JPH0283366A - チオエーテル化合物及びその製造方法 - Google Patents

チオエーテル化合物及びその製造方法

Info

Publication number
JPH0283366A
JPH0283366A JP63233761A JP23376188A JPH0283366A JP H0283366 A JPH0283366 A JP H0283366A JP 63233761 A JP63233761 A JP 63233761A JP 23376188 A JP23376188 A JP 23376188A JP H0283366 A JPH0283366 A JP H0283366A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
formula
refractive index
monomers
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63233761A
Other languages
English (en)
Inventor
Shingo Matsuoka
松岡 信吾
Masahiro Amano
正弘 天野
Toshihiro Nishitake
敏博 西竹
Yasuji Kida
木田 泰次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokuyama Corp
Original Assignee
Tokuyama Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokuyama Corp filed Critical Tokuyama Corp
Priority to JP63233761A priority Critical patent/JPH0283366A/ja
Publication of JPH0283366A publication Critical patent/JPH0283366A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Eyeglasses (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特に光学材料として有用であり、その他、塗
料、インク、接着剤、感光性樹脂及び架橋剤等に有用な
2官能の重合性チオエーテル化合物及びその製造方法に
関するものである。
〔従来技術〕
従来、無機ガラスに代る合成樹脂については種々研究さ
れているが、欠点も多く、まだ十分に満足し得る性状の
ものは得られていない。例えば、メチルメタクリレート
やジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)を
主成分とする単量体を重合した重合体は、光学用樹脂や
レンズとして使用されているが、その屈折率は約1.5
0と低い。
この欠点を改良した高屈折率樹脂も種々提案されている
。例えば、ポリカーボネー ト、ポリスルホン系の高屈
折率樹脂が提案されている。これらの樹脂は、屈折率が
約1.60と高いものの、光透過率が低く、光学的均質
性に欠け、また着色するなどの問題がある。
このため架橋性の高屈折率樹脂用、iii里体が種々提
案されている。例えば、特開昭61−28901号公報
などにフェニル基をハロゲン原子で置換したフェニルメ
タクリレートなどハロゲン原子を多数含んだ樹脂が提案
されている。また、特開昭60197711号公報など
にα−ナフチルメタクリレートを主成分とする高屈折率
樹脂用組成物が提案されている。これらの高屈折率樹脂
用単量体は、ハロゲン原子や縮合芳香環を含むためその
大部分が常温で固体である。このため、これらの単量体
は常温で液状の単量体に溶解して重合される。
このような液状の単量体として、例えば、特開昭63−
162671号公報に、下記式%式% または−CIl□CH,−を示す。) で示されるチオールカルボン酸エステルが開示されてい
る。
上記の化合物は、常温で液状の単量体であり、これを重
合して得られる重合体の屈折率も比較的高い。しかしな
がら、上記の重合体は耐衝撃性が低く、また、キセノン
光の照射により着色するという問題を有している。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明が解決しようとする課題は、高屈折率樹脂用の常
温で固体の単量体の溶解に適した常温で1夜状の単量体
であって、重合して得られる樹脂の屈折率が高く、透明
性、耐衝撃性、耐候性、軽量性及び易研磨性などに優れ
た樹脂を与える単量体を提供することにある。
〔課題を解決するだめの手段〕
