JP5884066B2 - 液体処理ユニット、洗浄便座、洗濯機および液体処理装置 - Google Patents
液体処理ユニット、洗浄便座、洗濯機および液体処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5884066B2 JP5884066B2 JP2014167784A JP2014167784A JP5884066B2 JP 5884066 B2 JP5884066 B2 JP 5884066B2 JP 2014167784 A JP2014167784 A JP 2014167784A JP 2014167784 A JP2014167784 A JP 2014167784A JP 5884066 B2 JP5884066 B2 JP 5884066B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- electrode
- flow channel
- processing unit
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
- A47K—SANITARY EQUIPMENT NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; TOILET ACCESSORIES
- A47K13/00—Seats or covers for all kinds of closets
- A47K13/24—Parts or details not covered in, or of interest apart from, groups A47K13/02 - A47K13/22, e.g. devices imparting a swinging or vibrating motion to the seats
- A47K13/30—Seats having provisions for heating, deodorising or the like, e.g. ventilating, noise-damping or cleaning devices
- A47K13/302—Seats with cleaning devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/4608—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods using electrical discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/04—Disinfection
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2305/00—Use of specific compounds during water treatment
- C02F2305/02—Specific form of oxidant
- C02F2305/023—Reactive oxygen species, singlet oxygen, OH radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2307/00—Location of water treatment or water treatment device
- C02F2307/12—Location of water treatment or water treatment device as part of household appliances such as dishwashers, laundry washing machines or vacuum cleaners
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Public Health (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Bidet-Like Cleaning Device And Other Flush Toilet Accessories (AREA)
- Accessory Of Washing/Drying Machine, Commercial Washing/Drying Machine, Other Washing/Drying Machine (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Description
なお、これらの包括的または具体的な態様は、洗浄便座、洗濯機、水浄化装置、空調機、加湿器、電気剃刀洗浄器、食器洗浄器、水耕栽培用処理装置、養液循環装置、浄水器、ポット、空気清浄機、液体処理装置、または、液体処理方法で実現されてもよい。
前述の「背景技術」の欄で説明したように、特許文献1の殺菌装置は、高圧電極と接地電極を処理槽内の液体に配置して構成される。このように構成された殺菌装置は、瞬間沸騰現象を用いて瞬間的に液体を気化し、高電圧電極と接地電極との間で放電することにより、プラズマを発生させる。そして、殺菌装置は、プラズマにより生成されたラジカルが液体中の菌と衝突することにより、液体処理を行っている。
しかし、従来の殺菌装置は、液体中を漂う菌にラジカルを衝突させることが難しかった。例えば、液体を処理槽内に供給しながら排出を行うことによって、連続的に液体を処理する場合、処理槽を1度通過するときの除菌効率を上げることは難しいという課題を有していた。すなわち、従来の装置では、液体中に生成されたラジカルを、液体中を移動する菌に効率良く衝突させることができず、短時間で液体の処理を行うことができないという課題を有していた。
そこで、本発明者らは、このような従来技術の課題に鑑み、新規な液体処理装置を想到した。本開示の一態様である液体処理装置は以下のとおりである。
これにより、流路管へ供給される液体の流量または、流路管から排出される液体の流量を実質的に増加させることができる。
これにより、プラズマ発生装置が、残留時間の長いラジカルを生成することができる。したがって、流路管に新たに供給された液体と、流路管を循環するプラズマ処理された液体とを接触させることができる。例えば、流路管に新たに供給される液体が菌及び/又は有機物を含む場合、残留したラジカルと液体中の菌及び/又は有機物とを効率よく衝突させることができる。
これにより、プラズマ発生装置が、残留時間の長いラジカルを生成することができる。したがって、流路管に新たに供給された液体と、流路管を循環するプラズマ処理された液体とを接触させることができる。例えば、流路管に新たに供給される液体が菌及び/又は有機物を含む場合、残留したラジカルと液体中の菌及び/又は有機物とを効率よく衝突させることができる。
本開示の一態様に係る液体処理ユニットは、例えば、前記液体排出口から前記一部の液体を排出しながら、前記液体供給口に液体を供給する制御装置をさらに備えてもよい。
