JP2007207540A - 液中プラズマ発生方法、液中プラズマ発生装置、被処理液浄化装置及びイオン液体供給装置 - Google Patents
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Abstract
【構成】少なくとも一方が高電圧絶縁部6bと1つ以上の突出部を有する高電圧電極6からなる電極対を液体14に浸漬し、この電極対間に高繰り返しの高電圧パルスを印加して前記高電圧電極6近傍の液体をジュール加熱するとともに連続的又は断続的に沸騰気化させ、この気化泡により前記高電圧電極6の突出部先端6cを少なくとも包囲する気化泡領域28を形成し、前記高電圧パルス26による前記気化泡内の高電圧絶縁破壊放電により前記気泡内の気化物を電離(プラズマ化)して各種イオンを形成し、このプラズマ中のイオン種を前記液体14中に浸透拡散させることを特徴とする液中プラズマ発生方法及び液中プラズマ発生装置2である。
【選択図】 図1
Description
更に、本発明に係る液中プラズマ発生方法によれば、前記プラズマ中のイオン種を前記液体中に浸透拡散させ、種々のイオン種液を生成することができ、印加される高電圧パルスを調整して、連続的又は断続的に前記液体を沸騰気化させることにより、所定のイオン濃度を有するイオン種液を供給することができる。上記液体としては、導電性の溶液であれば種々の溶液を用いることができ、導電性が付与された水、アルコール類、フェノール類、カルボン酸類若しくはこれらの誘導体などが混合・溶解した溶液又は導電性を付与するイオン等を含有する種々の溶液を供給して、プラズマを発生させることができる。その他には、アンモニア水、石灰水、水酸化ナトリウム水溶液、重曹水などのアルカリ性水溶液を上記液体として供給することができ、これらの液体は、前記電極対が浸漬するように前記容器内に充填される。また、上水道や下水道に限らず、屎尿、畜産排水、工場排水などを前記容器に供給して、これらの被処理液を浄化することができる。
更に、前記電極対の接地側電極及び高電圧電極の両方を前記針状電極で構成することができ、液体中に浸漬する前記針状電極間の両先端部に好適な気化泡領域を構成できると共に、この気化泡領域内に高い電界勾配を発生させることができ、前記気化泡領域におけるプラズマ化を容易に行うことができる。
更に、前記電極対を構成する高電圧電極は、1つ以上の突出部を有する導電性部材から形成されていれば良く、この導電性部材に高電圧絶縁部を設け、高電圧パルス印加手段を接続することにより、種々の導電性部材を高電圧電極として用いることができる。また、接地電極も導電性を有する種々の形状の部材を用いることができ、導電性容器本体を接地電極として用いることができる。更に、前記気化泡領域内に発生させるプラズマは、この気化泡に含まれるガス種に応じて、印加する高電圧パルスの最大電圧、繰返し数、パルス幅やパルス形状等のパラメーターを自在に調整して、好適なイオン種を生成させることができる。前記パラメーターは、電極対が浸漬される液体の種類に応じて好適な値に調整することができる。種々の液体において気化泡を発生させ、前記気化泡領域内に気化物の好適なプラズマを発生させるために、好ましい高電圧パルスの最大値は、約1kV〜50kV程度であり、1kHz〜100kHzの繰返周波数を有することが好ましい。また、好ましい高電圧パルスの時間幅は約1μs〜20μsであり、この範囲にある時間幅を有する矩形波の高電圧パルスを印加することが好ましい。
図1は、本発明に係る液中プラズマ発生装置2の概略構成図である。容器4内には、高電圧電極として針状電極6と接地電極として板状電極8が配設されている。この板状電極8には接地側端子10を介してアース12に接続され、前記針状電極6は、針状電極部材6a及び高電圧絶縁部6bから構成され、高電圧側端子13により後述する高電圧パルス印加手段21に接続されている。この針状電極6と板状電極8から構成される電極対は、前記容器4内の液体14に浸漬されており、この液体14は流入管16から供給され、流出管18から装置外に供給されている。
4 容器
5 プラズマ
6 針状電極
6a 針状電極部材
6b 高電圧絶縁部
6c 先端部
8 板状電極
9 接地側針状電極
9a 針状電極部材
9b 高電圧絶縁部
9c 先端部
10 接地側端子
12 アース
13 高電圧側端子
14 液体
15 突状電極
15a 導電性突状部材
15b 高電圧絶縁部
15c 先端部
16 流入管
18 流出管
20 交流電源
21 高電圧パルス印加手段
21a アース
22 直流発生器
23 インバータ
24 パルストランス
26 高電圧電界
28 気化泡領域
28a 気化泡
30 ガス供給口
32 ガス供給管
34 ガス供給手段
36 液体供給ポンプ
38 金属容器
39 液体流通パイプ
41 流入管
42a 第1誘導路
42b 第2誘導路
43 流出管
44 金属パイプ
45a 第1針状電極
45b 第2針状電極
45c 第3針状電極
48 接地側接続点
50 分配手段
54 分離容器
54a 第1隔壁
54b 第2隔壁
54c 第3隔壁
54d 第4隔壁
54e 第1分離壁
54f 第2分離壁
55 分離液誘導路
56a 負電極
56b 正電極
58 イオン種液流入管
59 陰イオン流出口
59a 陰イオン流出管
60a 第1分離槽
60b 第2分離槽
60c 第3分離槽
61 陽イオン流出口
61a 陽イオン流出管
62a 第1陽イオン分離槽
62b 第2陽イオン分離槽
64a 第1陰イオン分離槽
64b 第2陰イオン分離槽
65a 第1分離液
65b 第2分離液
65c 第3分離液
68 直流電源
120 単相交流
103 電磁開閉器
122 昇圧トランス
113 高電圧端子
106 電極106
126 電位差
104 トラフ(絶縁容器)
108 板状体
107 凸板107
110 接地側端子
114 被処理液
Pgas 上端位置
Pe 先端位置
Δt パルス幅
V+ パルス正電圧
V− パルス負電圧
Claims (19)
- 少なくとも一方が高電圧絶縁部と1つ以上の突出部が形成された高電圧電極からなる電極対を液体に浸漬し、この電極対間に高繰り返しの高電圧パルスを印加して前記高電圧電極近傍の液体をジュール加熱するとともに連続的又は断続的に沸騰気化させ、この気化泡により前記高電圧電極の突出部先端を少なくとも包囲する気化泡領域を形成し、前記高電圧パルスによる前記気化泡内の高電圧絶縁破壊放電により前記気泡内の気化物を電離(プラズマ化)して各種イオンを形成し、このプラズマ中のイオン種を前記液体中に浸透拡散させることを特徴とする液中プラズマ発生方法。
- 前記高電圧電極が高電圧絶縁部を有する針状電極であり、前記針状電極の先端部を少なくとも包囲する気化泡領域を形成する請求項1に記載の液中プラズマ発生方法。
- 前記プラズマ中のイオン種を前記液体中に過剰に浸透拡散させて前記液体を活性イオン種液とする請求項1又は2に記載の液中プラズマ発生方法。
- 前記高電圧電極又はこの高電圧電極の周辺部に設けられたガス供給口からイオン種源となる1種以上のガスを供給し、前記気化泡内に混和させて気化物と同時に電離させ、前記イオン種と前記供給ガスが電離して形成された付加イオン種を液体中に過剰に浸透拡散させて前記液体を活性イオン種液とし、前記プラズマ中に付加イオン種を補助的に混合させる請求項1〜3のいずれかに記載の液中プラズマ発生方法。
- 前記液体は被分解物が混合状態にある液体であり、前記液体中に蓄積された活性イオン種により前記被分解物を分解する請求項1〜4のいずれかに記載の液中プラズマ発生方法。
- 前記液体は2種類以上の混合状態にある液体であり、前記液体中に蓄積された活性イオン種により前記混合状態の液体間の化学反応を促進する請求項1〜4のいずれかに記載の液中プラズマ発生方法。
- 前記液体が飲用水又はその原水であり、前記プラズマ中のイオン種がH+及びOH−、又はこれらのイオン種及び補助的に供給されたガスの電離による付加イオン種であり、これらのイオン種を過剰に浸透拡散させることにより前記水に含有される被分解物を分解及び/又は殺菌して前記水を浄化する請求項1又は2に記載の液中プラズマ発生方法。
- 前記被分解物が混合状態にある液体が下水、廃液又は汚水である請求項5に記載の液中プラズマ発生方法。
- 前記被分解物が色素であり、この色素を分解して脱色させる請求項5に記載の液中プラズマ発生方法。
- 前記イオン種を過剰に浸透拡散なされた活性液を、さらに直流電圧が印加された電極間に流通させ、この流通過程で陽イオンを陰極側に、陰イオンを陽極側に分離して、各電極側の液体を分離回収することにより陰イオンリッチ又は陽イオンリッチなイオン液体を形成する請求項3に記載の液中プラズマ発生方法。
