミン、ピリジン、テトラメチル尿素
等が挙げられる。また、炭酸アリカル金属、水酸化アル
カリ金属、水素化アリカリ金属等のアルカリ金属化合物
を反応系内で反応させ、アルコラート又はチオラートと
し、脱ハロゲン化アルカリ金属させても差しつかえない
。
宜決定すれば良いが、通常等モル使用するのが一般的で
ある。又、該反応においては、一般に生成してくるハロ
ゲン化水素を反応系から除く為、反応系内にハロゲン化
水素捕捉剤として塩基を共存させることが好ましい。該
ハロゲン化水素捕捉剤としての塩基は特に限定されず公
知のものを使用することができる。一般に好適に使用さ
れる塩基として、トリメチルアミン、トルエチルアミン
等のトリアルキルアミン、ピリジン、テトラメチル尿素
等が挙げられる。また、炭酸アリカル金属、水酸化アル
カリ金属、水素化アリカリ金属等のアルカリ金属化合物
を反応系内で反応させ、アルコラート又はチオラートと
し、脱ハロゲン化アルカリ金属させても差しつかえない
。
【0043】前記反応に際しては一般に有機溶媒を用い
るのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるものを
例示すれば、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、ベン
ゼン、トルエン、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エ
チレン等の脂肪族又は芳香族炭化水素類;あるいはハロ
ゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類;アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類;アセトニトリル等のニトリル
類;N,N−ジメチルホルムアミド等のジアルキルアミ
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
るのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるものを
例示すれば、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、ベン
ゼン、トルエン、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エ
チレン等の脂肪族又は芳香族炭化水素類;あるいはハロ
ゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類;アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類;アセトニトリル等のニトリル
類;N,N−ジメチルホルムアミド等のジアルキルアミ
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
【0044】前記反応における温度は原料の種類、溶媒
の種類によって異なるが、一般には0℃〜溶媒を還流さ
せる温度が好ましい。反応時間も原料の種類によって異
なるが、通常、5分から40時間、好ましくは30分か
ら24時間の範囲から選べば十分である。また反応中に
おいては攪拌を行うのが好ましい。
の種類によって異なるが、一般には0℃〜溶媒を還流さ
せる温度が好ましい。反応時間も原料の種類によって異
なるが、通常、5分から40時間、好ましくは30分か
ら24時間の範囲から選べば十分である。また反応中に
おいては攪拌を行うのが好ましい。
【0045】反応系から目的生成物、すなわち前記一般
式(I)で示される化合物を単離精製する方法は特に限
定されず、公知の方法が採用できる。
式(I)で示される化合物を単離精製する方法は特に限
定されず、公知の方法が採用できる。
【0046】本発明の前記一般式(I)で示される化合
物は、高屈折率で比重が小さく透明性に優れた樹脂を与
える。該化合物は単独で重合することも可能であり、ま
た他の単量体と共重合することもできる。共重合可能な
単量体は、目的に応じて選択され特に制限されず使用で
きる。本発明のリン酸エステル化合物が液状であれば該
単量体は固体であってもかまわない。該単量体を例示す
れば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フ
マル酸などの不飽和カルボン酸;アクリル酸メチル、メ
タクリル酸メチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル
酸フェニル、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、エ
チレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジメタクリレート、エチレングリコールビスグリシジ
ルメタクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート
、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシエトキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−
4−メタクリロイルオキシエトキシフェニル)プロパン
、トリフルオロメチルメタクリレート等のアクリル酸エ
ステル及びメタクリル酸エステル化合物;フェニルチオ
エチルチオメタクリレート、ベンジルチオエチルチオメ
タクリレート、フェニルチオアクリレート等のチオアク
リル酸エステル及びチオメタクリル酸エステル化合物;
フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジフ
ェニル等のフマル酸エステル化合物;ジアリルフタレー
ト、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート
、酒石酸ジアリル、エポキシコハク酸ジアリル、ジアリ
ルマレート、アリルシンナメート、アリルイソシアネー
ト、クロレンド酸ジアリル、ヘキサフタル新ジアリル、
ジアリル、カーボネート、アリルジグリコールカーボネ
ート等のアリル化合物;スチレン、クロロスチレン、メ
チルスチレン、ビニルナフタレン、イソプロペニルナフ
タレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン等の芳香族
ビニル化合物等である。これらの単量体は一種又は二種
以上を混合して使用できる。
物は、高屈折率で比重が小さく透明性に優れた樹脂を与
える。該化合物は単独で重合することも可能であり、ま
た他の単量体と共重合することもできる。共重合可能な
単量体は、目的に応じて選択され特に制限されず使用で
きる。本発明のリン酸エステル化合物が液状であれば該
単量体は固体であってもかまわない。該単量体を例示す
れば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フ
マル酸などの不飽和カルボン酸;アクリル酸メチル、メ
タクリル酸メチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル
酸フェニル、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、エ
チレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジメタクリレート、エチレングリコールビスグリシジ
ルメタクリレート、ビスフェノールAジメタクリレート
、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシエトキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−
4−メタクリロイルオキシエトキシフェニル)プロパン
、トリフルオロメチルメタクリレート等のアクリル酸エ
ステル及びメタクリル酸エステル化合物;フェニルチオ
エチルチオメタクリレート、ベンジルチオエチルチオメ
タクリレート、フェニルチオアクリレート等のチオアク
リル酸エステル及びチオメタクリル酸エステル化合物;
フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジフ
ェニル等のフマル酸エステル化合物;ジアリルフタレー
ト、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート
、酒石酸ジアリル、エポキシコハク酸ジアリル、ジアリ
ルマレート、アリルシンナメート、アリルイソシアネー
ト、クロレンド酸ジアリル、ヘキサフタル新ジアリル、
ジアリル、カーボネート、アリルジグリコールカーボネ
ート等のアリル化合物;スチレン、クロロスチレン、メ
チルスチレン、ビニルナフタレン、イソプロペニルナフ
タレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン等の芳香族
ビニル化合物等である。これらの単量体は一種又は二種
以上を混合して使用できる。
【0047】これらの共重合可能な単量体と一般式(I
)で示されるリン酸エステル化合物との混合割合は、そ
れぞれの化合物の種類によって異なるために一概に限定
できないが、リン酸エステル化合物100重量部に対し
て、共重合可能な単量体を0〜500重量部、より好ま
しくは0〜200重量部用いることが好ましい。
)で示されるリン酸エステル化合物との混合割合は、そ
れぞれの化合物の種類によって異なるために一概に限定
できないが、リン酸エステル化合物100重量部に対し
て、共重合可能な単量体を0〜500重量部、より好ま
しくは0〜200重量部用いることが好ましい。
【0048】一般式(I)のリン酸エステル化合物単独
又は共重合可能な他の単量体を含む単量体組成物から重
合体を得る重合方法は特に限定的でなく、公知のラジカ
ル重合方法を採用できる。重合開始手段は、種々の過酸
化物やアゾ化合物等のラジカル重合開始剤の使用、又は
紫外線、α線、β線、γ線等の照射或いは両者の併用に
よって行うことができる。代表的な重合方法を例示する
と、エラストマーガスケットまたはスペーサーで保持さ
