JP2003065577A - ファンフィルタユニット制御システム及びそのシステムを備えたクリーンルーム - Google Patents

ファンフィルタユニット制御システム及びそのシステムを備えたクリーンルーム

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Abstract

(57)【要約】 【課題】半導体や液晶などの電子デバイスを製造するク
リーンルームに関し、クリーンルーム内の清浄度を向上
させるためＦＦＵの吹出し気流の方向や風量を制御す
る。 【解決手段】クリーンルームの天井部に設けたＦＦＵや
差圧計などの情報により、各ＦＦＵの吹出し気流の方
向、風量を制御する。またクリーンルーム内の風速分布
を改善するため、天井チャンバ内の圧力を均一化し、さ
らにＦＦＵの回転数制御を容易にした。さらにクリーン
ルーム内の気流の方向を制御するため、クリーンルーム
内のグレーチング床の下部にダンパ調整機構を設けた。
このような構成によりクリーンルーム運転状態の最適化
と省エネ運転が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体、液晶等の
電子デバイスを製造するクリーンルームに関し、特にク
リーンルーム天井部に設置するファンフィルタユニット
（以下、ＦＦＵと呼ぶ）の運転制御するＦＦＵの制御シ
ステム及びそれを備えたクリーンルームに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にクリーンルームの清浄度は、クリ
ーンルーム内の製造工程によりクラス１、１０、１０
０、１,０００程度に区別され、この清浄度はＦＦＵの
吹き出し風速によるクリーンルーム内気流循環回数やＨ
ＥＰＡフィルタ、ＵＬＰＡフィルタ等のフィルタグレー
ドにより区別される。また近年ではボロンガスが発生し
ないＰＴＦＥフィルタやガラス繊維フィルタから発生す
るボロン発生量を低減した低ボロンフィルタ等を製造工
程ごとに使い分けている。
【０００３】前記クリーンルーム内でクラス１、１０程
度の高清浄度を得るためには、クリーンルーム内気流循
環回数だけではなくクリーンルーム内の気流方向も重要
な要素である。
【０００４】従来のＦＦＵは、図１６に示すようにモー
タ４によりファン３を回転し、吸込み口７から空気を吸
込み、ＦＦＵ１下部のフィルタ２で空気をろ過すること
により清浄空気９を吹き出す構造である。そしてクリー
ンルーム内の清浄度は清浄空気９の吹き出し風速、方向
を調整することにより維持している。
【０００５】またクレーンルームへのＦＦＵの吹き出し
風速を調整する手段として、特開平１１−２１８３５３
号公報（従来技術１）に開示されているように各々のＦ
ＦＵのフィルタ上流側とフィルタ下流側に差圧センサを
設け、フィルタ２の静圧を検出しフィルタの静圧−風量
の特性からＦＦＵ吹き出し風速を算出し、インバータな
どのモータ回転数制御手段により吹き出し風速を制御し
ていた。
【０００６】また特開平９−９６４３１号公報（従来技
術２）にはクリーンルーム内のダウンフローの乱れを防
止するため、クリーンルーム内の床部に風量調整板を備
え、床部の通気孔を通る風量を計測し、一定の風量が得
られるように制御することが記載されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来技術１で
は、各ＦＦＵ単体に差圧センサを設けてＦＦＵの吹き出
し風速を調整しているが、クリーンルームの天井部に設
けたＦＦＵの位置情報や天井チャンバ内の圧力情報より
クリーンルーム内の気流の方向を制御することは考慮さ
れていない。
【０００８】また、従来技術２においては、クリーンル
ーム床部の通気孔の風量を計測して床部の風量を一定に
することが記載されているが、クリーンルーム内の風速
を計測してクリーンルーム内の風量を制御することは考
慮されていない。
【０００９】このように、上記いずれの従来技術におい
てもクリーンルーム内の清浄度を向上させることは不十
分であった。
【００１０】本発明の目的は、クリーンルーム内の清浄
度を向上させるため、クリーンルームの天井部に設置し
たＦＦＵの吹き出し気流の方向及び風量を制御できるよ
うにしたＦＦＵ制御システムを提供することにある。
【００１１】また本発明の他の目的は、クリーンルーム
内の風速分布を改善するため、天井チャンバ内の圧力を
均一化し、さらにＦＦＵの回転数制御を容易にした制御
システムを備えたクリーンルームを提供することにあ
る。
【００１２】さらに本発明の他の目的は、クリーンルー
ム内の気流の方向を制御するため、クリーンルーム内の
グレーチング床の下部にダンパ調整機構を設けたクリー
ンルームを提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、クリーンルーム天井部に配置したＦＦＵ
と該ＦＦＵを制御する制御装置とを有したＦＦＵ制御シ
ステムにおいて、前記ＦＦＵ位置情報と前記クリーンル
ームの天井チャンバ内に配置した差圧計の圧力情報によ
り前記ＦＦＵのファンモータ回転数を制御する。
【００１４】また、前記ＦＦＵ制御システムにおいて、
制御画面に前記ファンモータの回転数制御後の計算風量
を表示する。
【００１５】また、前記ＦＦＵ制御システムとクリーン
ルーム天井部にファンを配置したクリーンルームにおい
て、天井チャンバ内の差圧計情報により前記クリーンル
ーム天井内ファンを制御する。
【００１６】また、クリーンルーム天井部に配置したＦ
ＦＵと、該ＦＦＵを制御する制御装置と、前記クリーン
ルーム内に配置した風速計と、前記クリーンルーム床下
に配置したファンとを具備したクリーンルームであっ
て、前記風速計の情報により前記床下ファンの回転を制
御する。
【００１７】また、クリーンルーム天井部に配置したＦ
ＦＵと、該ＦＦＵを制御する制御装置と、該クリーンル
ーム内に設けた風速計と、前記クリーンルームの床下に
設けたダンパとを具備したクリーンルームであって、前
記風速計の情報により前記床下ダンパの開口率を制御す
る。
【００１８】また、クリーンルーム天井部に配置したＦ
ＦＵと、該ＦＦＵを制御する制御装置と、前記クリーン
ルーム内に設けた風速計と、開口率を調整可能なクリー
ンルームのグレーチング床より構成されるクリーンルー
ムであって、前記風速計の情報により前記グレーチング
床の開口率を制御する。
【００１９】また、クリーンルーム天井部に配置したＦ
ＦＵと、該ＦＦＵを制御する制御装置と、前記ＦＦＵに
配置された差圧計とを具備したクリーンルームにおい
て、前記ＦＦＵに設けた差圧計の情報により該ＦＦＵの
寿命を演算し、画面に表示する。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を用いて説明
する。 <第１実施の形態>（天井差圧計） 図１は、本発明の第１実施の形態を示すＦＦＵ制御シス
テムを備えたクリーンルームである。
【００２１】図１において、クリーンルーム天井面には
天井アルミフレーム１７が格子状に敷き詰められてお
り、天井アルミフレーム１７上にはＦＦＵ１が設置され
ている。ＦＦＵ１は天井チャンバ１９の空気を吸込み、
清浄化した空気をクリーンルーム内に吹き出す。清浄化
した空気はクリーンルーム内気流１８となり、クリーン
ルーム床面のグレーチング床２０を通りグレーチング床
下を経由して、リターンエリア３９から天井チャンバ１
９に戻る。このようにクリーンルームでは清浄空気を循
環させてクリーンルーム内を清浄化している。本発明で
は、天井チャンバ１９内に天井チャンバ内差圧計２７を
数カ所に配置している。
【００２２】この差圧計の配置について次に述べる。
【００２３】図２は、本発明のＦＦＵ制御システムの表
示画面を示す。表示画面には、クリーンルームのレイア
ウトすなわちＦＦＵや差圧計などの設置位置やＦＦＵの
情報等を表示する。レイアウト画面３６にクリーンルー
ムのレイアウトを示し、レイアウト画面３６の上部には
リターンエリア３９を表示している。またレイアウト画
面３６上に天井チャンバ内差圧計２７の位置を黒丸で示
しているが、列に配置している。列で配置する理由は後
で述べる。
【００２４】また天井チャンバ内差圧計２７の位置情報
をＦＦＵ制御システムに定義しておけば画面に表示する
必要はない。レイアウト画面３６の左上部には拡大機能
を有し、拡大表示できるようにしている。レイアウト画
面上の格子は天井アルミフレーム１７を示し、１つの格
子が１個のＦＦＵ１を表しており、天井アルミフレーム
１７上の×印は天井アルミフレーム１７上にＦＦＵ１が
取り付いていない個所を示している。
【００２５】ＦＦＵ情報表示画面３７には、ＦＦＵ１の
据付位置座標、定義付けエリア名称、定義付けグループ
名称、ＦＦＵ管理番号、運転モード、運転速度を表示
し、ＦＦＵ個別に情報が分かるようになっている。ＦＦ
Ｕ１の制御にはＦＦＵ１の位置座標の管理がフロアレイ
アウトに対応する上で重要である。ＦＦＵ１の制御では
数台纏めて同じ動作をすることが多いため、ＦＦＵをエ
リア、グループに定義付けしている。ＦＦＵ数台を１グ
ループとして定義、数グループを１エリアとして定義す
ることを可能にしている。これにより半導体、液晶など
の電子デバイス製造において、いろいろな製造工程の職
場ごとにエリア分けし、その中で製造装置上ごとにグル
