JPH0215277A - 電子写真式平版印刷用原版 - Google Patents
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電子写真方式で製版される電子写真平版印刷
用原版に関するものであり、特に、該平版印刷原版の光
導電層形成用結着樹脂の改良に関する。
用原版に関するものであり、特に、該平版印刷原版の光
導電層形成用結着樹脂の改良に関する。
(従来技術)
現在ダイレクト製版用のオフセット原版には多種のもの
が提案され且つ実用化されているが、中でも導電性支持
体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子及び結着樹脂を主
成分とした光導電層を設けた感光体において、通常の電
子写真工程を経てその感光体表面に親油性の高いトナー
画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言われる不
感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化すること
によってオフセット原版を得る技術が広く用いられてい
る。
が提案され且つ実用化されているが、中でも導電性支持
体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子及び結着樹脂を主
成分とした光導電層を設けた感光体において、通常の電
子写真工程を経てその感光体表面に親油性の高いトナー
画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言われる不
感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化すること
によってオフセット原版を得る技術が広く用いられてい
る。
良好な印刷物を得るには、先ず、オフセット原版に、原
画が忠実に複写されると共に、感光体表面が不感脂化処
理液となじみ易く非画像部が充分に親水化されると同時
に耐水性を有し、更に印刷においては、画像を有する光
導電層が離脱しないこと、及び湿し水とのなじみがよく
、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しない様に充分に
非画像部の親水性が保持されること等の性能を有する必
要がある。
画が忠実に複写されると共に、感光体表面が不感脂化処
理液となじみ易く非画像部が充分に親水化されると同時
に耐水性を有し、更に印刷においては、画像を有する光
導電層が離脱しないこと、及び湿し水とのなじみがよく
、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しない様に充分に
非画像部の親水性が保持されること等の性能を有する必
要がある。
これらの性能には光導電層中の酸化亜鉛と結着樹脂の比
率が影響することは既に知られている。
率が影響することは既に知られている。
例えば、光導電層の酸化亜鉛粒子に対する結着樹脂の比
率を小さくすれば、光導電層表面の不惑脂化性が向上し
、地汚れは少なくなるが、他方で光導電層自体の内部凝
集力が低下し、機械的強度不足による耐刷力の低下が生
じる。逆に結着樹脂の比率を大きくすると、耐刷力は向
上するが、地汚れが増大する。特に地汚れは、光導電層
表面の不感脂化性の良否に関係する現象であることは言
うまでもないが、光導電層表面の不感脂化性は光導電層
中の酸化亜鉛と結着樹脂の比率のみによって左右される
ものではなく、結着樹脂の種類によっても大きく左右さ
れることが明らかになってきている。
率を小さくすれば、光導電層表面の不惑脂化性が向上し
、地汚れは少なくなるが、他方で光導電層自体の内部凝
集力が低下し、機械的強度不足による耐刷力の低下が生
じる。逆に結着樹脂の比率を大きくすると、耐刷力は向
上するが、地汚れが増大する。特に地汚れは、光導電層
表面の不感脂化性の良否に関係する現象であることは言
うまでもないが、光導電層表面の不感脂化性は光導電層
中の酸化亜鉛と結着樹脂の比率のみによって左右される
ものではなく、結着樹脂の種類によっても大きく左右さ
れることが明らかになってきている。
古くから公知の樹脂として、例えばシリコーン樹脂(特
公昭34−6670)、スチレン−ブタジェン樹脂(特
公昭35−195OLアルキツド樹脂、マレイン酸樹脂
、ポリアミド(特公昭35−11219L酢酸ビニル樹
脂(特公昭412425L酢酸ビニル共重合体く特公昭
412426)、アクリル樹脂(特公昭35−1121
6Lアクリル酸工ステル共重合体(例えば特公昭35−
11219、特公昭36−8510、特公昭41−13
946等)等が知られている。
公昭34−6670)、スチレン−ブタジェン樹脂(特
公昭35−195OLアルキツド樹脂、マレイン酸樹脂
、ポリアミド(特公昭35−11219L酢酸ビニル樹
脂(特公昭412425L酢酸ビニル共重合体く特公昭
412426)、アクリル樹脂(特公昭35−1121
6Lアクリル酸工ステル共重合体(例えば特公昭35−
11219、特公昭36−8510、特公昭41−13
946等)等が知られている。
しかし、これらの樹脂を用いた電子写真感光材料におい
ては、1)光導電層の帯電性が低い、2)複写画像の画
像部の品質(特に網点再現性・解像ノコ)が悪い、3)
露光感度が低い、4)オフセットマスターとして用いる
ために不感脂化処理しても不感脂化が行なわれず、この
ためオフセット印刷した際に印刷物に地汚れを生ずる、
5)感光層の膜強度が充分でなく、オフセット印刷する
と感光層の脱離等が生じ、印刷枚数を多くできない、6
)複写画像作成時の環境(例えば高温高温)にその画質
が影響されやすい、等のいずれかの問題があった。
ては、1)光導電層の帯電性が低い、2)複写画像の画
像部の品質(特に網点再現性・解像ノコ)が悪い、3)
露光感度が低い、4)オフセットマスターとして用いる
ために不感脂化処理しても不感脂化が行なわれず、この
ためオフセット印刷した際に印刷物に地汚れを生ずる、
5)感光層の膜強度が充分でなく、オフセット印刷する
と感光層の脱離等が生じ、印刷枚数を多くできない、6
)複写画像作成時の環境(例えば高温高温)にその画質
が影響されやすい、等のいずれかの問題があった。
特にオフセット原版としては、前記の様に不感脂化性不
充分による地汚れ発生が大きな問題であり、これを改良
するために不感脂化性を向上させる酸化亜鉛結着用樹脂
の開発が種々検討されてきている。例えば、特公昭50
−31011では、フマル酸存在下で(メタ)アクリレ
ート系モノマーと他のモノマーと共重合させたMwl、
8〜10XIO’でTglO〜80°Cの樹脂と(メタ
)アクリレート系モノマーとフマル酸以外の他のモノマ
ーとから成る共重合体とを併用したもの、特開昭53−
54027では、カルボン酸基をエステル結合から少な
くとも原子数7個離れて有する置換基をもつ(メタ)ア
クリル酸エステルを含む三元共重合体を用いるもの、特
開昭54−20735・特開昭57−202544では
、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
トを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、特開昭5
8−68046では、炭素数6〜12のアルキル基を置
換基とする(メタ)アクリル酸エステル及びカルボン酸
含有のビニルモノマーを含む3元共重合体を用いるもの
等が光導電層の不感脂化性の向上に効果があると記載さ
れている。しかし、これらの不感脂化性向上に効果があ
るとされる樹脂であっても、現実に評価してみると地汚
れ、耐刷力等において不充分であった。
充分による地汚れ発生が大きな問題であり、これを改良
するために不感脂化性を向上させる酸化亜鉛結着用樹脂
の開発が種々検討されてきている。例えば、特公昭50
−31011では、フマル酸存在下で(メタ)アクリレ
ート系モノマーと他のモノマーと共重合させたMwl、
8〜10XIO’でTglO〜80°Cの樹脂と(メタ
)アクリレート系モノマーとフマル酸以外の他のモノマ
ーとから成る共重合体とを併用したもの、特開昭53−
54027では、カルボン酸基をエステル結合から少な
くとも原子数7個離れて有する置換基をもつ(メタ)ア
クリル酸エステルを含む三元共重合体を用いるもの、特
開昭54−20735・特開昭57−202544では
、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
トを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、特開昭5
8−68046では、炭素数6〜12のアルキル基を置
換基とする(メタ)アクリル酸エステル及びカルボン酸
含有のビニルモノマーを含む3元共重合体を用いるもの
等が光導電層の不感脂化性の向上に効果があると記載さ
れている。しかし、これらの不感脂化性向上に効果があ
るとされる樹脂であっても、現実に評価してみると地汚
れ、耐刷力等において不充分であった。
更に、結着樹脂として、分解により親水性基を生成する
官能基を含有する樹脂を用いるものが検討されており、
例えば分解によりヒドロキシル基を生成する官能基を含
有するもの(特開昭62195684号、特開昭62−
210475号、特開昭62−210476号)や分解
によりカルボキシル基を生成する官能基を含有するもの
(特開昭62−21269号)等が開示されている。
官能基を含有する樹脂を用いるものが検討されており、
例えば分解によりヒドロキシル基を生成する官能基を含
有するもの(特開昭62195684号、特開昭62−
210475号、特開昭62−210476号)や分解
によりカルボキシル基を生成する官能基を含有するもの
(特開昭62−21269号)等が開示されている。
これらの樹脂は不感脂化液又は印刷時に用いる湿し水に
より加水分解又は加水素分解されて親水性基を生成する
樹脂であり、これらを平版印刷用原版の結着樹脂をして
用いると、親水性基自身をはじめから含有する樹脂を用
いた場合に該親水性基と光導電性酸化亜鉛粒子表面との
強い相互作用によって生ずると思われる種々の問題(平
滑性の悪化、電子写真特性の悪化等)を回避できるとと
もに、不感脂化液により親水化される非画像部の親水性
が、樹脂中において分解により生成される上記親水性基
によってより一層高められる為、画像部の親油性と非画
像部の親水性が明確となり、印刷時に非画像部に印刷イ
ンキが付着するのを防止し、その結果として地汚れのな
い鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能とな
ると記載されている。
より加水分解又は加水素分解されて親水性基を生成する
樹脂であり、これらを平版印刷用原版の結着樹脂をして
用いると、親水性基自身をはじめから含有する樹脂を用
いた場合に該親水性基と光導電性酸化亜鉛粒子表面との
強い相互作用によって生ずると思われる種々の問題(平
滑性の悪化、電子写真特性の悪化等)を回避できるとと
もに、不感脂化液により親水化される非画像部の親水性
が、樹脂中において分解により生成される上記親水性基
によってより一層高められる為、画像部の親油性と非画
像部の親水性が明確となり、印刷時に非画像部に印刷イ
ンキが付着するのを防止し、その結果として地汚れのな
い鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能とな
ると記載されている。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、これらの樹脂を用いても地汚れ、耐剛力
において未だ満足できるものではなく、上記の如き親水
性基生成官能基を含有する樹脂を用いた場合でも、非画
像部における親水性を更に向上させるべく、その含有量
を増大させた場合には、分解により生成した親水性基に
より親水性が増大するとともに水溶性となってしまうた
め、特にその持続性において問題のあることが判った。
において未だ満足できるものではなく、上記の如き親水
性基生成官能基を含有する樹脂を用いた場合でも、非画
像部における親水性を更に向上させるべく、その含有量
を増大させた場合には、分解により生成した親水性基に
より親水性が増大するとともに水溶性となってしまうた
め、特にその持続性において問題のあることが判った。
従って、非画像部の親水性による効果がより向上し、更
に持続性が向上する技術の出現が望まれる。
に持続性が向上する技術の出現が望まれる。
より具体的にいえば、全結着樹脂中における上記の如き
親水性基生成官能基を含有する樹脂の含有量を減少させ
ても親水性向上の効果が変わらす維持でき、ないしは向
上し、あるいは印刷機の大型化又は印圧の変動等の如き
印刷条件が厳しくなった場合でも、地汚れのない鮮明な
画質の印刷物を多数枚印刷することのできる技術の出現
が望まれる。
親水性基生成官能基を含有する樹脂の含有量を減少させ
ても親水性向上の効果が変わらす維持でき、ないしは向
上し、あるいは印刷機の大型化又は印圧の変動等の如き
印刷条件が厳しくなった場合でも、地汚れのない鮮明な
画質の印刷物を多数枚印刷することのできる技術の出現
が望まれる。
(問題点を解決するだめの手段)
上記問題点は、導電性支持体上に、少なくとも1層の光
導電性酸化亜鉛と結着樹脂とを含有することから成る光
導電層を設けて成る電子写真感光体を利用した平版印刷
用原版において、該結着樹脂が、分解によりチオール基
、ホスホ基、アミノ基及びスルホ基のうちの少なくとも
1つの基を生成する官能基を少なくとも1種含有する樹
脂であり、且つ架橋剤が共存している事を特徴とする電
子写真式平版印刷用原版により解決されることが見出さ
れた。
導電性酸化亜鉛と結着樹脂とを含有することから成る光
導電層を設けて成る電子写真感光体を利用した平版印刷
用原版において、該結着樹脂が、分解によりチオール基
、ホスホ基、アミノ基及びスルホ基のうちの少なくとも
1つの基を生成する官能基を少なくとも1種含有する樹
脂であり、且つ架橋剤が共存している事を特徴とする電
子写真式平版印刷用原版により解決されることが見出さ
れた。
本発明は平版印刷用原版の光導電層の結着樹脂の少なく
とも1部に、分解して少なくとも1個のチオール基、ホ
スホ基、アミノ基及び/又はスルホ基を生成する官能基
を少なくとも1種含有する樹脂を含有し、且つ該樹脂を
架橋する架橋剤を共存させる事を特徴としている。これ
により本発明による平版印刷用原版は、原画に対して忠
実な複写画像を再現し、非画像部の親水性が良好である
ため地汚れも発生せず、光導電層の平滑性及び静電特性
が良好であり、更に耐剛力が優れているという利点を有
する。
とも1部に、分解して少なくとも1個のチオール基、ホ
スホ基、アミノ基及び/又はスルホ基を生成する官能基
を少なくとも1種含有する樹脂を含有し、且つ該樹脂を
架橋する架橋剤を共存させる事を特徴としている。これ
により本発明による平版印刷用原版は、原画に対して忠
実な複写画像を再現し、非画像部の親水性が良好である
ため地汚れも発生せず、光導電層の平滑性及び静電特性
が良好であり、更に耐剛力が優れているという利点を有
する。
更に、本発明の平版印刷用原版は製版処理時の環境に左
右されず、また処理前の保存性に優れているという特徴
を有する。
右されず、また処理前の保存性に優れているという特徴
を有する。
以下に、本発明において用いられる分解して少なくとも
1個のチオール基、ホスホ基、スルホ基及び/又はアミ
ノ基の親水性基を生成する官能基を少なくとも1種含有
する樹脂(以下単に、親水性基生成官能基含有樹脂と称
することもある)について詳しく説明する。
1個のチオール基、ホスホ基、スルホ基及び/又はアミ
ノ基の親水性基を生成する官能基を少なくとも1種含有
する樹脂(以下単に、親水性基生成官能基含有樹脂と称
することもある)について詳しく説明する。
本発明の親水性基生成官能基含有樹脂に含まれる官能基
は分解によって少なくとも1つの親水性基を生成するが
、1つの官能基から生成する親水性基は1個でも2個以
上でもよい。
は分解によって少なくとも1つの親水性基を生成するが
、1つの官能基から生成する親水性基は1個でも2個以
上でもよい。
以下、分解により少なくとも1個のチオール基を生成す
る官能基を含有する樹脂(チオール基生成官能基含有樹
脂)について詳述する。かかる樹脂は、例えば下記−数
式(1)(−3−LA、)で示される官能基を少なくと
も1種含有する樹脂である。
る官能基を含有する樹脂(チオール基生成官能基含有樹
脂)について詳述する。かかる樹脂は、例えば下記−数
式(1)(−3−LA、)で示される官能基を少なくと