これにより、流路管を循環する液体中に存在するラジカルと新たに流路管を通過する液体とを接触させながら、除菌効果を有する液体、または除菌済みの液体を持続的に排出させることができる。
これにより、排出しながら供給するステップにおいて、停止するステップで処理された液体と、新たに供給された液体とを、流路管内で接触させることができる。循環している液体中にはラジカルが残留するため、新たに流路管を通過する液体とラジカルとが接触することにより、除菌効果を有する液体を持続的に得ることができる。
これにより、停止するステップに加えて、排出しながら供給するステップにおいても、流路管内の液体中にプラズマが発生する。これにより、排出しながら供給するステップにおいて、新たに供給された液体は、新たに発生させたプラズマによって生成されたラジカルとも接触する。これにより、除菌効果が向上する。
プラズマによって生成されるラジカルの一部を流路管内に残留させながら液体を処理することにより、流路管内の容積以上の液体であっても、十分に処理することができる。
本開示の一態様に係る洗浄便座は、例えば、上記液体処理ユニットと、前記流路管から排出される液体が供給される洗浄ノズルと、ユーザから洗浄を指示する入力を受け付ける入力部と、を備え、前記制御装置は、前記入力部からの入力を受け付ける前に、前記液体の供給及び前記液体の排出を停止し、前記プラズマ発生装置は、少なくとも前記液体の供給及び前記液体の排出を停止している間、前記流路管内の液体中にプラズマを発生させて前記液体を処理し、前記制御装置は、前記入力部からの入力に基づいて、前記液体の一部を前記洗浄ノズルに排出する。
なお、以下で説明される実施の形態は、いずれも包括的または具体的な例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置、接続形態、ステップおよびステップの順序などは、一例であり、本開示を限定する主旨ではない。また、複数のステップは、時間的に別々に実行されてもよいし、同時に実行されてもよい。また、各ステップの間に他のステップが挿入されてもよい。また、以下の実施の形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。
<液体処理ユニット>
図1(a)は、実施の形態1に係る液体処理ユニット100の概略構成の一例を示すブロック図である。図1(b)は、実施の形態1に係る液体処理ユニット100において、液体が流路管101内を循環する様子の一例を示す概略図である。図2(a)は、本開示の実施の形態1の変形例に係る液体処理ユニット100aの全体構成の一例を示す概略図である。図2(b)は、実施の形態1の変形例に係る液体処理ユニット100aにおいて、液体が流路管101内を循環する様子の一例を示す概略図である。
実施の形態1に係る液体処理ユニット100は、液体が循環する流路を形成する流路管101と、流路管101の途中に液体を供給する液体供給口107と、流路管101の途中から液体を排出する液体排出口108と、分配部106と、プラズマ発生装置102と、を備える。分配部106は、流路管101から液体排出口108への分岐部に設けられ、流路管101を流通する液体のうち、流路管101から液体排出口108を介して排出する液体と流路管101を循環する液体との分配比を制御する。プラズマ発生装置102は、流路管101の少なくとも一部の領域の液体中にプラズマ110を発生させる。この液体処理ユニット100は、流路管101に沿って液体を循環させながら、プラズマ発生装置102によって流路管101内にプラズマ110を発生させて、ラジカルを生成することによって、循環する液体を処理する。また、分配部106では、流路管101を流通する液体の一部を排出させ、一部を流路管101に循環させている。この循環させる液体中にはラジカルが残留するので、液体供給口107から新たに供給される液体を処理することができる。
なお、「排出する液体と流路管を循環する液体との分配比を制御する」とは、流路管を流通する液体を排出させないモードと、流路管を流通する液体から、予め設定された分配比で、一部の液体を排出させるモードと、を選択的に切り替えるものをも含む。すなわち、分配部は、流路管を流通する液体から一部の液体を分配可能であればよい。
<流路管>
流路管101は、液体が循環可能な流路を規定する。また、液体処理ユニット100は、流路管101の途中に液体を供給する液体供給口107と、流路管101の途中から液体を排出する液体排出口108とを備える。なお、流路管101の途中に、液体を一定の循環方向109に循環させるポンプ117が設けられてもよい。液体を循環する方法はポンプ117に限らない。さらに、液体供給口107には、流路管101に液体を供給するポンプ112を備えてもよい。流路管101は、液体と反応しない材料であればよい。流路管101には、例えば、ガラス、プラスチック、シリコーンまたは金属等の素材からなるものを使用できる。
分配部106は、流路管101から液体排出口108への分岐部に設けられる。分配部106は、流路管101を流通する液体のうち、流路管101から液体排出口108を介して排出する液体と流路管101を循環する液体との分配比を制御する。分配部106は、例えば、分配弁によって実現できる。
プラズマ発生装置102は、流路管101の少なくとも一部の領域の液体中にプラズマ110を発生させる。これにより、液体中にラジカルが生成され、循環する液体が処理される。また、プラズマ発生装置102は、流路管101の複数箇所に設けられてもよい。プラズマ発生装置102は、流路管101のうち、液体供給口107との分岐部から、液体の循環方向109に沿って、液体排出口108との分岐部までの間に設けられてもよい。このプラズマ発生装置102は、例えば、流路管101内に少なくとも一部が配置される第1の電極103と、流路管101内に少なくとも一部が配置される第2の電極104と、第1の電極103と第2の電極104との間に電圧を印加する電源105と、を備えてもよい。
第1の電極103は、流路管101内に少なくとも一部が配置されていればよい。第1の電極103の配置は、流路管101内であれば、特に制限はない。第1の電極103は、例えば、鉄、タングステン、銅、アルミニウム、白金、又はそれらの金属から選ばれる1又は複数の金属を含む合金などの材料から形成される。さらに、電極寿命を長くするために、第1の電極103の表面の一部に、導電性物質を添加した酸化イットリウムが溶射されてもよい。導電性物質が添加された酸化イットリウムは、例えば1〜30Ωcmの電気抵抗率を有する。なお、図1および図2に示される例では、第1の電極103の形状は、流路管101に面する一端が開口している筒状(例えば、円筒状)である。しかし、第1の電極103の形状は、この形状に限定されない。
第2の電極104は、流路管101に少なくとも一部が配置されていればよい。第2の電極104の配置は、流路管101内であれば、特に制限はない。第2の電極104は、導電性の金属材料から形成されていればよい。例えば、第2の電極104は、第1の電極103と同様に、鉄、タングステン、銅、アルミニウム、白金、又はそれらの金属から選ばれる1又は複数の金属を含む合金などの材料から形成される。
