JP2004118940A5 - - Google Patents

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  1. メモリセルと、
    前記メモリセルの一端に接続されるビット線と、
    前記ビット線に接続され、前記メモリセルに関するプログラムデータ又はリードデータを一時的に記憶するデータ回路とを具備し、
    前記データ回路は、第1、第2及び第3データ記憶部と、前記第1及び第3データ記憶部の間に接続される第1データ転送回路と、前記第2及び第3データ記憶部の間に接続される第2データ転送回路とを有し、
    前記第1データ記憶部は、前記ビット線に接続され、前記第2データ記憶部は、自らが記憶するデータに基づいて、前記第1データ記憶部のデータを強制的に変更する機能を有することを特徴とする不揮発性半導体メモリ。
  2. 前記第1及び第2データ記憶部は、キャパシタにより構成されることを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体メモリ。
  3. 前記第2データ記憶部は、ゲートが前記第2データ転送回路に接続されるMOSトランジスタにより構成され、前記MOSトランジスタのドレインと前記第1データ記憶部との間には、第3データ転送回路が接続され、
    前記データ回路は、カラム選択スイッチを経由してデータ線に接続される第4データ記憶部と、前記第1及び第4データ記憶部の間に接続される第4データ転送回路とをさらに有し、
    前記データ回路内における前記リードデータの移動を制御する制御回路をさらに備え、
    前記メモリセルが4つの状態を持つ場合に、前記制御回路は、第1リード電位で前記メモリセルから読み出した第1リードデータを前記第3データ記憶部に記憶させる手段と、前記第1リードデータを前記3データ記憶部から前記第2データ記憶部に転送させる手段と、第2リード電位で前記メモリセルから読み出した第2リードデータを前記第1データ記憶部に記憶させる手段と、前記第2データ記憶部に記憶された前記第1リードデータに基づいて、前記第1データ記憶部に記憶された前記第2リードデータの値を強制的に変更させる手段と、前記第2リードデータを前記1データ記憶部から前記第4データ記憶部に転送させる手段とから構成されることを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体メモリ。
  4. 前記第2データ記憶部は、ゲートが前記第2データ転送回路に接続されるMOSトランジスタにより構成され、前記MOSトランジスタのドレインと前記第1データ記憶部との間には、第3データ転送回路が接続され、
    前記データ回路は、カラム選択スイッチを経由してデータ線に接続される第4データ記憶部と、前記第1及び第4データ記憶部の間に接続される第4データ転送回路とをさらに有し、
    前記データ回路内における前記プログラムデータの移動を制御する制御回路をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体メモリ。
  5. 前記制御回路は、前記プログラムデータを前記第4データ記憶部に記憶させる手段と、前記プログラムデータを前記第4データ記憶部から前記第3データ記憶部に転送させる手段と、前記プログラムデータを前記第3データ記憶部から前記第2データ記憶部に転送させる手段とから構成されることを特徴とする請求項4記載の不揮発性半導体メモリ。
  6. 前記メモリセルが2ビットデータを記憶する機能を有し、かつ、そのうちの1ビットデータが既に前記メモリセルに記憶されている場合に、前記制御回路は、前記プログラムデータを前記第4データ記憶部から前記第3データ記憶部に転送させた後に、前記第4データ記憶部の状態をリセットする手段と、前記メモリセルに記憶された前記1ビットデータを前記第4データ記憶部に読み出す手段とから構成されることを特徴とする請求項5記載の不揮発性半導体メモリ。
  7. 前記第2及び第3データ記憶部に前記プログラムデータが記憶され、ライト動作時に、前記第3データ記憶部に記憶された前記プログラムデータの値に基づいて、前記メモリセルの閾値電圧を変動させるか否かを決定する場合に、前記制御回路は、ベリファイリードにより前記リードデータを前記第1データ記憶部に記憶させる手段と、前記第2データ記憶部に記憶された前記プログラムデータの値に応じて、前記第1データ記憶部に記憶された前記リードデータの値を強制的に変更させる手段と、前記第1データ記憶部に記憶された前記リードデータを、前記プログラムデータとして前記第3データ記憶部に記憶させる手段とを具備することを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体メモリ。
  8. 電気的に書換可能な不揮発性半導体メモリセルと、
    前記メモリセルに繋がるビット線と、
    前記メモリセルのデータを読み出すための読み出し回路とを備え、
    さらに、前記読み出し回路は、ビット線と繋がる第1のデータ記憶部と、前記第1のデータ記憶部のデータを自身が記憶しているデータに従って書換える機能を有する第2のデータ記憶部と、前記第1のデータ記憶部のデータを読み出す機能を有する第3のデータ記憶部と、前記第3のデータ記憶部のデータを前記第2のデータ記憶部に転送するデータ転送回路とを備え、
    前記メモリセルのデータを前記ビット線を介して前記第1のデータ記憶部に読み出し、前記第2のデータ記憶部のデータに従って前記第1のデータ記憶部の読み出しデータを書換え、その後、前記第3のデータ記憶部のデータを前記第2のデータ記憶部に転送し、さらに、その後、前記第3のデータ記憶部で前記第1のデータ記憶部のデータを読み出す読み出し制御回路をさらに備える
    ことを特徴とする不揮発性半導体メモリ。
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KR10-2003-0066492A KR100515867B1 (ko) 2002-09-26 2003-09-25 불휘발성 반도체 메모리
CNB031598439A CN1295794C (zh) 2002-09-26 2003-09-26 非易失性半导体存储器
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Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3631463B2 (ja) 2001-12-27 2005-03-23 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
JP3977799B2 (ja) * 2003-12-09 2007-09-19 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