も1種含有する樹脂である。
一般式(I): (−3−L’ )
A1
C−LA5、 −〇−C)−R^6、
但し、R”l 、LA2及びLA3は、互いに同じでも
異なってもよく、各々炭化水素基又は−〇R” (R
^′は炭化水素基を示す)を表わし、RAa 、RAs
、R”6 、RA7 、RAs 、RAq及びRA、
。は各々独立に炭化水素基を表わす。
異なってもよく、各々炭化水素基又は−〇R” (R
^′は炭化水素基を示す)を表わし、RAa 、RAs
、R”6 、RA7 、RAs 、RAq及びRA、
。は各々独立に炭化水素基を表わす。
上記−数式[−3−LA]の官能基は、分解によって、
チオール基を生成するものであり、以下更に詳しく説明
する。
チオール基を生成するものであり、以下更に詳しく説明
する。
RA。
1、Aが一5i−RA□を表わず場合において、A3
RA3、RA□及びRA、は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、置換されてもよい炭
素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基
、クロロエチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピ
ル基等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基等)、置換されてもよい炭
素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基、フェ
ネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基等)
又は、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基、メトキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロロフ
ェニル基等)又は0−R” (RA′は、炭化水素基
を表わし、具体的には、上記RA、 、RA2 、R’
3の炭化水素基で記述した置換基類を例として挙げるこ
とができる)を表わす。
いてもよく、好ましくは水素原子、置換されてもよい炭
素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基
、クロロエチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピ
ル基等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基等)、置換されてもよい炭
素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基、フェ
ネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基等)
又は、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基、メトキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロロフ
ェニル基等)又は0−R” (RA′は、炭化水素基
を表わし、具体的には、上記RA、 、RA2 、R’
3の炭化水素基で記述した置換基類を例として挙げるこ
とができる)を表わす。
1、Aが−c−RA、 、−C−RA5、−C−0−R
A6、II II 11C−
C1−RA7、又は−3−RA8を表わす場合において
、RA4、RA5、RA6、RA7、RA8は各々好ま
しくは置換されていてもよい炭素数1〜12の直鎖状又
は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリクロロメチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、エチ
ル基、プロピル基、n−ブチル基、ヘキシル基、3−ク
ロロプロピル基、フェノキシメチル基、2. 2. 2
−)リフルオロエチル基、t−ブチル基、ヘキサフルオ
ロミープロピル基、オクチル基、デシル基等)、置換さ
れていてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベ
ンジル基、フェネチル基、メチルヘンシル基、トリメチ
ルベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシベン
ジル基等)、置換されていてもよい炭素数6〜12のア
リール基(例えばフェニル基、ニトロフェニル基、シア
ノフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、メトキシ
フェニル基、ブトキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基等
)を表わす。
A6、II II 11C−
C1−RA7、又は−3−RA8を表わす場合において
、RA4、RA5、RA6、RA7、RA8は各々好ま
しくは置換されていてもよい炭素数1〜12の直鎖状又
は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリクロロメチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、エチ
ル基、プロピル基、n−ブチル基、ヘキシル基、3−ク
ロロプロピル基、フェノキシメチル基、2. 2. 2
−)リフルオロエチル基、t−ブチル基、ヘキサフルオ
ロミープロピル基、オクチル基、デシル基等)、置換さ
れていてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベ
ンジル基、フェネチル基、メチルヘンシル基、トリメチ
ルベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシベン
ジル基等)、置換されていてもよい炭素数6〜12のア
リール基(例えばフェニル基、ニトロフェニル基、シア
ノフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、メトキシ
フェニル基、ブトキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基等
)を表わす。
RA、及びRAIOは各々同じでも異なっていてもよく
、好ましい例としては、前記RA4〜RAllで好まし
いとして記載した置換基を表わす。
、好ましい例としては、前記RA4〜RAllで好まし
いとして記載した置換基を表わす。
本発明の他の好ましいチオール基生成官能基含有樹脂は
、−数式(II)又は−数式(In)で示されるチイラ
ン環を少なくとも1種含有する樹脂である。
、−数式(II)又は−数式(In)で示されるチイラ
ン環を少なくとも1種含有する樹脂である。
一般式(II)
RA
一般式(II[)
χ
式(I[)において、RA□1及びRA12は、互いに
同しでも異なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基
を表わす。好ましくは、水素原子又は前記RA4〜RA
7で好ましいとして記載した置換基を表わす。
同しでも異なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基
を表わす。好ましくは、水素原子又は前記RA4〜RA
7で好ましいとして記載した置換基を表わす。
式(I)において、XAは、水素原子又は脂肪族基を表
わす。脂肪族基として好ましくは、炭素数1〜6ノアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基等)を表わす。
わす。脂肪族基として好ましくは、炭素数1〜6ノアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基等)を表わす。
本発明の更なる他の好ましいチオール基生成官能基含有
樹脂は、−数式(IV)で示されるイオウ原子含有のへ
テロ環基を少なくとも1種含有する樹脂である。
樹脂は、−数式(IV)で示されるイオウ原子含有のへ
テロ環基を少なくとも1種含有する樹脂である。
一般式(IV)
式(TV)において、YAは酸素原子又は−NH基を表
わす。
わす。
R”+3、RA14及びR八、5は、同じでも異なって
いてもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表わす。好
ましくは水素原子又は前記RA4〜R^7で好ましいと
して記載した置換基を表わす。
いてもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表わす。好
ましくは水素原子又は前記RA4〜R^7で好ましいと
して記載した置換基を表わす。
RA16及びRA17は、同じでも異なっていてもよく
、水素原子、炭化水素基又は−0−RA″ (Rへ″は
炭化水素基を表わす)を表わす。好ましくは、前記R^
1〜RA3で好ましいとして記載した置換基を表わす。
、水素原子、炭化水素基又は−0−RA″ (Rへ″は
炭化水素基を表わす)を表わす。好ましくは、前記R^
1〜RA3で好ましいとして記載した置換基を表わす。
本発明の更なるもう一つの好ましい態様によれば、チオ
ール基生成官能基含有樹脂は、互いに立体的に近い位置
にある少なくとも2つのチオール基を1つの保護基で同
時に保護した形で有する官能基を少なくとも1種含有す
る樹脂である。
ール基生成官能基含有樹脂は、互いに立体的に近い位置
にある少なくとも2つのチオール基を1つの保護基で同
時に保護した形で有する官能基を少なくとも1種含有す
る樹脂である。
互いに立体的に近い位置にある少なくとも2つのチオー
ル基を1つの保護基で同時に保護した形で有する官能基
の例としては例えば下記−数式(V)、(Vl)及び(
■)で表わされるものを挙げることができる。
ル基を1つの保護基で同時に保護した形で有する官能基
の例としては例えば下記−数式(V)、(Vl)及び(
■)で表わされるものを挙げることができる。
一般式(V)
一般式(Vl)
1日
一般式(■)
式(V)及び式(Vl)において、ZAはへテロ原子を
介してもよい炭素−炭素結合又はC−3結合同志を直接
連結する化学結合を表わす(但し、イオウ原子間の原子
数は4個以内である)。更に一方の +z A−CH重
合が単なる結合のみを表わし、例えば下記の様になって
いてもよい。
介してもよい炭素−炭素結合又はC−3結合同志を直接
連結する化学結合を表わす(但し、イオウ原子間の原子
数は4個以内である)。更に一方の +z A−CH重
合が単なる結合のみを表わし、例えば下記の様になって
いてもよい。
式(VI)において、RA+a、RA19は、同じでも
異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又はC1−
RA′’ (R”は炭化水素基を示す)を表わす。
異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又はC1−
RA′’ (R”は炭化水素基を示す)を表わす。
式(Vl)において、RAll+及びRA19は、好ま
しくは互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、
炭素数1〜12の置換されていてもよいアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、2−メトキシエチル基、オクチル基等)、炭
素数7〜9の置換されていてもよいアラルキル基(例え
ばベンジル基、フヱネテル基、メチルベンジル基、メト
キシヘンシル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜7
の脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等)又は置換されていてもよいアリール基(例えば
フェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、
メチルフェニル基、シアノフェニル基等)又は−○−R
A″(RA″はRA18、RAl 9における炭化水素
基と同義である)を表わす。
しくは互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、
炭素数1〜12の置換されていてもよいアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、2−メトキシエチル基、オクチル基等)、炭
素数7〜9の置換されていてもよいアラルキル基(例え
ばベンジル基、フヱネテル基、メチルベンジル基、メト
キシヘンシル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜7
の脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等)又は置換されていてもよいアリール基(例えば
フェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、
メチルフェニル基、シアノフェニル基等)又は−○−R
A″(RA″はRA18、RAl 9における炭化水素
基と同義である)を表わす。
式(■)において、RA□。、Rへ21、RA2□、R
A23は、互いに同じでも異なっていてもよく、各々水
素原子又は炭化水素基を表わす。好ましくは、水素原子
又は、RA18、RA19において好ましいと記載した
炭化水素基と同義の内容を表わす。
A23は、互いに同じでも異なっていてもよく、各々水
素原子又は炭化水素基を表わす。好ましくは、水素原子
又は、RA18、RA19において好ましいと記載した
炭化水素基と同義の内容を表わす。
本発明に用いられる一般式(1)〜(■)で示される官
能基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体中に含有
されるチオール基を高分子反応によって保護基により保
護した形にする方法又は予め保護基により保護された形
の1つ又は2つ以上のチオール基を含有する単量体の又
は該単量体及びこれと共重合し得る他の単量体の重合反
応により重合する方法により製造される。
能基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体中に含有
されるチオール基を高分子反応によって保護基により保
護した形にする方法又は予め保護基により保護された形
の1つ又は2つ以上のチオール基を含有する単量体の又
は該単量体及びこれと共重合し得る他の単量体の重合反
応により重合する方法により製造される。
チオール基を含有する重合体は、該チオール基がラジカ
ル重合を禁止するため、チオール基含有の単量体をその
まま重合することは困難であるため、高分子反応でチオ
ール基を導入する方法かあるいは本発明に用いられる官
能基、イソチウロニウム塩、ブンテ塩等の形にチオール
基を保護した単量体を重合させた後分解反応を行なって
チオール基とする方法で製造される。
ル重合を禁止するため、チオール基含有の単量体をその
まま重合することは困難であるため、高分子反応でチオ
ール基を導入する方法かあるいは本発明に用いられる官
能基、イソチウロニウム塩、ブンテ塩等の形にチオール
基を保護した単量体を重合させた後分解反応を行なって
チオール基とする方法で製造される。
従って、重合体中のチオール基を保護した官能基を任意
に調整し得ること、不純物を混入しないことあるいは、
最終的にチオール基を保護した単量体でないと重合しな
いこと等の理由から、予め一般式(I)〜(■)の官能
基を含有する単量体からの重合反応により製造する方法
が好ましい。
に調整し得ること、不純物を混入しないことあるいは、
最終的にチオール基を保護した単量体でないと重合しな
いこと等の理由から、予め一般式(I)〜(■)の官能
基を含有する単量体からの重合反応により製造する方法
が好ましい。
1つ又は少なくとも2つのチオール基を、保護q
基により保護された官能基に変換する製造法としては、
例えば、岩倉善男・栗田恵輔著「反応性高分子」230
頁〜237頁(講談社:1911年刊)、日本化学会側
[新実験化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔
■〕、第8章、第1700頁〜1713頁、(丸善株式
会社 1978年刊) 、J、P、 W、 McOmi
e、 「Protective Groupsin