電源105は、第1の電極103と第2の電極104との間に配置されている。電源105は、第1の電極103と第2の電極104との間に高周波の交流電圧を印加する。交流電圧の周波数は、例えば、1kHz以上であればよい。また、電源105は、正のパルス電圧と負のパルス電圧を交互に印加する、いわゆるバイポーラパルス電圧を印加してもよい。バイポーラパルス電圧を使用することにより、電極の寿命を長くすることができる。
この液体処理ユニット100は、図2に示すように、流路管101の流路の途中に気液分離器116を有してもよい。この気液分離器116は、流路管101中の液体及び気体からなる混合体から気体を抽出し外部に放出する。これによって、流路管101を循環する液体の実質的な流量を増加させることができる。
この液体処理ユニットは、流路管101内の液体の流量を制御する制御装置118を備えてもよい。この制御装置118が実行するステップを含むフローチャートの一例を図3に示す。なお、以下に示す第1のステップ(S1)から第3のステップ(S3)は、一連の(連続した)液体処理ステップを示している。
第1のステップ(S1)では、流路管101に液体供給口107を介して液体を供給する。ただし、既に流路管101内に一定量以上の液体が存在する場合は、当該第1のステップは省略してもよい。
第1のステップの後、または、流路管101内に一定量以上の液体が存在する状態で実行される第2のステップ(S2)では、流路管101への液体供給口107を介した液体の供給及び流路管101から液体排出口108を介した液体の排出を所定時間にわたって停止する。すなわち、流路管101内に存在する液体は、流路管101内で循環しながら所定時間にわたって留まる。第2のステップが実行される時間は、生成するラジカルの残留時間の長さ、流路管101の容積、液体中の菌及び/又は有機化合物の種類および量、ならびに、その後の第3のステップにおいて供給する液体の流量、などに応じて適宜設定される。
第2のステップの後、第3のステップ(S3)では、流路管から液体排出口108を介して流路管101を流通する液体の一部を排出しながら、流路管101に液体供給口107を介して液体を供給する。このとき、液体の排出を開始するタイミングと、液体の供給を開始するタイミングと、は完全に一致していなくてもよい。また、排出または供給する液体の流量や第3のステップが実行される時間は、生成されるラジカルの残留時間の長さ、流路管101の容積、ならびに、液体中の菌及び/又は有機化合物の種類および量、などに応じて適宜設定される。
この場合、第2のステップにおいて、プラズマ発生装置102が流路管101内の液体中にプラズマを発生させることによって、ラジカルを生成して、液体を処理する。
なお、第3のステップにおいて所定量の液体を排出した後、再度第2のステップ及びその後の第3のステップが実行されてもよい。
なお、本開示において「流路管へ液体の供給を再開する」という場合、再開後に流路管に供給される液体は、それ以前に流路管に供給された液体と同種の液体であってもよいし、異なる液体であってもよい。例えば、第1のステップにおいて流路管に供給される液体が純粋または水道水であって、第3のステップにおいて流路管に供給される液体が菌および/または有機物を含む汚染水であってもよい。
また、当該制御装置は、第3のステップにおいて、流路管101の容積以上の液体を排出してもよい。流路管101の容積以上の液体を排出する場合、排出される液体中には、当該第3のステップにおいて新たに供給された液体も必ず含まれる。プラズマによって生成されたラジカルの残留時間が長い場合、第3のステップにおいて新たに供給された液体はラジカルとより多く接触することできるため、十分に除菌された状態で液体を排出することができる。
この制御装置118は、第1のステップにおいて流路管101に液体を供給し、第2のステップにおいて当該液体を流路管101内に留めた状態でプラズマ処理する。プラズマにより生成されたラジカルを含む活性種によって、流路管101内の液体中に存在する菌類は除菌される、及び/又は、流路管101内の液体中に存在する有機物は分解される。また、一部のラジカルは液体中に残存する。第3のステップにおいて流路管101内に新たに液体が供給されるとともに流路管101から液体を排出すると、第2のステップにおいてプラズマ処理された液体の一部は、流路管101の形状に起因して、流路管101内に滞留している。すなわち、流路管101内には、第2のステップにおいてプラズマ処理された液体の一部と、当該新たに供給された液体とが混ざった状態で接触する。前述のとおり、滞留した液体中には、プラズマにより生成されたラジカルが残存する。すなわち、新たに供給され流路管101を通過する液体と滞留した液体中のラジカルとが接触することにより除菌効果を発揮する。
なお、上記第1のステップから第3のステップは、制御装置118が直接実行してもよく、制御装置118からの指示に基づいて間接的に実行されてもよい。例えば、流路管101に液体供給口107を介して液体を供給する場合、制御装置118は、液体供給口107に設けられたポンプ112を作動させることによって、流路管101に液体を供給してもよい。例えば、制御装置118が、流路管101から液体排出口108を介して液体を排出させることによって、流路管101内の圧力の変化に応じて、排出量と同程度の量の液体が、液体供給口107を介して流路管101に供給されてもよい。例えば、制御装置118が、流路管101に液体供給口107を介して液体を供給させることによって、流路管101内の圧力の変化に応じて、供給量と同程度の量の液体が、流路管101から液体排出口108を介して排出されてもよい。
次に、実施の形態1に係る液体処理ユニット100において、プラズマ発生装置102を構成する第1の電極103a及びその周辺構成の変形例について説明する。
図7は、プラズマ発生装置102を構成する第1の電極103a及びその周辺構成の変形例を示す断面図である。図7に示すように、第1の電極103aは、一端側に電極部121を、他端側に支持部122を備える。電極部121は、流路管101内に配置される。支持部122は、保持ブロック120に接続固定されると共に、電源105に接続される。電極部121は、例えば、円柱状の導電体からなる。円柱状とは、例えば、電極部121の一端から他端までの径が実質的に変わらない形状である。このような形状とすることにより、例えば、針状のように、端に向かうほど細くなり最端部では実質的な厚みが無い形状に比べて、先端部への過度な電界の集中を抑制でき、使用による劣化を抑制できる。また、電極部121との間に空間124を形成するように絶縁体128が設けられている。絶縁体128には、流路管101内に配置される一端側に開口部125が設けられている。さらに、支持部122は、内部に貫通孔123が設けられている。貫通孔123には気体供給装置(図示せず)が接続されている。気体供給装置から供給される気体が、貫通孔123を介して空間124に供給される。空間124に気体が供給されると、開口部125を介して液体中に気泡111が発生する。