- 液体を流通又は保持する容器と、液体中に配設された1つ以上の電極対と、前記電極対に連続的な高電圧パルスを印加する電圧印加手段から少なくとも構成され、前記電極対の少なくとも一方は1つ以上の突出部と高電圧絶縁部を有し、前記電圧印加手段によって前記電極間に高繰返しの高電圧パルスを印加して前記高電圧電極近傍の液体をジュール加熱するとともに連続的又は断続的に沸騰気化させ、この気化泡により前記高電圧電極の突出部先端を少なくとも包囲する気化泡領域を形成し、前記高電圧パルスによる前記気化泡内の高電圧絶縁破壊放電により前記気泡内の気化物を電離(プラズマ化)して各種イオンを形成し、このプラズマ中のイオン種を前記液体中に浸透拡散させることを特徴とする液中プラズマ発生装置。
- 前記高電圧電極が高電圧絶縁部を有する針状電極であり、この針状電極が前記容器内部の液中に突出して配設される請求項11に記載の液中プラズマ発生装置。
- 前記高電圧電極部又はこの高電圧電極部周辺部からガスを供給する供給手段と、気化泡内に混和させ気化物と同時に電離させるための高電圧パルスを電極対に印加する手段が設けられ、前記液中に付加イオン種を補助的に混入させる請求項11又は12に記載の液中プラズマ発生装置。
- 前記電極対の他方を構成する接地電極が前記容器の一部又は全部を構成する導電性容器又は導電性パイプである請求項11〜13のいずれかに記載の液中プラズマ発生装置。
- 前記電極対の他方を構成する接地電極が前記容器内に配設された板状電極であり、この板状電極が前記液体に接触して配設される請求項11〜13のいずれかに記載の液中プラズマ発生装置。
- 前記容器中に前記液体の流通方向に沿って前記電極対が複数配列される請求項11〜15のいずれかに記載の液中プラズマ発生装置。
- 請求項11〜16のいずれかに記載の液中プラズマ発生装置と、被分解物を含有する被処理液を供給する被処理液供給手段から構成され、前記液中イオン種が前記被分解物の分解、殺菌及び脱色のうち1つ以上の作用を有し、前記被分解物を改質及び/又は除去することを特徴とする被処理液浄化装置。
- 前記被処理液が飲用水、その原水、下水、廃液又は汚水である請求項17に記載の被処理液浄化装置。
- 請求項11〜16のいずれかに記載の液中プラズマ発生装置と、イオン分離手段から構成され、イオン分離手段は、前記液体を流通させる流路と、この流路の両側面に配設された少なくとも1対の電極対と、この電極対に直流電圧を印加する電源から構成され、前記電極対の負電圧電極方に陽イオンリッチまた、正電圧電極方は陰イオンリッチなイオン液体を分離して回収することを特徴とするイオン液体供給装置。
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Cited By (73)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2072471A1 (en) | 2007-12-20 | 2009-06-24 | Mitsubishi Electric Corporation | Sterilization method, sterilizer and air conditioner, hand drier, and humidifier using the sterilizer |
JP2009160494A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Tohoku Univ | 還元水生成装置および還元水生成方法 |
JP2010007906A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Mitsubishi Electric Corp | 空気調和機 |
JP2010054164A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Mitsubishi Electric Corp | 空気調和装置およびこの空気調和装置の運転方法 |
JP2010058036A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Mitsubishi Electric Corp | 水の殺菌装置、その水の殺菌装置を用いた空調機、手乾燥機、加湿器 |
JP2010188228A (ja) * | 2009-02-16 | 2010-09-02 | Univ Of Tokyo | 酸性水製造方法及び酸性水製造装置 |
JP2010221141A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Ngk Insulators Ltd | 分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法、及びセラミックス粉末の分散液の製造方法 |
JP2011056428A (ja) * | 2009-09-11 | 2011-03-24 | Hokkaido Univ | 金属担持物製造装置及び金属担持物製造方法 |
JP2011056451A (ja) * | 2009-09-11 | 2011-03-24 | Tokyo Institute Of Technology | 気液2相流プラズマ処理装置 |
WO2012108260A1 (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | パナソニック株式会社 | プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器 |
JP2012167335A (ja) * | 2011-02-15 | 2012-09-06 | Kurita Seisakusho:Kk | ナノ粒子、ナノ粒子生成方法及びナノ粒子生成装置 |
WO2012157034A1 (ja) * | 2011-05-17 | 2012-11-22 | パナソニック株式会社 | 液体処理装置および液体処理方法 |
WO2012157248A1 (ja) | 2011-05-17 | 2012-11-22 | パナソニック株式会社 | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
JP2013504157A (ja) * | 2009-09-02 | 2013-02-04 | コリア・ベーシック・サイエンス・インスティテュート | 液状媒質プラズマ放電発生装置 |
JP2013527777A (ja) * | 2010-03-31 | 2013-07-04 | コロラド ステート ユニバーシティー リサーチ ファウンデーション | 液体−気体界面プラズマデバイス |
JP2013529352A (ja) * | 2010-03-31 | 2013-07-18 | コロラド ステート ユニバーシティー リサーチ ファウンデーション | 液体−気体界面プラズマデバイス |
JP2013211204A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Osaka City Univ | 液中プラズマ発生方法、液中プラズマ発生装置、被処理液浄化装置及びイオン含有液体生成装置 |
EP2653527A1 (de) * | 2012-04-17 | 2013-10-23 | EADS Deutschland GmbH | Extraktion von Öl durch Pulsentladungen |
WO2014002364A1 (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-03 | パナソニック株式会社 | 液体中の元素分析装置 |
JP2014010931A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Nippon Menaade Keshohin Kk | プラズマ処理方法及び処理装置 |
WO2014017020A1 (ja) * | 2012-07-24 | 2014-01-30 | パナソニック株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
WO2014050080A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | ダイキン工業株式会社 | 放電ユニット |
JP2014079737A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-05-08 | Daikin Ind Ltd | 水処理装置 |
JP2014079743A (ja) * | 2012-09-26 | 2014-05-08 | Shibaura Mechatronics Corp | 液体処理装置及び液体処理方法 |
WO2014077181A1 (ja) * | 2012-11-13 | 2014-05-22 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