Organic Chemistry」第7章(Ple
num Press。
例えば、岩倉善男・栗田恵輔著「反応性高分子」230
頁〜237頁(講談社:1911年刊)、日本化学会側
[新実験化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔
■〕、第8章、第1700頁〜1713頁、(丸善株式
会社 1978年刊) 、J、P、 W、 McOmi
e、 「Protective Groupsin
Organic Chemistry」第7章(Ple
num Press。
1973年刊) 、S、 Patai、 rThe
Chemistry ofthe thiol gro
up Part2 J第12章、第14章(John唱
1ey & 5ons 、 1974年刊)等の総説
引例の公知文献記載の方法等を適用することができる。
Chemistry ofthe thiol gro
up Part2 J第12章、第14章(John唱
1ey & 5ons 、 1974年刊)等の総説
引例の公知文献記載の方法等を適用することができる。
1又は2以上のチオール基が保護基により保護された単
量体、例えば式(1)〜(■)で表わされる官能基を含
有する単量体は、具体的には、重合性の二重結合を含み
且つチオール基を少なくとも1個含有する化合物を、例
えば、前記した公知文献等に記載された方法に従って、
チオール基を一般式(I)〜(■)の官能基に変換する
が、あるいは−数式(I)〜(■)の官能基を含有する
化合物を重合性の二重結合を含む化合物と反応させる方
法によって、製造することができる。
量体、例えば式(1)〜(■)で表わされる官能基を含
有する単量体は、具体的には、重合性の二重結合を含み
且つチオール基を少なくとも1個含有する化合物を、例
えば、前記した公知文献等に記載された方法に従って、
チオール基を一般式(I)〜(■)の官能基に変換する
が、あるいは−数式(I)〜(■)の官能基を含有する
化合物を重合性の二重結合を含む化合物と反応させる方
法によって、製造することができる。
更に具体的には、−数式(I)〜(■)の官能基を含有
する単量体として以下の様な化合物を挙げることができ
るが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない
。
する単量体として以下の様な化合物を挙げることができ
るが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない
。
−(CH2
CH)
5i(CI(+)+
−1−CI−T2−CH−)−
CHz S C00Ca Hq
CH25
しU U U f13
−(−CH2−CH−)−
Hs
CH’s
CH3
CH。
−(−CH、−−C−す−
一+CH2−CH−)−
Coo(CH2)2S
St(CI(+)+
CH3
一%CH2−C+
C00CH2CHCH2CH2S
C3OC2H5
C3OCzHs
−(−CH2−CH←
Coo(CH2)、5COOC4H9
H3
→CH、−C−±−
CONH(CHz) 4S C00C4Hq−(−CH
−CH−3− Y8 CH。
−CH−3− Y8 CH。
CH3
−(−CH2
C−+−
2H5
−(−CH2
CH→−
0CH2CHCH2SCOCH。
C0CH5
−(CH2
CH→−
○
CH2CHCH2
CH3
CH3
−f−CH2
C−÷−
COO(CHZ) 2 S COCHCI!、2一+C
H2 CH−)− CH2NHCO CH CH。
H2 CH−)− CH2NHCO CH CH。
CH3
−(CH2
C−十−
C00(CH2)20C0
CH
CH。
r1コシ
し2nS
又、本発明において、分解してホスホ基、例えば下記−
数式(■)又は(IX)の基を生成する官能基を含有す
る樹脂について詳しく説明する。
数式(■)又は(IX)の基を生成する官能基を含有す
る樹脂について詳しく説明する。
−数式(■)
QI′1
P−RB
1lI−H
一般式(IX)
QB□
P−Z”4−H
2II3 H
式(■)において、R11は炭化水素基又は−72−R
” (ここでR”は炭化水素を示し、ZB2は酸素原
子又はイオウ原子を示す)を表わす。Q”+は酸素原子
又はイオウ原子を表わす。ZBIは、酸素原子又はイオ
ウ原子を表わす。式(IX)において、QB2、ZB3
及びZB4は、各々独立に酸素原子又はイオウ原子を表
わす。
” (ここでR”は炭化水素を示し、ZB2は酸素原
子又はイオウ原子を示す)を表わす。Q”+は酸素原子
又はイオウ原子を表わす。ZBIは、酸素原子又はイオ
ウ原子を表わす。式(IX)において、QB2、ZB3
及びZB4は、各々独立に酸素原子又はイオウ原子を表
わす。
好ましくは、RBは置換されていてもよい炭素数1〜1
2、直鎖状又は分岐状アルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、2−メトキシエチル基、
3−メトキシプロピル基、2−エトキシエチル基等)、
置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基等)、置換されていてもよい炭
素数7〜12のアラルキル基(例えば、ベンジル基、フ
ェネチル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、
クロロベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香族
基(例えば、フェニル基、クロロフェニル基、トリル基
、キシリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、ジクロロフェニル基等)、又は−ZB2
−R11′ (ここでZB□は、酸素原子又はイオウ原
子を表わす。RII′は炭化水素基を表わし、具体的に
は、上記RBの炭化水素基で述べた置換基類を例として
挙げることができる)を表わす。
2、直鎖状又は分岐状アルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、2−メトキシエチル基、
3−メトキシプロピル基、2−エトキシエチル基等)、
置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基等)、置換されていてもよい炭
素数7〜12のアラルキル基(例えば、ベンジル基、フ
ェネチル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、
クロロベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香族
基(例えば、フェニル基、クロロフェニル基、トリル基
、キシリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、ジクロロフェニル基等)、又は−ZB2
−R11′ (ここでZB□は、酸素原子又はイオウ原
子を表わす。RII′は炭化水素基を表わし、具体的に
は、上記RBの炭化水素基で述べた置換基類を例として
挙げることができる)を表わす。
Q’+ 、Q”z 、Z”ls Zn2 、ZIIaは
、各々独立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。
、各々独立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。
以上の如き、分解により式(■)又は(IX)で示され
るホスホ基を生成する官能基としては、数式(X)及び
/又は(XI)で示される官能基が挙げられる。
るホスホ基を生成する官能基としては、数式(X)及び
/又は(XI)で示される官能基が挙げられる。
一般式(X)
QB+
−RB
ZB+ LB+
一般式(XI)
Q’2
I
ZEa
L”3
Zn3
LB□
式(X)及び(XI)において、QB+ % Q”2、
ZBl、Zn2、Z−及びR8はそれぞれ式(■)及び
(XI)で定義した通りの内容を表わす。
ZBl、Zn2、Z−及びR8はそれぞれ式(■)及び
(XI)で定義した通りの内容を表わす。
B
LB□及びRB3は互いに独立にそれぞれR11□は、
互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原
子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)又はメ
チル基を表わす。χB、及びXI□は、電子吸引性置換
基を表わし、好ましくはハロゲン原子(例えば塩素原子
、臭素原子、フッ素原子等)、−CN、−CONH2、
−No。
互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原
子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)又はメ
チル基を表わす。χB、及びXI□は、電子吸引性置換
基を表わし、好ましくはハロゲン原子(例えば塩素原子
、臭素原子、フッ素原子等)、−CN、−CONH2、
−No。
又は−3O,RB″ (R”’は、メチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ベンジル基、フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の如き
炭化水素基を表わす)を表わす。
、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ベンジル基、フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の如き
炭化水素基を表わす)を表わす。
nは1又は2を表わす。更に、xllIがメチル基の場
合には、RB 、及びRR□がメチル基でn=1を表わ
す。
合には、RB 、及びRR□がメチル基でn=1を表わ
す。
R”3
おいて、R”3 、RB4及びR11,は、互いに同じ
でも異なっていてもよく、好ましくは水素原子、置換さ
れてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オ
クタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メ
トキシプロピル基等)、置換されていてもよい脂環式基
(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等) 、
Ijtaされてもよい炭素数7〜12のアラルキル基(
例えばヘンシル基、フェネチル基、クロロベンジル基、
メトキシヘンシル基等)又は置換されていでもよい芳香
族基(例えばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル
基、トリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、ジクロロフェニル基等)又は−Q R
B I(RB III は、炭化水素基を表わし、具体
的には、上記RB3、RB4、R115の炭化水素基で
述べた置換基類を例として挙げることができる)を表わ
す。
でも異なっていてもよく、好ましくは水素原子、置換さ
れてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オ
クタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メ
トキシプロピル基等)、置換されていてもよい脂環式基
(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等) 、
Ijtaされてもよい炭素数7〜12のアラルキル基(
例えばヘンシル基、フェネチル基、クロロベンジル基、
メトキシヘンシル基等)又は置換されていでもよい芳香
族基(例えばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル
基、トリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、ジクロロフェニル基等)又は−Q R
B I(RB III は、炭化水素基を表わし、具体
的には、上記RB3、RB4、R115の炭化水素基で
述べた置換基類を例として挙げることができる)を表わ
す。
LB8〜LB3が −CR”b、 −C−RB、、R−
0を表わす場合において、R”b 、RB7・REs
% R”9及びRBlOは、各々独立に炭化水素基を表
わす。好ましくは置換されていてもよい炭素数1〜6の
直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリク
ロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル
基、フェノキシメチルL 2,2.2−トリフルオロエ
チル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、t−ブチ
ル基、ヘキサフルオロ−1−プロピル基等)、置換され
ていてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベン
ジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、トリメチル
ベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基等)、置換されてもよい炭素数6〜12のアリール
基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ニトロ
フェニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェ
ニル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメ
チルフェニル基等)を表わす。
0を表わす場合において、R”b 、RB7・REs
% R”9及びRBlOは、各々独立に炭化水素基を表
わす。好ましくは置換されていてもよい炭素数1〜6の
直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリク
ロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル
基、フェノキシメチルL 2,2.2−トリフルオロエ
チル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、t−ブチ
ル基、ヘキサフルオロ−1−プロピル基等)、置換され
ていてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベン
ジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、トリメチル
ベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基等)、置換されてもよい炭素数6〜12のアリール
基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ニトロ
フェニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェ
ニル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメ
チルフェニル基等)を表わす。
表わす場合において、YB+及びYB□は酸素原子又は
イオウ原子を表わす。
イオウ原子を表わす。
本発明に用いられる官能基を少なくとも1種含有する樹
脂は、重合体に含有される上記の如き式(VIII)又
は(IX)の親水性基(ホスホ基)を高分子反応によっ
て保護基により保護した形にする方法、又は予め保護基
により保護された形の官能基(例えば式(X)又は(X
I)の官能基)を含有する単量体又は該単量体及びこれ
と共重合し得る他の単量体との重合反応により重合する
方法により製造される。
脂は、重合体に含有される上記の如き式(VIII)又
は(IX)の親水性基(ホスホ基)を高分子反応によっ
て保護基により保護した形にする方法、又は予め保護基
により保護された形の官能基(例えば式(X)又は(X
I)の官能基)を含有する単量体又は該単量体及びこれ
と共重合し得る他の単量体との重合反応により重合する
方法により製造される。
いずれの方法においても、保護基を導入する方法として
は、同様の合成反応を用いることができる。具体的には