ープ分けしＦＦＵの風速制御して最適な分布を持たせる
ことができる。
【００２６】次に本発明のＦＦＵについて説明する。
【００２７】図３は、本発明のＦＦＵ構造図を示す。Ｆ
ＦＵ１の本体上部に吸い込み口７を持ち、本体内のモー
タ４によりファン３を回転させ空気を吸い込み、フィル
タ２で空気をろ過し、清浄空気９として吹き出す。本発
明は、モータ４の回転数制御にＤＣＢＬモータやインバ
ータを設け、ＦＦＵ１上部にモータコントローラ５を搭
載し、外部から通信子局６によりコントローラ５を制御
することができる。
【００２８】このように本発明では、図１及び図２に示
すように天井チャンバ内差圧計２７を配置し、その情報
をＦＦＵ制御システムに取り込むことによりＦＦＵ１を
制御している。また図１に示すようにクリーンルームの
片側にリターンエリア３９を配置している場合、クリー
ンルーム内気流１８は、ＦＦＵ１から吹き出された後、
リターンエリア３９に吸込まれるためクリーンルーム内
の気流が垂直に流れない斜流という現象が生じる。
【００２９】この斜流を避けるため、一般的にグレーチ
ング床下寸法を大きく取るが、近年の製造装置の大型化
により清浄空間を大きくする必要があり床下寸法を大き
く取れない状況になってきている。
【００３０】リターンエリア３９を通った気流は天井チ
ャンバ１９に戻り順次リターンエリア３９側のＦＦＵ１
に吸込まれる。また天井チャンバ１９の高さが大きく取
れる場合、天井チャンバ１９内を流れる気流は遅くなる
が、天井チャンバ１９の高さが低い場合、天井チャンバ
１９内の気流が速くなるため流路抵抗による機外静圧が
増加する。更に天井チャンバ１９内を気流が流れる長さ
がリターンエリア３９側と天井チャンバ１９の奥とでは
異なるため天井チャンバ１９内に機外静圧に分布が生じ
る。第１実施の形態では、この機外静圧分布に対応すべ
く、列ごとに天井チャンバ内差圧計２７を配置してい
る。
【００３１】次に本発明のＦＦＵの制御システムについ
て説明する。
【００３２】図４は図１のＦＦＵの制御システムのブロ
ック図を示す。図４においてＦＦＵには電源回路５９、
モータ６４、モータ６４を駆動するドライバ回路６１、
モータ６４の回転数を外部からコントロールするための
通信回路６０、ＦＦＵ１に吸い込まれる空気の圧力と吹
き出し時の空気の圧力を計測する差圧計６２、空気をク
リーンルーム内に吹き出す時の風速を計測する風速計６
３により構成する。ＦＦＵは同じ構成のものが複数配置
される。これらＦＦＵを監視する監視室５０を有し、監
視室５０は制御プログラムを有するパーソナルコンピュ
ータ５１と、パーソナルコンピュータ５１から制御指令
を受け、ＦＦＵ等を制御するＰＬＣ（Programmable Lo
gic Controller）と、ＰＬＣの情報を制御命令に変換
する変換器と、ＦＦＵ等の制御状況を表示する表示画面
５３より構成する。
【００３３】またクリーンルーム６５においては、クリ
ーンルームの天井チャンバ内に配置した差圧計センサ６
６、クリーンルーム内３次元の風速を計測するクリーン
ルーム内３次元風速計６７、クリーンルーム内塵埃濃度
計６８、作業者を検知する赤外線センサ６９、製造装置
の稼動を検知する製造装置稼動センサ７０、クリーンル
ームのグレーチング床の開口率を稼動するグレーチング
床開口率稼動回路７２、クリーンルームの床下ダンパを
稼動する床下ダンパ稼動回路７３、床下に設けたファン
を稼動する床下ファン稼動回路７４、天井チャンバ内に
設けたファンを稼動する天井チャンバ内ファン稼動回路
７５との情報をやり取りし、監視室のコンピュータ５１
は制御する。また、図４において、ＦＦＵの通信回路の
電源回路はＦＦＵの電源回路より電源を供給するように
しているが、それは監視室のパーソナルコンピュータ、
ＰＬＣの電源がダウンしてもＦＦＵ側の電源を供給でき
れば、ＦＦＵは動作し続けるようにしたためである。そ
してその動作はＦＦＵに搭載する通信回路が次の指令値
が来るまで前の指令値を記憶することにより可能とな
る。
【００３４】次に図４のＦＦＵの制御ブロック図を具体
的に示したのが図５のＦＦＵ制御システムのシステム構
成図の具体例である。
【００３５】図５において、監視室パーソナルコンピュ
ータ１０からの信号はＨＵＢ１２，Ｅｔｈｅｒｎｅｔを
経由して制御盤１４のＨＵＢ１２からＰＬＣ１３に入力
される。ＰＬＣ１３の信号はインターフェースユニット
１５から各インターフェースユニット１５に接続される
ＦＦＵ１の通信子局６に伝えられる。監視室パーソナル
コンピュータ１０とＰＬＣ１３への電源は停電時を考慮
し、ＵＰＳ１１から電源を供給しているが一般の電源か
らでもよい。
【００３６】また本発明では、クリーンルームの天井チ
ャンバ内差圧計情報を変換器を通してＰＬＣ１３に入力
している。この情報は監視室パーソナルコンピュータ１
０に取り込むことも可能であるが、装置の信頼性を考慮
し、本実施の形態ではＰＬＣ１３に取りこんでいる。次
にＦＦＵの特性について述べる。
【００３７】図６は、本発明のＦＦＵの風量−静圧特性
図を示す。ＤＣＢＬモータによるファン性能曲線は、図
６のように回転数ごとに決まった風量、静圧を得ること
ができ、各回転数の特性が既知で無くても、ファン性能
の特性は風量は回転数比に比例、静圧は回転数比の二乗
に比例することから、各回転数での性能が精度良く推定
できる。従って必要風量を得るには、機外静圧条件が分
かっていれば、風量−静圧特性から必要な回転数指令値
を得ることができる。図１のクリーンルームのようにリ
ターンエリア３９がクリーンルームの片方の場合、リタ
ーンエリア３９側の機外静圧は小さくリターンエリアと
は反対のクリーンルーム奥側での機外静圧は大きくな
る。この機外静圧情報は天井チャンバ１９内に配置した
天井チャンバ内差圧計１７からＦＦＵ制御システムに取
り込む。このシステムのＦＦＵ情報には位置情報も定義
しているので各天井チャンバ内差圧計２７の受け持つＦ
ＦＵ位置座標を定義することによりどの位置のＦＦＵの
機外静圧は、現在いくらであるかを把握することができ
る。この天井チャンバ内差圧計２７の設置台数を増や
し、個々の天井チャンバ内差圧計２７の受け持つＦＦＵ
台数を減らすほど、より精度の高い制御が可能となる。
この機外静圧情報によりどのＦＦＵのＤＣＢＬモータは
何回転で運転すれば必要風量が得られるかが分かる。こ
のＤＣＢＬモータの運転回転数をＦＦＵに指令し、風量
を制御する。たとえば機外静圧情報が70Paであった場
合、20m3/minの風量を得るには、ＤＣＢＬモータを1000
min-1で回転すれば良いことが分かる。また初回据付後
天井チャンバ内の圧力分布が既知であり、制御システム
内に判定条件として取りこんでいる場合、初期値の機外
静圧より高い情報の機外静圧となったとき、異常と判定
し出力することができる。休日の在室人数が少ない場合
や製造装置の稼動していないエリアはＦＦＵの風量を落
としても清浄度が維持できる場合があり、このＦＦＵの
運転風量を落とすことにより省エネが得られる。ＦＦＵ
の運転風量が低下し天井チャンバ１９内を通る風量が低
下すると、流路抵抗が低下することにより機外静圧も低
下し、機外静圧が低下しても天井チャンバ内差圧計２７
と省エネ時の必要風量により風量−静圧特性からモータ
の運転回転数を割り出し、ＦＦＵ１に回転数指令を与え
ることもできる。
【００３８】図７は、本発明のインバータ制御方式ＦＦ
Ｕの風量−静圧特性図である。インバータ制御の場合、
三相誘導電動機の電源周波数を制御するため、その特性
はある電源周波数でのモータトルク、回転数と風量×静
圧の仕事量がバランスした点で運転する。そのため本発
明のＦＦＵ制御システムからファン性能制御のためイン
バータ電源周波数の指令を出す場合、各電源周波数での
風量−静圧特性が既知である必要がある。また各電源周
波数での風量−静圧特性が既知でない場合、ＦＦＵ１が
搭載する天井アルミフレーム１７に風速計２６を取り付
け、この風速情報をＦＦＵ制御システムに取り込み制御
する方法がある。そのときの制御ブロック図を図４に示
す。各ＦＦＵの風速計の風速情報は各ＦＦＵの通信回路
を経由し、ＰＬＣ、パーソナルコンピュータに伝達され
る。この風量計情報により各ＦＦＵのインバータ電源周
波数にフィードバックを掛け、運転風量を制御する。
【００３９】以上により、天井内の機外静圧分布に対応
してＦＦＵ性能を自動制御できるので、クリーンルーム
据付時の気流調整期間を短縮することができる。 <第２実施の形態>（風量表示） 図８は第２実施の形態を示すＦＦＵ情報表示画面であ
る。ＦＦＵ制御システムがＦＦＵに出す指令は、回転数
指令や電源周波数指令であるが、ＦＦＵの機外静圧条件
により同じ指令値であってもその運転風量は異なる。ク
リーンルーム設備管理者は回転数指令値ではなく運転風
量を管理することが必要である。本システムは、どのＦ
ＦＵは機外静圧が幾らの状態でファンは何回転で回って
いるから風量は幾らであるかが個々に分かる。従って、
ＦＦＵ情報表示画面３７の速度設定の欄は、風量で表示
することができる。同一風量で表示してあっても、制御
システム内ではＦＦＵ据付位置の機外静圧の違いにより
異なった回転数指令値で運転している。
【００４０】以上により、回転数指令値と機外静圧情報
によりＦＦＵの処理風量を計算し表示しているので、清
浄度計算の目安となる処理風量調整が的確となり、クリ