なお、電極部121を保持する方法はこれに限定されない。電極部121と絶縁体128との間に空間124を形成し、当該空間124に気体を供給して、絶縁体128が有する開口部125から液体中に気流を形成できるような構成であればよい。
図7に示した変形例によるプラズマ発生装置102におけるラジカルの生成について説明する。
気体供給装置(図示せず)は、流路管内に液体が存在する状態で、第1の電極103aと絶縁体128との間の空間に気体129を供給する。供給された気体129は、絶縁体128の開口部125を介して流路管101内の液体中に放出される。このとき、液体中に、第1の電極103aの電極部121を覆う柱状の気泡が形成される。この気泡は、絶縁体128の開口部125から一定距離(例えば10mm以上)にわたって途切れることのない、単一の大きな気泡である。すなわち、供給された気体129は、第1の電極103aの電極部121と絶縁体128との間の空間124を流れるため、第1の電極103aの電極部121は、常に気体129で覆われた状態となる。このとき、第1の電極103aの電極部121の表面は、液体に直接接触しない状態となる。
なお、本開示において、「第1の電極の表面が液体に直接接触しない」とは、第1の電極の表面が、流路管内の大きな塊としての液体と接触しないことをいう。したがって、例えば、第1の電極の表面が液体に濡れていて(すなわち、厳密には第1の電極の表面が液体と接触していて)、その表面を気泡内の気体が覆っている状態も「第1の電極の表面が液体に直接接触しない」状態に含まれる。このような状態は、例えば、第1の電極の表面が液体で濡れている状態で、気泡を発生させたときに生じうる。
図7に示したプラズマ発生装置102の変形例によれば、残留時間が長いラジカルを生成することができる。具体的には、プラズマの発生を止めてから10min程度の寿命を有するOHラジカルを生成できることを確認している。OHラジカルの寿命とは、プラズマを停止した後にESR(Electron Spin Resonance)法を用いて、所定時間毎にOHラジカル量を測定することにより算出されるOHラジカル量の半減期である。
実施の形態1に係る液体処理ユニット100を用いた液体処理方法の一例について説明する。
1)まず、流路管101内を、液体で満たす(第1のステップ)。
2)次に、流路管101内で液体を循環させながら一定時間にわたってプラズマ発生装置102でプラズマ110を流路管101内に発生させて循環する液体を処理する(第2のステップ)。この処理は、事前プラズマ処理という。この事前プラズマ処理によって、流路管101を循環する液体を処理して除菌することができる。なお、処理された液体には、ラジカルが残留している。
3)次いで、流路管101から液体排出口108を介して流路管101を流通する液体の一部を排出すると同時に、流路管101に液体供給口107を介して新たな液体を供給して、処理する(第3のステップ)。
なお、第1のステップにおいて、処理対象とする液体の一部を流路管101内に供給し、第3のステップにおいて、処理対象とする液体の残部を流路管101内に供給してもよい。この場合、事前プラズマ処理は、第3のステップを行う前に、処理対象とする液体の一部についてあらかじめ行われる処理である。
また、さらに、第2ステップに加えて、第3のステップにおいても、プラズマ発生装置102でプラズマ110を流路管101内に発生させてもよい。これにより、第3のステップにおいて、流路管101に新たな液体を供給した場合に、流路管101内を循環する処理済みの液体に残留しているラジカルのみならず、プラズマ発生装置102によって順次生成されるラジカルによって、新たに供給される液体を処理することができる。
実施例1は、液体の一部を流路管循環内で循環させる構成と、図7に示した第1の電極103aおよびその周辺構成を有するプラズマ発生装置と、を備える液体処理ユニットを用いて、液体処理を実行した例である。
実施例1の液体処理ユニット100aの全体構成は、図2に示される通りであった。具体的には、流路管101は、シリコーン製であり、内径が5mm、容積が250mLのシリコーンホースであった。
また、実施例1のプラズマ発生装置102の第1の電極103aおよびその周辺構成は、図7に示す通りであった。具体的には、電極部121は、タングステン製であり、その直径0.95mmであった。また、支持部122は、鉄製であり、その直径3mmであった。また、支持部122の貫通孔123は、直径0.3mmであった。さらに絶縁体128は、アルミナセラミックからなり、内径1mmであった。この絶縁体128に設けられた開口部125は、直径1mmであった。また、電極部121と絶縁体128との間隔は、0.05mmであった。さらに、第1の電極103aと第2の電極104との距離は、10mmであった。なお、第2の電極104は、第1の電極103aよりも循環方向109の上流側に配置されていた。第2の電極104は、タングステン製であり、直径1mmであった。また、貫通孔123から供給される気体供給量は、1リットル/minであった。第1の電極103aと第2の電極104との間に電圧を印加する電源105は、パルス電圧を印加できた。その出力容量は、80VAで、無負荷時のピーク電圧は10kVの電圧を印加できた。
(1)処理する黄色ブドウ球菌溶液の一部を流路管101に供給した(第1のステップ)。黄色ブドウ球菌溶液の菌量は約1×104cfu/mLであった。黄色ブドウ球菌溶液が供給された流路管101の容積は、約250mLであった。なお、上記容量250mLは、処理しようとする液体500mLの半分であった。
(2)次いで、流路管101内で液体を循環させながら、30分間にわたって、プラズマ発生装置102によって流路管101内にプラズマ110を発生させることによって、循環する液体を処理した(第2のステップ)。この処理は、処理する液体のうち一部の液体についてあらかじめ行う処理であるので、事前プラズマ処理という。この事前プラズマ処理によって、流路管101を循環する液体を処理して除菌することができるとともに、液体中にラジカルを残留させることができる。
(3)次に、プラズマ発生装置102によって流路管101内にプラズマ110を発生させながら、流路管101を流通する液体の一部を流路管101から液体排出口108を介して排出すると共に、残りの黄色ブドウ球菌溶液を液体供給口107を介して流路管101に供給して、液体を処理した(第3のステップ)。黄色ブドウ球菌溶液は、流速0.5L/minで流路管101に供給された。流路管101から排出された液体の流速は、0.5L/minであり、液体の量は250mLであった。このときの分配弁106の分配比は1:1とし、流路管101を流通する液体の半分を常に流路管101内で循環させた。このように、新たな液体を供給すると共に、処理済みの液体の一部を流路管101に循環させた。これにより、循環する液体に含まれる残留したラジカルと、プラズマ発生装置102によって順次発生するラジカルと、によって、新たに供給される液体を処理することができる。