、J、 F、 W、 Me、 0m1e、 rProt
ectivegroups in Organic C
hemistry J第6章(PlenumPress
、 1973年刊)の総説引例の公知文献に記載の方法
、あるいは日本化学会績[新実験化学講座第14巻、有
機化合物の合成と反応〔■〕」第2497頁(丸善株式
会社刊、1978年)等の総説引例の公知文献に記載の
ヒドロキシル基への保護基導入の方法と同様の合成反応
、あるいはS。
は、同様の合成反応を用いることができる。具体的には
、J、 F、 W、 Me、 0m1e、 rProt
ectivegroups in Organic C
hemistry J第6章(PlenumPress
、 1973年刊)の総説引例の公知文献に記載の方法
、あるいは日本化学会績[新実験化学講座第14巻、有
機化合物の合成と反応〔■〕」第2497頁(丸善株式
会社刊、1978年)等の総説引例の公知文献に記載の
ヒドロキシル基への保護基導入の方法と同様の合成反応
、あるいはS。
Patai、 rThe Chemistry of
the Triol GroupPart2J第13章
、第14章(Wiley−Interscience1
974年刊) 、T、 H,Greene+ ’Pr
otectivegroups in Organic
5ynthesis 」第6章(WileyInte
rscience 19 B 1年刊)等の総説引例の
公知文献等に記載のチオール基への保護基導入の方法と
同様の合成反応により製造できる。
the Triol GroupPart2J第13章
、第14章(Wiley−Interscience1
974年刊) 、T、 H,Greene+ ’Pr
otectivegroups in Organic
5ynthesis 」第6章(WileyInte
rscience 19 B 1年刊)等の総説引例の
公知文献等に記載のチオール基への保護基導入の方法と
同様の合成反応により製造できる。
保護基に用いられる一般式(X)及び/又は(XI)の
官能基を含有する重合成分の繰り返し単位となり得る具
体的な化合物例として以下の様な例を挙げることができ
る。しかし、本発明はこれらに限定されるものではない
。
官能基を含有する重合成分の繰り返し単位となり得る具
体的な化合物例として以下の様な例を挙げることができ
る。しかし、本発明はこれらに限定されるものではない
。
S i (CH3)3
5t(CH3)3
一+CH2−CH−)−
H2−P
S i (C2H5)3
S i (C2H−、)3
−f−CH2−CH−)−
0=P
OCOC6H5
OCOCbHs
OS i (CH3)3
0CH3
1、11
COO(CH2)20−P
5i(CHs)+
5t(CH31+
5t(CH3)3
CH。
−f−CH□
C−今一
Coo(CH2)20−P
CH3
0CH3
OCOOC2H5
CH。
一+CH2
C→−
Coo(CHz)+OP
C00C2H。
C00C,H,。
5i(OCH,)3
CONH(CH2)60−P
S i (CH3)3
5i(CH3)a
○
OCzHs
CH3
S
C3OCH。
S i (C2H4):1
CH3
CH3
CH3
一+CH2−C→−
CH3
+CH2〜C−÷−
I
C0O(CH2)20 P 0(CH2)2CN0
(CHz)zCN 次に該分解によりアミノ基、例えば−NH2基及び/又
は−NHRc基を生成する官能基として、例えば下記−
数式(Xll)〜(XIV)で表わされる基を挙げるこ
とができる。
(CHz)zCN 次に該分解によりアミノ基、例えば−NH2基及び/又
は−NHRc基を生成する官能基として、例えば下記−
数式(Xll)〜(XIV)で表わされる基を挙げるこ
とができる。
一般式(XII)
N−Coo−Rc
Rc。
一般式(XI[I)
一般式(xrv>
式(x■)及び式(’XIV)中、Rcoは各々、水素
原子、炭素数1−12の置換されてもよいアルキル基(
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロ
ピル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、
2−エトキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル
基、3−メトキシプロピル基、6−クロロヘキシル基等
)、炭素数5〜8の脂環式基(例えば、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えば、ヘンシル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、1−フェニルプロピル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、ブロモベ
ンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数6〜12の置
換されてもよいアリール基(例えばフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クロロメチル基、クロロフェニル基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロメト
キシフェニル基等)等を表わす。
原子、炭素数1−12の置換されてもよいアルキル基(
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロ
ピル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、
2−エトキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル
基、3−メトキシプロピル基、6−クロロヘキシル基等
)、炭素数5〜8の脂環式基(例えば、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えば、ヘンシル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、1−フェニルプロピル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、ブロモベ
ンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数6〜12の置
換されてもよいアリール基(例えばフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クロロメチル基、クロロフェニル基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロメト
キシフェニル基等)等を表わす。
好ましくはRcoが該炭化水素基を表わす場合は、炭素
数1〜8の炭化水素基類が挙げられる。
数1〜8の炭化水素基類が挙げられる。
式(Xn)で表わされる官能基において、RC。
は炭素数2〜12の置換されてもよい脂肪族基を表わし
、更に具体的にはRclは下記式(XV)で示される基
を表わす。
、更に具体的にはRclは下記式(XV)で示される基
を表わす。
式(XV)
aI
+C→T^す
式(XV)中、aI + 82は各々水素原子、ハロ
ゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子等)又は炭素数1
〜12の置換されてもよい炭化水素基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、メト
キシメチル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル
基、2−クロロエチル基、3−ブロモプロピル基、シク
ロヘキシル基、ヘンシル基、クロロベンジル基、メトキ
シベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、フェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル
基、ジクロロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ナ
フチル基等)を表わし、Ycば、水素原子、ハロゲン原
子(例えば弗素原子、塩素原子等)シアノ基、炭素数1
〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等)、置換基を含有してもよい芳香族基
(例えばフェニル、トリル基、シアノフェニル基、2.
6−シメチルフエニル基、2.4.6−トリメチルフエ
ニル基、ヘプクメチルフェニル基、2,6−シメトキシ
フエニル基、2,4.6−)リメトキシフェニル基、2
−プロピルフェニル基、2−ブチルフェニル基、2−ク
ロロ−6−メチルフェニル基、フラニル基等)又は−3
Oz−RC6(RC6は、ycの炭化水素基と同様の内
容を表わす)等を表わす。nは1又は2を表わす。
ゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子等)又は炭素数1
〜12の置換されてもよい炭化水素基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、メト
キシメチル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル
基、2−クロロエチル基、3−ブロモプロピル基、シク
ロヘキシル基、ヘンシル基、クロロベンジル基、メトキ
シベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、フェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル
基、ジクロロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ナ
フチル基等)を表わし、Ycば、水素原子、ハロゲン原
子(例えば弗素原子、塩素原子等)シアノ基、炭素数1
〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等)、置換基を含有してもよい芳香族基
(例えばフェニル、トリル基、シアノフェニル基、2.
6−シメチルフエニル基、2.4.6−トリメチルフエ
ニル基、ヘプクメチルフェニル基、2,6−シメトキシ
フエニル基、2,4.6−)リメトキシフェニル基、2
−プロピルフェニル基、2−ブチルフェニル基、2−ク
ロロ−6−メチルフェニル基、フラニル基等)又は−3
Oz−RC6(RC6は、ycの炭化水素基と同様の内
容を表わす)等を表わす。nは1又は2を表わす。
より好ましくは、ycが水素原子又はアルキル基の場合
には、ウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素上のa、
及びa2は、水素原子以外の置換基を表わす。
には、ウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素上のa、
及びa2は、水素原子以外の置換基を表わす。
Yoが水素原子又はアルキル基でない場合にはal及び
a2は上記内容のいずれの基でもよい。
a2は上記内容のいずれの基でもよい。
即ち、→−c −+r−y cにおいて、少なくとz
も1つ以上の電子吸引性基を含有する基を形成する場合
あるいはウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素が立体
的にかさ高い基を形成する場合が好ましい例であること
を示すものである。
あるいはウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素が立体
的にかさ高い基を形成する場合が好ましい例であること
を示すものである。
又は具体的に、Rclは脂環式基(例えば単環式炭化水
素基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、1メチル−シクロヘキシル
基、1−メチルシクロブチル基等)又は架橋環式炭化水
素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン基、ビシ
クロノナン基、トリシクロへブタン基等)等)を表わす
。
素基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、1メチル−シクロヘキシル
基、1−メチルシクロブチル基等)又は架橋環式炭化水
素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン基、ビシ
クロノナン基、トリシクロへブタン基等)等)を表わす
。
−数式(XI[)において、RC,及びRC3は同じで
も異なっていてもよく、各々炭素数1〜12の炭化水素
基を表わし、具体的には、式(XIのYCにおける脂肪
族基又は芳香族基と同様の内容を表わす。
も異なっていてもよく、各々炭素数1〜12の炭化水素
基を表わし、具体的には、式(XIのYCにおける脂肪
族基又は芳香族基と同様の内容を表わす。
一般式(XIV)において、XC1及びXC2は同じで
も異なっていてもよく、各々酸素原子又はイオウ原子を
表わす。R’4.R’5は同じでも異なっていてもよく
、各々炭素数1〜8の炭化水素基を表わし、具体的には
式(XII)のycにおける脂肪族基又は芳香族基を表
わす。
も異なっていてもよく、各々酸素原子又はイオウ原子を
表わす。R’4.R’5は同じでも異なっていてもよく
、各々炭素数1〜8の炭化水素基を表わし、具体的には
式(XII)のycにおける脂肪族基又は芳香族基を表
わす。
式(XI[)〜(XIV)の官能基の具体例を以下に示
すが本発明はこれらに限定されるものではない。
すが本発明はこれらに限定されるものではない。
CH3
(79) −NHCOOC−CH3
CH3
Cb H5
NHCO○CCH3
6H5
NHCOOCH2CF3
NHCOOCH2C(13
N COOCH2CH2S O2CH3CH。
CH3
HCOOC
CCI!、3
CH。
し2tiS
CH3
OCR。
N−P−OCH。
I
CH,0
OCH2CH20CH3
NH−P−OCH2CH20CH。
OC,H7
(105) −NH−P−OC,H7本発明に用い
られる分解によりアミノ基(例えば−NH2基及び/又
は−NHR基)を生成する官能基、例えば上記−数式(
Xll)〜(XIV)の群から選択される官能基を少な
くとも1種含有する樹脂は、例えば、日本化掌編、「新
実験化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔■〕
」第2555頁(丸善株式会社刊) 、J、 P、 W
、 McOmie、rProtective gro
ups in Organic Chemist
ry 」 第2章(Plenum Press 1
973年刊)、rProtective groups
in Organic 5inthesis」第7章
(JohnWiley & 5ons、1981刊)等
の総説引例の公知文献記載の方法によって製造すること
ができる。
られる分解によりアミノ基(例えば−NH2基及び/又
は−NHR基)を生成する官能基、例えば上記−数式(
Xll)〜(XIV)の群から選択される官能基を少な
くとも1種含有する樹脂は、例えば、日本化掌編、「新
実験化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔■〕
」第2555頁(丸善株式会社刊) 、J、 P、 W
、 McOmie、rProtective gro
ups in Organic Chemist
ry 」 第2章(Plenum Press 1
973年刊)、rProtective groups
in Organic 5inthesis」第7章
(JohnWiley & 5ons、1981刊)等
の総説引例の公知文献記載の方法によって製造すること
ができる。
重合体中の一般式(XI)〜(XIV)の官能基を任意
に調整し得ること、あるいは、不純物を混入しないこと
等の理由から、予め一般式(XII)〜(XIV)の官
能基を含有する単量体からの重合反応により製造する方
法が好ましい。具体的には、重合性の二重結合を含む1
級又は2級アミノ基を、例えば前記公知文献等に記載さ
れた方法に従って、そのアミノ基を一般式(Xll)〜
(XIV)の官能基に変換した後、重合反応を行ない製
造することができる。
に調整し得ること、あるいは、不純物を混入しないこと
等の理由から、予め一般式(XII)〜(XIV)の官