ーンルームの適切な運営が可能となる。 <第３実施の形態>（天井ファン） 図９は本発明の第３実施の形態を示すＦＦＵ構造図であ
る。天井チャンバ１９内の機外静圧はＦＦＵ１の吸い込
み風量に引っ張られ奥に行くほど大きくなる。この現象
はＦＦＵ１上の天井チャンバ内の高さが低くなればなる
ほど顕著に現れる。そして機外静圧が大きくなった場
合、ＦＦＵ１用ファンモータの回転数を上げるとファン
の仕事量が増え、高機外静圧時でも必要風量を得ること
ができるが、回転数が大きくなると騒音も増大する欠点
がある。第３実施の形態では、図９に示すように天井チ
ャンバ内にファン２２を配置し、クリーンルーム天井奥
側への静圧を補助している。図９の中のグラフに示すよ
うにクリーンルーム奥側にいくに従って天井チャンバ内
の機外静圧は上昇するが、天井チャンバ内ファン２２の
静圧補助により一旦機外静圧が減少し、再び奥に行くに
従って機外静圧が大きくなる。この天井チャンバ内ファ
ン２２により天井チャンバ内の静圧をクリーンルーム全
体に均一に保つことができる。
【００４１】また、図４の制御ブロック図に示すよう
に、天井チャンバ内ファン２２の稼動を制御システムか
らコントロールすることにより天井チャンバ内差圧計情
報によりフィードバックの掛かったより精度の高い制御
が可能となる。 <第４実施の形態>（３次元風速計と床下ファン） 図１０に第４実施の形態を示すクリーンルーム床下構成
図を示す。 図１０に示すようにクリーンルームグレー
チング床下を数カ所の空間に仕切り、その仕切り部４１
に床下設置ファン２３を設ける。仕切り部４１により仕
切られた各床下は、床下設置ファン２３の性能により、
それぞれ異なった陰圧となる。床下に仕切り２３が無い
場合、クリーンルーム内気流は、グレーチング床下のリ
ターンエリア３９側の陰圧に引っ張られ、グレーチング
床に吸込まれる。クリーンルームでは、気流が垂直にグ
レーチング床に吸込まれるよう床下深さ寸法を大きく取
り、グレーイング床下の陰圧分布を少なくしている。グ
レーチング床下寸法が深く取れない場合、床下の陰圧は
床下を流れる流路抵抗によりリターンエリア側３９で大
きく、クリーンルーム奥側で小さくなる。従って、クリ
ーンルーム内気流１８が全体にリターンエリア側に寄っ
た斜流となる。本発明では、このグレーチング床下の陰
圧分布を無くすため床下を数カ所に分け床下設置ファン
２３の能力により陰圧分布を少なくしている。
【００４２】図１に第４実施の形態を示すクリーンルー
ムの３次元風速計設置例を示す。また図４に３次元風速
計情報による床下稼動ファンを制御する場合の制御ブロ
ック図を示す。３次元風速計２５をクリーンルーム内に
設置することにより、クリーンルーム内気流がどちらを
向いているかが分かる。この３次元風速計情報により本
発明では床下設置ファン２３を制御するものである。た
とえば３次元風速計情報が、クリーンルーム内気流１８
がリターンエリア３９側を向いていると、制御システム
に情報を送った場合、制御システムは反リターンエリア
側の床下設置ファン２３のファン能力をアップし、反リ
ターンエリア側のグレーチング床下の陰圧を強くする。
これによってリターンエリア側を向いていた気流は反リ
ターンエリア側の陰圧に引っ張られる。床下設置ファン
２３を複数台設置した場合、クリーンルーム内の３次元
風速計２５の情報により更にきめこまかい制御が可能と
なる。図５に３次元風速計、床下設置ファンを用いた場
合のＦＦＵ制御システム構成図を示す。３次元風速計の
情報を、変換器を通してＰＬＣ１３に取り込み、取り込
んだ情報により気流がどの方向を向いているかを判断し
その方向を修正すべく床下設置ファン２３に指令値を出
す。床下設置ファンのファン性能を調整する手段はイン
バータなどを用いる。
【００４３】以上により、床下設置ファンによるクリー
ンルーム内気流の斜流制御が可能となる。 <第５実施の形態>（３次元風速計と床下ダンパ） 図１１に第５実施の形態を示すクリーンルーム床下構成
図を示す。第４実施の形態と同様に図１に示すようにク
リーンルーム内に３次元風速計２５を設け、クリーンル
ーム内気流１８の流入角度を計測している。床下は図１
１に示すように数カ所の空間で仕切り、その仕切り内に
は床下設置ダンパ２４を配置している。床下の空間を数
カ所に仕切ることにより第４実施の形態と同様に各空間
の陰圧を個別に調整することが可能をなる。床下の気流
はリターンエリア３９の陰圧に引っ張られている。この
陰圧をリターンエリア側、反リターンエリア側で分布を
調整できるように、床下の仕切られた空間にダンパを設
けている。たとえばクリーンルーム内気流１８がリター
ンエリア側を向いていた場合、床下の仕切られた奥側の
空間のダンパ２３を開くことによりクリーンルーム奥側
の床下の陰圧が強くなり、クリーンルーム内気流１８は
その陰圧に引っ張られクリーンルーム奥側のグレーチン
グ床に流れる。床下の仕切られた空間を増やすことによ
りクリーンルーム内の３次元風速計２５と床下設置ダン
パ２４によりより精度の高い制御が可能となる。第５実
施の形態の制御ブロック図を図４に示す。クリーンルー
ム内３次元風速計情報によりクリーンルーム内の風向を
判断し、風向を向けるべき方向の床下の仕切られた空間
の床下設置ダンパを開く。この制御によりクリーンルー
ム内気流１８を垂直に制御することが可能となる。以上
により、床下設置ダンパによるクリーンルーム内気流の
斜流制御が可能となる。 <第６実施の形態>（３次元風速計とグレーチング開口） 図１２に第６実施の形態を示すクリーンルームグレーチ
ング床構造図を示す。図１２では、グレーチング床高効
率を反リターンエリア側から６０％、４０％、２０％に
制御した状態を示している。グレーチング床の開口率を
変更することにより、開口率の大きいところは気流が通
りやすく、開口率の小さいところは気流が通りにくくな
る。従ってクリーンルーム内気流１８がリターンエリア
側を向いていた場合、リターンエリア側の開口率を小さ
く、反リターンエリア側のグレーチング開口率を大きく
することによりクリーンルーム内気流１８は反リターン
エリア側を向く。このようにクリーンルーム内気流１８
の斜流制御は、グレーチング床の開口率を制御すること
により可能である。グレーチングの開口率を調整する手
段としては、従来技術２に示すようにグレーチング開口
稼動部４０を操作することにより可能であるが、第６実
施の形態では、図１に示す３次元風速計２５の情報によ
りＦＦＵ制御システムで、グレーチング床全体の開口率
を個別に制御するものである。その制御ブロック図を図
４に示す。クリーンルーム内３次元風速計情報によりク
リーンルーム内気流１８の気流方向を判断する。クリー
ンルーム内気流がリターンエリア側を向いていた場合、
グレーチング床の開口率は反リターンエリア側を大き
く、リターンエリア側を小さくする。このことによりク
リーンルーム内気流１８が垂直に流れるが、反対側に斜
流となった場合反リターンエリア側の開口率を小さくし
てフィードバックを掛けてやれば良い。グレーチング床
寸法は一般に一つで６００ｍｍ×６００ｍｍサイズであ
るので、第６実施の形態のように、クリーンルーム内気
流１８を３次元風速計２５で測定しながら、グレーチン
グ床の開口率を個々に制御するので、よりキメこまやか
な制御が可能となる。
【００４４】以上により、３次元風速計と開口率稼動式
グレーチングによるクリーンルーム内気流斜流制御が可
能となる。 <第７実施の形態>（差圧計とフィルタ寿命） 図１３に第７実施の形態であるＦＦＵ構造図とフィルタ
特性を示す。ＦＦＵ１の加圧チャンバにＦＦＵ差圧計２
８を取り付ける。ＦＦＵ吸込み口７から吸込まれた空気
はＦＦＵ内で加圧され、フィルタ２を通り清浄空気とし
て吹きだされる。フィルタの特性は図１３に示すように
使い始めの初期は圧力損失が低いが、使用し塵埃を保持
してくると圧力損失は高くなる。この高くなった圧力損
失によりフィルタの寿命を判定することが可能である。
第７実施の形態では、その圧力情報を利用してフィルタ
寿命を表示している。その制御ブロック図を図４に示
す。ＦＦＵ１の差圧計は各ＦＦＵに搭載するため、その
差圧情報は各ＦＦＵの通信回路に伝えられる。各ＦＦＵ
の通信回路は個別の番地を持つため、各ＦＦＵの差圧計
情報は個別に制御システムに伝達される。従って、制御
システムに終期差圧の判定圧力情報を定義することによ
り、各ＦＦＵのフィルタ寿命を判定することが可能とな
る。また図５に第７実施の形態のシステム構成図を示
す。図５に示すように差圧計２８の情報は各ＦＦＵの通
信子局６に伝わりＦＦＵ個別の差圧計情報として制御シ
ステムに伝達される。このようにＦＦＵ個別に情報があ
るため製造工程別に使用するフィルタが異なり、初期圧
損、終期圧損が異なっても、ＦＦＵ個別情報と個別の終
期圧損情報で、フィルタの寿命を判定することが可能と
なる。
【００４５】以上により、的確なフィルタ寿命が分かる
クリーンルームシステムが可能となる。 <第８実施の形態>（エアシャワー入室管理） 図１４に第８実施の形態を示すクリーンルームレイアウ
ト図を示す。図１４では説明上、ファンフィルタユニッ
ト制御モニタ画面にクリーンルームシステムを重ねてい
る。クリーンルームで作業する人３４は、クリーンルー
ム入室時エアシャワー３１を通り体に付着した塵埃を落
としている。これはクリーンルームの清浄度を維持する
ために塵埃を持ちこまないためである。クリーンルーム