れているモールド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記
の単量体又は単量体組成物を注入し、空気炉中で硬化さ
せた後、取出す注型重合が採用される。
又は共重合可能な他の単量体を含む単量体組成物から重
合体を得る重合方法は特に限定的でなく、公知のラジカ
ル重合方法を採用できる。重合開始手段は、種々の過酸
化物やアゾ化合物等のラジカル重合開始剤の使用、又は
紫外線、α線、β線、γ線等の照射或いは両者の併用に
よって行うことができる。代表的な重合方法を例示する
と、エラストマーガスケットまたはスペーサーで保持さ
れているモールド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記
の単量体又は単量体組成物を注入し、空気炉中で硬化さ
せた後、取出す注型重合が採用される。
【0049】ラジカル重合開始剤としては、特に限定さ
れず、公知のものが使用できるが、代表的なものを例示
すると、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾ
イルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウ
ロイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド等のジ
アシルパーオキサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エ
チルヘキサネート、t−ブチルパーオキシネオデカネー
ト、クミルパーオキシネオデカネート、t−ブチルパー
オキシベンゾエート等のパーオキシエステル;ジイソプ
ロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキ
シルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパ
ーオキシジカーボネート等のパーカーボネート;アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ化合物である。該ラジカ
ル重合開始剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、前
記の単量体の組成によって異なり、一概に限定できない
が、一般には全単量体100重量部に対して0.01〜
10重量部、好ましくは0.01〜5重量部の範囲で用
いるのが好適である。
れず、公知のものが使用できるが、代表的なものを例示
すると、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾ
イルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウ
ロイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド等のジ
アシルパーオキサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エ
チルヘキサネート、t−ブチルパーオキシネオデカネー
ト、クミルパーオキシネオデカネート、t−ブチルパー
オキシベンゾエート等のパーオキシエステル;ジイソプ
ロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキ
シルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパ
ーオキシジカーボネート等のパーカーボネート;アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ化合物である。該ラジカ
ル重合開始剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、前
記の単量体の組成によって異なり、一概に限定できない
が、一般には全単量体100重量部に対して0.01〜
10重量部、好ましくは0.01〜5重量部の範囲で用
いるのが好適である。
【0050】重合条件のうち、特に温度は得られる高屈
折率樹脂の性状に影響を与える。この温度条件は、開始
剤の種類と量や単量体の種類によって影響を受けるので
、一概に限定はできないが、一般的に比較的低温下で重
合を開始し、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終了時
に高温下に硬化させる所謂テーパ型の2段重合を行うの
が好適である。重合時間も温度と同様に各種の要因によ
って異なるので、予めこれらの条件に応じた最適の時間
を決定するのが好適であるが、一般に2〜40時間で重
合が完結するように条件を選ぶのが好ましい。
折率樹脂の性状に影響を与える。この温度条件は、開始
剤の種類と量や単量体の種類によって影響を受けるので
、一概に限定はできないが、一般的に比較的低温下で重
合を開始し、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終了時
に高温下に硬化させる所謂テーパ型の2段重合を行うの