WO2014115552A1 (ja) * | 2013-01-28 | 2014-07-31 | パナソニック株式会社 | 液体中の元素分析装置 |
WO2014116048A1 (ko) * | 2013-01-24 | 2014-07-31 | 한국기초과학지원연구원 | 액체의 플라즈마 처리를 위한 장치 |
JP2014167880A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Nagoya Univ | 液中プラズマ用電極および液中プラズマ発生装置 |
JP2014180588A (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-29 | Hokkaido Univ | 液中プラズマ処理装置及び液中プラズマ処理方法 |
WO2014171138A1 (ja) * | 2013-04-18 | 2014-10-23 | パナソニック株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
WO2014185051A1 (ja) * | 2013-05-14 | 2014-11-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置、液体処理方法及びプラズマ処理液 |
CN104583131A (zh) * | 2013-11-18 | 2015-04-29 | 松下知识产权经营株式会社 | 液体处理装置以及液体处理方法 |
CN104556318A (zh) * | 2013-10-25 | 2015-04-29 | 松下知识产权经营株式会社 | 液体处理装置以及液体处理方法 |
CN104649372A (zh) * | 2013-11-18 | 2015-05-27 | 松下知识产权经营株式会社 | 液体处理单元、冲洗坐便盖、洗衣机及液体处理装置 |
CN104649379A (zh) * | 2013-11-18 | 2015-05-27 | 松下知识产权经营株式会社 | 液体处理装置 |
JP2016010797A (ja) * | 2014-06-06 | 2016-01-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 処理液生成装置および処理液生成方法 |
US9288886B2 (en) | 2008-05-30 | 2016-03-15 | Colorado State University Research Foundation | Plasma-based chemical source device and method of use thereof |
US9287091B2 (en) | 2008-05-30 | 2016-03-15 | Colorado State University Research Foundation | System and methods for plasma application |
US9334179B2 (en) | 2012-09-28 | 2016-05-10 | Daikin Industries, Ltd. | Water treatment device |
KR20160126695A (ko) * | 2015-04-24 | 2016-11-02 | 한국기계연구원 | 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 처리 방법 |
KR20160126696A (ko) * | 2015-04-24 | 2016-11-02 | 한국기계연구원 | 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 처리 방법 |
US9532826B2 (en) | 2013-03-06 | 2017-01-03 | Covidien Lp | System and method for sinus surgery |
US9555145B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-01-31 | Covidien Lp | System and method for biofilm remediation |
US9580338B2 (en) | 2013-11-18 | 2017-02-28 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid treatment apparatus and liquid treatment method |
JP2017148745A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | ダイハツ工業株式会社 | アンモニア分解方法 |
WO2017103341A3 (en) * | 2015-12-17 | 2017-10-05 | Oulun Yliopisto | Apparatus and method for optically detecting the emissions of a plasma produced in a conductive liquid by means of electrodes with different areas in contact with the liquid |
JP2017205755A (ja) * | 2016-05-13 | 2017-11-24 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
JP2017228423A (ja) * | 2016-06-22 | 2017-12-28 | 学校法人東京理科大学 | プラズマ発生装置、窒素源製造装置、養液供給装置、育成システム、植物栽培システム、窒素源を製造する方法及び二酸化炭素を還元する方法 |
US9868653B2 (en) | 2013-05-01 | 2018-01-16 | Nch Corporation | System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone |
JP2018027537A (ja) * | 2017-08-31 | 2018-02-22 | 好浩 岡 | 液中プラズマ処理装置 |
US9932252B2 (en) | 2013-05-01 | 2018-04-03 | Nch Corporation | System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone |
EP3363932A1 (en) * | 2017-02-16 | 2018-08-22 | ARKRAY, Inc. | Electrolysis device |
US20180327284A1 (en) * | 2017-05-11 | 2018-11-15 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Washing machine rinse water purification device and washing apparatus |
JP2018202281A (ja) * | 2017-05-30 | 2018-12-27 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 浴槽水処理装置及び浴槽装置 |
JP2018202282A (ja) * | 2017-05-30 | 2018-12-27 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 貯留タンク水処理装置及び貯留式給湯装置 |
US10220107B2 (en) | 2016-03-31 | 2019-03-05 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Plasma generating method including generating first plasma without supplying first gas in liquid and generating second plasma in first gas, and plasma generating apparatus |
US10368939B2 (en) | 2015-10-29 | 2019-08-06 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
CN110167246A (zh) * | 2019-04-15 | 2019-08-23 | 江苏大学 | 一种实现气体等离子体在液体中宏观可视化的装置 |