本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意研究
を重ねた結果、特定の構造を有するチオエーテル化合物
が、前記の諸性質を具備した優れたものであることを見
い出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、一般式〔I〕 RRz で示される千オニーチル化合物である。
前記一般式中[T)中、Ro及びR2は、夫々同種又は
異種の水素原子又はアルキル基であるが、重合性の観点
から水素原子又はメチル基が好ましい。さらにR3、R
4、Rs及びR6は、夫々同種又は異種の水素原子又は
アルキル基であるが、化合物の粘、度及び重合して得ら
れる樹脂の屈折率の観点から、水素原子又はメチル基が
好ましい。また、nは2以上の整数である。nが0又は
1では重合して得られる樹脂の屈折率は1.550未満
となり、本発明の目的を達成することができない。上記
のnの値が大きいほど一分子当りのイオウの含有率が増
加するため、重合して得られる樹脂の屈折率は増大する
とともに耐衝撃性も向上する。しかしながら、nを大き
くしすぎると一般式(1)で示される化合物の粘度が急
激に増加し、その取扱いが困難になるとともに、重合し
て得られる樹脂の耐熱性がそこなわれるといった問題が
生じてくる。
このため、得られる樹脂の屈折率、耐衝撃性及び耐熱性
を勘案すると、nは2〜5の範囲で、特に2〜3の範囲
で選択することが好ましい。
本発明の前記一般式(r)で示されるチオエーテル化合
物は、次の手段によって同定、確認することができる。
(ア)赤外吸収スペクトル(IR)を測定することによ
り、3150〜2800cm−IにCH結合に基づく吸
収、1650〜1620cm−’に末端2重結合に基づ
く吸収、更に1725cm’付近にエステル結合に基づ
くカルボニル基の強い吸収が観測される。
(イ)  IH−核磁気共鳴スペクトル(’H−NMR
)を測定することにより化合物を容易に同定することが
できる。特に−儀式(1)においてR1又はR2がメチ
ル基の場合は61.9 ppm付近にメチル基に基づく
ピーク、及びδ′5.7と66、lppm付近に末端の
ビニリデンプロトンに基づくピークがそれぞれ3:1:
1の割合でメタクリル酸エステルに特有なパターンで認
められる。
またR8又はR2が水素原子の場合は、65.6〜7p
pmにアクリル酸エステルに特有なパターンで3個分の
水素が認められる。さらにチオエーテル鎖においてはイ
オウ原子に結合した炭素原子上の水素がδ2.9 pp
m付近に、エステル結合の酸素原子に結合した炭素原子
上の水素が64、1 ppm付近にそれぞれ結合状態に
応じたパターンのピークを示す。さらにR,、R,、R
6、R5のいずれかがメチル基の場合、δ1.1 pp
m付近に2重線が認められる。以上のような情報より容
易に化合物の同定が可能である。
(つ)元素分析によって炭素、水素、イオウの各重量%
を求め、さらに認知された各元素の重量%の和を100
から減じることによって酸素の重量%を算出することが
でき、該化合物の組成式を決定することができる。
一般式〔I〕で示される千オニーチル化合物は、どのよ
うな方法により得ても良いが、−iには次に述べる方法
により製造される。
下記式(II) で示される化合物とを反応させる方法である。
(ア)カルボン酸を用いる方法 一般式(II)で示される化合物と一般式(III)で
示される化合物のうち、R8が水酸基であるカルボン酸
とを酸触媒の存在下脱水縮合させることにより、−儀式
(1)のチオエーテル化合物を製造することができる。
両原料の仕込みモル比は必要に応じて適宜決定すればよ
いが、通常、どちらか一方の化合物を過剰に使用するの
が一般的である。また、カルボン酸として2種類のカル
ボン酸を同時又は逐次的に反応系に添加すれば、非対称
のチオエーテル化合物を製造することができる。該反応
において、触媒として使用される酸は、塩酸、硫酸等の
鉱酸、芳香族スルホン酸等の有機酸あるいは、フッ化ホ
ウ素エーテラート等のルイス酸が挙げられる。
本反応においては、水が副生ずるが、その反応は平衡反
応である為、一般にディーンースターク水分離器等を用
いたり、ソックスレーの抽出器に無水硫酸ナトリウム又
はモレキュラーシーブ等の脱水剤を入れて触媒を還流さ
せたり、反応系内にN、N’−ジシクロへキシルカルボ
ジイミド等の脱水剤を共存させるなどして系内から水を
取除くことが好ましい。該溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素やクロロホルム、ジクロロメ
タン等のハロゲン化脂肪族炭化水素が好ましい。
反応温度は、溶媒の種類によって異なるが、−Cには、
0°C〜120℃が好ましい。反応時間は、原料の種類
により一概に限定できないが、30分〜20時間、さら