が好適である。重合時間も温度と同様に各種の要因によ
って異なるので、予めこれらの条件に応じた最適の時間
を決定するのが好適であるが、一般に2〜40時間で重
合が完結するように条件を選ぶのが好ましい。
【0051】勿論、前記重合に際し、離型剤、紫外線吸
収剤、酸化防止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染
料、染料、顔料等の各種安定剤、香料等の添加剤は必要
に応じて選択して使用することが出来る。
収剤、酸化防止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染
料、染料、顔料等の各種安定剤、香料等の添加剤は必要
に応じて選択して使用することが出来る。
【0052】また、本発明のリン酸エステル化合物は、
分子中の重合性基が1つであるので、予備重合を行ない
プレポリマーを得た後、重合成型を行うことや、ペレッ
トに重合した後、射出成型や押出成型等の方法を用いて
所望の光学材料に成型加工することも可能である。
分子中の重合性基が1つであるので、予備重合を行ない
プレポリマーを得た後、重合成型を行うことや、ペレッ
トに重合した後、射出成型や押出成型等の方法を用いて
所望の光学材料に成型加工することも可能である。
【0053】前記のプレポリマーやペケットを得る方法
は、公知の重合方法が採用できる。即ち、塊状重合、溶
液重合、乳化重合、懸濁重合、沈澱重合等の方法を摘要
することができる。
は、公知の重合方法が採用できる。即ち、塊状重合、溶
液重合、乳化重合、懸濁重合、沈澱重合等の方法を摘要
することができる。
【0054】さらに、上記の方法で得られる高屈折率樹
脂は、その用途に応じて以下のような処理を施すことも
出来る。即ち、分散染料などの染料を用いる染色、シラ
ンカップリング剤やケイ素、ジルコニウム、アンチモン
、アルミニウム等の酸化物のゾルを主成分とするハード
コート剤や、有機高分子体を主成分とするハードコート
剤によるハードコーティング処理や、SiO2 、Ti
O2 、ZrO2 等の金属酸化物の薄膜の蒸着や有機
高分子体の薄膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止
処理等の加工及び2次処理を施すことも可能である。
脂は、その用途に応じて以下のような処理を施すことも
出来る。即ち、分散染料などの染料を用いる染色、シラ
ンカップリング剤やケイ素、ジルコニウム、アンチモン
、アルミニウム等の酸化物のゾルを主成分とするハード
コート剤や、有機高分子体を主成分とするハードコート
剤によるハードコーティング処理や、SiO2 、Ti
O2 、ZrO2 等の金属酸化物の薄膜の蒸着や有機
高分子体の薄膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止
処理等の加工及び2次処理を施すことも可能である。
【0055】
【効果】本発明のリン酸エステル化合物は、高屈折率で
比重が小さく、透明性、耐候性等に優れた樹脂を与える
単量体として有用である。このため、本発明のリン酸エ
ステル化合物の単独重合体又は該化合物と共重合可能な
単量体との共重合により得られる共重合体は、有機ガラ
スとして有用であり、例えばメガネレンズ、光学機器レ
ンズ等の光学レンズとして最適であり、さらにプリズム
、光ディスク基板、光ファイバー等の用途に好適に使用
することができる。
比重が小さく、透明性、耐候性等に優れた樹脂を与える
単量体として有用である。このため、本発明のリン酸エ
ステル化合物の単独重合体又は該化合物と共重合可能な
単量体との共重合により得られる共重合体は、有機ガラ
スとして有用であり、例えばメガネレンズ、光学機器レ
ンズ等の光学レンズとして最適であり、さらにプリズム
、光ディスク基板、光ファイバー等の用途に好適に使用
することができる。
【0056】
【実施例】以下、本発明を具体的に説明するために、実
施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。
施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。
【0057】尚、実施例において得られたリン酸エステ
ル化合物及び高屈折率樹脂は、下記の試験法によって諸
物性を測定した。
ル化合物及び高屈折率樹脂は、下記の試験法によって諸
物性を測定した。
【0058】(1)IRスペクトル
BIO−RAD製DIGILAB FTS−7型フー
リェ変換赤外分光光度計を用い、KBr 法または液膜
法を用いて測定した。
リェ変換赤外分光光度計を用い、KBr 法または液膜
法を用いて測定した。
【0059】(2) 1H−NMRスペクトル日本電子
(株)製 PMX−60SI型(60MHz)を用い
、試料をCDCl3 に希釈し、テトラメチルシランを
内部標準として測定した。
(株)製 PMX−60SI型(60MHz)を用い
、試料をCDCl3 に希釈し、テトラメチルシランを
内部標準として測定した。
【0060】(3)元素分析
(株)柳本製作所製 CHNコーダ MT−2型を
用い、炭素及び水素の分析を、イオウ及びリンについて