US10441349B2 (en) | 2015-10-29 | 2019-10-15 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
CN110692285A (zh) * | 2017-05-31 | 2020-01-14 | 株式会社斯库林集团 | 液体中等离子体发生装置和液体处理装置 |
US10654730B2 (en) | 2018-05-16 | 2020-05-19 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid processing apparatus |
US10709497B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-07-14 | Covidien Lp | Electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating |
CN112153798A (zh) * | 2020-09-11 | 2020-12-29 | 河北大学 | 利用惰性气体产生大直径均匀等离子体羽的装置及方法 |
US10875790B2 (en) | 2016-06-15 | 2020-12-29 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Apparatus for producing reforming liquid and method for producing reforming liquid |
US10934183B2 (en) | 2018-03-22 | 2021-03-02 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid processing apparatus |
US10973569B2 (en) | 2017-09-22 | 2021-04-13 | Covidien Lp | Electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating |
WO2021192154A1 (ja) * | 2020-03-26 | 2021-09-30 | 日揮グローバル株式会社 | 液体処理装置 |
US11207124B2 (en) | 2019-07-08 | 2021-12-28 | Covidien Lp | Electrosurgical system for use with non-stick coated electrodes |
US11267729B2 (en) | 2017-05-31 | 2022-03-08 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | In-liquid plasma generation device and liquid treatment apparatus |
US11369427B2 (en) | 2019-12-17 | 2022-06-28 | Covidien Lp | System and method of manufacturing non-stick coated electrodes |
JP2022149156A (ja) * | 2021-03-25 | 2022-10-06 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 処理装置及び処理方法 |
EP4073002A4 (en) * | 2019-12-13 | 2024-01-10 | Vut V Brne | DEVICE FOR TREATING LIQUIDS AND METHOD FOR TREATING LIQUIDS USING THIS DEVICE |
US11969204B2 (en) | 2021-10-04 | 2024-04-30 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5884066B2 (ja) * | 2013-11-18 | 2016-03-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理ユニット、洗浄便座、洗濯機および液体処理装置 |
KR101929244B1 (ko) * | 2017-07-14 | 2018-12-14 | 두산중공업 주식회사 | 플라즈마 수중방전을 이용한 수처리 장치 및 이를 포함하는 수처리 시스템 |
US10822255B2 (en) | 2017-07-14 | 2020-11-03 | Doosan Heavy Industries & Construction Co., Ld | Water treatment apparatus using underwater plasma discharge and water treatment system including same |
KR102012967B1 (ko) * | 2018-12-06 | 2019-08-21 | 두산중공업 주식회사 | 플라즈마 수중방전을 이용한 수처리 장치 및 이를 포함하는 수처리 시스템 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02133495U (ja) * | 1989-04-12 | 1990-11-06 | ||
JPH09507428A (ja) * | 1994-01-11 | 1997-07-29 | サイエンティフィック ユーティリゼイション,インコーポレイテッド | ガス注入と電気放電を用いた液体汚染物除去装置 |
JP2000126328A (ja) * | 1998-10-29 | 2000-05-09 | Hitachi Zosen Corp | 被処理物の分解処理装置および分解処理方法 |
JP2000237755A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-09-05 | Ebara Corp | 微生物の不活化方法及び不活化装置 |
JP2004152523A (ja) * | 2002-10-29 | 2004-05-27 | Techno Network Shikoku Co Ltd | 液中プラズマ発生装置および薄膜形成方法 |
WO2004065311A1 (en) * | 2003-01-17 | 2004-08-05 | Kim, Ok Soon | In-water discharging core and sterilizing water supplying system using said core |
JP2004268003A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Masayuki Sato | 水中放電プラズマ方法及び液体処理装置 |
JP2005529455A (ja) * | 2002-05-08 | 2005-09-29 | マン トーマス チャン チャック | 流体中で作られるプラズマ |
WO2005093394A1 (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Japan Advanced Institute Of Science And Technology | プラズマ発生装置 |
-
2006
- 2006-02-01 JP JP2006024084A patent/JP5295485B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02133495U (ja) * | 1989-04-12 | 1990-11-06 | ||
JPH09507428A (ja) * | 1994-01-11 | 1997-07-29 | サイエンティフィック ユーティリゼイション,インコーポレイテッド | ガス注入と電気放電を用いた液体汚染物除去装置 |
JP2000126328A (ja) * | 1998-10-29 | 2000-05-09 | Hitachi Zosen Corp | 被処理物の分解処理装置および分解処理方法 |
JP2000237755A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-09-05 | Ebara Corp | 微生物の不活化方法及び不活化装置 |
JP2005529455A (ja) * | 2002-05-08 | 2005-09-29 | マン トーマス チャン チャック | 流体中で作られるプラズマ |
JP2004152523A (ja) * | 2002-10-29 | 2004-05-27 | Techno Network Shikoku Co Ltd | 液中プラズマ発生装置および薄膜形成方法 |