に1時間から6時間の範囲から選択することが特に好ま
しい。反応系から目的生成物、即ち前記一般式(1)で
示される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公
知の方法を採用出来る。
(イ)カルボン酸塩化物を用いる方法 −儀式(II)で示される化合物と一般式(I[r〕で
示される化合物のうち、R,が塩素原子であるカルボン
酸塩化物とを塩基の存在下、脱塩化水素させることによ
り一般式(1)のチオエーテル化合物を製造することが
できる。両原料の仕込みモル比は、通常(−儀式(II
)で示される化合物)/(−儀式(III)で示される
化合物)=0.8〜1.5の範囲から選択すればよいが
、等量用いることが特に好ましい。また、カルボン酸塩
化物を2種以上同時又は逐次的に反応系に添加すれば、
非対称の千オニーチル化合物を製造することができる。
本反応においては塩化水素が副生ずる。一般にばこの塩
化水素を反応系から除く為、反応系内に塩化水素捕捉剤
として塩基を共存させることが好ましい。
該塩化水素捕捉剤としての塩基は特に限定されず公知の
ものを使用することができる。一般に好適に使用される
塩基としてトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、テ
トラメチル尿素、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等
が挙げられる。塩基の量はカルボン酸塩化物1モルに対
して1モル以上用いることが好ましい。
本発明における前記反応に際しては、一般に有機溶媒を
用いるのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるも
のを例示すれば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタン、石油エーテル、クロロホルム、塩化メ
チレン、塩化エチレン等の脂肪族又は芳香族炭化水素類
あるいはハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル頚;N、N
−ジメチルホルムアミド、N。
N−ジエチルポルムアミド等のN、N−ジアルキルアミ
ド頚;ジメチルスルホキシド等が挙げれる。
前記反応における温度は広い範囲から選択出来、一般に
は一20℃〜100℃、好ましくは0℃〜50℃の範囲
から選べばよい。反応時間は原料の種類によっても違う
が、通常5分〜24時間、好ましくは1〜4時間の範囲
から選べばよい。また反応中においては攪拌を行うのが
好ましい。
反応系空目的生成物、即ち前記−儀式(1)で示される
化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知の方法
が採用できる。
(つ)カルボン酸エステルを用いる方法−儀式(n)で
示される化合物と一般式(III)で示される化合物の
うち、R11がアルコキシ基であるカルボン酸エステル
とを用いてエステル交換させる方法で、−i式(1)の
チオエーテル化合物を製造することが出来る。本反応に
おいては、酸又は塩基を触媒として用いるのが好ましく
、触媒として好適に使用される酸を例示すれば、硫酸、
塩酸、p−トルエンスルホン酸等が挙げられ、塩基とし
ては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基やナトリウムメ
トキシド又はカリウム−1−ブトキシド等のアルコキシ
ド等が挙げられる。
本反応においてはアルコール(R,OH)が生成する。
該反応は平衡反応である為、このアルコールを蒸留又は
共沸等の方法で反応系外に取り除くことが好ましい。こ
のため、原料の一般式(III)で示されるカルボン酸
エステルとしてR8が炭素数1〜5、特に炭素数1〜3
のアルキル基を有するものを用いることが好ましい。
また、R7が異なる2種のカルボン酸エステルを同時又
は逐次的に反応系に添加すれば、非対称の千オニーチル
化合物を製造することができる。
本反応は一般には無溶媒で行なわれるが、原料が固体で
ある場合には、副性するアルコールよりも沸点の高い溶
媒を用いるのが好ましい。
該溶媒として好適に使用されるものを例示すれば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等の芳香族炭化水素類あるいはハロゲン置換芳
香族炭化水素類;N、  N−ジメチルホルムアミド、
N、N−ジエチルホルムアミド等のN、N−ジアルキル
アミド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
前記反応における温度は、副生ずるアルコールの種類に
よってちがうが、一般には副生ずるアルコールが留出す