はフラスコ燃焼法を用いて測定を行った。
用い、炭素及び水素の分析を、イオウ及びリンについて
はフラスコ燃焼法を用いて測定を行った。
【0061】(4)屈折率
アタゴ(株)製、アッベ屈折計を用いて、20℃におけ
る屈折率を測定した。接触液にはブロモナフタリン又は
ヨウ化メチレンを使用した。
る屈折率を測定した。接触液にはブロモナフタリン又は
ヨウ化メチレンを使用した。
【0062】尚、リン酸エステル化合物の屈折率は、該
化合物が固体である場合、液状の不飽和単量体に溶解し
、外挿法により求めた。
化合物が固体である場合、液状の不飽和単量体に溶解し
、外挿法により求めた。
【0063】(5)外観
目視により判定した。
【0064】(6)耐候性
スガ試験機(株)製ロングライフキセノンフェードメー
ター(FAC−25AX−HC型)中に試料を設置し、
100時間キセノン光を露光した後、試料の着色の程度
を目視で観察し、ポリスチレンに比べ着色の程度の低い
ものを○、同等のものを△、高いものを×で評価した。
ター(FAC−25AX−HC型)中に試料を設置し、
100時間キセノン光を露光した後、試料の着色の程度
を目視で観察し、ポリスチレンに比べ着色の程度の低い
ものを○、同等のものを△、高いものを×で評価した。
【0065】尚、以下の実施例で使用した単量体は、一
部下記の記号で表わした。但し、〔〕内は単独重合体の
屈折率である。
部下記の記号で表わした。但し、〔〕内は単独重合体の
屈折率である。
【0066】St:スチレン〔1.590〕ClSt:
クロロスチレン(o体、m体の混合物)〔1.610〕 DVB:ジビニルベンゼン〔1.615〕BDMA:2
,2,6,6−テトラブロモビスフェノールAジメタク
リレート 〔1.604〕 実施例1 温度計、撹拌機及び滴下ロートを付けた3つ口フラスコ
に
クロロスチレン(o体、m体の混合物)〔1.610〕 DVB:ジビニルベンゼン〔1.615〕BDMA:2
,2,6,6−テトラブロモビスフェノールAジメタク
リレート 〔1.604〕 実施例1 温度計、撹拌機及び滴下ロートを付けた3つ口フラスコ
に
【0067】
【化27】
26.2g(0.15mol )、ピリジン12.6g
(0.16mol)をジエチルエーテル400mlに溶
解し、0℃に冷却した。撹拌しながら2−メルカプトエ
チルチオメタクリレート24.3g(0.15mol
)を除々に滴下した。この際反応温度を0〜5℃に保ち
、滴下終了後、さらに20℃で2時間撹拌した。その後
、反応混合物を水にあけ、希炭酸ナトリウム水溶液で有
機層を洗浄した後、水洗を行なった。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによ
り、無色透明の油状物38.3gを得た。このもののI
Rスペクトルにおいて1765cm−1に強いカルボニ
ル基に基づく吸収、1640cm−1付近にC=C結合
に基づく吸収、さらに1210cm−1付近にP=O基
に基づく吸収が認められた。また、このものの 1H−
NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチルシラン基準
、ppm )のチャートを図1に示した。δ3.5pp
m 付近にジチアホスホラン基のメチレン水素(d)に
由来する4個分のピークが、δ2.6〜3.2ppm
にエチルチオ基のメチレン水素(c)に由来する4個分
のピークが、さらにδ2ppm 付近にメタクリロイル
基のメチル水素(b)に由来する3個分のピークが一重
線として、δ5.7及び6.1ppm にメタクリロイ
ル基のメチレン水素(a)に由来する2個分のピークが
観測された。
(0.16mol)をジエチルエーテル400mlに溶
解し、0℃に冷却した。撹拌しながら2−メルカプトエ
チルチオメタクリレート24.3g(0.15mol
)を除々に滴下した。この際反応温度を0〜5℃に保ち
、滴下終了後、さらに20℃で2時間撹拌した。その後
、反応混合物を水にあけ、希炭酸ナトリウム水溶液で有
機層を洗浄した後、水洗を行なった。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによ
り、無色透明の油状物38.3gを得た。このもののI
Rスペクトルにおいて1765cm−1に強いカルボニ
ル基に基づく吸収、1640cm−1付近にC=C結合
に基づく吸収、さらに1210cm−1付近にP=O基
に基づく吸収が認められた。また、このものの 1H−
NMR(CDCl3 溶媒中、テトラメチルシラン基準
、ppm )のチャートを図1に示した。δ3.5pp
m 付近にジチアホスホラン基のメチレン水素(d)に
由来する4個分のピークが、δ2.6〜3.2ppm
にエチルチオ基のメチレン水素(c)に由来する4個分
のピークが、さらにδ2ppm 付近にメタクリロイル
基のメチル水素(b)に由来する3個分のピークが一重
線として、δ5.7及び6.1ppm にメタクリロイ
ル基のメチレン水素(a)に由来する2個分のピークが
観測された。
【0068】
【化28】
更に元素分析値(( )内は計算値である)は、C:
32.04%(31.98%)、H:4.41%(4.