WO2004065311A1 (en) * | 2003-01-17 | 2004-08-05 | Kim, Ok Soon | In-water discharging core and sterilizing water supplying system using said core |
JP2006518660A (ja) * | 2003-01-17 | 2006-08-17 | キム、オク ソーン | 水中放電発生コアとこれを用いた殺菌水供給装置 |
JP2004268003A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Masayuki Sato | 水中放電プラズマ方法及び液体処理装置 |
WO2005093394A1 (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Japan Advanced Institute Of Science And Technology | プラズマ発生装置 |
Cited By (128)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009255027A (ja) * | 2007-12-20 | 2009-11-05 | Mitsubishi Electric Corp | 殺菌方法並びに殺菌装置とその装置を用いた空調機、手乾燥機及び加湿器 |
EP2072471A1 (en) | 2007-12-20 | 2009-06-24 | Mitsubishi Electric Corporation | Sterilization method, sterilizer and air conditioner, hand drier, and humidifier using the sterilizer |
JP2009160494A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Tohoku Univ | 還元水生成装置および還元水生成方法 |
US9272359B2 (en) | 2008-05-30 | 2016-03-01 | Colorado State University Research Foundation | Liquid-gas interface plasma device |
US9287091B2 (en) | 2008-05-30 | 2016-03-15 | Colorado State University Research Foundation | System and methods for plasma application |
US9288886B2 (en) | 2008-05-30 | 2016-03-15 | Colorado State University Research Foundation | Plasma-based chemical source device and method of use thereof |
JP4722165B2 (ja) * | 2008-06-25 | 2011-07-13 | 三菱電機株式会社 | 空気調和機 |
JP2010007906A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Mitsubishi Electric Corp | 空気調和機 |
EP2138779B1 (en) * | 2008-06-25 | 2016-11-09 | Mitsubishi Electric Corporation | Air conditioning apparatus |
JP2010054164A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Mitsubishi Electric Corp | 空気調和装置およびこの空気調和装置の運転方法 |
JP2010058036A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Mitsubishi Electric Corp | 水の殺菌装置、その水の殺菌装置を用いた空調機、手乾燥機、加湿器 |
JP2010188228A (ja) * | 2009-02-16 | 2010-09-02 | Univ Of Tokyo | 酸性水製造方法及び酸性水製造装置 |
JP2010221141A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Ngk Insulators Ltd | 分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法、及びセラミックス粉末の分散液の製造方法 |
JP2013504157A (ja) * | 2009-09-02 | 2013-02-04 | コリア・ベーシック・サイエンス・インスティテュート | 液状媒質プラズマ放電発生装置 |
JP2011056451A (ja) * | 2009-09-11 | 2011-03-24 | Tokyo Institute Of Technology | 気液2相流プラズマ処理装置 |
JP2011056428A (ja) * | 2009-09-11 | 2011-03-24 | Hokkaido Univ | 金属担持物製造装置及び金属担持物製造方法 |
JP2013527777A (ja) * | 2010-03-31 | 2013-07-04 | コロラド ステート ユニバーシティー リサーチ ファウンデーション | 液体−気体界面プラズマデバイス |
JP2013529352A (ja) * | 2010-03-31 | 2013-07-18 | コロラド ステート ユニバーシティー リサーチ ファウンデーション | 液体−気体界面プラズマデバイス |
JP2012164559A (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-30 | Panasonic Corp | プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器 |
WO2012108260A1 (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | パナソニック株式会社 | プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器 |
US9392680B2 (en) | 2011-02-08 | 2016-07-12 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Plasma generator, and cleaning and purifying device apparatus and small-sized electrical appliance using plasma generator |
JP2012167335A (ja) * | 2011-02-15 | 2012-09-06 | Kurita Seisakusho:Kk | ナノ粒子、ナノ粒子生成方法及びナノ粒子生成装置 |
JP2013258159A (ja) * | 2011-05-17 | 2013-12-26 | Panasonic Corp | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
US9540262B2 (en) | 2011-05-17 | 2017-01-10 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Plasma generating apparatus and plasma generating method |
WO2012157034A1 (ja) * | 2011-05-17 | 2012-11-22 | パナソニック株式会社 | 液体処理装置および液体処理方法 |
WO2012157248A1 (ja) | 2011-05-17 | 2012-11-22 | パナソニック株式会社 | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
JP5362934B2 (ja) * | 2011-05-17 | 2013-12-11 | パナソニック株式会社 | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
JP2013211204A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Osaka City Univ | 液中プラズマ発生方法、液中プラズマ発生装置、被処理液浄化装置及びイオン含有液体生成装置 |