なお、事前プラズマ処理された液体は、流路管101内から液体排出口108を介して順次排出される。その結果、事前プラズマ処理を行った液体の全量に相当する量の液体が排出される30秒後以降は、除菌率が低下することが予想される。しかし、実施例1では上述のように、処理済みの液体の一部を流路管101に循環させている。これにより、循環する液体に含まれるラジカルと、プラズマ発生装置102によって順次発生するラジカルと、によって、新たに供給される液体を処理することができた。その結果、除菌率99%以上の溶液を連続して得ることができたと考えられる。
参考例は、実施例1と比べると、液体処理ユニットが、流路管101を流通する液体から一部の液体を分配できる分配部106を備えない。具体的には、参考例の液体処理ユニットは、流路管101を流通する液体を全て排出しないモードと、全て排出するモードしか選択できない。すなわち、参考例は、第3のステップにおいて、流路管101を流通する液体を流路管101に全く循環させない点で、実施例1と相違する。なお、実際には、実施例と同様の液体処理ユニット100aを、分配部106の分配機能を使用せずに、利用することによって、参考例のデータを取得した。
参考例における具体的な液体処理の手順は以下の通りである。
(1)まず、処理する黄色ブドウ球菌溶液又は大腸菌溶液の一部を流路管101に供給した。黄色ブドウ球菌溶液の場合、菌量は約1×104cfu/mLであった。大腸菌溶液の場合、菌量は約1×104cfu/mLであった。流路管101の容積は、約250mLであった。
(2)流路管101内で液体を循環させながら一定時間にわたって事前プラズマ処理を行った。黄色ブドウ球菌溶液の場合、10分間又は15分間にわたって事前プラズマ処理を行った。大腸菌溶液の場合、20分間又は30分間にわたって事前プラズマ処理を行った。
(3)次に、プラズマ110を発生させたまま、液体排出口108から一部の液体を排出すると共に、黄色ブドウ球菌溶液又は大腸菌溶液を流路管101に供給して液体を処理した。黄色ブドウ球菌溶液の場合、および、大腸菌溶液の場合、溶液は流速0.5L/minで流路管101に供給された。黄色ブドウ球菌溶液の場合、および、大腸菌溶液の場合、流路管101から排出された液体の流量は、0.5L/minであった。なお、このとき、分配弁106の分配比は1:0とした。すなわち、流路管101に供給される液体は、流路管101を循環することなく、その全量が液体排出口108から排出された。なお、その他の条件、例えば、電源、プラズマ発生装置の構成等は実施例1と同様とした。
これは、分配弁106によって流路管101を循環される液体が全くなくなり、プラズマ発生装置102によって生成されたラジカルを含む液体が排出されたために、新たに供給される黄色ブドウ球菌溶液又は大腸菌溶液中の菌を十分に除菌できなくなったためと思われる。
実施の形態2に係る液体処理ユニットは、実施の形態1に係る液体処理ユニットと対比すると、プラズマ発生装置の第1の電極およびその周辺構成において異なる。
図8は、実施の形態2に係る液体処理ユニットにおいて、プラズマ発生装置を構成する第1の電極103b及びその周辺構成の一例を示す拡大図である。第1の電極103bは、例えば、金属からなる。第1の電極103bは、両端が開口している形状(例えば、円筒状)を有する。そして、筒状の絶縁体128が、第1の電極103bの外周面に密着して配置されている。絶縁体128は、例えば円筒状である。絶縁体128は、例えば、アルミナセラミックスからなる。絶縁体128は、例えば、酸化チタンで構成されてもよい。
第1の電極103bの一端の開口部には気体供給装置が接続されている。気体供給装置により供給された気体129は、第1の電極103bの内部空間を経由して、第1の電極103bの他端の開口部から、気泡として液体中に放出される。なお、絶縁体128は、第1の電極103bに対してスライド可能に構成されていてもよい
上記構成により、第1の電極103bの一端の開口部から液体中に気体を供給し続けた場合、第1の電極103bの他端の開口部から、液体中に気泡が形成される。気泡は、その中の気体が第1の電極103bの他端の開口部を覆う、すなわち気泡内に電極103bの他端の開口部が位置する寸法の柱状の気泡である。第1の電極103bの他端の開口部付近は、絶縁体128で覆われておらず、導電体である金属が露出している。そのため、気体供給装置を用いて気体の供給量を適切に設定することにより、第1の電極103bの他端の開口部付近が気泡内の気体によって覆われた状態が維持される。すなわち、第1の電極103bの流路管101内に位置する表面のうち、少なくとも導電体が露出している表面が気泡内に位置するように、気体供給装置から第1の電極へ気体129を供給することができる。また、第1の電極103bの外周面には、例えばアルミナセラミックスからなる絶縁体128が配置されている。したがって、第1の電極103bの表面は、絶縁体128と気泡とによって、液体と直接接しない状態となり得るように構成されている。
電源105は、第1の電極103bの導電体露出部分が気泡内に位置した状態に達してから、第1の電極103bと第2の電極104との間に電圧を印加する。これ以降の動作は、実施の形態1と同様である。
実施の形態3に係る液体処理ユニットは、実施の形態1に係る液体処理ユニットと対比すると、プラズマ発生装置の第1の電極およびその周辺構成において異なる。なお、実施の形態3に係る液体処理ユニットは、気体供給装置は有していない。
図9は、実施の形態3に係る液体処理ユニットにおいて、プラズマ発生装置を構成する第1の電極103c及びその周辺構成の一例を示す断面図である。図9に示すように、第1の電極103cの周囲に空間124を形成するように絶縁体128が配置されている。絶縁体128は、流路管101内部と空間124を連通するように少なくとも1つの開口部125を有している。この開口部125から流路管101内の液体が浸入し、空間124が液体で満たされる構成となっている。また、第1の電極103cと絶縁体128のそれぞれの一方の端部は、保持ブロック120に固定されている。第1の電極103cと絶縁体128の固定方法はこれに限定されない。第2の電極104は、流路管101のいずれかの位置に配置すればよく、配置する位置に制限はない。
液体処理を開始する前において、第1の電極103cと絶縁体128との間に形成された空間124は、液体で満たされた状態である。この状態で、電源105が第1の電極103cと第2の電極104との間に高周波の交流電圧またはパルス電圧を印加して、空間124内の液体を加熱する。
空間124内の液体は、第1の電極103cから与えられた電力により、温度が上昇する。この温度上昇により、空間124内の液体が気化し、気体が発生する。この気体は、空間124内で集合しながら塊となる。そして、この気体の塊、すなわち気泡の内部で、さらに放電が生じることによりプラズマが発生する。プラズマによりラジカルなどの活性種が生成される。このため、これらの気泡によって、液体を除菌する及び/又は液体中に含まれる化学物質を分解することができる。