36%)、S:42.65%(42.72%)、P:1
0.27%(10.31%)であり計算値とよく一致し
た。また屈折率を求めたところnD 201.626で
あった。
32.04%(31.98%)、H:4.41%(4.
36%)、S:42.65%(42.72%)、P:1
0.27%(10.31%)であり計算値とよく一致し
た。また屈折率を求めたところnD 201.626で
あった。
【0069】実施例2
温度計、撹拌機及び滴下ロートを付けた3つ口フラスコ
に
に
【0070】
【化29】
28.6g(0.15mol )、ピリジン12.6g
(0.16mol)をクロロホルム400mlに溶解し
、0℃に冷却した。撹拌しながら2−メルカプトエチル
チオメタクリレート24.3g(0.15mol )を
除々に滴下した。この際、反応温度を0〜5℃に保ち、
滴下終了後、さらに20℃で2時間撹拌した。その後、
反応混合物を水にあけ、希炭酸ナトリウム水溶液で有機
層を洗浄した後、水洗を行なった。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することにより
、無色透明の油状物39.7gを得た。
(0.16mol)をクロロホルム400mlに溶解し
、0℃に冷却した。撹拌しながら2−メルカプトエチル
チオメタクリレート24.3g(0.15mol )を
除々に滴下した。この際、反応温度を0〜5℃に保ち、
滴下終了後、さらに20℃で2時間撹拌した。その後、
反応混合物を水にあけ、希炭酸ナトリウム水溶液で有機
層を洗浄した後、水洗を行なった。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することにより
、無色透明の油状物39.7gを得た。
【0071】このもののIRスペクトルを図2に示した
。1765cm−1に強いカルボニル基に基づく吸収、
1640cm−1付近にC=C結合に基づく吸収、さら
に700cm−1付近にP=S基に基づく吸収が認めら
れた。また、このものの 1H−NMR(CDCl3
溶媒中、テトラメチルシラン基準、ppm )のチャー
トを図3に示した。δ3.5ppm 付近にジチアホス
ホラン基のメチレン水素(d)に由来する4個分のピー
クが、δ2.6〜3.2ppm にエチルチオ基のメチ
レン水素(c)に由来する4個分のピークが、さらにδ
2ppm 付近にメタクリロイル基のメチル水素(b)
に由来する3個分のピークが一重線として、δ5.7及
び6.1ppm にメタクリロイル基のメチレン水素(
a)に由来する2個分のピークが観測された。
。1765cm−1に強いカルボニル基に基づく吸収、
1640cm−1付近にC=C結合に基づく吸収、さら
に700cm−1付近にP=S基に基づく吸収が認めら
れた。また、このものの 1H−NMR(CDCl3
溶媒中、テトラメチルシラン基準、ppm )のチャー
トを図3に示した。δ3.5ppm 付近にジチアホス
ホラン基のメチレン水素(d)に由来する4個分のピー
クが、δ2.6〜3.2ppm にエチルチオ基のメチ
レン水素(c)に由来する4個分のピークが、さらにδ
2ppm 付近にメタクリロイル基のメチル水素(b)
に由来する3個分のピークが一重線として、δ5.7及
び6.1ppm にメタクリロイル基のメチレン水素(
a)に由来する2個分のピークが観測された。
【0072】
【化30】
更に元素分析値(( )内は計算値である)は、C:
30.32%(30.36%)、H:4.18%(4.
14%)、S:50.71%(50.66%)、P:9
.83%(9.79%)であり計算値とよく一致した。 また屈折率を求めたところnD 201.646であっ
た。
30.32%(30.36%)、H:4.18%(4.