EP2653527A1 (de) * | 2012-04-17 | 2013-10-23 | EADS Deutschland GmbH | Extraktion von Öl durch Pulsentladungen |
US20140168644A1 (en) * | 2012-06-28 | 2014-06-19 | Panasonic Corporation | Apparatus for analyzing elements in liquid |
CN103782158A (zh) * | 2012-06-28 | 2014-05-07 | 松下电器产业株式会社 | 液体中的元素分析装置 |
JP5842165B2 (ja) * | 2012-06-28 | 2016-01-13 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体中の元素分析装置 |
US9677940B2 (en) | 2012-06-28 | 2017-06-13 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Apparatus for analyzing elements in liquid with controlled amount of gas supply for plasma generation |
WO2014002364A1 (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-03 | パナソニック株式会社 | 液体中の元素分析装置 |
JP2014010931A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Nippon Menaade Keshohin Kk | プラズマ処理方法及び処理装置 |
JPWO2014002364A1 (ja) * | 2012-06-28 | 2016-05-30 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体中の元素分析装置 |
EP2762453A1 (en) * | 2012-07-24 | 2014-08-06 | Panasonic Corporation | Liquid treatment device and liquid treatment method |
JPWO2014017020A1 (ja) * | 2012-07-24 | 2016-07-07 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
US9688549B2 (en) | 2012-07-24 | 2017-06-27 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid treatment device and liquid treatment method |
WO2014017020A1 (ja) * | 2012-07-24 | 2014-01-30 | パナソニック株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
CN103889903A (zh) * | 2012-07-24 | 2014-06-25 | 松下电器产业株式会社 | 液体处理装置以及液体处理方法 |
EP2762453A4 (en) * | 2012-07-24 | 2014-11-26 | Panasonic Corp | LIQUID TREATMENT DEVICE AND LIQUID TREATMENT PROCESS |
JP5796174B2 (ja) * | 2012-07-24 | 2015-10-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
JP2015033694A (ja) * | 2012-07-24 | 2015-02-19 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
JP2014079743A (ja) * | 2012-09-26 | 2014-05-08 | Shibaura Mechatronics Corp | 液体処理装置及び液体処理方法 |
CN104661968B (zh) * | 2012-09-28 | 2016-06-22 | 大金工业株式会社 | 放电单元 |
JP2014079734A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-05-08 | Daikin Ind Ltd | 放電ユニット |
US9334179B2 (en) | 2012-09-28 | 2016-05-10 | Daikin Industries, Ltd. | Water treatment device |
WO2014050080A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | ダイキン工業株式会社 | 放電ユニット |
JP2014079737A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-05-08 | Daikin Ind Ltd | 水処理装置 |
JP2014079735A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-05-08 | Daikin Ind Ltd | 水処理装置 |
US9957170B2 (en) | 2012-11-13 | 2018-05-01 | Mitsubishi Electric Corporation | Water treatment device and water treatment method |
CN104797533A (zh) * | 2012-11-13 | 2015-07-22 | 三菱电机株式会社 | 水处理装置以及水处理方法 |
JP5889433B2 (ja) * | 2012-11-13 | 2016-03-22 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
WO2014077181A1 (ja) * | 2012-11-13 | 2014-05-22 | 三菱電機株式会社 | 水処理装置および水処理方法 |
WO2014116048A1 (ko) * | 2013-01-24 | 2014-07-31 | 한국기초과학지원연구원 | 액체의 플라즈마 처리를 위한 장치 |
CN104204781A (zh) * | 2013-01-28 | 2014-12-10 | 松下电器产业株式会社 | 液体中的元素分析装置 |
WO2014115552A1 (ja) * | 2013-01-28 | 2014-07-31 | パナソニック株式会社 | 液体中の元素分析装置 |
JP5934924B2 (ja) * | 2013-01-28 | 2016-06-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体中の元素分析装置 |
JP2014167880A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Nagoya Univ | 液中プラズマ用電極および液中プラズマ発生装置 |
US9532826B2 (en) | 2013-03-06 | 2017-01-03 | Covidien Lp | System and method for sinus surgery |
US10524848B2 (en) | 2013-03-06 | 2020-01-07 | Covidien Lp | System and method for sinus surgery |
US9555145B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-01-31 | Covidien Lp | System and method for biofilm remediation |
JP2014180588A (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-29 | Hokkaido Univ | 液中プラズマ処理装置及び液中プラズマ処理方法 |
JPWO2014171138A1 (ja) * | 2013-04-18 | 2017-02-16 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