能基を含有する単量体からの重合反応により製造する方
法が好ましい。具体的には、重合性の二重結合を含む1
級又は2級アミノ基を、例えば前記公知文献等に記載さ
れた方法に従って、そのアミノ基を一般式(Xll)〜
(XIV)の官能基に変換した後、重合反応を行ない製
造することができる。
更に又該分解により少なくとも1つのスルホ基を生成す
る官能基としては、例えば、−数式(X■)又は(X■
)で表わされる官能基が挙げられる。
る官能基としては、例えば、−数式(X■)又は(X■
)で表わされる官能基が挙げられる。
一般式(XVI) −3Q2−0−R”。
−数式(XVIII) −3Q2−3−R11□D3
式(XVI)中RD、は→C摩YD
R”4
又は−NHCORD、を表わす。
式(X■)中、Ro。は、炭素数1〜18の置換n
されでもよい脂肪族基、又は炭素数6〜22の置換基を
有してもよいアリール基を表わす。
有してもよいアリール基を表わす。
上記−数式(XVI)、(X■)の官能基は、分解によ
って、スルホ基を生成するものであり、以下に更に詳し
く説明する。
って、スルホ基を生成するものであり、以下に更に詳し
く説明する。
RD3
RD、が −+C)−r−Y”を表わす場合において、
RD4 RD3、RD4は同じでも異なってもよく水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子等)
又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
)を表わす。Yは炭素数1〜18の置換されてもよいア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、トリフロロメチル基
、メタンスルホニルメチル基、シアノメチル基、2メト
キシエチル基、エトキシメチル基、クロロメチル基、ジ
クロロメチル基、トリクロロメチル基、2−メトキシカ
ルボニルエチル基、2−プロポキシカルボニルエチル基
、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基等)、炭素
数2〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えばビ
ニル基、アリル基等)、炭素数6〜12の置換基を含有
してもよいアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、シアノフ
ェニル基、トリフロロメチルフェニル基、メトキシカル
ボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、メ
タンスルホニルメチル基、ヘンゼンスルホニルフェニル
基、トリル基、キシリル基、アセトキシフェニル基、ニ
トロナフチル基等) 、又は−C−RDs (R”l
lは、脂肪族基又は芳香族基を表わし、具体的にはYD
で記した該置換基の内容と同一のものを表わす)を表わ
す。
RD4 RD3、RD4は同じでも異なってもよく水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子等)
又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
)を表わす。Yは炭素数1〜18の置換されてもよいア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、トリフロロメチル基
、メタンスルホニルメチル基、シアノメチル基、2メト
キシエチル基、エトキシメチル基、クロロメチル基、ジ
クロロメチル基、トリクロロメチル基、2−メトキシカ
ルボニルエチル基、2−プロポキシカルボニルエチル基
、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基等)、炭素
数2〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えばビ
ニル基、アリル基等)、炭素数6〜12の置換基を含有
してもよいアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、シアノフ
ェニル基、トリフロロメチルフェニル基、メトキシカル
ボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、メ
タンスルホニルメチル基、ヘンゼンスルホニルフェニル
基、トリル基、キシリル基、アセトキシフェニル基、ニ
トロナフチル基等) 、又は−C−RDs (R”l
lは、脂肪族基又は芳香族基を表わし、具体的にはYD
で記した該置換基の内容と同一のものを表わす)を表わ
す。
nは0.1又は2を表わす。より好ましくは、RD3
置換基: −←c +y Dにおいて、少なくとも1つ
RD。
RD。
の電子吸引性基を含有する官能基が挙げられる。
具体的には、nが0で、YDが置換基としして電子吸引
性基を含有しない炭化水素基の場合、RD4 ゲン原子を含有する。又nが0.1又は2で、Yoが電
子吸引性基を少なくとも1つ含有する。更にR”3 等が挙げられる。該電子吸引性基とは、ハメットの置換
基定数が正値を示す置換基であり、例えば、ハロゲン原
子、−coo−−c−−5o2CN、−No□等が挙げ
られる。
性基を含有しない炭化水素基の場合、RD4 ゲン原子を含有する。又nが0.1又は2で、Yoが電
子吸引性基を少なくとも1つ含有する。更にR”3 等が挙げられる。該電子吸引性基とは、ハメットの置換
基定数が正値を示す置換基であり、例えば、ハロゲン原
子、−coo−−c−−5o2CN、−No□等が挙げ
られる。
もう1つの好ましい置換基として、−SO。
0−Rl1+において酸素原子に隣接する炭素原子に少
なくとも2つの炭化水素基が置換するかあるいは、n=
o又は1で、YDがアリール基の場合に、アリール基の
2−位及び6 場合が挙げられる。
なくとも2つの炭化水素基が置換するかあるいは、n=
o又は1で、YDがアリール基の場合に、アリール基の
2−位及び6 場合が挙げられる。
位に置換基を有する
場合において、ZDは、環状イミド基を形成する有機残
基を表わす。好ましくは、−数式(X■)又は(XIX
)で示される有機残基を表わす。
基を表わす。好ましくは、−数式(X■)又は(XIX
)で示される有機残基を表わす。
−数式(X■)
一般式(XIX)
式(X■)中、R’9、RD、。は各々同じでも異なっ
てもよく、各々、水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)、炭素数1〜18の置換されてもよ
いアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
ジテル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロ
ロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアンエチル
基、3−クロロプロピル基、2−(メタンスルホニル)
エチル基、2−(エトキシオキシ)エチル基、等)炭素
数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例エバ、
ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、
メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、メトキシベン
ジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、炭
素数3〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば
アリル基、3−メチル−2−プロペニル基)、 いて、RD5、RD6は各々水素原子、脂肪族基(具体
的には、R”3 、R”4のそれは同一の内容を表わす
)又はアリール基(具体的にはRn3RD4のそれと同
一の内容を表わす)を表わす。
てもよく、各々、水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)、炭素数1〜18の置換されてもよ
いアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
ジテル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロ
ロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアンエチル
基、3−クロロプロピル基、2−(メタンスルホニル)
エチル基、2−(エトキシオキシ)エチル基、等)炭素
数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例エバ、
ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、
メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、メトキシベン
ジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、炭
素数3〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば
アリル基、3−メチル−2−プロペニル基)、 いて、RD5、RD6は各々水素原子、脂肪族基(具体
的には、R”3 、R”4のそれは同一の内容を表わす
)又はアリール基(具体的にはRn3RD4のそれと同
一の内容を表わす)を表わす。
但しRDS及びRD6がともに水素原子を表わすことは
ない。
ない。
R”lが−NHCORD、を表わす場合において、Rn
、は脂肪族基又はアリール基を表わし、具体的には、R
D3、RI′4のそれは同一の内容を各々表わす。
、は脂肪族基又はアリール基を表わし、具体的には、R
D3、RI′4のそれは同一の内容を各々表わす。
式(X■)中、Rn2は、炭素数1〜18の置換されて
もよい脂肪族基又は炭素数6〜22の置換基を有しても
よいアリール基を表わす。
もよい脂肪族基又は炭素数6〜22の置換基を有しても
よいアリール基を表わす。
更に具体的には前記した式(XVI)で表わされるYD
における脂肪族基又はアリール基と同様の内容を表わす
。
における脂肪族基又はアリール基と同様の内容を表わす
。
本発明に用いられる、−数式(−SO□−OR”+ ]
又ハC3020Rn2 )群から選択される官能基を
少なくとも1種含有する樹脂は、重合体に含有されるス
ルホ基を、高分子反応によって一般式(XVI)又は(
X■)の官能基に変換する方法、又は、−数式(XVI
)又は(X■)の官能基を1種又はそれ以上含有する、
1種又はそれ以上の単量体又は該単量体及びこれと共重
合し得る他の単量体の重合反応により重合する方法によ
り製造される。
又ハC3020Rn2 )群から選択される官能基を
少なくとも1種含有する樹脂は、重合体に含有されるス
ルホ基を、高分子反応によって一般式(XVI)又は(
X■)の官能基に変換する方法、又は、−数式(XVI
)又は(X■)の官能基を1種又はそれ以上含有する、
1種又はそれ以上の単量体又は該単量体及びこれと共重
合し得る他の単量体の重合反応により重合する方法によ
り製造される。
高分子反応によって該官能基に変換する方法は、高分子
反応においても、単量体における合成方法と同様にして
行なうことができる。
反応においても、単量体における合成方法と同様にして
行なうことができる。
更に具体的に一般式(XVI)−3Q2−0−RD。
又は−数式(X■)−SO2−○−RD、の官能基とし
て以下の様な例を挙げることができるが、本発明の範囲
はこれらに限定されるものではない。
て以下の様な例を挙げることができるが、本発明の範囲
はこれらに限定されるものではない。
(10B)
3020 CH2CF 3
S020CH2(CHF)2C82F
SO7OCH2CCj23
SO□0(CH2)2S○2 C4HqIJシfi3
b ’/
SO2S C4H7
SO□SC,H,3
SO□5(CH2)20C2H5
SO20CH2CHFCH2F
前記した如く、重合反応で所望の樹脂を製造する方法に
おいて用いられる一般式(I)〜(■)、(X)〜(X
rV)、(XVI)及び(X■)の官能基を含有する共
重合体成分について更に具体的に述べると、例えば下記
−数式(A)の如き成分が挙げられる。但しこれらの共
重合体成分例に限定されるものではない。
おいて用いられる一般式(I)〜(■)、(X)〜(X
rV)、(XVI)及び(X■)の官能基を含有する共
重合体成分について更に具体的に述べると、例えば下記
−数式(A)の如き成分が挙げられる。但しこれらの共
重合体成分例に限定されるものではない。
一般式(A)
a、aZ
+CH−C÷
x’ −y’ −w
式(A)中、Y′は、−O−、−CO
Q、 Q2
COC)−−0CO−−NCO−−CON=Q3
Q4 SO□−−8O□N 、 NSO2、CH2b。
Q4 SO□−−8O□N 、 NSO2、CH2b。
鴫
Coo−、−CH20CO−、−K)T−、芳香族基、
嘗 又はへテロ環基を示す〔但し、Q、、Q、、Q。
嘗 又はへテロ環基を示す〔但し、Q、、Q、、Q。
Q4は、各々水素原子、炭化水素基、又は式(VI)中
の +Y’−W)を表わし、b+、bzは同じでも異な
っていてもよく、水素原子、炭化水素基又は式(VI)
中の −(−Y’−W)を表わし、nは0〜18の整数
を示す〕。
の +Y’−W)を表わし、b+、bzは同じでも異な
っていてもよく、水素原子、炭化水素基又は式(VI)
中の −(−Y’−W)を表わし、nは0〜18の整数
を示す〕。
Y′は、結合基X′と結合基(W)を連結する、ヘテロ
原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わしくヘテ
ロ原子としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を示
す)、 b。
原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わしくヘテ
ロ原子としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を示
す)、 b。
−(−CH= CH升、−0−、−3−、−NCoo−
、−CONH−、−3o□−、−5O2NH−、−NH
COO−、−NHCONH−、等の結合単位の単独又は
組合せの構成より成るものである(但しb3.ba、b
5は、各々前記bI。
、−CONH−、−3o□−、−5O2NH−、−NH
COO−、−NHCONH−、等の結合単位の単独又は
組合せの構成より成るものである(但しb3.ba、b
5は、各々前記bI。
b2と同義である。)
Wは式(I)〜(■)、 (X)〜(XIV)、(XV
I)又は(X■)で表わされる官能基を表わす。
I)又は(X■)で表わされる官能基を表わす。
al+82は同じでも異なっていてもよく、水素原子、
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ
基、炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基、ヘキシルオキシカルボニル基、メトキシカルボニ
ルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカ
ルボニルメチル基、等の置換されてもよい炭素数1〜1
2のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラル
キル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフ
ェニル基等のアリール等)、又は式(A)中の−W基を
含む置換基で置換されていてもよい、炭素数1〜18の
アルキル基、アキル基、アルケニル基、アラルキル基、
脂環式基、芳香族基を示す)を表わす。
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ
基、炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基、ヘキシルオキシカルボニル基、メトキシカルボニ
ルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカ
ルボニルメチル基、等の置換されてもよい炭素数1〜1
2のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラル
キル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフ
ェニル基等のアリール等)、又は式(A)中の−W基を
含む置換基で置換されていてもよい、炭素数1〜18の
アルキル基、アキル基、アルケニル基、アラルキル基、
脂環式基、芳香族基を示す)を表わす。
又、式(A)中のC−X’ −Y’ )結合残基ば←C
升部と−W部を直接連結させてもよい。
升部と−W部を直接連結させてもよい。
又、本発明の樹脂と架橋剤との架橋効果を高めるために
、本発明の樹脂の共重合体成分としてOH基、−3H基
、−NHR基(Rは、炭素数1〜8のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等)又はアリール基(例えば、フェニル基、トリル
基、メトキシフェニル基、ブチルフェニル基等)等を表
わす)等の解離性水素原子を少なくとも1種有する置換
基を含有する成分又は、エポキシ基、チオエポキシ基等
を含有する成分を存在させてもよい。これらの極性基を
含有する共重合体成分の存在割合は、好ましくは本発明
の樹脂中の1〜20重量%であり、より好ましくは3〜
10重量%である。
、本発明の樹脂の共重合体成分としてOH基、−3H基
、−NHR基(Rは、炭素数1〜8のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等)又はアリール基(例えば、フェニル基、トリル
基、メトキシフェニル基、ブチルフェニル基等)等を表
わす)等の解離性水素原子を少なくとも1種有する置換
基を含有する成分又は、エポキシ基、チオエポキシ基等
を含有する成分を存在させてもよい。これらの極性基を
含有する共重合体成分の存在割合は、好ましくは本発明
の樹脂中の1〜20重量%であり、より好ましくは3〜
10重量%である。
該極性基を含有する共重合体成分は、例えば、−数式(
A)と共重合し得る、該極性基を含有するビニル系化合
物であればいずれでもよい。具体的には、前記した一般
式(A)に記載したと同様の化合物の置換基中に含有す
る誘導体等が挙げられる。
A)と共重合し得る、該極性基を含有するビニル系化合
物であればいずれでもよい。具体的には、前記した一般
式(A)に記載したと同様の化合物の置換基中に含有す
る誘導体等が挙げられる。
更に、本発明の樹脂は、前記した一般式(I)〜(■)
、(X)〜(XIV)、(XVI)及び/又は(X■)
を含有する単量体及び任意の上記極性基を含有する単量
体とともに、これら以外の他の単量体を共重合成分とし
て含有してもよい。
、(X)〜(XIV)、(XVI)及び/又は(X■)
を含有する単量体及び任意の上記極性基を含有する単量
体とともに、これら以外の他の単量体を共重合成分とし
て含有してもよい。
例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又はアリ
ルエステル類、アクリロニトリル、メタクリルニトリル
、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリルア
ミド類、スチレン類、複素環ビニル類(例えばビニルピ
ロリトン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニ
ルチオフェン、ビニルイミダシリン、ビニルピラゾール
、ビニルジオキサン、ビニルキリン、ビニルチアゾール
、ビニル−オキサジン等)等が挙げられる。特に酢酸ビ
ニル、酢酸アリル、アクリロニトリル、メタクリルニト
リル、スチレン類等は、膜強度向上の点から好ましい成
分である。
ルエステル類、アクリロニトリル、メタクリルニトリル
、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリルア
ミド類、スチレン類、複素環ビニル類(例えばビニルピ
ロリトン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニ
ルチオフェン、ビニルイミダシリン、ビニルピラゾール
、ビニルジオキサン、ビニルキリン、ビニルチアゾール
、ビニル−オキサジン等)等が挙げられる。特に酢酸ビ
ニル、酢酸アリル、アクリロニトリル、メタクリルニト
リル、スチレン類等は、膜強度向上の点から好ましい成
分である。
本発明において、用いられる架橋剤としては、通常架橋
剤として用いられる化合物を使用することができる。具
体的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック
J大成社刊(1981年)高分子学会編「高分子データ
ハンドブック「基礎編」培風館(1986年)等に記載
されている化合物を用いることができる。
剤として用いられる化合物を使用することができる。具
体的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック
J大成社刊(1981年)高分子学会編「高分子データ
ハンドブック「基礎編」培風館(1986年)等に記載
されている化合物を用いることができる。
例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリブトキシシラン、γ−グリシド
キシプロビルトリメトキシシラン、T−メルカプトプロ
ピルトリエトキシシラン、γアミノプロピルトリエトキ
シシラン、等のシランカップリング剤等)、ポリイソシ
アナート系化合物(例えば、トルイレンジイソシアナー
ト、Oトルイレンジイソシアナート、ジフェニルメタン
ジイソシアナー1−、トリフェニルメタントリイソシア
ナート、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、ヘ
キサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシア
ナート、高分子ポリイソシアナート等)、ポリオール系
化合物(例えば1.4ブタンジオール、ポリオキシプロ
ピレングリコル、ポリオキシアルキレングリコール、1
,1゜1−トリメチロールプロパン等)、ポリアミン系
化合物(例えば、エチレンジアミン、γ−ヒドロキシプ
ロピル化エチレンジアミン、フェニレンジアミンへキサ
メチレンジアミン、N−アミノエチルピペラジン、変性
脂肪族ポリアミン類等)ポリエポキシ基含有化合物及び
エポキシ樹脂(例えば垣内弘編著[新エポキシ樹脂、昭
晃堂(1985年刊)、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」
日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載された化合物
類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一部、松永英夫編著
「エリア・メラミン樹脂」日刊工業新聞社(1969年
刊)、等に記載された化合物類)、ポリ(メタ)アクリ
レート系化合物(例えば大河原信、三枝武夫、東村敏延
線「オリゴマー」講談社(1976年刊)、大森英三「
機能性アクリル系樹脂」テクノシステム(1985年刊
)等に記載された化合物類が挙げられ具体的には、ポリ
エチレングリコールジアクリラート、ネオペンチルグリ
コールシアクリラード、16〜ヘキサンジオールシアク
リラード、トリメチロールプロパントリアクリラ−1−
、ペンタエリスリトールポリアクリラート、ビスフェノ
ールA−ジグリシジルエーテルジアクリラート、オリゴ
エステルアクリラート:これらのメタクリラート体等が
ある)。
キシシラン、ビニルトリブトキシシラン、γ−グリシド
キシプロビルトリメトキシシラン、T−メルカプトプロ
ピルトリエトキシシラン、γアミノプロピルトリエトキ
シシラン、等のシランカップリング剤等)、ポリイソシ
アナート系化合物(例えば、トルイレンジイソシアナー
ト、Oトルイレンジイソシアナート、ジフェニルメタン
ジイソシアナー1−、トリフェニルメタントリイソシア
ナート、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、ヘ
キサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシア
ナート、高分子ポリイソシアナート等)、ポリオール系
化合物(例えば1.4ブタンジオール、ポリオキシプロ
ピレングリコル、ポリオキシアルキレングリコール、1
,1゜1−トリメチロールプロパン等)、ポリアミン系
化合物(例えば、エチレンジアミン、γ−ヒドロキシプ
ロピル化エチレンジアミン、フェニレンジアミンへキサ
メチレンジアミン、N−アミノエチルピペラジン、変性
脂肪族ポリアミン類等)ポリエポキシ基含有化合物及び
エポキシ樹脂(例えば垣内弘編著[新エポキシ樹脂、昭
晃堂(1985年刊)、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」
日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載された化合物
類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一部、松永英夫編著
「エリア・メラミン樹脂」日刊工業新聞社(1969年
刊)、等に記載された化合物類)、ポリ(メタ)アクリ
レート系化合物(例えば大河原信、三枝武夫、東村敏延
線「オリゴマー」講談社(1976年刊)、大森英三「
機能性アクリル系樹脂」テクノシステム(1985年刊
)等に記載された化合物類が挙げられ具体的には、ポリ
エチレングリコールジアクリラート、ネオペンチルグリ
コールシアクリラード、16〜ヘキサンジオールシアク
リラード、トリメチロールプロパントリアクリラ−1−
、ペンタエリスリトールポリアクリラート、ビスフェノ
ールA−ジグリシジルエーテルジアクリラート、オリゴ
エステルアクリラート:これらのメタクリラート体等が
ある)。
本発明の結着樹脂は、感光層形成物を塗布した後、架橋
される。架橋を行なうためには、例えば、乾燥条件を高
温度及び/又は長時間とするか又は塗布溶剤の乾燥後、
更に加熱処理することが好ましい。例えば、60°C〜
120°Cで5〜120分間処理する。上述の反応促進
剤を併用すると、より穏やかな条件で処理することがで
きる。
される。架橋を行なうためには、例えば、乾燥条件を高
温度及び/又は長時間とするか又は塗布溶剤の乾燥後、
更に加熱処理することが好ましい。例えば、60°C〜
120°Cで5〜120分間処理する。上述の反応促進
剤を併用すると、より穏やかな条件で処理することがで
きる。
又、架橋は少なくとも本発明の樹脂同志で行なわれるべ
きであるが、他の樹脂との間になされていてもよい。
きであるが、他の樹脂との間になされていてもよい。
本発明のヒドロキシル基生成官能基が分解によりヒドロ
キシル基を生成したときに酸性及びアルカリ性の水溶液
に対して難溶もしくは不溶性である樹脂となることが好
ましい。
キシル基を生成したときに酸性及びアルカリ性の水溶液
に対して難溶もしくは不溶性である樹脂となることが好
ましい。
樹脂中における架橋剤の存在量は、0.1〜30重量%
、特に0. 5〜20重量%が好ましい。
、特に0. 5〜20重量%が好ましい。
本発明に供される樹脂とともに従来公知の樹脂も併用す
ることができる。例えば、前記した如きシリコーン樹脂
、アルキッド樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂
、スチレン−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげら
れ、具体的には、栗田隆治・石渡次部、高分子、第17
巻、第278頁(1968年)、宮本晴視、武井秀彦、
イメージング、 L 973 (No、8)第9頁等
の総説引例の公知材料等が挙げられる。
ることができる。例えば、前記した如きシリコーン樹脂
、アルキッド樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂
、スチレン−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげら
れ、具体的には、栗田隆治・石渡次部、高分子、第17
巻、第278頁(1968年)、宮本晴視、武井秀彦、
イメージング、 L 973 (No、8)第9頁等
の総説引例の公知材料等が挙げられる。
本発明の平版印刷用原版は、光導電性亜鉛100重量部
に対して上記した結着用樹脂を10〜60重量部なる割
合、好ましくは15〜40重量部なる割合で使用する。
に対して上記した結着用樹脂を10〜60重量部なる割
合、好ましくは15〜40重量部なる割合で使用する。
チオール基、ホスホ基などの親水性基自身をはじめから
含有する樹脂を用いた場合には、酸化亜鉛と結着用樹脂
との分散物の粘度が高くなり、塗布しても光導電層の平
滑性が著しく悪化し、膜強度が十分でなかったり、又電
子写真特性も満足できないものであったりした。又平滑
性が充分な原版を作製できても印刷時の汚れの発生を生
じた。
含有する樹脂を用いた場合には、酸化亜鉛と結着用樹脂
との分散物の粘度が高くなり、塗布しても光導電層の平
滑性が著しく悪化し、膜強度が十分でなかったり、又電
子写真特性も満足できないものであったりした。又平滑
性が充分な原版を作製できても印刷時の汚れの発生を生
じた。
更には、樹脂中の親水性基を調整して、複写画像の画質
及び印刷物の画質が良好な原版を作製した場合でも、複
写画像の作成(製版処理)時にその環境が低温低湿ある
いは高温高温となった場合(特に高温高温において)に
は、複写画像の画質が、地力ブリの発生あるいは画像部
の濃度低下や細線・文字の飛びの発生等で悪化した。
及び印刷物の画質が良好な原版を作製した場合でも、複
写画像の作成(製版処理)時にその環境が低温低湿ある
いは高温高温となった場合(特に高温高温において)に
は、複写画像の画質が、地力ブリの発生あるいは画像部
の濃度低下や細線・文字の飛びの発生等で悪化した。
これらの事は、結着樹脂中の親水性基と光導電性酸化亜
鉛粒子表面との相互作用が強いため、粒子表面の樹脂吸
着量が増大し、結果として、不感脂化液あるいは湿し水
とのなじみ易さが損なわれてしまうか、あるいは、結着
樹脂中の親水性基を酸化亜鉛粒子に対して適切に調整で
きた場合でも、樹脂中の親水性基と酸化亜鉛粒子界面の
親水性の雰囲気が低温・低湿あるいは高温・高湿にさら
されると大きく変化するため、帯電後の表面電位・暗減
衰等の電子写真特性が悪化してしまうものと推定される
。
鉛粒子表面との相互作用が強いため、粒子表面の樹脂吸
着量が増大し、結果として、不感脂化液あるいは湿し水
とのなじみ易さが損なわれてしまうか、あるいは、結着
樹脂中の親水性基を酸化亜鉛粒子に対して適切に調整で
きた場合でも、樹脂中の親水性基と酸化亜鉛粒子界面の
親水性の雰囲気が低温・低湿あるいは高温・高湿にさら
されると大きく変化するため、帯電後の表面電位・暗減
衰等の電子写真特性が悪化してしまうものと推定される
。
本発明に供される樹脂と公知の樹脂とは任意の割合で混
合することができるが、全樹脂量中の親水性基生成官能
基含有樹脂の含有量が1〜90重量%重量音程されてい
ることが適当である。全樹脂量中の含有量が1重量%よ
り少ないと、得られた平版印刷用原版は、不感脂化液・
湿し水による不感脂化処理により生ずる親水性が充分で
なく、印刷時の汚れが発生する。
合することができるが、全樹脂量中の親水性基生成官能
基含有樹脂の含有量が1〜90重量%重量音程されてい
ることが適当である。全樹脂量中の含有量が1重量%よ
り少ないと、得られた平版印刷用原版は、不感脂化液・
湿し水による不感脂化処理により生ずる親水性が充分で
なく、印刷時の汚れが発生する。
一方、90重量%より多いと、複写時の画像形成性が良
くない。
くない。
本発明による親水性基生成の官能基を少なくとも1種含
有する樹脂は、不感脂化液あるいは印刷時用いる温し水
により加水分解あるいは加水素分解されてチオールなど
の親水性基を生成する樹脂である。
有する樹脂は、不感脂化液あるいは印刷時用いる温し水
により加水分解あるいは加水素分解されてチオールなど
の親水性基を生成する樹脂である。
従って、該樹脂を平版印刷用原版の結着樹脂として用い
ると、不感脂化液により親水化される非画像部の親水性
が、樹脂中に生成される上記親水性基によって、より一
層高められる為、画像部の親油性と非画像部の親水性が
明確となり、印刷時に非画像部に印刷インキが付着する
のを防止するものである。その結果として地汚れのない