14%)、S:50.71%(50.66%)、P:9
.83%(9.79%)であり計算値とよく一致した。 また屈折率を求めたところnD 201.646であっ
た。
【0073】実施例3〜86
種々の原料を用いて実施例1及び2において詳細に記述
したのと同様な方法により、表1に記載したリン酸エス
テル化合物を合成した。尚、表1には得られたリン酸エ
ステル化合物の性状、元素分析結果及び屈折率も併せて
記した。
したのと同様な方法により、表1に記載したリン酸エス
テル化合物を合成した。尚、表1には得られたリン酸エ
ステル化合物の性状、元素分析結果及び屈折率も併せて
記した。
【0074】
【表1】
【0075】
【表2】
【0076】
【表3】
【0077】
【表4】
【0078】
【表5】
【0079】
【表6】
【0080】
【表7】
【0081】
【表8】
【0082】
【表9】
【0083】
【表10】
【0084】
【表11】
実施例87
実施例1で合成した。
【0085】
【化31】
80重量部と不飽和単量体としてスチレン20重量部の
混合物100重量部に対して、ラジカル重合開始剤とし
てt−ブチルパーオキシ−2−エチレンヘキサネート1
重量部を添加し、よく混合した。この混合液をガラス板
とエチレン−酢酸ビニル共重合体とから成るガスケット
で構成された鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。重
合は、空気炉を用い、30℃から90℃で18時間かけ
、除々に温度を上げて行き、90℃に2時間保持した。 重合終了後、鋳型を空気炉から取り出し、放冷後、重合
体を鋳型のガラスから取りはずした。
混合物100重量部に対して、ラジカル重合開始剤とし
てt−ブチルパーオキシ−2−エチレンヘキサネート1
重量部を添加し、よく混合した。この混合液をガラス板
とエチレン−酢酸ビニル共重合体とから成るガスケット
で構成された鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。重
合は、空気炉を用い、30℃から90℃で18時間かけ
、除々に温度を上げて行き、90℃に2時間保持した。 重合終了後、鋳型を空気炉から取り出し、放冷後、重合
体を鋳型のガラスから取りはずした。
【0086】得られた重合体は無色透明であり、nD
201.645、比重1.23であり、耐光性も○であ
った。
201.645、比重1.23であり、耐光性も○であ
った。
【0087】実施例88
実施例2〜86で合成したリン酸エステル化合物及び、
これと共重合可能な単量体とから成る組成物を用いた以
外、実施例87と同様に実施した。得られた重合体の物
性を表2に示した。
これと共重合可能な単量体とから成る組成物を用いた以
外、実施例87と同様に実施した。得られた重合体の物
性を表2に示した。
【0088】
【表12】
【0089】
【表13】
【0090】
【表14】
【0091】
【表15】
【0092】
【表16】
【0093】
【表17】
【0094】
【表18】
【図1】図1は、実施例1で得られた本発明のリン酸エ
ステル化合物の 1H−核磁気共鳴スペクトルである。
ステル化合物の 1H−核磁気共鳴スペクトルである。
【図2】図2は、実施例2で得られた本発明のリン酸エ
ステル化合物の赤外吸収スペクトルである。
ステル化合物の赤外吸収スペクトルである。
【図3】図3は、実施例2で得られた本発明のリン酸エ
ステル化合物の 1H−核磁気共鳴スペクトルである。
ステル化合物の 1H−核磁気共鳴スペクトルである。
【表17】
【表17】
Claims (3)
- 【請求項1】 下記式 【化1】 {但し、R1 は 【化2】 又は 【化3】 〔但し、A1 は、−(R4 −X4 ) n −、−
(X4 −R4 )n −、−(R4 −X4 )n
−R5 −、−(R4 −X4 )n −R5 −X5
−又は−(X4 −R4 )n −X5 −、A2
は、−(X4 −R4 ) n −X5 −R5 −又
は−(X4 −R4 )n −X5 −(但し、X4
及びX5 は、夫々酸素原子又はイオウ原子であり、R
4 及びR5 は夫々同種又は異種のアルキレン基、フ
ェニレン基、トルエン−α−ジイル基又はキシレン−α
,α′−ジイル基であり、nは0以上の整数である。)
であり、Y1 及びY2 は、夫々同種又は異種の水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はア
ルキルチオ基であり、R3 は水素原子又はメチル基で
ある。〕であり、R2 は、炭素数2〜5のアルキレン
基、−R6 −X6 −R7 −(但し、R6 及びR
7 は夫々炭素数2〜4のアルキレン基であり、X6
は酸素原子又はイオウ原子である。)又は 【化4】 (但し、p及びqは、夫々0〜2の整数である。)であ
り、X1 、X2 及びX3 は夫々酸素原子又はイオ
ウ原子である。}で示されるリン酸エステル化合物。 - 【請求項2】 下記式 【化5】 〔但し、X1 、X2 及びX3 は、夫々酸素原子又