なお、実施の形態1から3では、液体中に存在する菌を流路管101内で除菌する例、及び、液体中に存在する有機物を流路管101内で分解する例について説明したが、本開示の液体処理ユニットは、流路管101内の液体中に菌及び有機物が存在しなくてもよい。すなわち、本開示の液体処理ユニットは、液体中の菌を除菌可能、及び/又は、液体中の有機物を分解可能なラジカル等の生成物を生成できる構成であればよく、実際に液体処理ユニット内で菌を除菌しなくてもよく、液体処理ユニット内で有機物を分解しなくともよい。そのため、本開示における「液体を処理する」とは、液体中の菌を除菌すること、及び/又は、液体中の有機物を分解することまでは問わず、液体中にラジカルを生成しさえすればよい。例えば、本開示の液体処理ユニットは、液体供給口から菌および有機物を含まない液体が供給され、液体排出口からラジカルを含む液体が排出されるものも含む。また、本開示における「液体の処理効率」とは、ラジカルを有する液体を得る効率であってもよい。
本開示の液体処理ユニットは、他の装置を組み合わせることによって、液体排出口から排出された処理済の液体を用いて、他の装置において除菌を行うことができる。他の装置は、例えば液体処理ユニットによって処理された液体を溜めておく滞留槽を有していてもよい。
本開示の液体処理ユニットは、流路管を流通する液体から一部の液体が分配され、残部の液体が流路管を循環する。これにより、本開示の液体処理ユニットは、新たに液体が供給される場合であっても、流路管内を循環する液体および流路管から排出される液体において長寿命のラジカルを持続的に保つことができる。このことは、図4から図6に示される実験結果からも明らかである。
さらに、本開示の液体処理ユニットは、洗浄便座に組み込まれてもよい。洗浄便座は、洗浄ノズルを含む。洗浄ノズルには、液体処理ユニットの流路管から排出される液体が供給される。また、洗浄便座は、ユーザから洗浄を指示する入力を受け付けるように構成された入力部を備えてもよい。この場合、制御装置は、入力部からの入力よりも前に第2のステップを実行し、入力部からの入力に基づいて、第3のステップを実行して流路管内の液体を洗浄ノズルに排出してもよい。また、さらに、洗浄便座は、ユーザが近づいたことを検知するセンサを備えてもよい。この場合、制御装置は、センサの検知に基づいて、第2のステップを実行し、入力部からの入力に基づいて、第3のステップを実行して流路管内の液体を洗浄ノズルに排出してもよい。
例えば、液体処理方法は、流路管に沿って液体を循環させるステップと、前記流路管中の前記液体にプラズマを発生させるステップと、循環する液体から一部の液体を分配して、当該一部の液体を排出するステップとを含み、前記液体を循環させるステップと、前記プラズマを発生させるステップとが同時に行われる。なお、本開示において、複数のステップが「同時に行われる」とは、複数のステップが同時に実行される期間が存在すればよく、複数のステップの開始時期および終了時期が一致していることまでは問わない。
例えば、前記一部の液体を排出するステップにおいて、前記一部の液体を排出しながら、前記流路管に液体を供給してもよい。なお、本開示において、「AをしながらBをする」とは、AとBとが同時に実行される期間が存在すればよく、AとBの開始時期および終了時期が一致していることまでは問わない。
例えば、前記一部の液体を排出するステップと、前記プラズマを発生させるステップとが同時に行われてもよい。
例えば、前記液体を循環させるステップにおいて、前記流路管への液体の供給と前記流路管からの液体の排出とを、所定時間にわたって停止してもよい。
例えば、液体処理方法は、さらに、前記液体を循環させるステップの前に、前記流路管に液体を供給するステップを含んでもよい。
例えば、前記一部の液体を排出するステップにおいて、前記一部の液体を排出しながら前記流路管に液体を供給し、前記プラズマを発生させるステップにおいて、前記流路管中のうち前記液体が供給される部分から、液体の循環する方向に沿って、前記一部の液体が排出される部分までの間の少なくとも一部の領域で、前記液体にプラズマを発生させてもよい。
例えば、液体処理方法は、さらに、循環する液体中に含まれる気体を分離するステップを含んでもよい。
例えば、前記プラズマを発生させるステップは、前記流路管内に少なくとも一部が配置される第1の電極および第2の電極との間に電圧を印加するステップを含んでもよい。
例えば、前記プラズマを発生させるステップは、さらに、前記第1の電極と当該第1の電極の周囲に配置された絶縁体との間に形成された空間に気体を供給するステップを含み、前記電圧を印加するステップは、前記気体を供給するステップにおいて供給された気体によって、前記第1の電極のうち前記流路管内に位置する導電体露出部分が覆われた状態で実行されてもよい。
例えば、前記プラズマを発生させるステップは、さらに、第1の電極および第2の電極との間に電圧を印加することによって、前記第1の電極と当該第1の電極の周囲に配置された絶縁体との間に形成された空間内の液体を気化して、気体を生成するステップを含み、前記電圧を印加するステップは、前記気体を生成するステップにおいて生成された気体によって、前記第1の電極のうち前記流路管内に位置する導電体露出部分が覆われた状態で実行されてもよい。
例えば、前記液体処理方法は、さらに、前記液体を循環させるステップの後であって、前記一部の液体を排出するステップの前に、ユーザからの指示を受け付けるステップを含んでもよい。
例えば、前記液体処理方法は、さらに、前記液体を循環させるステップの前に、ユーザからの指示を受け付けるステップを含んでもよい。
101 流路管
102 プラズマ発生装置
103、103a、103b、103c 第1の電極
104 第2の電極
105 電源
106 分配部(分配弁)
107 液体供給口
108 液体排出口
109 循環方向
110 プラズマ
111 気泡
112 ポンプ
116 気液分離器
117 ポンプ
118 制御装置
120 保持ブロック
121 電極部
122 支持部
123 貫通孔
124 空間
125 開口部
126、127 ネジ部
128 絶縁体
129 気体
Claims (18)
- 液体を供給する液体供給口と、
前記液体供給口に接続され、前記液体供給口から供給された液体が循環する流路を規定する流路管と、
前記流路管の少なくとも一部の領域の液体中にプラズマを発生させ、プラズマ処理するプラズマ発生装置と、
前記流路管の途中に設けられ、前記流路管を流通する液体から一部の液体を分配できる分配部と、
前記分配部に接続され、前記分配部によって分配された前記一部の液体を前記流路管から排出する液体排出口とを備え、
前記液体供給口からの新たな液体の供給および前記液体排出口からの前記液体の排出を停止し、かつ、前記流路を液体が循環する状態で、前記プラズマ発生装置で前記液体を連続してプラズマ処理する、
液体処理ユニット。 - 前記液体供給口からの新たな液体の供給および前記液体排出口からの前記液体の排出を停止した状態で、前記液体を連続してプラズマ処理した後で、前記液体排出口より前記液体の一部を排出させながら、前記液体供給口より新たな液体を供給し、前記プラズマ処理された液体と混合させ、前記混合させた液体を、さらに、プラズマ発生装置でプラズマ処理する、