内の発塵源は稼動している製造装置３５もあるが、人か
らの発塵が最も注意する発塵である。したがってクリー
ンルーム内の在室人員が多いと発塵も多くなる。このこ
とに着目し、第８実施の形態では、クリーンルーム内在
室人数に応じてＦＦＵ１の吹き出し気流を調整するもの
である。図５に第８実施の形態をしめす制御ブロック図
を示す。エアシャワーに入室カードを取り付け、クリー
ンルーム内入室者は必ずエアシャワーに入室カード差込
み、クリーンルーム内に入室することにより、何時、誰
がクリーンルーム内に入ったかが管理できる。また退室
事も入室（退室）カードを利用することにより、現在ク
リーンルーム内に何人いるかが制御システム側で把握で
きる。在室人数が分かると、在室人数からクリーンルー
ム内の発塵量を推定し、ファンフィルタユニットの処理
風量を大きくする指令を制御システムから出すことが可
能となる。同様にクリーンルーム内在室人数が減った場
合、ファンフィルタユニットの処理風速を必要最小限ま
で下げ、省エネを図ることが可能となる。
【００４６】以上により、クリーンルーム内の在室人数
（発塵量）に合わせたＦＦＵ処理風量の制御が可能とな
り、必要以上に風速を上げないことによるクリーンルー
ムの省エネ運転が可能となる。 <第９実施の形態>（赤外線センサ） 図１４に第９実施の形態を示すクリーンルームレイアウ
ト図を示す。クリーンルーム内に赤外線センサ３３を配
置し、赤外線情報を監視している。図５は第９実施の形
態をしめす制御ブロック図を示す。赤外線センサ３３の
情報はＰＬＣを介しパーソナルコンピュータに伝えられ
ている。赤外線センサ情報によりクリーンルーム内の温
度が高い部分の情報が分かるが、製造装置に発熱源が有
った場合、その位置は変化しない。人間の熱源情報は移
動するので、この赤外線センサ情報を利用することによ
りクリーンルーム内に現在何人入っているかが、制御シ
ステム側で把握できる。第８実施形態同様、この在室人
数によりＦＦＵの風速を制御することが可能となる。
【００４７】以上により、クリーンルーム内の在室人数
（発塵量）に合わせたＦＦＵ処理風量の制御が可能とな
り、必要以上に風速を上げないことによるクリーンルー
ムの省エネ運転が可能となる。 <第１０実施の形態>（塵埃濃度計） 図１４に第１０実施の形態を示すクリーンルームレイア
ウト図を示す。クリーンルーム内の要所に塵埃濃度計２
９を配置している。図５は第１０実施の形態をしめす制
御ブロック図を示す。クリーンルーム内塵埃濃度計の情
報をＰＬＣを介しパーソナルコンピュータに伝えてい
る。塵埃濃度計情報取り込みの定義時、クリーンルーム
内の位置情報も定義付けする。制御システムは各ＦＦＵ
の位置情報を有しているので、どの塵埃濃度計の上には
そのＦＦＵが配置してあるかが、制御システム側で分か
ることとなる。従って塵埃濃度の高い位置だけＦＦＵに
風速をアップし空間を速やかに清浄化する制御が可能と
なる。同様に塵埃の少ない空間のＦＦＵは処理風量を必
要最小限まで下げることも可能となる。
【００４８】以上により、クリーンルーム内塵埃の多少
の位置に対応してＦＦＵの風速制御できるのでクリーン
ルームの効率的運転が可能となる。 <第１１実施の形態>（FFU異常バックアップ） 図１５に第１１実施の形態を示すＦＦＵ制御説明レイア
ウト図を示す。クリーンルーム内の清浄度を維持するに
はＦＦＵの処理風量を維持することが不可欠である。万
が一、ＦＦＵに異常が発生しＦＦＵが停止した場合、そ
のＦＦＵ直下の清浄度維持が困難となる。本制御システ
ムではＦＦＵの位置情報を持っているので停止したＦＦ
Ｕの周りのＦＦＵに風量アップの指令を出すことができ
る。異常停止したＦＦＵの周りのＦＦＵの風速が上昇す
ることによりその辺りの空間の清浄度維持が可能とな
る。異常が発生しているＦＦＵが制御画面に表示し、ク
リーンルーム設備管理者がＦＦＵに処置を施し正常にす
る。周囲のＦＦＵは周りに異常なＦＦＵがないと判断し
通常の運転に戻る。
【００４９】以上により、ＦＦＵに異常が発生しても気
流清浄度の低下を最小限に食い止める制御システムを提
供することが可能となる。 <第１２実施の形態>（積算運転時間によるフィルタ寿
命） 図８に第１２実施の形態を示すＦＦＵ情報表示画面を示
す。フィルタ寿命を判定する場合、第７実施の形態に示
すようにフィルタ圧力損失の情報により判定する場合も
あるが、クリーンルーム内の塵埃が少ない場合、終期圧
力損失まで圧力は上昇せず使用時間により寿命を判断す
る場合がある。第１２の実施の形態では、使用時間を積
算し判定条件として入力した時間より長く運転した場
合、寿命をなったＦＦＵの積算運転時間を赤くブリンク
するなど表示したものである。積算運転時間によりフィ
ルタの寿命を判断する場合、ＦＦＵ運転時間によりフィ
ルタにいくらの塵埃が積算したかを目安にするものであ
る。本発明ではＦＦＵの運転時間の他に、第１０実施の
形態に示すようにクリーンルーム内の塵埃濃度も情報と
して入手することができる。従って、所定のＦＦＵ周囲
の塵埃濃度を運転時間と積分し、より実際のフィルタ塵
埃処理量に近い数値でフィルタ寿命を判断することが可
能となる。
【００５０】
【発明の効果】本発明によれば、クリーンルームの天井
部に設けたＦＦＵと天井チャンバ内に設けた差圧計など
の位置情報や圧力情報によりクリーンルーム内に吹出す
気流の方向、風量を制御することにより、クリーンルー
ム内の清浄度がより向上する効果を奏する。
【００５１】また、本発明によれば、ＦＦＵ制御システ
ムにおいてクリーンルーム内に設けた風速計の風速情報
により、床部の下に設けたファンやダンパを制御できる
ためクリーンルーム内の清浄度が向上する効果を奏す
る。
【００５２】また本発明によれば、ＦＦＵ制御システム
において、制御画面にファンモータの回転数制御後の計
算風量を表示するため使い勝手に優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施の形態を示すＦＦＵ構造図で
ある。
【図２】本発明の第１実施の形態を示すＦＦＵ制御シス
テムの制御画面である。
【図３】本発明の第１実施の形態を示すＦＦＵ構造図で
ある。
【図４】本発明のＦＦＵ制御システムの制御ブロック図
である。
【図５】本発明の第７実施の形態を示すシステム構成図
である。
【図６】本発明の第１実施の形態を示すＦＦＵの風量−
静圧特性図である。
【図７】本発明の第１実施の形態を示すインバータ制御
方式ＦＦＵの風量−静圧特性図である。
【図８】本発明の第２実施の形態を示すＦＦＵ情報表示
画面である。
【図９】本発明の第３実施の形態を示すＦＦＵ構造図で
ある。
【図１０】本発明の第４実施の形態を示すクリーンルー
ム床下構成図である。
【図１１】本発明の第５実施の形態を示すクリーンルー
ム床下構成図である。
【図１２】本発明の第６実施の形態を示すクリーンルー
ムグレーチング床構造図である。
【図１３】本発明の第７実施の形態を示すＦＦＵ構造図
とフィルタ特性である。
【図１４】本発明の第８実施の形態を示すクリーンルー
ムレイアウト図である。
【図１５】本発明の第１１実施の形態を示すＦＦＵ制御
説明レイアウト図である。
【図１６】従来のＦＦＵ構成図である。
【符号の説明】
１…ＦＦＵ ２…フィルタ ３…ファン ４…ＤＣＢＬモータ ５…モータコントローラ ６…
通信子局 ７…吸い込み口 ８…吹き出し口 ９…清浄空気 １０…監視制御パーソナルコンピュータ １１…ＵＰ
Ｓ １２…ＨＵＢ １３…ＰＬＣ １４…制御盤 １５…インターフェースユニット １６…通信ケーブ
ル １７…天井アルミフレーム １８…クリーンルーム内気
流 １９…天井チャンバ ２０…グレーチング床 ２１…グレーチング開口 ２２…天井チャンバ内ファ
ン ２３…床下設置ファン ２４…床下設置ダンパ ２５…３次元風速計 ２６…風速計 ２７…天井チャンバ内差圧計 ２８…ＦＦＵ差圧計 ２９…塵埃濃度計 ３３…赤外線センサ ３１…エアシャワー ３５…製造装置 ３６…レイアウト画面 ３７…ＦＦＵ情報表示画面 ３８…クリーンルーム内気
流 ３９…リターンエリア ４０…グレーチング開口稼動部 ４１…仕切り
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 史之 新潟県北蒲原郡中条町大字富岡46番１ 株 式会社日立中条テクノロジー内 Ｆターム(参考） 3L058 BD01 BE02 BF01 BF07 BG01 BG04 3L060 AA08 CC09 DD02 3L061 BE02 BF07

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】クリーンルーム天井部に配置したファンフ
    ィルタユニットと該ファンフィルタユニットを制御する
    制御装置とを有したファンフィルタユニット制御システ
    ムにおいて、前記ファンフィルタユニット位置情報と前
    記クリーンルームの天井チャンバ内に配置した差圧計の
    圧力情報により前記ファンフィルタユニットのファンモ
    ータ回転数を制御することを特徴とするファンフィルタ
    ユニット制御システム。
  2. 【請求項２】請求項１記載のファンフィルタユニット制
    御システムにおいて、制御画面に前記ファンモータの回
    転数制御後の計算風量を表示することを特徴するファン