TWI292914B (ja) * 2002-01-17 2008-01-21 Macronix Int Co Ltd
US6657891B1 (en) 2002-11-29 2003-12-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device for storing multivalued data
JP3935139B2 (ja) 2002-11-29 2007-06-20 株式会社東芝 半導体記憶装置
US7392436B2 (en) * 2003-05-08 2008-06-24 Micron Technology, Inc. Program failure recovery
JP4170952B2 (ja) * 2004-01-30 2008-10-22 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP4504138B2 (ja) * 2004-09-03 2010-07-14 株式会社東芝 記憶システム及びそのデータコピー方法
JP4417813B2 (ja) * 2004-10-01 2010-02-17 株式会社東芝 半導体記憶装置及びメモリカード
JP4786171B2 (ja) * 2004-12-10 2011-10-05 株式会社東芝 半導体記憶装置
US7564713B2 (en) * 2005-04-28 2009-07-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit device wherein during data write a potential transferred to each bit line is changed in accordance with program order of program data
KR100673703B1 (ko) * 2005-06-14 2007-01-24 주식회사 하이닉스반도체 멀티 레벨 셀들을 포함하는 플래시 메모리 장치의 카피백동작 제어 방법
KR100729355B1 (ko) * 2005-07-04 2007-06-15 삼성전자주식회사 멀티 레벨 셀을 갖는 노어 플래시 메모리 장치 및 그것의읽기 방법
KR100642892B1 (ko) 2005-07-19 2006-11-03 주식회사 하이닉스반도체 면적이 감소된 페이지 버퍼 회로와 그 독출 및 프로그램동작 방법
KR100729359B1 (ko) 2005-09-23 2007-06-15 삼성전자주식회사 낸드 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법
JP2007102848A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Toshiba Corp 半導体集積回路装置
US7206235B1 (en) 2005-10-14 2007-04-17 Sandisk Corporation Apparatus for controlled programming of non-volatile memory exhibiting bit line coupling
US7286406B2 (en) * 2005-10-14 2007-10-23 Sandisk Corporation Method for controlled programming of non-volatile memory exhibiting bit line coupling
US7517482B2 (en) * 2005-11-09 2009-04-14 Industrial Technology Research Institute Method for producing polymeric membranes with high-recovery rate
JP2007164892A (ja) * 2005-12-13 2007-06-28 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置のしきい値読み出し方法及び不揮発性半導体記憶装置
JP2007280505A (ja) * 2006-04-06 2007-10-25 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP4896569B2 (ja) 2006-04-10 2012-03-14 株式会社東芝 半導体集積回路装置及びそのダイナミックラッチのリフレッシュ方法
US7499326B2 (en) 2006-04-12 2009-03-03 Sandisk Corporation Apparatus for reducing the impact of program disturb
WO2007126665A1 (en) * 2006-04-12 2007-11-08 Sandisk Corporation Reducing the impact of program disturb during read
JP2007310936A (ja) * 2006-05-17 2007-11-29 Toshiba Corp 半導体記憶装置
KR100754226B1 (ko) * 2006-08-22 2007-09-03 삼성전자주식회사 비휘발성 데이터 저장장치의 프로그래밍 방법 및 그 장치
US7593259B2 (en) * 2006-09-13 2009-09-22 Mosaid Technologies Incorporated Flash multi-level threshold distribution scheme
JP2008111921A (ja) * 2006-10-30 2008-05-15 Renesas Technology Corp 表示制御用半導体集積回路
KR100801035B1 (ko) * 2006-12-14 2008-02-04 삼성전자주식회사 멀티 레벨 셀의 프로그램 방법, 페이지 버퍼 블록 및 이를포함하는 불휘발성 메모리 장치
KR100855971B1 (ko) 2007-01-23 2008-09-02 삼성전자주식회사 초기 독출 동작없이 메모리 셀에 데이터를 프로그래밍할 수있는 메모리 셀 프로그래밍 방법 및 반도체 메모리 장치
KR100885912B1 (ko) 2007-01-23 2009-02-26 삼성전자주식회사 기입된 데이터 값에 기초하여 데이터를 선택적으로검증하는 데이터 검증 방법 및 반도체 메모리 장치
KR100819102B1 (ko) 2007-02-06 2008-04-03 삼성전자주식회사 개선된 멀티 페이지 프로그램 동작을 갖는 불휘발성 반도체메모리 장치