WO2014171138A1 (ja) * | 2013-04-18 | 2014-10-23 | パナソニック株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
CN104379513A (zh) * | 2013-04-18 | 2015-02-25 | 松下知识产权经营株式会社 | 液体处理装置以及液体处理方法 |
US9814127B2 (en) | 2013-04-18 | 2017-11-07 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid treatment device and liquid treatment method |
JP5821020B2 (ja) * | 2013-04-18 | 2015-11-24 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
US10934182B2 (en) | 2013-05-01 | 2021-03-02 | Nch Corporation | System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone |
US10023478B2 (en) | 2013-05-01 | 2018-07-17 | Nch Corporation | System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone |
US9932252B2 (en) | 2013-05-01 | 2018-04-03 | Nch Corporation | System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone |
US9868653B2 (en) | 2013-05-01 | 2018-01-16 | Nch Corporation | System and method for treating water systems with high voltage discharge and ozone |
WO2014185051A1 (ja) * | 2013-05-14 | 2014-11-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置、液体処理方法及びプラズマ処理液 |
US9540256B2 (en) | 2013-05-14 | 2017-01-10 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid treatment device, liquid treatment method, and plasma treatment liquid |
JP5906444B2 (ja) * | 2013-05-14 | 2016-04-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置、液体処理方法及びプラズマ処理液 |
US9969627B2 (en) | 2013-10-25 | 2018-05-15 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid treatment apparatus and liquid treatment method |
CN104556318A (zh) * | 2013-10-25 | 2015-04-29 | 松下知识产权经营株式会社 | 液体处理装置以及液体处理方法 |
JPWO2015072049A1 (ja) * | 2013-11-18 | 2017-03-16 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
CN104583131B (zh) * | 2013-11-18 | 2020-09-18 | 松下知识产权经营株式会社 | 液体处理装置以及液体处理方法 |
US9580338B2 (en) | 2013-11-18 | 2017-02-28 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid treatment apparatus and liquid treatment method |
CN104649379A (zh) * | 2013-11-18 | 2015-05-27 | 松下知识产权经营株式会社 | 液体处理装置 |
CN104649372A (zh) * | 2013-11-18 | 2015-05-27 | 松下知识产权经营株式会社 | 液体处理单元、冲洗坐便盖、洗衣机及液体处理装置 |
US9708201B2 (en) | 2013-11-18 | 2017-07-18 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid treatment apparatus |
CN104583131A (zh) * | 2013-11-18 | 2015-04-29 | 松下知识产权经营株式会社 | 液体处理装置以及液体处理方法 |
CN104649379B (zh) * | 2013-11-18 | 2016-09-28 | 松下知识产权经营株式会社 | 液体处理装置 |
US9593030B2 (en) | 2013-11-18 | 2017-03-14 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid treatment apparatus and liquid treatment method |
US9828261B2 (en) | 2013-11-18 | 2017-11-28 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid treatment unit, toilet seat with washer, washing machine, and liquid treatment apparatus |
WO2015072049A1 (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
US10105673B2 (en) | 2014-06-06 | 2018-10-23 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Treatment liquid production device and treatment liquid production method |
JP2016010797A (ja) * | 2014-06-06 | 2016-01-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 処理液生成装置および処理液生成方法 |
KR20160126695A (ko) * | 2015-04-24 | 2016-11-02 | 한국기계연구원 | 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 처리 방법 |
KR20160126696A (ko) * | 2015-04-24 | 2016-11-02 | 한국기계연구원 | 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 처리 방법 |
KR101698958B1 (ko) * | 2015-04-24 | 2017-01-23 | 한국기계연구원 | 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 처리 방법 |
KR101698957B1 (ko) * | 2015-04-24 | 2017-01-23 | 한국기계연구원 | 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 처리 방법 |
US11135007B2 (en) | 2015-10-29 | 2021-10-05 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
US10368939B2 (en) | 2015-10-29 | 2019-08-06 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
US11298179B2 (en) | 2015-10-29 | 2022-04-12 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
US10441349B2 (en) | 2015-10-29 | 2019-10-15 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