鮮明な画質の印刷物を従来の樹脂を用いた平版原版より
も多数枚印刷することが可能となる。
ると、不感脂化液により親水化される非画像部の親水性
が、樹脂中に生成される上記親水性基によって、より一
層高められる為、画像部の親油性と非画像部の親水性が
明確となり、印刷時に非画像部に印刷インキが付着する
のを防止するものである。その結果として地汚れのない
鮮明な画質の印刷物を従来の樹脂を用いた平版原版より
も多数枚印刷することが可能となる。
更に、本発明の樹脂は、架橋反応を起こす架橋剤を含有
しており、光導電層を形成する過程あるいは、エツチン
グ処理前の加熱及び/又は光照射の過程で、架橋反応が
起こり、高分子間で橋架けが形成されるものである。エ
ツチング処理及び印刷機上で印刷中の湿し水により、分
解して生成したチオール基等を含有する樹脂では親水性
となり、その含有量が多い場合には水溶性となる。
しており、光導電層を形成する過程あるいは、エツチン
グ処理前の加熱及び/又は光照射の過程で、架橋反応が
起こり、高分子間で橋架けが形成されるものである。エ
ツチング処理及び印刷機上で印刷中の湿し水により、分
解して生成したチオール基等を含有する樹脂では親水性
となり、その含有量が多い場合には水溶性となる。
しかし、本発明の樹脂は、架橋の構造を形成しているこ
とにより親水性を保持したまま水への溶解性が著しく低
下し難溶性もしくは不溶性となる。
とにより親水性を保持したまま水への溶解性が著しく低
下し難溶性もしくは不溶性となる。
従って、非画像部の親水性が樹脂中に生成されるチオー
ル基等によって、より一層高められる効果が向上し且つ
持続性が向上することとなった。
ル基等によって、より一層高められる効果が向上し且つ
持続性が向上することとなった。
より具体的な効果で言うならば、全結着樹脂中に含有さ
せる該官能基含有樹脂を減量しても、親水性向上の効果
が変わらず維持できること、あるいは、印刷機の大型化
あるいは印圧の変動等印刷条件が厳しくなった場合でも
地汚れのない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷すること
が可能となる。
せる該官能基含有樹脂を減量しても、親水性向上の効果
が変わらず維持できること、あるいは、印刷機の大型化
あるいは印圧の変動等印刷条件が厳しくなった場合でも
地汚れのない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷すること
が可能となる。
本発明では、必要に応して各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる。例えば、宮木晴視、武井秀彦
、イメージング1973 (No、8)第12頁、 C
,J、Young等、 RCA Revieiyl 5
.469 (1954L清田航平等、電気通信学会論文
誌J 63−C(No、2)、 97 (1980)
原埼勇次等、工業化学雑誌立旦 78 及び188(1
963L谷忠昭、日本写真学会誌Jl、208 (19
72)等の総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニル
メタン色素、トリフェニルメタン色素、キサンチン系色
素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例えば、オキ
ソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、ロダ
シアニン色素、スチリル色素等)、フタロシアニン色素
(金属含有してもよい)等が挙げられる。
て併用することができる。例えば、宮木晴視、武井秀彦
、イメージング1973 (No、8)第12頁、 C
,J、Young等、 RCA Revieiyl 5
.469 (1954L清田航平等、電気通信学会論文
誌J 63−C(No、2)、 97 (1980)
原埼勇次等、工業化学雑誌立旦 78 及び188(1
963L谷忠昭、日本写真学会誌Jl、208 (19
72)等の総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニル
メタン色素、トリフェニルメタン色素、キサンチン系色
素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例えば、オキ
ソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、ロダ
シアニン色素、スチリル色素等)、フタロシアニン色素
(金属含有してもよい)等が挙げられる。
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開昭
50−90334号、特開昭50−114227号、特
開昭53−39130号、特開昭53−82353号、
米国特許第3゜052.540号、米国特許第4,05
4,450号、特開昭57−16456号等に記載のも
のが挙げられる。
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開昭
50−90334号、特開昭50−114227号、特
開昭53−39130号、特開昭53−82353号、
米国特許第3゜052.540号、米国特許第4,05
4,450号、特開昭57−16456号等に記載のも
のが挙げられる。
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、
M、 Harmmer r↑he Cyanine
Dyes andRelated Compounds
」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許第3,047.384号、米国特許第3,
110,591号、米国特許第3,121,008号、
米国特許第3゜125.447号、米国特許第3,12
8,179号、米国特許第3,132,942号、米国
特許第3,622,317号、英国特許箱1,226.
892号、英国特許箱1,309,274号、英国特許
箱1’、405,898号、特公昭487814号、特
公昭55−18892号等に記載の色素が挙げられる。
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、
M、 Harmmer r↑he Cyanine
Dyes andRelated Compounds
」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許第3,047.384号、米国特許第3,
110,591号、米国特許第3,121,008号、
米国特許第3゜125.447号、米国特許第3,12
8,179号、米国特許第3,132,942号、米国
特許第3,622,317号、英国特許箱1,226.
892号、英国特許箱1,309,274号、英国特許
箱1’、405,898号、特公昭487814号、特
公昭55−18892号等に記載の色素が挙げられる。
更に、700 nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を
分光増感するポリメチン色素として、特開昭47−84
0号、特開昭4’?−44180号、特公昭51−41
061号、特開昭49−5034号、特開昭49−45
122号、特開昭5746245号、特開昭56−35
141号、特開昭57−157254号、特開昭61−
26044号、特開昭61−27551号、米国特許第
3619.154号、米国特許第4,175,956号
、rResearch Disclosure Jl
9 B 2年、216、第117〜118頁等に記載の
ものが挙げられる。本発明の感光体は種々の増感色素を
併用させても、その性能が増感色素により変動しにくい
点において優れている。更には、必要に応じて、化学増
感剤等の従来知られている電子写真感光層用各種添加剤
を併用することもできる。例えば、前記した総説:イメ
ージング1973 (No、8)第12頁等の総説引例
の電子受容性化合物(例えばハロゲン、ベンゾキノン、
クロラニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等
、「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第4章
〜第6章:日本科学情報(株)出版部(1986年)の
総説引例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダードフ
ェノール化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙
げられる。
分光増感するポリメチン色素として、特開昭47−84
0号、特開昭4’?−44180号、特公昭51−41
061号、特開昭49−5034号、特開昭49−45
122号、特開昭5746245号、特開昭56−35
141号、特開昭57−157254号、特開昭61−
26044号、特開昭61−27551号、米国特許第
3619.154号、米国特許第4,175,956号
、rResearch Disclosure Jl
9 B 2年、216、第117〜118頁等に記載の
ものが挙げられる。本発明の感光体は種々の増感色素を
併用させても、その性能が増感色素により変動しにくい
点において優れている。更には、必要に応じて、化学増
感剤等の従来知られている電子写真感光層用各種添加剤
を併用することもできる。例えば、前記した総説:イメ
ージング1973 (No、8)第12頁等の総説引例
の電子受容性化合物(例えばハロゲン、ベンゾキノン、
クロラニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等
、「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第4章
〜第6章:日本科学情報(株)出版部(1986年)の
総説引例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダードフ
ェノール化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙
げられる。
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対して0゜0001〜2.
0重量部である。
通常光導電体100重量部に対して0゜0001〜2.
0重量部である。
光導電層の厚さは1〜100μ、特には10〜50μが
好適である。
好適である。
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの1.II等を蒸着した基体導電化プラスチ
ックを紙にラミネートしたもの等、が使用できる。
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの1.II等を蒸着した基体導電化プラスチ
ックを紙にラミネートしたもの等、が使用できる。
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、 14. (No、1)。
坂本幸男、電子写真、 14. (No、1)。
p2〜11 (1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の
化学」高分子刊行会(1975L M、F。
化学」高分子刊行会(1975L M、F。
Hoover、 J、Macromol、 Sci、
Chem 、 A−4(6) +第1327〜1417
頁(1970)等に記載されているもの等を用いる。
Chem 、 A−4(6) +第1327〜1417
頁(1970)等に記載されているもの等を用いる。
(実施例)
以下に本発明を実施例により例証する。
実施例1及び比較例A−C
ベンジルメタクリレ−)48g、2−ヒドロキシエチル
メタクリレート12g2本発明の共重合体成分に相当す
る下記の単量体(i〕40g及びトルエン300gの混
合溶液を窒素気流下、75°Cの温度に加温した後、2
.2′−アゾビスイソブチロニトリル(A、 1.
B、 N) 1. Ogを加え8時間反応した。
メタクリレート12g2本発明の共重合体成分に相当す
る下記の単量体(i〕40g及びトルエン300gの混
合溶液を窒素気流下、75°Cの温度に加温した後、2
.2′−アゾビスイソブチロニトリル(A、 1.
B、 N) 1. Ogを加え8時間反応した。
CH。
CH,=C
Coo(CH,)。
単量体(i)
SOzOCHtCHCj!z
得られた共重合体〔1〕の重量平均分子量(MW)は4
0,000であった。
0,000であった。
続いて、この固形分量としてこの共重合物12g及び〔
ブチルメタクリレート/アクリル酸(99/1)重量比
〕共重合体(重量平均分子量45000)28g、酸化
亜鉛200g、ローズベンガル0.05g、無水フタル
酸0.01g及びトルエン300gの混合物を、ボール
ミル中で1.5時間分散した。次に、この分散物にヘキ
サメチレンジイソシアナート6gを添加し、更に10分
間ボールミル中で分散して感光層形成物を調製し、これ
を導電処理した紙に乾燥付着量が25g/n(となるよ
うにワイヤーバーで塗布し、100°Cで90分間乾燥
し、ついで暗所で20°C165%RHの条件下で24
時間放置することにより、電子写真感光材料を作製した
。
ブチルメタクリレート/アクリル酸(99/1)重量比
〕共重合体(重量平均分子量45000)28g、酸化
亜鉛200g、ローズベンガル0.05g、無水フタル
酸0.01g及びトルエン300gの混合物を、ボール
ミル中で1.5時間分散した。次に、この分散物にヘキ
サメチレンジイソシアナート6gを添加し、更に10分
間ボールミル中で分散して感光層形成物を調製し、これ
を導電処理した紙に乾燥付着量が25g/n(となるよ
うにワイヤーバーで塗布し、100°Cで90分間乾燥
し、ついで暗所で20°C165%RHの条件下で24
時間放置することにより、電子写真感光材料を作製した
。
上記製造例において、感光層形成物を以下の共重合体に
代えて、比較用の感光材料A、B、Cの3種を作製した
。
代えて、比較用の感光材料A、B、Cの3種を作製した
。
比較用感光材料A;
ベンジルメタクリレート60g、化合物例(2)の化合
物40g及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下
70°Cの温度に加温した後、2.2′アゾビスイソブ
チロニトリル1.0gを加え8時間反応した。得られた
共重合体〔2〕の重量平均分子量は45,000であっ
た。
物40g及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下
70°Cの温度に加温した後、2.2′アゾビスイソブ
チロニトリル1.0gを加え8時間反応した。得られた
共重合体〔2〕の重量平均分子量は45,000であっ
た。
続いて、この固形分量としてこの共重合物〔2〕12g
及び〔プチルメククリレート/アクリル酸(99/1)
重量比〕共重合体(重量平均分子量45000)28g
、酸化亜鉛200 g、ローズベンガル0.05g、無
水フタル酸0.01g及びトルエン300gの混合物を
、ボールミル中で2時間分散して感光層形成物を調製し
、これを導電処理した紙に乾燥付着量が25g/n(と
なるようにワイヤーバーで塗布し、110°Cで1分間
乾燥し、ついで暗所で20°C165%RHの条件下で
24時間放置することにより、電子写真感光材料を作製
した。
及び〔プチルメククリレート/アクリル酸(99/1)
重量比〕共重合体(重量平均分子量45000)28g
、酸化亜鉛200 g、ローズベンガル0.05g、無
水フタル酸0.01g及びトルエン300gの混合物を
、ボールミル中で2時間分散して感光層形成物を調製し
、これを導電処理した紙に乾燥付着量が25g/n(と
なるようにワイヤーバーで塗布し、110°Cで1分間
乾燥し、ついで暗所で20°C165%RHの条件下で
24時間放置することにより、電子写真感光材料を作製
した。
比較用感光材料B;
ベンジルメタクリレート85g、2−ヒドロキシエチル
メタクリレート15g及びトルエン200gの混合溶液
とした他は比較例Aの合成法と同一の条件で反応し重量
平均分子量42,000共重合体〔3〕を得た。
メタクリレート15g及びトルエン200gの混合溶液
とした他は比較例Aの合成法と同一の条件で反応し重量
平均分子量42,000共重合体〔3〕を得た。
続いて、比較例Aにおいて用いた共重合体〔2〕の代わ