US7646636B2 (en) 2007-02-16 2010-01-12 Mosaid Technologies Incorporated Non-volatile memory with dynamic multi-mode operation
US7577059B2 (en) * 2007-02-27 2009-08-18 Mosaid Technologies Incorporated Decoding control with address transition detection in page erase function
US7804718B2 (en) * 2007-03-07 2010-09-28 Mosaid Technologies Incorporated Partial block erase architecture for flash memory
US7577029B2 (en) 2007-05-04 2009-08-18 Mosaid Technologies Incorporated Multi-level cell access buffer with dual function
KR100965066B1 (ko) * 2008-03-28 2010-06-21 주식회사 하이닉스반도체 플래시 메모리 소자 및 그 블록 선택 회로
KR20100050789A (ko) * 2008-11-06 2010-05-14 삼성전자주식회사 메모리 장치 및 그것을 포함하는 메모리 시스템
JP5193830B2 (ja) 2008-12-03 2013-05-08 株式会社東芝 不揮発性半導体メモリ
JP2010140521A (ja) * 2008-12-09 2010-06-24 Powerchip Semiconductor Corp 不揮発性半導体記憶装置とその読み出し方法
JP2011003850A (ja) * 2009-06-22 2011-01-06 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2011008838A (ja) * 2009-06-23 2011-01-13 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置およびその書き込み方法
KR101009751B1 (ko) * 2009-06-24 2011-01-19 주식회사 아이에스시테크놀러지 Led용 전기적 검사장비
JP5075992B2 (ja) * 2011-02-02 2012-11-21 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP5380506B2 (ja) * 2011-09-22 2014-01-08 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
US9588883B2 (en) 2011-09-23 2017-03-07 Conversant Intellectual Property Management Inc. Flash memory system
JP5536255B2 (ja) * 2012-06-04 2014-07-02 慧榮科技股▲分▼有限公司 データアクセス時間を短縮したフラッシュメモリ装置及びフラッシュメモリのデータアクセス方法
TWI506630B (zh) * 2012-06-11 2015-11-01 Macronix Int Co Ltd 具有變動壓降的位元線偏壓電路
US9530469B2 (en) * 2013-03-15 2016-12-27 Sony Semiconductor Solutions Corporation Integrated circuit system with non-volatile memory stress suppression and method of manufacture thereof
CN107370351B (zh) * 2016-05-13 2019-12-27 中芯国际集成电路制造(天津)有限公司 电荷泄放电路
KR102540765B1 (ko) * 2016-09-07 2023-06-08 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 장치 및 이를 포함하는 메모리 시스템

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR960002006B1 (ko) 1991-03-12 1996-02-09 가부시끼가이샤 도시바 2개의 기준 레벨을 사용하는 기록 검증 제어기를 갖는 전기적으로 소거 가능하고 프로그램 가능한 불휘발성 메모리 장치
US5357462A (en) 1991-09-24 1994-10-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Electrically erasable and programmable non-volatile semiconductor memory with automatic write-verify controller
JP3421365B2 (ja) * 1992-07-29 2003-06-30 直 柴田 半導体装置
JP3252306B2 (ja) * 1993-08-10 2002-02-04 株式会社日立製作所 半導体不揮発性記憶装置
KR0169267B1 (ko) 1993-09-21 1999-02-01 사토 후미오 불휘발성 반도체 기억장치
US5969985A (en) 1996-03-18 1999-10-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device
JP3863330B2 (ja) 1999-09-28 2006-12-27 株式会社東芝 不揮発性半導体メモリ
JP3784229B2 (ja) * 2000-01-21 2006-06-07 シャープ株式会社 不揮発性半導体記憶装置およびそれを用いたシステムlsi
JP3983969B2 (ja) * 2000-03-08 2007-09-26 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
JP2002207715A (ja) * 2001-01-11 2002-07-26 Mitsubishi Electric Corp マイクロコンピュータ及びそれに用いるメモリ制御方法
US6480419B2 (en) * 2001-02-22 2002-11-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Bit line setup and discharge circuit for programming non-volatile memory

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