WO2017103341A3 (en) * | 2015-12-17 | 2017-10-05 | Oulun Yliopisto | Apparatus and method for optically detecting the emissions of a plasma produced in a conductive liquid by means of electrodes with different areas in contact with the liquid |
US11073479B2 (en) | 2015-12-17 | 2021-07-27 | Oulun Yliopisto | Apparatus and method for optically detecting the emissions of a plasma produced in a conductive liquid by means of electrodes with different areas in contact with the liquid |
JP2017148745A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | ダイハツ工業株式会社 | アンモニア分解方法 |
US10220107B2 (en) | 2016-03-31 | 2019-03-05 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Plasma generating method including generating first plasma without supplying first gas in liquid and generating second plasma in first gas, and plasma generating apparatus |
JP2017205755A (ja) * | 2016-05-13 | 2017-11-24 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
US10875790B2 (en) | 2016-06-15 | 2020-12-29 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Apparatus for producing reforming liquid and method for producing reforming liquid |
JP2017228423A (ja) * | 2016-06-22 | 2017-12-28 | 学校法人東京理科大学 | プラズマ発生装置、窒素源製造装置、養液供給装置、育成システム、植物栽培システム、窒素源を製造する方法及び二酸化炭素を還元する方法 |
EP3363932A1 (en) * | 2017-02-16 | 2018-08-22 | ARKRAY, Inc. | Electrolysis device |
US20180327284A1 (en) * | 2017-05-11 | 2018-11-15 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Washing machine rinse water purification device and washing apparatus |
JP2018202281A (ja) * | 2017-05-30 | 2018-12-27 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 浴槽水処理装置及び浴槽装置 |
JP2018202282A (ja) * | 2017-05-30 | 2018-12-27 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 貯留タンク水処理装置及び貯留式給湯装置 |
CN110692285A (zh) * | 2017-05-31 | 2020-01-14 | 株式会社斯库林集团 | 液体中等离子体发生装置和液体处理装置 |
US11267729B2 (en) | 2017-05-31 | 2022-03-08 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | In-liquid plasma generation device and liquid treatment apparatus |
JP2018027537A (ja) * | 2017-08-31 | 2018-02-22 | 好浩 岡 | 液中プラズマ処理装置 |
US10709497B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-07-14 | Covidien Lp | Electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating |
US10973569B2 (en) | 2017-09-22 | 2021-04-13 | Covidien Lp | Electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating |
US11432869B2 (en) | 2017-09-22 | 2022-09-06 | Covidien Lp | Method for coating electrosurgical tissue sealing device with non-stick coating |
US10934183B2 (en) | 2018-03-22 | 2021-03-02 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid processing apparatus |
US10654730B2 (en) | 2018-05-16 | 2020-05-19 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Liquid processing apparatus |
CN110167246A (zh) * | 2019-04-15 | 2019-08-23 | 江苏大学 | 一种实现气体等离子体在液体中宏观可视化的装置 |
US11207124B2 (en) | 2019-07-08 | 2021-12-28 | Covidien Lp | Electrosurgical system for use with non-stick coated electrodes |
EP4073002A4 (en) * | 2019-12-13 | 2024-01-10 | Vut V Brne | DEVICE FOR TREATING LIQUIDS AND METHOD FOR TREATING LIQUIDS USING THIS DEVICE |
US11369427B2 (en) | 2019-12-17 | 2022-06-28 | Covidien Lp | System and method of manufacturing non-stick coated electrodes |
WO2021192154A1 (ja) * | 2020-03-26 | 2021-09-30 | 日揮グローバル株式会社 | 液体処理装置 |
CN112153798A (zh) * | 2020-09-11 | 2020-12-29 | 河北大学 | 利用惰性气体产生大直径均匀等离子体羽的装置及方法 |
CN112153798B (zh) * | 2020-09-11 | 2022-08-23 | 河北大学 | 利用惰性气体产生大直径均匀等离子体羽的装置及方法 |
JP2022149156A (ja) * | 2021-03-25 | 2022-10-06 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 処理装置及び処理方法 |
JP7325126B2 (ja) | 2021-03-25 | 2023-08-14 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 処理装置及び処理方法 |
US11969204B2 (en) | 2021-10-04 | 2024-04-30 | Covidien Lp | Non-stick coated electrosurgical instruments and method for manufacturing the same |
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