る温度が好ましい。反応時間は原料の種類によってもち
がうが、通常、30分〜24時間、好ましくは2時間〜
8時間の範囲から選べばよい。また反応中においては攪
拌を行うのが好ましい。
反応系から目的生成物、すなわち前記−儀式(1)で示
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。
本発明の前記−儀式(1)で示されるチオエーテル化合
物は、液状の単量体であり、屈折率が高く、無色透明で
、比重が小さく、耐衝撃性に優れた重合体を与える。該
化合物は単独で重合することも可能であり、また、他の
単量体と共重合することもできる。チオエーテル化合物
と共重合可能な単量体は、目的に応じて選択され、特に
制限されず使用できる。特にチオエーテル化合物は液状
であるため、該単量体は固体であってもかまわない。該
単量体を例示すれば、アクリル酸、メタクリル酸、無水
マレイン酸、フマル酸などの不飽和カルボン酸ニアクリ
ル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ベンジ
ル、メタクリル酸フェニル、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、エチレングリコールジアクリレー1−、ジ
エチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコ
ールビスグリシジルメタクリレート、ビスフェノールA
ジメタクリレート、2.2−ビス(4−メタクリロキシ
エトキシフェニル)プロパン、2.2〜ビス(3゜5−
ジブロモ−4−メタクリロキシエトキシフェニル)プロ
パン、トリフルオロメチルメタクリレート等のアクリル
酸及びメタクリル酸エステル化合物;フマル酸モノメチ
ル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジフェニル等のフマル
酸エステル化合物;ジアリルフタレート、ジアリルテレ
フタレート、ジアリルイソフタレート、酒石酸ジアリル
、エポキシコハク酸ジアリル、ジアリルマレート、アリ
ルシンナメート、アリルイソシアネート、クロレンド酸
ジアリル、ヘキサフタル酸ジアリル、ジアリルカーボネ
ート、アリルジグリコールカーボネート等のアリル化合
物;スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ビニ
ルナフタレン、イソプロペニルナフタレン等の芳香族ビ
ニル化合物等である。これらの!l1ffi体は一種又
は二種以−Lを混合して使用できる。
本発明で得られる樹脂の屈折率を向上させる目的で、前
記一般式(1)のチオエーテル化合物と共重合可能な単
量体の中でも特に単独重合体の屈折率が1.55以上の
η’−u体を、添加することも必要に応じて行うことが
できる。これらの単量体を例示すれば、メタクリル酸ヘ
ンシル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸ブロモフェ
ニル、ビスフェノールAジメタクリレート、2゜2’、
6.6’−テトラブロモビスフェノールAジアクリレー
ト、ビスフェノールAジメタクリレートなどのメタクリ
ル酸エステル及びアクリル酸エステル類;スチレン、ク
ロロスチレン、ブロモスチレン、ジプロモスチレン、ト
リブロモスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレ
ンなどのスチレン類;ジアリルフタレート、ジアリルイ
ソフタレート、クロレンド酸ジアリルなどのアリル化合
物類など及びこれらの混合物などである。
これらの共重合可能な単量体の一般式(I)で示される
チオエーテル化合物に対する混合割合は、それぞれの化
合物により一種に限定はできないが、チオエーテル化合
物100重合部に対して共重合可能な単量体を0〜50
0重量部、より好ましくは0〜200重量部用いること
が好ましい。
一般式(I)のチオエーテル化合物単独又は共重合可能
な他の単量体を含む単量体組成物から重合体を得る重合
方法は特に限定的でなく、公知のラジカル重合方法を採
用できる。重合開始手段は、種々の過酸化物やアゾ化合
物等のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外線、α線、
β線、T線等の照射或いは両者の併用によって行うこと
ができる。代表的な重合方法を例示すると、エラストマ
ーガスケットまたはスペーサーで保持されているモール
ド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記の単量体又は単
量体組成物を注入し、空気炉中で硬化させた後、取出す
注型重合が採用される。
ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、公知の
ものが使用できるが、代表的なものを例示すると、ベン
ゾ・イルパーオキサイド、p−クロロヘンゾイルパーオ
キサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパー
オキサイド、アセチルパーオキサイド等のジアシルパー
オキサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサ
ネート、t−ブチルパーオキシネオデカネート、クミル
パーオキシネオデカネート、しプチルバーオキシヘンゾ
エート等のパーオキシエステル;ジイソプロピルパーオ
キシジカーボネート、ジー2−エチルへキシルパーオキ
シジカーボネート、ジー5ec−ブチルパーオキシジカ
ーボネート等のバーカーボネート;アゾビスイソブチロ
ニトリル等のアゾ化合物である。該ラジカル重合開始剤
の使用量は、重合条件や開始剤の種類、前記の単量体の
組成によって異なり、−概に限定できないが、一般には
、全単量体100重合部に対して0.01〜10重合部
、好ましくは0.01〜5重合部の範囲で用いるのが好
適である。
重合条件のうち、特に温度は得られる高屈折率樹脂の性
状に影響を与える。この温度条件は、開始剤の種類と量
や単量体の種類によって影響を受けるので、−概に限定
はできないが、−船釣に比較的低温下で重合を開始し、
ゆっくりと温度をあげて行き、重合終了時に高温下に硬
化させる所謂テーバ型の2段重合を行うのが好適である
。重合時間も温度と同様に各種の要因によって異なるの
で、予めこれらの条件に応じた最適の時間を決定するの
が好適であるが、−iに2〜40時間で重合が完結する
ように条件を選ぶのが好ましい。
勿論、前記重合に際し、離型剤、紫外線吸収剤、酸化防
止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染料、染料、顔
料等の各種安定剤、添加剤は必要に応じて選択して使用
することが出来る。
さらに、上記の方法で得られる高屈折率樹脂は、その用
途に応じて以下のような処理を施すことも出来る。即ち
、分散染料などの染料を用いる染色、シランカップリン
グ剤やケイ素、ジルコニウム、アンチモン、アルミニウ
ム等の酸化物のゾルを主成分とするハードコート剤や、
有機高分子体を主成分とするハードコート剤によるバー
トコティング処理や、SiO□、TiO□、ZrO等の
金属酸化物の薄膜の蒸着や有機高分子体の薄膜の塗布等
による反射防止処理、帯電防止処理等の加工及び2次処
理を施すことも可能である。
〔効 果〕
本発明の千オニーチル化合物は、常温で液体であり、常
温で固体の高屈折率樹脂用!ILffi体を溶解する単
量体として好適に使用し得る。また、本発明のチオエー
テル化合物を重合して得られる重合体は耐衝撃性及び耐
候性に優れ、さらに、屈折率が1955以上で透明性、
軽量性、玉摺り加工性に優れている。このため、本発明
のチオエーテル化合物の単独重合又は共重合により得ら
れる高屈折率樹脂は、有機ガラスとして有用であり、例
えば、メガネレンズ、光学機器レンズ等の光学レンズと
して最適であり、さらにプリズム、光デイスク基板、光
ファイバー等の用途に好適に使用することができる。
〔実施例〕 以下、本発明を具体的に説明するために、実施例を挙げ
て説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
なお、本発明で得られたチオエーテル化合物の同定は下
記の分析方法によって実施した。
(IIIRスペクトル 品性製作所0菊製 IR−440型を用い、試料をKB
r板にはさみ、薄膜の状態で測定した。
(21’H−NMRスペクトル 日本電子0菊製 PMX−60SI型(60MHz)を
用い、試料をCD(/!3に希釈し、テトラメチルシラ
ンを内部標卓として測定した。
(3)元素分析 a1柳本製作所製 CHND−ダ MT−2型を用い、
炭素及び水素の分析を、イオウについてはフラスコ燃焼
法を用いてatll定を行った。
(4)屈折率(ηD″) アタゴー製 アツベ屈折計(3T型)を用い、20℃の
屈折率を測定した。
また、実施例において得られた高屈折率樹脂は、下記の
試験法によって諸物性を測定した。
(1)屈折率(η0′。) アタゴa1製 アツベ屈折計(3T型)を用いて20 
’Cにおける屈折率を測定した。接触液には、ブロモナ
フタリンを使用した。
(2)外観 目視により判定した。
(3)耐候性 スガ試験機■製 ロングライフキセノンフェードメータ
ー(FAC−25AX−HC型)中に試料を設置し、1
00時間キセノン光を露光した後、試料の着色の程度を
目視で観察し、ポリスチレンに比べ着色の程度の低いも
のをO1同等のものをΔ、高いものを×で評価した。