請求項1に記載の液体処理ユニット。 - 前記プラズマ発生装置は、前記流路管のうち、前記液体供給口と前記流路管とが接続される部分から、液体の循環する方向に沿って、前記分配部までの間に設けられる、
請求項1または2に記載の液体処理ユニット。 - 前記流路管の途中に設けられ、前記流路管中の液体及び気体からなる混合体から気体を抽出し外部に放出する気液分離器を、さらに備える、
請求項1から3のいずれか一項に記載の液体処理ユニット。 - 前記プラズマ発生装置は、
前記流路管内に少なくとも一部が配置され、第1の電極と、
前記流路管内に少なくとも一部が配置される第2の電極と、
前記第1の電極の周囲に空間を形成して配置された絶縁体であって、前記流路管内部と前記空間を連通する開口部を有する絶縁体と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電源と、
前記空間に気体を供給する気体供給装置と、
を備える、
請求項1から4のいずれか一項に記載の液体処理ユニット。 - 前記電源は、前記第1の電極のうち前記流路管内に位置する導電体露出部分が、前記気体によって覆われた状態で、電圧を印加する、
請求項5に記載の液体処理ユニット。 - 前記プラズマ発生装置は、
前記流路管内に少なくとも一部が配置される第1の電極と、
前記流路管内に少なくとも一部が配置される第2の電極と、
前記第1の電極の周囲に空間を形成して配置された絶縁体であって、前記流路管内部と前記空間を連通する開口部を有する絶縁体と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電源と、を備える、
請求項1から6のいずれか一項に記載の液体処理ユニット。 - 前記電源は、電圧を印加することによって、前記空間内の液体を気化させて気体を生成し、かつ、前記第1の電極のうち前記流路管内に位置する導電体露出部分が、前記気体によって覆われた状態で、電圧を印加する、
請求項7に記載の液体処理ユニット。 - 前記液体排出口から前記一部の液体を排出しながら、前記液体供給口に液体を供給する制御装置をさらに備える、
請求項1から8のいずれか一項に記載の液体処理ユニット。 - 前記流路管内に液体が存在する状態で、前記流路管に前記液体供給口を介して液体を供給することと、前記流路管から前記液体排出口を介して液体を排出することとを、所定時間にわたって停止する制御装置をさらに備え、
前記プラズマ発生装置は、少なくとも前記液体の供給及び前記液体の排出を停止している間、前記流路管内の液体中にプラズマを発生させて液体を処理し、
前記制御装置は、前記流路管に前記液体供給口を介して液体の供給を再開するとき、前記処理された液体の一部を前記流路管から前記液体排出口を介して排出しながら、前記処理された液体の残部を前記流路管内で循環させる、
請求項1から8のいずれか一項に記載の液体処理ユニット。 - 前記制御装置は、前記流路管に前記液体供給口を介して液体を供給し、前記流路館内に液体が存在する状態にする、
請求項10に記載の液体処理ユニット。 - 前記プラズマ発生装置は、前記液体の一部を排出しながら前記残部を前記流路管内で循環させるとき、前記流路管内の液体中にプラズマを発生させる、
請求項9から11のいずれか一項に記載の液体処理ユニット。 - 前記液体の一部を排出しながら前記残部を前記流路管内で循環させる間に、前記流路管から排出される液体の量は、前記流路管内の容積以上である、
請求項10から12のいずれか一項に記載の液体処理ユニット。 - 請求項1から13のいずれか一項に記載の液体処理ユニットと、
前記流路管から排出される液体が供給される洗浄ノズルと、
を備える、
洗浄便座。 - 請求項10から13のいずれか一項に記載の液体処理ユニットと、
前記流路管から排出される液体が供給される洗浄ノズルと、
ユーザから洗浄を指示する入力を受け付ける入力部と、を備え、
前記制御装置は、前記入力部からの入力を受け付ける前に、前記液体の供給及び前記液体の排出を停止し、
前記プラズマ発生装置は、少なくとも前記液体の供給及び前記液体の排出を停止している間、前記流路管内の液体中にプラズマを発生させて前記液体を処理し、
前記制御装置は、前記入力部からの入力に基づいて、前記液体の一部を前記洗浄ノズルに排出する、
洗浄便座。 - 請求項1から13のいずれか一項に記載の液体処理ユニットと、
前記流路管から排出される液体が供給される洗濯槽と、を備える、
洗濯機。 - 請求項10から13のいずれか一項に記載の液体処理ユニットと、
前記流路管から排出される液体が供給される洗濯槽と、
ユーザからの洗濯開始を指示する入力を受け付ける入力部と、を備え、
前記制御装置は、前記入力部からの入力に基づいて、前記液体の供給及び前記液体の排出を停止し、
前記プラズマ発生装置は、少なくとも前記液体の供給及び前記液体の排出を停止している間、前記流路管内の液体中にプラズマを発生させて前記液体を処理し、
前記制御装置は、前記液体が処理された後に、前記液体の一部を前記洗濯槽に排出する、
洗濯機。 - 請求項1から13のいずれか一項に記載の液体処理ユニットと、
前記液体処理ユニットの排出口に接続される給水口とを備える液体処理装置であって、
水浄化装置、空調機、加湿器、電気剃刀洗浄器、食器洗浄器、水耕栽培用処理装置、および養液循環装置の群から選ばれる、
液体処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014167784A JP5884066B2 (ja) | 2013-11-18 | 2014-08-20 | 液体処理ユニット、洗浄便座、洗濯機および液体処理装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013238034 | 2013-11-18 | ||
JP2013238034 | 2013-11-18 | ||
JP2014167784A JP5884066B2 (ja) | 2013-11-18 | 2014-08-20 | 液体処理ユニット、洗浄便座、洗濯機および液体処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015116560A JP2015116560A (ja) | 2015-06-25 |
JP5884066B2 true JP5884066B2 (ja) | 2016-03-15 |
Family
ID=53172222
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014167784A Active JP5884066B2 (ja) | 2013-11-18 | 2014-08-20 | 液体処理ユニット、洗浄便座、洗濯機および液体処理装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20150136673A1 (ja) |
JP (1) | JP5884066B2 (ja) |
CN (1) | CN104645370A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6643649B2 (ja) * | 2016-03-31 | 2020-02-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ生成装置 |