はイオウ原子であり、R2 は、炭素数2〜5のアルキ
レン基、−R6 −X6 −R7 −(但し、R6 及
びR7 は夫々炭素数2〜4のアルキレン基であり、X
6 は酸素原子又はイオウ原子である。)又は 【化6】 (但し、p及びqは、夫々0〜2の整数である。)であ
り、Z1 はハロゲン原子である。〕で示されるハロゲ
ン化リン化合物と 下記式 R′1 −MgZ2 又は R′1 −Li {但し、R′1 は、 【化7】 又は、 【化8】 〔但し、A3 は、−(X4 −R4 ) n −又は
、−(R4 −X4 ) n −R5 −、A4 は、
−(X4 −R4 ) n −X5 −R5 −(但し
、X4 及びX5 は、夫々酸素原子又はイオウ原子で
あり、R4 及びR5 は、夫々、同種又は異種のアル
キレン基、フェニル基、トルエン−α−ジイル基又はキ
シレン−α,α′−ジイル基であり、nは0以上の整数
である。)であり、Y1 及びY2 は、夫々同種又は
異種の水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基又はアルキルチオ基であり、R3 は水素原子又は
メチル基である。〕であり、Z2 はハロゲン原子であ
る。}で示される化合物とを反応させることを特徴とす
る請求項1記載のリン酸エステル化合物の製造方法。 - 【請求項3】 下記式 【化9】 〔但し、X1 、X2 及びX3 は、夫々酸素原子又
はイオウ原子であり、R2 は、炭素数2〜5のアルキ
レン基、−R6 −X6 −R7 −(但し、R6 及
びR7 は夫々炭素数2〜4のアルキレン基であり、X
6 は酸素原子又はイオウ原子である。)又は 【化10】 (但し、p及びqは、夫々0〜2の整数である。)であ
り、Zは、ハロゲン原子である。〕で示されるハロゲン
化リン化合物と 下記式 R″1 −M {但し、R″1 は、 【化11】 又は 【化12】 〔但し、A5 は、−(R4 −X4 )n −、−(
R4 −X4 )n −R5 −X5 −又は−(X4
−R4 )n −X5 −、A6 は、−(X4 −
R4 )n −X5 −(但し、X4 及びX5 は、
夫々酸素原子又はイオウ原子であり、R4 及びR5
は、夫々同種又は異種のアルキレン基、フェニレン基、
トルエン−α−ジイル基又はキシレン−α,α′−ジイ
ル基であり、nは0以上の整数である。)であり、Y1
及びY2 は、夫々同種又は異種の水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基
であり、R3 は水素原子又はメチル基である。〕であ
り、Mは水素原子又はアルカリ金属である。}で示され
る化合物とを反応させることを特徴とする請求項1記載
のリン酸エステル化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8943691A JPH04300886A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | リン酸エステル化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8943691A JPH04300886A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | リン酸エステル化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04300886A true JPH04300886A (ja) | 1992-10-23 |
Family
ID=13970627
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8943691A Pending JPH04300886A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | リン酸エステル化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04300886A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017047096A1 (ja) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | 片山化学工業株式会社 | 単純付加反応 |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP8943691A patent/JPH04300886A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017047096A1 (ja) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | 片山化学工業株式会社 | 単純付加反応 |
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