(4)  玉摺り性 東京光学機械■製 ドブコン完全自動玉摺り機ALE−
60型を用い、樹脂の玉摺りを行ない、玉摺りが可能な
ものを○、不可能なものを×で評価した。
(5)耐衝撃性 厚さ2龍、直径65鰭の円板状の試料板に1271の高
さから所定重量の鋼球を自然落下させ、該試料板が破損
しない限界の鋼球の重さを測定した。その結果を第1表
に示す基準に従って、A−Eの評価を行った。
第1表 尚、以下の実施例で使用した単量体は、一部下記の記号
で表わした。但し、〔〕内は単独重合体の屈折率である
St:スチレン(1,590) BzMA   :ベンジルメタクリレートC1,568
)BrzPMA  : 2,4.6−ドリブロモフエニ
ルメタクリレー)(1,625) BDMA  :2.2’、6.6’−テトラブロモビス
フェノールAジメタクリシー )(1,604) 実施例1 温度計、攪拌器、滴下ロートを付けた3つ目フラスコに
、ビス(2−ヒドロキシエチルチオ)エタン18.2g
 (0,1moj?)とピリジン17.4 g(0,2
2mol)及び無水クロロホルム4o−を仕込み、0℃
に冷却した。攪拌しながらメタクリル酸クロライド23
 g (0,22mol)を徐々に滴下した。この際、
反応温度を0〜10℃に保ち、・滴下終了後さらに1時
間20℃で攪拌した。その後、反応混合物を水にあけ、
粉炭酸ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、水洗を
行った。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧上
留去した後、目的物を常法に従って単離生成し、目的の
ビス(2−メタクリロイルオキシエチルチオ)エタンを
無色透明な液状物質として25.1 g得た。このもの
の屈折率は1.516であった。このもののIRチャー
トを第1図に示した。1725cm−’に強いカルボニ
ル基、1640cm−’に末端ビニリデン基に基づく吸
収が認められた。
また、’ HN M R(CD C1s溶媒中、テトラ
メチルシラン基準、ppm)のチャートを第2図に示し
た。61.93にメチル基の水素(C1に由来する6個
分のピークが結合定数2Hzの二重線として、δ2.7
8にイオウ原子に結合したメチレン基の水素(el、(
f)に由来する8個分のピークが結合定数6Hzで三重
線として、64.27に酸素原子に結合したメチレン基
の水素!d)に由来する4個分のピークが結合定数6H
zで三重線として、65.53付近にビニリデン基の水
素Talに由来するピークが多重線として、66.07
にビニリデン基の水素(blに由来するピークが多重線
としてそれぞれ観測された。
実施例2〜5 種々の原料を用いて実施例1と全く同様にして第2表に
示したチオエーテル化合物を得た。得られたチオエーテ
ル化合物の性質を第2表に併記した。
また、元素分析値(()内は計算値である。)は、C:
52.62%(52,80%)、Hニア、03%(6,
96%)、S:20.32%(20,14%)であり計
算値とよく一致した。
実施例6 実施例1〜5で製造したチオエーテル化合物100重量
部に対してラジカル重合開始剤としてt−ブチルパーオ
キシ−2−エチルヘキサネート1重量部を添加してよく
混合した。この混合液をガラス板とエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体とから成るガスケットで構成された鋳型の中
へ注、太し、注型重合を行った。重合は、空気炉を用い
、30℃から90℃で18時間かけ、徐々に温度を上げ
て行き、90℃に2時間保持した。重合終了後、鋳型を
空気炉から取出し、放冷後、重合体を鋳型のガラスから
とりはずした。得られた重合体の諸物性を測定して第3
表に示した。尚、重合体の屈折率はいずれも1.55以
上であった。
比較例1〜2 単量体としてビス(メタクリロイルチオエチル)エーテ
ルを用いた以外は実施例6と同様に実施した。得られた
重合体の諸物性を第3表に併記した。
実施例7 第3表に示すチオエーテル化合物及びこれと共重合可能
な単量体とから成る組成物を用いた以外、実施例6と同
様に実施した。得られた重合体の物性を第4表に示した
。尚、いずれの重合体も屈折率は1.57以上であった
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は、夫々実施例1で得られた本発明の
チオエーテル化合物の赤外吸収スペクトル及びIH−核
磁気共鳴スペクトルを示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5及び
    R_6は、夫々同種又は異種の水素原子又はアルキル 基であり、nは2以上の整数である。〕 で示されるチオエーテル化合物。