    フィルタユニット制御システム。
  3. 【請求項３】請求請１記載のファンフィルタユニット制
    御システムとクリーンルーム天井部にファンを配置した
    クリーンルームにおいて、天井チャンバ内の差圧計情報
    により前記クリーンルーム天井内ファンを制御すること
    を特徴とするファンフィルタユニット制御システムを備
    えたクリーンルーム。
  4. 【請求項４】クリーンルーム天井部に配置したファンフ
    ィルタユニットと、該ファンフィルタユニットを制御す
    る制御装置と、前記クリーンルーム内に配置した風速計
    と、前記クリーンルーム床下に配置したファンとを具備
    したクリーンルームであって、前記風速計の情報により
    前記床下ファンの回転を制御することを特徴とするクリ
    ーンルーム。
  5. 【請求項５】クリーンルーム天井部に配置したファンフ
    ィルタユニットと、該ファンフィルタユニットを制御す
    る制御装置と、該クリーンルーム内に設けた風速計と、
    前記クリーンルームの床下に設けたダンパとを具備した
    クリーンルームであって、前記風速計の情報により前記
    床下ダンパの開口率を制御することを特徴とするクリー
    ンルーム。
  6. 【請求項６】クリーンルーム天井部に配置したファンフ
    ィルタユニットと、該ファンフィルタユニットを制御す
    る制御装置と、前記クリーンルーム内に設けた風速計
    と、開口率を調整可能なクリーンルームのグレーチング
    床より構成されるクリーンルームであって、前記風速計
    の情報により前記グレーチング床の開口率を制御するこ
    とを特徴とするクリーンルーム。
  7. 【請求項７】クリーンルーム天井部に配置したファンフ
    ィルタユニットと、該ファンフィルタユニットを制御す
    る制御装置と、前記ファンフィルタユニットに配置され
    た差圧計とを具備したクリーンルームにおいて、前記フ
    ァンフィルタユニットに設けた差圧計の情報により該フ
    ァンフィルタユニットの寿命を演算し、画面に表示する
    ことを特徴とするクリーンルーム。
  8. 【請求項８】クリーンルーム天井部に配置したファンフ
    ィルタユニットと、該ファンフィルタユニットを制御す
    るファンフィルタユニット制御装置と、前記クリーンル
    ーム出入口に設置したエアシャワー装置と、前記エアシ
    ャワーへの入室を管理する制御装置とより構成されたク
    リーンルームにおいて、前記クリーンルームの在室人数
    より前記ファンフィルタユニットのファンモータ回転数
    を制御することを特徴とするクリーンルーム。
  9. 【請求項９】クリーンルーム天井部に配置したファンフ
    ィルタユニットと、該ファンフィルタユニットを制御す
    る制御装置と、前記クリーンルーム内に配置しクリーン
    ルームの在室人数を感知する赤外線センサとから構成す
    るファンフィルタユニット制御システムを備えたクリー
    ンルームであって、前期赤外線センサによる在室人数情
    報により前記ファンフィルタユニットのファンモータ回
    転数を制御することを特徴とするファンフィルタユニッ
    ト制御システムを有したクリーンルーム。
  10. 【請求項１０】クリーンルーム天井部に配置したファン
    フィルタユニットと、該ファンフィルタユニットを制御
    する制御装置とを有したファンフィルタユニット制御シ
    ステムにおいて、前記ファンフィルタユニットを複数グ
    ループ分けし、前記クリーンルーム内のグループ分けし
    たエリア内に配置した塵埃濃度計の情報によりファンモ
    ータ回転数を制御することを特徴とするファンフィルタ
    ユニット制御システム。
  11. 【請求項１１】クリーンルーム天井部に配置したファン
    フィルタユニットと、該ファンフィルタユニットを制御
    する制御装置とを有したファンフィルタユニット制御シ
    ステムにおいて、異常により吹き出し風速が低下したフ
    ァンフィルタユニットの周囲のファンフィルタユニット
    の吹き出し速度が速くなることを特徴とするファンフィ
    ルタユニット制御システム。
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Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004324939A (ja) * 2003-04-22 2004-11-18 Toyo Netsu Kogyo Kk クリーンルーム
JP2006300439A (ja) * 2005-04-22 2006-11-02 Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd エアシャワ装置
JP2009124462A (ja) * 2007-11-15 2009-06-04 Panasonic Corp 電力線通信を用いたファンフィルターユニットの監視制御システム
JP2013011460A (ja) * 2011-06-28 2013-01-17 Seiko Instruments Inc センサネットワークシステム
JP2013050222A (ja) * 2011-08-30 2013-03-14 Hitachi Appliances Inc 空気調和装置
CN103234244A (zh) * 2013-04-28 2013-08-07 姜天华 新型层流动态空气消毒机
JP2013228160A (ja) * 2012-04-26 2013-11-07 Shimizu Corp 電力制御システム
KR101489221B1 (ko) 2013-07-16 2015-02-04 주식회사 시스웍 다기능 청정공조 제어장치
CN107560024A (zh) * 2017-09-13 2018-01-09 中天道成（苏州）洁净技术有限公司 高精度高均匀度洁净室系统
JP2019158300A (ja) * 2018-03-16 2019-09-19 株式会社日立産機システム エアシャワー装置
WO2020004839A1 (ko) * 2018-06-29 2020-01-02 코웨이 주식회사 양 방향 토출 유로를 포함하는 공기 청정기 및 이를 제어하는 방법
JP6828924B1 (ja) * 2020-01-06 2021-02-10 Jms株式会社 排気排塵装置
KR102292956B1 (ko) * 2020-10-21 2021-08-25 정은복 공조장치
JP2021156574A (ja) * 2015-01-19 2021-10-07 ハルトン オサケ ユキチュア 室内環境条件制御
JP2021178701A (ja) * 2020-05-12 2021-11-18 株式会社ダイフク 計測装置
JP2022071116A (ja) * 2014-08-28 2022-05-13 ベルテック アソシエイツ インコーポレイテッド 制御された環境において空気をサンプリングするためのプログラマブルロジックコントローラに基づくシステムおよびユーザーインタフェース
CN116951594A (zh) * 2023-08-17 2023-10-27 上海程泉洁净技术有限公司 洁净室系统
US11808674B2 (en) 2008-02-07 2023-11-07 Veltek Associates, Inc. System and method for air sampling in controlled environments

Families Citing this family (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1624972A1 (en) * 2003-05-12 2006-02-15 USI Italia S.R.L. System for the control of a painting process in a spray booth, and spray booth therefor
EP1677893A4 (en) * 2003-09-15 2009-01-07 Medtek Devices Inc VACUUM ENGINE OPERATION ROOM EVACUATOR AND INTEGRATED FILTERS
EP1544553B1 (de) * 2003-12-18 2009-10-07 M+W Zander Products GmbH Einrichtung zur Konditionierung von Umluft, vorzugsweise von Reinluft
US7707931B2 (en) 2004-04-06 2010-05-04 West Liberty Foods, L.L.C. Clean room food processing systems, methods and structures
JP4443350B2 (ja) * 2004-08-27 2010-03-31 株式会社大気社 空調設備
JP4744175B2 (ja) * 2005-03-31 2011-08-10 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