りに、上記共重合体〔3〕とした他は、比較例Aと同様
にして、電子写真感光材料を作製し肚較用感光材料C: 光導電層の結着樹脂として、共重合体〔2〕の代わりに
、〔ブチルメタクリレート/アクリル酸(99/1 )
重量比〕共重合体(重量平均分子量45.000)40
gを用いた他は、比較例Aと同様にして、電子写真感光
材料を作製した。
りに、上記共重合体〔3〕とした他は、比較例Aと同様
にして、電子写真感光材料を作製し肚較用感光材料C: 光導電層の結着樹脂として、共重合体〔2〕の代わりに
、〔ブチルメタクリレート/アクリル酸(99/1 )
重量比〕共重合体(重量平均分子量45.000)40
gを用いた他は、比較例Aと同様にして、電子写真感光
材料を作製した。
これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特性
、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理後の光導電層の
水との接触角で表わす)及び印刷性を調べた。印刷性は
、全自動製版機ELP404■(富士写真フィルム■製
)に現像剤ELPTを用いて、露光・現像処理して画像
を形成し、不感脂化液ELP−Eを用いてエツチングプ
ロセッサーでエツチングして得られた平版印刷版を用い
て調べた(なお、印刷機にはハマダスター■製ハマダス
ター800SX型を用いた)。
、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理後の光導電層の
水との接触角で表わす)及び印刷性を調べた。印刷性は
、全自動製版機ELP404■(富士写真フィルム■製
)に現像剤ELPTを用いて、露光・現像処理して画像
を形成し、不感脂化液ELP−Eを用いてエツチングプ
ロセッサーでエツチングして得られた平版印刷版を用い
て調べた(なお、印刷機にはハマダスター■製ハマダス
ター800SX型を用いた)。
以上の結果をまとめて表−1に示す。
表−1
表−1に記した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。
る。
注1)光導電層の平滑性:
得られた感光材料を、ベック平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
注2)静電特性:
温度20°C165%RHの暗室中で、各感光材料にペ
ーパーアナライザー団旧電機■製ペーパーアナライザー
5P−428型)を用いて6KVで20秒間コロナ放電
をさせた後10秒間放置し、この時の表面電位■。を測
定し、ついで光導電層表面を照度2.0ルツクスの可視
光で照射し、表面電位■。が1/10に減衰するまでの
時間を求め、これから露光量E1/10(ルックス・秒
)を算出する。
ーパーアナライザー団旧電機■製ペーパーアナライザー
5P−428型)を用いて6KVで20秒間コロナ放電
をさせた後10秒間放置し、この時の表面電位■。を測
定し、ついで光導電層表面を照度2.0ルツクスの可視
光で照射し、表面電位■。が1/10に減衰するまでの
時間を求め、これから露光量E1/10(ルックス・秒
)を算出する。
注3)水との接触角:
各感光材料を、不惑脂化処理液ELP−E(富士写真フ
ィルム■製)を用いてエツチングプロセッサーに1回通
して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留水2
μ2の水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニオメ
ータ−で測定する。
ィルム■製)を用いてエツチングプロセッサーに1回通
して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留水2
μ2の水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニオメ
ータ−で測定する。
注4)複写画像の画質:
各感光材料及び全自動製版機ELP404V(富士写真
フィルム■製)を1昼夜常温・常温(20°C165%
)に放置した後、製版して複写画像を形成し、得られた
複写原版の画像(カブリ、画像の画質)を目視で観察す
る(これを1とする)。複写画像の画質■は、製版を高
温・高温(30°C180%)で行なう他は、前記Iと
同様の方法で試験する。
フィルム■製)を1昼夜常温・常温(20°C165%
)に放置した後、製版して複写画像を形成し、得られた
複写原版の画像(カブリ、画像の画質)を目視で観察す
る(これを1とする)。複写画像の画質■は、製版を高
温・高温(30°C180%)で行なう他は、前記Iと
同様の方法で試験する。
注5)印刷物の地汚れ:
各感光材料を、全自動製版機ELP404V(富士写真
フィルム■製)で製版してトナー画像を形成し、上記性
3)と同条件で不感脂化処理し、これをオフセットマス
ターとしてオフセット印刷機(ハマダスター■製ハマダ
スター5oosx型)にかけ上質紙上に500枚印刷し
、全印刷物の地汚れを目視により判定する。
フィルム■製)で製版してトナー画像を形成し、上記性
3)と同条件で不感脂化処理し、これをオフセットマス
ターとしてオフセット印刷機(ハマダスター■製ハマダ
スター5oosx型)にかけ上質紙上に500枚印刷し
、全印刷物の地汚れを目視により判定する。
これを印刷物の地汚れ■とする。
印刷物の地汚れ■は、不感脂化処理液を5倍に希釈し、
且つ、印刷時の湿し水を2倍に希釈した。又印刷機の印
圧を強めに設定した。その他は前記の地汚れIと同様の
方法で試験する。
且つ、印刷時の湿し水を2倍に希釈した。又印刷機の印
圧を強めに設定した。その他は前記の地汚れIと同様の
方法で試験する。
■の場合は、■よりも著しく厳しい条件で印刷したこと
に相当する。
に相当する。
本発明及び比較例A−Cの感光材料を用いて得られた複
写画像はいずれも鮮明な画質であったが、各感光材料を
(30°C180%)の環境下で製版した所比較例B及
びCは、その複写画像が著しく低下してしまった(地力
ブリが発生し、画像濃度が0. 6以下となった)。
写画像はいずれも鮮明な画質であったが、各感光材料を
(30°C180%)の環境下で製版した所比較例B及
びCは、その複写画像が著しく低下してしまった(地力
ブリが発生し、画像濃度が0. 6以下となった)。
更に、不感脂化液で不感脂化処理した各感光材料の水と
の接触角は、本発明比較例A及び比較例Bの材料の値が
15°C以下と小さく、充分に親水化されていることを
示した。
の接触角は、本発明比較例A及び比較例Bの材料の値が
15°C以下と小さく、充分に親水化されていることを
示した。
又、(30″C280%RH)でも良好な複写画像の得
られるこれらをオフセット印刷用マスタープレートとし
て印刷してみると、非画像部の地汚れの発生しない良好
なものは、本発明及び比較例Aのプレートのみであった
。更にこの両者のプレートを、印圧が強い条件で1万枚
まで印刷した所、本発明のプレートは一万枚目の印刷物
の画質は良好で地汚れも発生しなかった。しかし、比較
例Aは7000枚程度で地汚れが発生した。比較例Cの
プレートは刷り出しから500枚程度で地汚れの発生が
著しくなった。
られるこれらをオフセット印刷用マスタープレートとし
て印刷してみると、非画像部の地汚れの発生しない良好
なものは、本発明及び比較例Aのプレートのみであった
。更にこの両者のプレートを、印圧が強い条件で1万枚
まで印刷した所、本発明のプレートは一万枚目の印刷物
の画質は良好で地汚れも発生しなかった。しかし、比較
例Aは7000枚程度で地汚れが発生した。比較例Cの
プレートは刷り出しから500枚程度で地汚れの発生が
著しくなった。
以上の事実より、本発明の感光材料のみが、環境条件が
変動して製版された場合でも常に鮮明な複写画像を形成
し且つ地汚れの発生しない印刷物を1万枚以上得ること
ができた。
変動して製版された場合でも常に鮮明な複写画像を形成
し且つ地汚れの発生しない印刷物を1万枚以上得ること
ができた。
実施例2〜17
実施例1において、本発明の樹脂〔1〕の代わりに、表
−2に示される共重合体を用いた他は、実施例1と同様
に操作して、各電子写真感光材料を作製した。
−2に示される共重合体を用いた他は、実施例1と同様
に操作して、各電子写真感光材料を作製した。
表
[重量%組成比]
これを実施例1と同様に全自動製版機ELP404Vで
製版した所、得られたオフセット印刷用マスタープレー
トの濃度は1.2以上で画質は鮮明であった。更に、エ
ツチング処理をして印刷機で印刷した所、1万枚印刷後
の印刷物は非画像部のカブリがなく、画像も鮮明であっ
た。
製版した所、得られたオフセット印刷用マスタープレー
トの濃度は1.2以上で画質は鮮明であった。更に、エ
ツチング処理をして印刷機で印刷した所、1万枚印刷後
の印刷物は非画像部のカブリがなく、画像も鮮明であっ
た。
更に、この感光材料を(45’C175%RH)の条件
下に放置した後上記と全く同様の処理を行なったが、経
時前と全く変化がなかった。
下に放置した後上記と全く同様の処理を行なったが、経
時前と全く変化がなかった。
実施例18
下記化学構造で示される本発明の共重合体〔20〕(重
量平均分子量32゜ 共重合体〔20〕 12gを実施例1の共重合体〔1〕の代わりに用い、更
にヘキサメチレンジイソシアナート3gとした他は、実
施例1と同一の組成分で、ボールミル中2時間分散し、
光導電層用分散物を得た。続いて、実施例1と同様の操
作を行なって電子写真感光材料を得た。
量平均分子量32゜ 共重合体〔20〕 12gを実施例1の共重合体〔1〕の代わりに用い、更
にヘキサメチレンジイソシアナート3gとした他は、実
施例1と同一の組成分で、ボールミル中2時間分散し、
光導電層用分散物を得た。続いて、実施例1と同様の操
作を行なって電子写真感光材料を得た。
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更に、エツチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更に、エツチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。
更に、この感光材料を(45°C175%RH)の条件
下に放置した後上記と全(同様の処理を行なったが、経
時前と全く変化がなかった。
下に放置した後上記と全(同様の処理を行なったが、経
時前と全く変化がなかった。
実施例19〜23
実施例1において用いるヘキサメチレンジイソシアナー
トの代わりに下記表−3の化合物を用いた他は、実施例
1と同様にして感光材料を作製した。
トの代わりに下記表−3の化合物を用いた他は、実施例
1と同様にして感光材料を作製した。
表−3
これを、実施例1と同様の装置で製版し、次いでエツチ
ング処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセ
ット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で、画
質は鮮明であった。又1万枚印刷後の印刷物の画質は地
力ブリのない鮮明な画像のものであった。
ング処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセ
ット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で、画
質は鮮明であった。又1万枚印刷後の印刷物の画質は地
力ブリのない鮮明な画像のものであった。
(発明の効果)
本発明によれば、地汚れ、耐刷力の非常に優れた電子写
真式平版印刷用原版が得られる。
真式平版印刷用原版が得られる。
n4
手続補正書
平成1年1月77日
Claims (1)
- 導電性支持体上に、少なくとも1層の光導電性酸化亜鉛
と結着樹脂とを含有することから成る光導電層を設けて
成る電子写真感光体を利用した平版印刷用原版において
、該結着樹脂が、分解によりチオール基、ホスホ基、ア
ミノ基及びスルホ基のうちの少なくとも1つの基を生成
する官能基を少なくとも1種含有する樹脂であり、且つ
架橋剤が共存している事を特徴とする電子写真式平版印
刷用原版。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1742188A JPH0215277A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | 電子写真式平版印刷用原版 |
US07/303,508 US4971871A (en) | 1988-01-29 | 1989-01-30 | Electrophotographic lithographic printing plate precursor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1742188A JPH0215277A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | 電子写真式平版印刷用原版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0215277A true JPH0215277A (ja) | 1990-01-18 |
Family
ID=11943547
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1742188A Pending JPH0215277A (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | 電子写真式平版印刷用原版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0215277A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993014447A1 (en) * | 1992-01-10 | 1993-07-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Original plate for electrophotographic lithography |
JP2008019234A (ja) * | 2006-06-14 | 2008-01-31 | Hitachi Chem Co Ltd | 側鎖に硫黄原子を有するグラフトポリマー及びその製造方法 |
US8067860B2 (en) | 2005-08-03 | 2011-11-29 | Robert Bosch Gmbh | Electrical device, in particular an electrical hand-held power tool |
-
1988
- 1988-01-29 JP JP1742188A patent/JPH0215277A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993014447A1 (en) * | 1992-01-10 | 1993-07-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Original plate for electrophotographic lithography |
US5624777A (en) * | 1992-01-10 | 1997-04-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic lithographic printing plate precursor |
US8067860B2 (en) | 2005-08-03 | 2011-11-29 | Robert Bosch Gmbh | Electrical device, in particular an electrical hand-held power tool |
JP4934136B2 (ja) * | 2005-08-03 | 2012-05-16 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 電気機器、特に電動工具 |
JP2008019234A (ja) * | 2006-06-14 | 2008-01-31 | Hitachi Chem Co Ltd | 側鎖に硫黄原子を有するグラフトポリマー及びその製造方法 |
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