  2. (2)下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R_3、R_4、R_5及びR_6は、夫々同
    種又は異種の水素原子又はアルキル基であり、nは2以
    上の整数である。〕 で示される化合物と、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R_7は水素原子又はアルキル基であり、R_
    8は水酸基、塩素原子又はアルコキシ基である。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする特許
    請求の範囲第(1)項記載のチオエーテル化合物の製造
    方法。
JP63233761A 1988-09-20 1988-09-20 チオエーテル化合物及びその製造方法 Pending JPH0283366A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63233761A JPH0283366A (ja) 1988-09-20 1988-09-20 チオエーテル化合物及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63233761A JPH0283366A (ja) 1988-09-20 1988-09-20 チオエーテル化合物及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0283366A true JPH0283366A (ja) 1990-03-23

Family

ID=16960161

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63233761A Pending JPH0283366A (ja) 1988-09-20 1988-09-20 チオエーテル化合物及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0283366A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2546887B2 (ja) チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法
US5214116A (en) Resin derived from sulfur-containing unsaturated compound and having a high refractive index
JPH0547544B2 (ja)
JPS61127712A (ja) 高屈折率レンズ用樹脂
JP4204391B2 (ja) 重合性アダマンタン化合物
JP2656109B2 (ja) トリアジン化合物及びその製造方法
JPH0283366A (ja) チオエーテル化合物及びその製造方法
JPH0311054A (ja) チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法
JPH03220172A (ja) チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法
JPH02258819A (ja) 新規な重合性単量体
US5594090A (en) Alkylene sulfide group-containing prepolymer, polymerizable composition and optical material
JP2505574B2 (ja) ノルボルナン化合物及びその製造方法
JPH0665190A (ja) ビニルベンジル化合物
JPH03127771A (ja) チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法
JPH11263749A (ja) (メタ)アクリレート誘導体
JPS59164501A (ja) 有機光学ガラス
JP3543359B2 (ja) チオアセタール化合物、単量体組成物及び光学用材料
JPH02208309A (ja) チオカルボン酸エステル組成物
JP2575233B2 (ja) 亜リン酸エステル化合物及びその製造方法
JPH03284661A (ja) ビニルスルフイド化合物
JPH0253783A (ja) 光学材料
JPH04300886A (ja) リン酸エステル化合物及びその製造方法
JPH0657691B2 (ja) カーボネート化合物及びその製造方法
JPH0240345A (ja) ビフェニル化合物及びその製造方法
JP2609487B2 (ja) 亜リン酸エステル化合物