US20060222478A1 (en) * 2005-03-31 2006-10-05 Tokyo Electron Limited Processing apparatus, and system and program for monitoring and controlling fan filter unit
DE202005009505U1 (de) * 2005-06-10 2006-10-19 M + W Zander Facility Engineering Gmbh Schwebstofffilter, insbesondere für den Einsatz in Reinräumen
US20070021050A1 (en) * 2005-06-16 2007-01-25 Kennedy Michael A System for providing and managing a laminar flow of clean air
US8147301B2 (en) * 2006-01-19 2012-04-03 Ray Ghattas Air handling system for clean room
JP4908859B2 (ja) * 2006-01-31 2012-04-04 三洋電機株式会社 空気除菌装置
SG136834A1 (en) * 2006-04-28 2007-11-29 Kyodo Allied Ind Ltd A method and apparatus for maintaining air characteristics in an air ventilated facility using fan filter units
JP2008032335A (ja) * 2006-07-31 2008-02-14 Hitachi High-Technologies Corp ミニエンバイロメント装置、検査装置、製造装置、及び空間の清浄化方法
JP2009002634A (ja) * 2007-06-25 2009-01-08 Unitec Inc ユニット型クリーンルーム
JP4827893B2 (ja) * 2008-06-27 2011-11-30 株式会社上村工業 クリーンエアー吹出し供給用の箱形ユニット装置
KR200453084Y1 (ko) * 2008-07-04 2011-04-20 (주) 옵티마인드솔루션 기류 감지 시스템
AU2009330055B2 (en) 2008-12-23 2015-11-05 Xoma (Us) Llc Flexible manufacturing system
CN101551144B (zh) * 2009-05-06 2012-01-04 友达光电股份有限公司 无尘室系统
KR20120054634A (ko) 2009-08-16 2012-05-30 지-콘, 엘엘씨 모듈식 자립형 이동식 청정실
US9795957B2 (en) * 2009-08-16 2017-10-24 G-Con Manufacturing, Inc. Modular, self-contained, mobile clean room
JP2011190967A (ja) * 2010-03-12 2011-09-29 Fujitsu Ltd 空調システム
CN101844661B (zh) * 2010-05-31 2012-05-23 友达光电股份有限公司 洁净仓储
CN102397728B (zh) * 2010-09-17 2014-03-12 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 高效气体过滤系统
CN101982704B (zh) * 2010-10-12 2013-07-03 中国矿业大学 建筑物大空间公共场所有害物质的防护系统及方法
WO2012112775A2 (en) * 2011-02-16 2012-08-23 Fiorita John L Jr Clean room control system and method
TW201239586A (en) * 2011-03-24 2012-10-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Container data center
JP5427833B2 (ja) * 2011-05-18 2014-02-26 パナソニック株式会社 クリーンルームの逆流防止装置
CN102839832A (zh) * 2011-06-22 2012-12-26 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 无尘室
CN102650604A (zh) * 2011-09-26 2012-08-29 北京京东方光电科技有限公司 洁净间用气流组织测试方法及装置系统
CN103133426A (zh) * 2011-11-22 2013-06-05 苏州市恩威特环境技术有限公司 一种恒风量风机过滤单元
EP2620202B1 (en) * 2012-01-30 2014-10-29 ABB Oy Method and apparatus for monitoring air filter condition
WO2013123196A1 (en) 2012-02-14 2013-08-22 Medtek Devices, Inc. Medical boom filter system and method
US8920262B2 (en) * 2012-05-18 2014-12-30 Nike, Inc. Golf ball with aggregated layer core and method of making
US20140087649A1 (en) * 2012-09-26 2014-03-27 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. Cleanroom and Cleaning Apparatus
US9631825B2 (en) 2012-12-18 2017-04-25 Nortek Air Solutions, Llc Air filter assembly
CN103047197B (zh) * 2012-12-27 2015-02-11 灵汇技术股份有限公司 一种定面风速可控面积的风机过滤单元
CN103267321B (zh) * 2013-05-30 2016-08-10 深圳橙果医疗科技有限公司 手术室空气净化系统
EP2886966B1 (de) * 2013-12-20 2020-04-15 Schilling Engineering GmbH Reinraumsystem und Verfahren zu dessen Betrieb
DE102013114724A1 (de) * 2013-12-20 2015-06-25 Schilling Engineering GmbH Reinraumvorrichtung
CN103968463A (zh) * 2014-05-05 2014-08-06 苏州市金燕净化设备工程有限公司 助力型层流车
CN104759303A (zh) * 2015-02-06 2015-07-08 苏州尚科洁净技术有限公司 一种可变层流方向洁净工作台
ITUB20152618A1 (it) * 2015-07-30 2017-01-30 Sinteco Impianti Srl Struttura di camera bianca prefabbricata
CN106121291B (zh) * 2016-06-27 2018-11-02 江苏帕珐尼洁净科技有限公司 一种具有内部循环风扇的超净间
CN106088673B (zh) * 2016-06-28 2018-11-20 江苏中瀚通讯技术有限公司 一种安装有回流风扇的超净间
CN106121292B (zh) * 2016-06-28 2018-11-27 江苏中瀚通讯技术有限公司 一种风扇排布整齐的超净间
US10337751B2 (en) * 2016-08-04 2019-07-02 Environmental Information Services, Inc. Liquefied petroleum gas solvent extraction room ventilation system and methods
CN106288059A (zh) * 2016-08-05 2017-01-04 武汉华星光电技术有限公司 厂房通风除尘系统
CN106556085B (zh) 2016-12-06 2019-05-24 惠科股份有限公司 无尘室车间及无尘室车间的气流调节方法
KR101960747B1 (ko) * 2017-08-31 2019-03-21 삼성물산 주식회사 클린룸 상부공간의 결로방지 시스템 및 이를 이용한 클린룸 상부공간의 결로방지 방법
CN108180568A (zh) * 2017-12-22 2018-06-19 科越工程(苏州）有限公司 一种无尘室排风系统及其安装工艺
CN111656103B (zh) * 2018-01-31 2022-01-28 三菱电机株式会社 空调控制系统和空调机
US11043164B2 (en) * 2018-01-31 2021-06-22 Ignis Innovation Inc. Display panel compensation methods
JP6653722B2 (ja) * 2018-03-14 2020-02-26 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 基板処理装置
DE102018204632B4 (de) * 2018-03-27 2023-07-27 Filtration Group Gmbh Belüftungseinrichtung zum Filtern von Luft und zum Abscheiden von Wasseraerosolen aus Luft
US10968630B1 (en) * 2019-08-08 2021-04-06 AES Clean Technology, Inc. Modular clean room gas supply raceway apparatus, system and method
BR112022002854B1 (pt) 2019-08-15 2023-01-31 G-Con Manufacturing, Inc Aparelho de construção modular para fabricação de sala limpa farmacêutica e método de montar um aparelho de sala limpa modular para fabricação de sala limpa farmacêutica
CN110513843B (zh) * 2019-09-16 2021-03-16 广东钜宏科技股份有限公司 一种基于ffu的无尘间洁净度闭环控制系统
CN110608188B (zh) * 2019-11-01 2021-01-01 广东钜宏科技股份有限公司 一种基于风速闭环控制的ffu控制器
CN113543893B (zh) * 2020-02-10 2022-04-26 株式会社大气社 作业设备
CN111520892A (zh) * 2020-04-30 2020-08-11 上海思妥实业有限公司 一种带延时变风量送风系统
CN111804066A (zh) * 2020-06-03 2020-10-23 江苏润阳悦达光伏科技有限公司 一种高温炉管暂存腔的洁净度控制方法
US11492795B2 (en) 2020-08-31 2022-11-08 G-Con Manufacturing, Inc. Ballroom-style cleanroom assembled from modular buildings
JP2022056167A (ja) * 2020-09-29 2022-04-08 芝浦メカトロニクス株式会社 送風器及び電子部品の実装装置
EP3985317A1 (en) * 2020-10-16 2022-04-20 Neuroplast Beheer B.V. A clean room system as well as a computer implemented method for controlling such clean room system
KR102272054B1 (ko) * 2020-12-29 2021-07-05 (주)티엘엔지니어링 하이브리드 다목적 클린 컨테이너
CN113757961B (zh) * 2021-08-31 2022-11-11 深圳市万维空调净化工程有限公司 一种ffu的远程控制方法、系统、装置及存储介质
BE1029823B1 (nl) * 2021-10-06 2023-05-08 Abn Cleanroom Tech N V Cleanroom en werkwijze voor het zuiveren van een cleanroom
CN114876847B (zh) * 2022-06-02 2024-05-28 上海茂控机电设备有限公司 一种旋涡风机控制方法、系统、存储介质及智能终端

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60173838U (ja) * 1984-04-26 1985-11-18 株式会社竹中工務店 垂直層流型クリンル−ム
JPS63204058A (ja) * 1987-02-19 1988-08-23 Fuji Electric Co Ltd クリ−ンル−ムの運転制御方式
JPS63213735A (ja) * 1986-06-19 1988-09-06 Nippon Electric Ind Co Ltd クリ−ンル−ムにおける空調フアンの速度制御装置
JPH06101881A (ja) * 1992-09-18 1994-04-12 Nippon Steel Corp クリーンルームの空気調和装置
JPH06257813A (ja) * 1993-03-03 1994-09-16 Asahi Kogyosha:Kk クリーンルーム内の気流調整装置及び運転停止後の清浄度維持装置
JPH06326225A (ja) * 1993-05-14 1994-11-25 Mitsubishi Electric Corp 電力変換装置の冷却装置
JP2000028168A (ja) * 1998-07-09 2000-01-25 Seiko Epson Corp クリーンルーム
JP2000297954A (ja) * 1999-04-14 2000-10-24 Toshiba Corp クリーンルーム用ファンフィルター駆動装置

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4191543A (en) * 1977-12-23 1980-03-04 Peters Max D Sterile air recycling apparatus
US4705066A (en) * 1981-11-27 1987-11-10 Honeywell Inc. Space static pressure control
US4407447A (en) * 1981-12-07 1983-10-04 Sta-Tech International, Inc. Energy control system
JPH01225848A (ja) * 1988-03-04 1989-09-08 Matsushita Refrig Co Ltd 空気調和機
US5626820A (en) * 1988-12-12 1997-05-06 Kinkead; Devon A. Clean room air filtering
US5180331A (en) * 1990-02-01 1993-01-19 Daw Technologies, Inc. Subfloor damper and spill container
JPH03291436A (ja) * 1990-04-05 1991-12-20 N M B Semiconductor:Kk 半導体製造工場のクリーンルーム
US5090972A (en) * 1990-04-25 1992-02-25 Enviro-Air Control Corporation Particulate abatement and environmental control system
JP2673835B2 (ja) 1990-08-21 1997-11-05 高砂熱学工業 株式会社 クリーンルームの風量制御方法
US5219464A (en) * 1990-10-09 1993-06-15 Tokyo Electron Limited Clean air apparatus
JP3225441B2 (ja) * 1991-04-23 2001-11-05 東京エレクトロン株式会社 処理装置
US5228306A (en) * 1992-04-20 1993-07-20 Norm Pacific Automation Corp. Apparatus for controlling air-exchange and pressure and detecting airtight conditions in air-conditioned room
JP3262623B2 (ja) * 1993-02-17 2002-03-04 東京エレクトロン株式会社 減圧処理方法及び装置
JP3470370B2 (ja) * 1994-01-24 2003-11-25 富士通株式会社 塵埃粒子発生位置特定装置および方法ならびにクリーンルーム
KR970007648B1 (ko) * 1994-05-09 1997-05-15 삼성전자 주식회사 클린룸용 개방형 에어샤워장치
US5639188A (en) * 1994-07-13 1997-06-17 Conductron Corporation Clean air bulk material handling system
AU6914696A (en) * 1995-09-06 1997-03-27 Carl E. Baugh Apparatus and method for establishing a closed ecological system
JP2655139B2 (ja) 1995-09-29 1997-09-17 日本電気株式会社 クリーンルームおよび風量制御方法
KR0165476B1 (ko) * 1995-11-20 1999-02-01 김광호 기류 제어장치, 이 장치를 이용하는 청정 실 및 청정 실내의 온도편차를 감소시키는 방법
US5984991A (en) * 1996-01-25 1999-11-16 Appliance Development Corp. High-efficiency air filter
JPH09313851A (ja) * 1996-05-29 1997-12-09 Matsushita Seiko Co Ltd 目詰まり表示器
TW333658B (en) * 1996-05-30 1998-06-11 Tokyo Electron Co Ltd The substrate processing method and substrate processing system
CN1177711A (zh) * 1996-09-24 1998-04-01 三菱电机株式会社 净化室
US5972060A (en) * 1996-10-09 1999-10-26 Ch2Mhill Industrial Design Corporation Apparatus for providing a purified resource in a manufacturing facility
KR100211912B1 (ko) * 1996-10-28 1999-08-02 윤종용 반도체 클린룸의 기류조정장치
KR100211669B1 (ko) * 1996-11-06 1999-08-02 윤종용 반도체장치 제조용 크린룸의 팬 필터 유니트 구동감시장치 및 구동 제어시스템
KR100252215B1 (ko) * 1997-05-02 2000-04-15 윤종용 클린룸 계측장치 상태 모니터링 시스템 및 그를 이용한 모니터링 방법
JPH11218353A (ja) 1998-02-02 1999-08-10 Toshiba Air Conditioning Co Ltd クリーンルームへの吹出し風速調整装置
JP3092705B2 (ja) * 1998-06-25 2000-09-25 日本電気株式会社 空調装置
JP2000153121A (ja) * 1998-11-17 2000-06-06 Sony Corp フィルタの目詰まり判定制御回路
JP3476395B2 (ja) * 1999-09-24 2003-12-10 Ｎｅｃエレクトロニクス株式会社 クリーンルーム及びクリーンルームの空調方法
JP3480414B2 (ja) * 2000-03-13 2003-12-22 日本電気株式会社 塵埃検知装置
US6334365B1 (en) * 2000-12-11 2002-01-01 Sandia Corporation Target detection portal

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60173838U (ja) * 1984-04-26 1985-11-18 株式会社竹中工務店 垂直層流型クリンル−ム
JPS63213735A (ja) * 1986-06-19 1988-09-06 Nippon Electric Ind Co Ltd クリ−ンル−ムにおける空調フアンの速度制御装置
JPS63204058A (ja) * 1987-02-19 1988-08-23 Fuji Electric Co Ltd クリ−ンル−ムの運転制御方式
JPH06101881A (ja) * 1992-09-18 1994-04-12 Nippon Steel Corp クリーンルームの空気調和装置
JPH06257813A (ja) * 1993-03-03 1994-09-16 Asahi Kogyosha:Kk クリーンルーム内の気流調整装置及び運転停止後の清浄度維持装置
JPH06326225A (ja) * 1993-05-14 1994-11-25 Mitsubishi Electric Corp 電力変換装置の冷却装置
JP2000028168A (ja) * 1998-07-09 2000-01-25 Seiko Epson Corp クリーンルーム
JP2000297954A (ja) * 1999-04-14 2000-10-24 Toshiba Corp クリーンルーム用ファンフィルター駆動装置

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004324939A (ja) * 2003-04-22 2004-11-18 Toyo Netsu Kogyo Kk クリーンルーム
JP2006300439A (ja) * 2005-04-22 2006-11-02 Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd エアシャワ装置
JP4603927B2 (ja) * 2005-04-22 2010-12-22 株式会社日立産機システム エアシャワ装置
JP2009124462A (ja) * 2007-11-15 2009-06-04 Panasonic Corp 電力線通信を用いたファンフィルターユニットの監視制御システム
US11808674B2 (en) 2008-02-07 2023-11-07 Veltek Associates, Inc. System and method for air sampling in controlled environments
JP2013011460A (ja) * 2011-06-28 2013-01-17 Seiko Instruments Inc センサネットワークシステム
JP2013050222A (ja) * 2011-08-30 2013-03-14 Hitachi Appliances Inc 空気調和装置
JP2013228160A (ja) * 2012-04-26 2013-11-07 Shimizu Corp 電力制御システム
CN103234244A (zh) * 2013-04-28 2013-08-07 姜天华 新型层流动态空气消毒机
CN103234244B (zh) * 2013-04-28 2015-09-30 姜天华 层流动态空气消毒机
KR101489221B1 (ko) 2013-07-16 2015-02-04 주식회사 시스웍 다기능 청정공조 제어장치
JP2022071116A (ja) * 2014-08-28 2022-05-13 ベルテック アソシエイツ インコーポレイテッド 制御された環境において空気をサンプリングするためのプログラマブルロジックコントローラに基づくシステムおよびユーザーインタフェース
JP7365075B2 (ja) 2014-08-28 2023-10-19 ベルテック アソシエイツ インコーポレイテッド 制御された環境において空気をサンプリングするためのプログラマブルロジックコントローラに基づくシステムおよびユーザーインタフェース
US11971396B2 (en) 2014-08-28 2024-04-30 Veltek Associates, Inc. Programmable logic controller-based system and user interface for air sampling controlled environments
JP2021156574A (ja) * 2015-01-19 2021-10-07 ハルトン オサケ ユキチュア 室内環境条件制御
JP7220747B2 (ja) 2015-01-19 2023-02-10 ハルトン オサケ ユキチュア 室内環境条件制御
CN107560024A (zh) * 2017-09-13 2018-01-09 中天道成（苏州）洁净技术有限公司 高精度高均匀度洁净室系统
CN107560024B (zh) * 2017-09-13 2023-04-14 中天道成（苏州）洁净技术有限公司 高精度高均匀度洁净室系统
JP2019158300A (ja) * 2018-03-16 2019-09-19 株式会社日立産機システム エアシャワー装置
WO2020004839A1 (ko) * 2018-06-29 2020-01-02 코웨이 주식회사 양 방향 토출 유로를 포함하는 공기 청정기 및 이를 제어하는 방법
JP6828924B1 (ja) * 2020-01-06 2021-02-10 Jms株式会社 排気排塵装置
JP2021110464A (ja) * 2020-01-06 2021-08-02 Jms株式会社 排気排塵装置
JP7363666B2 (ja) 2020-05-12 2023-10-18 株式会社ダイフク 計測装置
JP2021178701A (ja) * 2020-05-12 2021-11-18 株式会社ダイフク 計測装置
KR102292956B1 (ko) * 2020-10-21 2021-08-25 정은복 공조장치
CN116951594A (zh) * 2023-08-17 2023-10-27 上海程泉洁净技术有限公司 洁净室系统

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