JP2018058047A (ja) * | 2016-10-07 | 2018-04-12 | 富山県 | 原料の湿式微粒化方法及び湿式微粒化装置 |
CN110665030A (zh) * | 2018-07-02 | 2020-01-10 | 浙江三花智能控制股份有限公司 | 一种具有液体循环回路的家用电器 |
CN113876273A (zh) * | 2021-11-12 | 2022-01-04 | 珠海格力电器股份有限公司 | 一种洗碗机、洗碗机的控制方法、装置及存储介质 |
CN113907687B (zh) * | 2021-11-12 | 2024-05-24 | 珠海格力电器股份有限公司 | 洗碗机 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4595498A (en) * | 1984-12-27 | 1986-06-17 | Thomson Components-Mostek Corporation | Water-polishing loop |
US5429723A (en) * | 1987-10-27 | 1995-07-04 | Cogent Limited | Hypobromination of water |
US5464513A (en) * | 1994-01-11 | 1995-11-07 | Scientific Utilization, Inc. | Method and apparatus for water decontamination using electrical discharge |
CN1261368C (zh) * | 2001-12-19 | 2006-06-28 | 朱榕璧 | 液体处理方法及其处理装置 |
US7083733B2 (en) * | 2003-11-13 | 2006-08-01 | Usfilter Corporation | Water treatment system and method |
JP5295485B2 (ja) * | 2006-02-01 | 2013-09-18 | 株式会社栗田製作所 | 液中プラズマ型被処理液浄化方法及び液中プラズマ型被処理液浄化装置 |
JP4784624B2 (ja) * | 2007-12-20 | 2011-10-05 | 三菱電機株式会社 | 殺菌装置とその装置を用いた空調機、手乾燥機及び加湿器 |
WO2012157034A1 (ja) * | 2011-05-17 | 2012-11-22 | パナソニック株式会社 | 液体処理装置および液体処理方法 |
WO2014185051A1 (ja) * | 2013-05-14 | 2014-11-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体処理装置、液体処理方法及びプラズマ処理液 |
-
2014
- 2014-08-20 JP JP2014167784A patent/JP5884066B2/ja active Active
- 2014-11-03 US US14/530,878 patent/US20150136673A1/en not_active Abandoned
- 2014-11-07 CN CN201410643315.8A patent/CN104645370A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015116560A (ja) | 2015-06-25 |
CN104645370A (zh) | 2015-05-27 |
US20150136673A1 (en) | 2015-05-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5884066B2 (ja) | 液体処理ユニット、洗浄便座、洗濯機および液体処理装置 | |
US9540256B2 (en) | Liquid treatment device, liquid treatment method, and plasma treatment liquid | |
JP5884074B2 (ja) | 液体処理装置及び液体処理方法 | |
CN104583131B (zh) | 液体处理装置以及液体处理方法 | |
JP5884065B2 (ja) | 液体処理ユニット、洗浄便座、洗濯機および液体処理装置 | |
US20140054242A1 (en) | Liquid treating apparatus and liquid treating method | |
WO2009144900A1 (ja) | ヒートポンプ式給湯装置及び温水の滅菌方法 | |
JP6895636B2 (ja) | 液体処理装置 | |
JP5899455B2 (ja) | 液体処理装置及び液体処理方法 | |
JP2016010797A (ja) | 処理液生成装置および処理液生成方法 | |
JP6601737B2 (ja) | 液体処理方法、液体処理装置および洗濯機 | |
JP2012077918A (ja) | 給湯システム | |
JP2003340454A (ja) | プラズマ殺菌装置及びプラズマ殺菌清涼水器 | |
JP2015223528A (ja) | 液体処理装置および液体処理方法 | |
JP2004351012A (ja) | 食器洗い乾燥機 | |
CN113876273A (zh) | 一种洗碗机、洗碗机的控制方法、装置及存储介质 | |
JP5879530B2 (ja) | 液体処理装置 | |
KR20110000160A (ko) | 전기 분해 장치 및 그 장치를 갖춘 기기 | |
JP5573561B2 (ja) | 給湯システム | |
CN115778276A (zh) | 一种洗碗机的控制方法、装置及存储介质 | |
JP2019058839A (ja) | 液体処理装置及び液体処理方法 | |
JP5857738B2 (ja) | 給湯システム | |
CN113876272A (zh) | 一种洗碗机、洗碗机的控制方法、装置及存储介质 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150714 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150910 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151006 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151013 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5884066 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |