JP2002287902A - タッチパネル及び電子機器 - Google Patents

タッチパネル及び電子機器

Info

Publication number
JP2002287902A
JP2002287902A JP2001344943A JP2001344943A JP2002287902A JP 2002287902 A JP2002287902 A JP 2002287902A JP 2001344943 A JP2001344943 A JP 2001344943A JP 2001344943 A JP2001344943 A JP 2001344943A JP 2002287902 A JP2002287902 A JP 2002287902A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
touch panel
transparent electrode
substrate
panel according
pair
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001344943A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidefumi Sakata
秀文 坂田
Tetsuhiko Takeuchi
哲彦 竹内
Hideto Iizaka
英仁 飯坂
Shohei Yoshida
昇平 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2001344943A priority Critical patent/JP2002287902A/ja
Priority to TW090132907A priority patent/TW563067B/zh
Priority to KR1020020002422A priority patent/KR20020061538A/ko
Priority to US10/046,233 priority patent/US7034808B2/en
Publication of JP2002287902A publication Critical patent/JP2002287902A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/045—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using resistive elements, e.g. a single continuous surface or two parallel surfaces put in contact
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 空気層と透明電極との界面における光の反射
や回折を低減することができ、光透過率の高い、抵抗接
触方式あるいは静電容量方式のタッチパネルを提供す
る。 【解決手段】 本発明のタッチパネル１０において、下
側基板１１と上側基板１２の内表面に、それぞれ所定の
形状を有する複数の凸部２１、２２が可視光線の波長よ
りも小さいピッチで少なくとも二方向に略周期的に形成
され、複数の凸部２１、２２が形成された下側基板１
１、上側基板１２の内表面の形状に沿って、下側透明電
極１５、上側透明電極１６が形成されている。また、各
凸部２１（２２）の、下側基板１１（上側基板１２）の
外表面に対して水平方向の断面積が、各凸部２１（２
２）の底部２１Ａ（２２Ａ）側から頭部２１Ｂ（２２
Ｂ）側に向けて連続的に小さくなるように設定されてい
ることが望ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、指やペン等による
入力を可能にしたタッチパネル及びそれを用いた電子機
器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】座標検出装置として、小型の携帯型情報
処理装置等の電子機器に備えられ、指やペン等による入
力を可能にしたタッチパネルが開発されている。その座
標検出装置は、構造が簡単でパネルの薄型化を図ること
ができるタッチパネルの位置検出方式として、抵抗接触
方式、静電容量方式が知られている。抵抗接触方式とし
ては、アナログ方式の抵抗接触方式とデジタル方式の抵
抗接触方式とが知られ、前者は文字入力等のアナログ入
力が可能な方式であり、後者は指やペン等を接触させた
箇所のスイッチのオン、オフのみが可能な方式である。
【０００３】位置検出方式として、アナログ方式の抵抗
接触方式、デジタル方式の抵抗接触方式、静電容量方式
を採用したタッチパネルは、いずれも基本構造は同様で
あり、内表面に所定の形状の透明電極を具備する一対の
基板を所定間隔をあけて対向配置させた構造を基本構造
としている。
【０００４】以下、図１１に基づいて、アナログ方式の
抵抗接触方式を用いたタッチパネルを例として、従来の
タッチパネルの構造について簡単に説明する。図１１
は、アナログ方式の抵抗接触方式を用いた従来のタッチ
パネル１００の構造を示す分解斜視図である。
【０００５】図１１に示すように、タッチパネル１００
においては、下側基板１０１と上側基板１０２とが空気
層（図示略）を介して所定間隔をあけて対向配置され、
下側基板１０１、上側基板１０２の内表面には、各々ほ
ぼ全面にインジウム錫酸化物等からなる下側透明電極１
０５、上側透明電極１０６が形成されている。抵抗接触
方式を用いたタッチパネル１００では、上側基板１０２
がプラスチックフィルム等の可撓性を有する基板から構
成され、指やペン等により上側基板１０２を押圧するこ
とにより、押圧した箇所の上側基板１０２を変形させ、
下側透明電極１０５と上側透明電極１０６とを接触させ
ることにより、位置検出を行うことが可能な構造になっ
ている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のアナログ方式の
抵抗接触方式、デジタル方式の抵抗接触方式、静電容量
方式を用いたタッチパネルを液晶パネル等の表示装置の
視認側に備えた場合、入力者側から入射した外光がタッ
チパネルの上側基板に入射した後、上側透明電極、空気
層、下側透明電極、下側基板を順次透過して表示装置に
入射する。また、表示装置から出射された光は同様に逆
の経路を通って入力者側に出射される。
【０００７】しかしながら、空気層の屈折率は１である
のに対し、透明電極の屈折率は１．９７程度と大きい。
そのため、空気層と透明電極との屈折率の差に起因し
て、空気層から透明電極に入射する光、あるいは透明電
極から空気層に入射する光が、透明電極の表面（空気層
と透明電極との界面）で反射する。これにより、タッチ
パネルの光透過率が低下し、表示装置の表示の視認性が
低下するという恐れがある。
【０００８】そこで、この問題を解決するために、一対
の基板間に空気層を挟持させる代わりに、透明電極の屈
折率に近い屈折率を有する液層を挟持させることが提案
されている。しかしながら、一対の基板間に液層を挟持
させる場合には、透明電極表面における光の反射を防止
することができるものの、液層内に気泡が発生し、タッ
チパネルを表示装置に備えた場合に、表示装置の視認性
が低下するという問題が発生する恐れがある。
【０００９】そこで、本発明はこのような事情に鑑みて
なされたものであり、空気層と透明電極との界面におけ
る光の反射を低減することができ、光透過率の高い、抵
抗接触方式あるいは静電容量方式のタッチパネルを提供
することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のタッチパネル
は、所定の間隔をあけて対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板の内表面に各々所定のパターンを有した
一対の透明電極と、前記一対の透明電極のうち少なくと
も一方の表面は、可視光領域の波長より小さいピッチで
略周期的に形成された複数の凸部で形成されていること
を特徴とする。
【００１１】透明電極の表面に略周期的に凹凸を形成し
た場合、空気層から透明電極に入射する光は反射、及び
回折するが、可視光線の波長よりも小さいピッチで略周
期的に凹凸を設けることにより、空気層と透明電極との
界面で反射や回折される光を低減し、透明電極内に透過
する光を増加させることができる。このように、本発明
によれば、空気層と透明電極との界面における光の反射
や回折を低減することができる。
【００１２】また、前記凸部は、前記凸部の底面から頭
部にかけて細くなることが望ましい。
【００１３】このように各凸部の形状を規定することよ
り、空気層と基板の外表面との間において、実効的な屈
折率が急激に変化することを防止することができるの
で、より空気層と透明電極との界面での反射や回折を低
減することができる。
【００１４】そして、前記凸部は、前記凸部の底面から
頭部にかけて連続的に細くなるものや、前記凸部の底面
から頭部にかけて段階的に細くなるものが望ましい。具
体的な形状としては、錐台状あるいは錐状であるとよ
い。
【００１５】また、前記複数の凸部は、少なくとも二方
向に略周期的に配列されていることが望ましい。
【００１６】凸部を一方向にのみ略周期的に形成した場
合には、周期構造を有する方向に対して直交する偏光に
ついては凸部の周期構造による影響を受けにくいため、
その偏光については空気層と透明電極との界面での反射
や回折を低減することができないが、少なくとも二方向
に略周期的に配列することで解消することができる。
【００１７】また、前記複数の凸部のピッチは、１０ｎ
ｍ〜２００ｎｍであることが望ましい。
【００１８】また、前記複数の凸部は、前記一対の透明
電極の表面に形成されていることが望ましい。
【００１９】その場合は、一対の透明電極の表面に形成
された複数の凸部は、同一パターンで形成されてよく、
一対の透明電極の表面に形成された複数の凸部は、互い
に異なるパターンで形成されてもよい。
【００２０】また、前記凸部は、前記基板表面を凸状に
形成し、前記透明電極が前記基板の凸状の形状に沿って
形成されてもよい。あるいは、前記透明電極を凸状に形
成して構成してもよい。
【００２１】また、前記一対の透明電極間に、前記一対
の透明電極間の間隔を保持するスペーサーを設けること
が望ましい。
【００２２】そして、このタッチパネルは、アナログ方
式あるいはデジタル方式の抵抗接触方式のタッチパネ
ル、または静電容量方式のタッチパネルであってもよ
い。
【００２３】本発明の電子機器は、タッチパネルを有す
る電子機器であって、前記タッチパネルは、下地基板
と、前記下地基板に所定の間隔をあけて対向配置され可
撓性の入力側基板と、前記下地基板の内表面に所定のパ
ターンを有した下地側透明電極と、前記入力側基板の内
表面に、前記下地側透明電極に対して所定の間隔をあけ
て対向配置され所定のパターンを有した前記入力側透明
電極とを備え、前記下地側透明電極と前記入力側透明電
極のうち少なくとも一方の表面は、可視光領域の波長よ
り小さいピッチで略周期的に形成された複数の凸部で形
成されていることを特徴とする。
【００２４】この電子機器のタッチパネルにおいても、
空気層と透明電極との界面における光の反射や回折を低
減することができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】次に、本発明に係る実施形態につ
いて詳細に説明する。
【００２６】［第１実施形態］図１〜図４に基づいて、
本発明に係る第１実施形態のアナログ方式の抵抗接触方
式を用いたタッチパネルの構造について説明する。
【００２７】図１は本実施形態のタッチパネルの全体構
造を示す分解斜視図、図２は本実施形態のタッチパネル
の全体構造を示す平面図、図３は本実施形態のタッチパ
ネルを拡大した部分分解斜視図、図４は本実施形態のタ
ッチパネルを拡大した部分断面図である。
【００２８】なお、図２は本実施形態のタッチパネルの
下側基板と上側基板とを水平方向にずらし、上側基板側
から見たときの平面図、図３は本実施形態のタッチパネ
ルの後述する下側基板と上側基板のみを取り出して示す
斜視図、図４は本実施形態のタッチパネルを図３のＡ−
Ａ’線に沿って切断したときの断面図である。また、各
図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度
の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならし
めてある。
【００２９】図１、図２に示すように、本実施形態のタ
ッチパネル１０においては、ガラスや透明プラスチック
フィルム等の透光性基板からなる下側基板１１と透明プ
ラスチックフィルム等の透光性を有するとともに可撓性
を有する基板からなる上側基板１２とが所定間隔をあけ
て対向配置されている。そして、下側基板１１、上側基
板１２の内表面には、各々、少なくとも指やペン等によ
り入力を行う範囲に対応して、ほぼ全面にインジウム錫
酸化物等からなる下側透明電極１５、上側透明電極１６
が形成されている。
【００３０】また、図２に示すように、下側透明電極１
５の図示上端と図示下端は配線３１、３２にそれぞれ接
続され、上側透明電極１６の図示左端と図示右端は配線
３３、３４にそれぞれ接続されている。なお、本実施形
態においては、タッチパネル１０の上側基板１２側が入
力者側、下側基板１１側がタッチパネル１０を備える表
示装置側とする。
【００３１】下側基板１１と上側基板１２の内表面を拡
大すると、図３、図４に示すように、各々多数の微細な
凸部２１、２２が形成されており、下側透明電極１５、
上側透明電極１６は、凸部２１、２２が形成された下側
基板１１、上側基板１２の内表面の形状に沿って形成さ
れている。なお、凸部２１、２２は、下側基板１１、上
側基板１２の大きさや基板間隔に比較して非常に微細で
あるため、図１、図２においては図示を省略している。
【００３２】凸部２１、２２を下側基板１１、上側基板
１２とは異なる部材により構成してもよいが、凸部２
１、２２の形成工程を簡略化するために、図３、図４に
示すように、凸部２１、２２を下側基板１１、上側基板
１２と一体形成することが望ましい。なお、凸部２１、
２２を下側基板１１、上側基板１２と一体形成する方法
としては、例えば、平坦なプラスチックフィルムを加熱
して軟化させた状態で、凸部２１、２２のパターンが形
成された型を一方の面に押しつけることにより形成する
方法を挙げることができる。なお、凸部２１、２２の形
状及びパターンの詳細については後述する。
【００３３】下側透明電極１５、上側透明電極１６が形
成された下側基板１１と上側基板１２との基板間隔（下
側透明電極１５と上側透明電極１６との間隔）は数μｍ
程度であり、図４に示すように、下側基板１１、上側基
板１２間（下側透明電極１５、上側透明電極１６間）に
は空気層１３が挟持されている。また、指やペン等によ
る入力を行わない状態では下側透明電極１５と上側透明
電極１６とが接触しないように、下側透明電極１５、上
側透明電極１６間には、下側基板１１、上側基板１２の
基板間隔（数μｍ程度）を外径とする多数の球状のスペ
ーサー１４が配置されている。
【００３４】抵抗接触方式を用いたタッチパネル１０で
は、可撓性を有する上側基板１２をその外表面側から指
やペン等により押圧することにより、押圧した箇所の上
側基板１２を変形させ、下側透明電極１５、上側透明電
極１６を接触させることにより、位置検出を行うことが
可能な構造になっている。
【００３５】図２に基づいて、本実施形態のタッチパネ
ル１０の位置検出の原理について簡単に説明する。
【００３６】図示横方向の位置を検出する場合には、下
側透明電極１５の全面を等電位にした状態で、上側基板
１２の配線３３、３４に所定の電圧を印加することによ
り、上側透明電極１６が図示横方向の電位勾配を有する
ように設定する。そして、指やペン等を用い下側透明電
極１５と上側透明電極１６とを接触させた箇所により、
検出される電圧が異なることから、横方向の位置を検出
することができる。
【００３７】一方、図示縦方向の位置を検出する場合
は、図示横方向の位置を検出する場合と同様であり、上
側透明電極１６の全面を等電位にした状態で、下側基板
１１の配線３１、３２に所定の電圧を印加することによ
り、下側透明電極１５が図示縦方向の電位勾配を有する
ように設定する。そして、指やペン等を用い下側透明電
極１５と上側透明電極１６とを接触させた箇所により、
検出される電圧が異なることから、縦方向の位置を検出
することができる。
【００３８】以上のようにして横方向と縦方向の位置を
検出することにより、指やペン等を用い下側透明電極１
５と上側透明電極１６とを接触させた箇所の位置（座
標）を検出することができる。
【００３９】ここで、下側基板１１、上側基板１２の内
表面に形成された凸部２１、２２の形状及びパターンに
ついて説明する。
【００４０】図３、図４に示すように、個々の凸部２
１、２２は四角錐台状に形成されており、凸部２１、２
２の底部をそれぞれ２１Ａ、２２Ａ、凸部２１、２２の
頭部をそれぞれ２１Ｂ、２２Ｂとすると、各凸部２１
（２２）の、下側基板１１（上側基板１２）の外表面に
対して水平方向の断面積が、各凸部２１（２２）の底部
２１Ａ（２２Ａ）側から頭部２１Ｂ（２２Ｂ）側に向け
て連続的に小さくなるように設定されている。
【００４１】なお、凸部２１の底部２１Ａは表示装置側
（図示下側）の端部であり、凸部２１の頭部２１Ｂは入
力者側（図示上側）の端部である。これに対して、凸部
２２の底部２２Ａは入力者側（図示上側）の端部であ
り、凸部２２の頭部２２Ｂは表示装置側（図示下側）の
端部である。
【００４２】また、図３に示すように、下側基板１１、
上側基板１２の内表面において、凸部２１、２２は図示
横方向と図示縦方向の直交する二方向及び図示斜め方向
の三方向に向けて略周期的に配列されており、全体とし
て略マトリクス状に配列されている。
【００４３】また、凸部２１、２２の図示横方向のピッ
チＰ１、図示縦方向のピッチＰ２、図示斜め方向のピッ
チＰ３は、可視光線の波長よりも小さく設定されてい
る。より好ましくは、凸部２１、２２のピッチＰ１〜Ｐ
３を、可視光線の最短波長（約４５０ｎｍ）の１／５程
度以下とすることが望ましい。また、凸部２１、２２の
ピッチＰ１〜Ｐ３は小さいほど良いが、１０ｎｍ未満と
した場合には、凸部２１、２２の形成工程が複雑化する
ため、凸部２１、２２のピッチＰ１〜Ｐ３を１０ｎｍ〜
２００ｎｍ程度とすることが望ましい。なお、図面上は
誇張して記載しているが、下側透明電極１５、上側透明
電極１６間の距離はμｍオーダーであるのに対し、凸部
２１、２２のピッチＰ１〜Ｐ３はｎｍオーダーと非常に
微細なものとなっている。
【００４４】本実施形態では、このように可視光線の波
長よりも小さいピッチＰ１〜Ｐ３で略周期的に配列され
た多数の微細な凸部２１、２２を具備する下側基板１
１、上側基板１２の内表面の形状に沿って、下側透明電
極１５、上側透明電極１６を形成する構成を採用してい
る。そして、このような構成を採用することにより、下
側透明電極１５、上側透明電極１６の内表面に、可視光
線の波長よりも小さいピッチＰ１〜Ｐ３で略周期的に配
列された所定の形状の凹凸を設ける構成としている。
【００４５】下側透明電極１５（上側透明電極１６）の
内表面に略周期的に凹凸を形成した場合、空気層１３か
ら下側透明電極１５（上側透明電極１６）に入射する光
は反射、及び回折するが、可視光線の波長よりも小さい
ピッチＰ１〜Ｐ３で略周期的に凹凸を設けることによ
り、空気層１３と下側透明電極１５（上側透明電極１
６）との界面で反射や回折される光を低減し、下側透明
電極１５（上側透明電極１６）内に透過する光を増加さ
せることができる。
【００４６】したがって、本実施形態によれば、空気層
１３と下側透明電極１５（上側透明電極１６）との界面
における光の反射や回折を低減することができるので、
光透過率の高い、アナログ方式の抵抗接触方式を用いた
タッチパネル１０を提供することができる。
【００４７】また、本実施形態では、下側基板１１、上
側基板１２の双方について凸部２１、２２を形成する構
成としたので、入力者側から入射し、下側透明電極１５
表面で反射される光と、表示装置側から出射され、上側
透明電極１６表面で反射される光の双方を低減すること
ができる。
【００４８】なお、本発明は、下側基板１１、上側基板
１２の双方について凸部２１、２２を形成する場合に限
定されるものではなく、下側基板１１、上側基板１２の
うち少なくとも一方の基板の内表面に凸部を設ける構成
とすればよい。このような構成を採用することにより、
入力者側から入射し、下側透明電極表面で反射される光
と、表示装置から出射され、上側透明電極表面で反射さ
れる光のうち少なくとも一方を低減することができる。
【００４９】また、凸部２１、２２を一方向にのみ略周
期的に形成した場合には、周期構造を有する方向に対し
て直交する偏光については凸部２１、２２の周期構造を
認識することができないため、空気層１３と下側透明電
極１５（上側透明電極１６）との界面での反射や回折を
低減することができないが、本実施形態では、凸部２
１、２２を直交する二方向を含む三方向に向けて略周期
的に配列させる構成を採用したので、すべての可視光線
について空気層１３と下側透明電極１５（上側透明電極
１６）との界面での反射や回折を低減することができ
る。
【００５０】さらに、本実施形態では、各凸部２１（２
２）の、下側基板１１（上側基板１２）の外表面に対し
て水平方向の断面積を、各凸部２１（２２）の底部２１
Ａ（２２Ａ）側から頭部２１Ｂ（２２Ｂ）側に向けて連
続的に小さくなるように設定した。このように各凸部２
１（２２）の形状を規定することより、空気層１３と下
側基板１１（上側基板１２）の外表面との間において、
実効的な屈折率をなだらかに変化させることができるの
で、より空気層１３と下側透明電極１５（上側透明電極
１６）との界面での反射や回折を低減することができ
る。
【００５１】このことを図５に基づいて簡単に説明す
る。基板と透明電極の屈折率の差は、空気と基板あるい
は空気と透明電極の屈折率の差に比較すれば無視できる
程度に小さいため、基板と透明電極とを一体として説明
する。なお、基板と透明電極とを一体としたものを基板
／透明電極と略記する。図５は、表面に柱状の凸部が周
期的に形成された基板／透明電極の断面図であり、基板
／透明電極の凸部側には空気層が形成されている状態を
示す図である。
【００５２】図５に示すように、空気層の屈折率は１で
あり、基板／透明電極の屈折率をｎとすると、図示横方
向の実効的な屈折率は、凸部より上側の空気層のみが存
在する領域では１、凸部より下側の基板／透明電極のみ
が存在する領域ではｎであるのに対し、凸部が形成され
た領域では凸部と空気層とが混在した状態であるため、
１よりも大きくｎよりも小さい値ｍとなる。すなわち、
平坦な基板／透明電極と空気層とが接している場合に
は、空気層と基板／透明電極との界面において屈折率が
１からｎに急激に変化するが、基板／透明電極の表面に
柱状の凸部を設けることにより、空気層と基板／透明電
極の外表面との間で、実効的な屈折率が１からｎへと徐
々に大きくなるように変化し、実効的な屈折率の変化を
緩和することができ、空気層と基板／透明電極との界面
での反射や回折を低減することができる。
【００５３】さらに、凸部の形状を本実施形態のように
錐台状とすることにより、基板の外表面に対して水平方
向に切断したときの断面における基板／透明電極の面積
と空気層の面積との比率を連続的に変化させることがで
きるので、空気層と基板の外表面との間の実効的な屈折
率の変化をなだらかにすることができ、より空気層と基
板／透明電極との界面での反射や回折を低減することが
できる。
【００５４】なお、本実施形態では、下側基板１１（上
側基板１２）の内表面において、凸部２１（２２）を略
マトリクス状に配列させる場合について説明したが、本
発明はこれに限定されるものではなく、下側基板１１
（上側基板１２）の内表面において、少なくとも二方向
に向けて略周期的に、可視光線の波長よりも小さいピッ
チで複数の凸部を形成する構成とすれば、いかなるパタ
ーンで凸部を設けても良い。
【００５５】本実施形態で説明した以外の凸部のパター
ンとしては例えば図６に示すようなパターンを挙げるこ
とができる。図６は下側基板１１（上側基板１２）を凸
部２１（２２）側から観た平面図で、凸部２１（２２）
はその底部のみを図示している。この場合にも図示縦方
向、図示横方向、図示斜め方向に略周期的に凸部２１
（２２）が配列されている。
【００５６】また、本実施形態では、凸部２１と凸部２
２を同一パターンで形成したが、本発明はこれに限定さ
れるものではなく、凸部２１と凸部２２とは異なるパタ
ーンで形成しても良い。
【００５７】また、本実施形態においては、凸部２１
（２２）の形状が四角錐台状である場合についてのみ説
明したが、本発明はこれに限定されるものではない。す
なわち、図５に基づいて詳細に説明したように、空気層
１３と下側基板１１（上側基板１２）の外表面との間
に、空気層１３と凸部２１（２２）が混在する層を形成
し、空気層１３と下側基板１１（上側基板１２）の外表
面との間において、実効的な屈折率が急激に変化するこ
とを防止することができればよいので、凸部２１（２
２）の形状はいかなる形状であってもよい。
【００５８】ただし、凸部２１（２２）の、下側基板１
１（上側基板１２）の外表面に対して水平方向の断面積
が、凸部２１（２２）の底部２１Ａ（２２Ａ）側から頭
部２１Ｂ（２２Ｂ）側に向けて段階的又は連続的に小さ
くなるように設定されていることが望ましい。このよう
な構成とすれば、空気層１３と下側基板１１（上側基板
１２）の外表面との間において、実効的な屈折率が急激
に変化することをより防止することができ、下側透明電
極１５（上側透明電極１６）の表面での光の反射や回折
をより低減することができる。
【００５９】特に、本実施形態のように、凸部２１（２
２）の底部２１Ａ（２２Ａ）側から頭部２１Ｂ（２２
Ｂ）側に向けて連続的に小さくなるように設定すること
により、空気層１３と下側基板１１（上側基板１２）の
外表面との間において、実効的な屈折率をなだらかに変
化させることができ、下側透明電極１５（上側透明電極
１６）の表面での光の反射や回折をより低減することが
できる。
【００６０】以下、図７（ａ）〜（ｈ）に基づいて、本
実施形態で説明した以外の凸部２１（２２）の形状のそ
の他の例について説明する。
【００６１】凸部２１（２２）の形状は、図７（ａ）に
示す三角錐台状など、その他種々の角錐台状であっても
よい。また、凸部２１（２２）の形状は、図７（ｂ）に
示すように、円錐台状であってもよい。また、凸部２１
（２２）の頭部側の面は図７（ｃ）に示すように、複数
あってもよい。また、凸部２１（２２）の形状は、図７
（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）に示すように、四角錐状、三角
錐状等の角錐状や円錐状であってもよい。
【００６２】図７（ａ）〜（ｆ）は、凸部２１（２２）
の断面積が底部側から頭部側に向けて連続的に小さくな
るように設定した場合の形状例であるが、凸部２１（２
２）の形状は、図７（ｇ）、（ｈ）に示すように、底面
積の異なる四角柱あるいは円柱等を複数積み重ね、断面
積が凸部２１（２２）の底部２１Ａ（２２Ａ）側から頭
部２１Ｂ（２２Ｂ）側に向けて段階的に小さくなるよう
な構成としてもよい。
【００６３】［第２実施形態］次に、本発明に係る第２
実施形態のアナログ方式の抵抗接触方式を用いたタッチ
パネルの構造について説明する。
【００６４】本実施形態のタッチパネルの基本構造は第
１実施形態と同様であり、第１実施形態では、基板の内
表面に所定のパターンの凸部を形成し、凸部を形成した
基板の内表面に沿って透明電極を形成する構成を採用し
たのに対し、本実施形態では、平坦な基板の内表面に、
可視光線の波長よりも小さいピッチで略周期的に形成さ
れた所定のパターンの凸部を具備する透明電極を形成す
る構成とした点のみが異なっている。したがって、本実
施形態のタッチパネルの全体構造は第１実施形態で図
１、図２に示したものと同一であるので、図示は省略す
る。
【００６５】図８、図９に基づいて、本実施形態のタッ
チパネルの構造について説明する。図８、図９はそれぞ
れ第１実施形態の図３、図４に対応する図であり、図８
は本実施形態のタッチパネルを拡大した部分分解斜視
図、図９は本実施形態のタッチパネルを拡大した部分断
面図である。なお、図８は本実施形態のタッチパネルの
基板と透明電極のみを取り出して示す斜視図、図９は本
実施形態のタッチパネルを図８のＢ−Ｂ’線に沿って切
断したときの断面図である。なお、図８、図９におい
て、第１実施形態と同じ構成要素については同じ参照符
号を付し、説明は省略する。また、各図においては、各
層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするた
め、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００６６】図８、図９に示すように、本実施形態のタ
ッチパネル５０においては、平坦な下側基板５１と上側
基板５２とが所定間隔をあけて対向配置されている。そ
して、下側基板５１、上側基板５２の内表面には、少な
くとも指やペン等により入力を行う範囲に対応して、ほ
ぼ全面に、それぞれ所定のパターンの複数の凸部６１、
６２を具備する下側透明電極５５、上側透明電極５６が
形成されている。
【００６７】なお、下側基板５１、上側基板５２、下側
透明電極５５、上側透明電極５６の材質は第１実施形態
と同様であるので説明は省略する。また、本実施形態に
おいても第１実施形態と同様に、タッチパネル５０の上
側基板５２側が入力者側、下側基板５１側がタッチパネ
ル５０を備える表示装置側とする。
【００６８】下側透明電極５５、上側透明電極５６の内
表面に形成された凸部６１、６２は第１実施形態におい
て、基板の内表面に形成された凸部と同様の形状及びパ
ターンを有するものとなっている。
【００６９】すなわち、図８に示すように、個々の凸部
６１、６２は、第１実施形態の凸部と同様に、四角錐台
状に形成されており、凸部６１、６２の底部をそれぞれ
６１Ａ、６２Ａ、凸部６１、６２の頭部をそれぞれ６１
Ｂ、６２Ｂとすると、各凸部６１（６２）の、下側基板
５１（上側基板５２）の表面に対して水平方向の断面積
が、各凸部６１（６２）の底部６１Ａ（６２Ａ）側から
頭部６１Ｂ（６２Ｂ）側に向けて連続的に小さくなるよ
うに設定されている。
【００７０】なお、凸部６１の底部６１Ａは表示装置側
（図示下側）の端部であり、凸部６１の頭部６１Ｂは入
力者側（図示上側）の端部である。これに対して、凸部
６２の底部６２Ａは入力者側（図示上側）の端部であ
り、凸部６２の頭部６２Ｂは表示装置側（図示下側）の
端部である。
【００７１】また、図８に示すように、下側透明電極５
５、上側透明電極５６の内表面において、凸部６１、６
２は第１実施形態の凸部と同様に、図示横方向と図示縦
方向の直交する二方向及び図示斜め方向の三方向に向け
て略周期的に配列されており、全体として略マトリクス
状に配列されている。
【００７２】また、第１実施形態の凸部と同様に、凸部
６１、６２の図示横方向のピッチＰ４、図示縦方向のピ
ッチＰ５、図示斜め方向のピッチＰ６は、可視光線の波
長よりも小さく設定されている。より好ましくは、凸部
６１、６２のピッチＰ４〜Ｐ６を、可視光線の最短波長
（約４５０ｎｍ）の１／５程度以下とすることが望まし
い。また、凸部６１、６２のピッチＰ４〜Ｐ６は小さい
ほど良いが、１０ｎｍ未満とした場合には、凸部６１、
６２の形成工程が複雑化するため、凸部６１、６２のピ
ッチＰ４〜Ｐ６を１０ｎｍ〜２００ｎｍ程度とすること
が望ましい。なお、図面上は誇張して記載しているが、
下側透明電極５５、上側透明電極５６間の距離はμｍオ
ーダーであるのに対し、凸部６１、６２のピッチＰ４〜
Ｐ６はｎｍオーダーと非常に微細なものとなっている。
【００７３】本実施形態では、このように、平坦な下側
基板５１、上側基板５２の内表面に、可視光線の波長よ
りも小さいピッチＰ４〜Ｐ６で略周期的に配列された多
数の微細な凸部６１、６２を具備する下側透明電極５
５、上側透明電極５６を形成する構成とした。
【００７４】このような構成を採用することによって
も、下側透明電極５５、上側透明電極５６の内表面に可
視光線の波長よりも小さいピッチＰ４〜Ｐ６で略周期的
に配列された所定の形状の凹凸を設けることができるの
で、空気層１３と下側透明電極５５（上側透明電極５
６）との界面で反射や回折される光を低減し、光透過率
の高い、アナログ方式の抵抗接触方式を用いたタッチパ
ネル５０を提供することができる。
【００７５】なお、本実施形態では、下側透明電極５
５、上側透明電極５６の双方について凸部６１、６２を
形成する構成としたので、入力者側から入射し、下側透
明電極５５表面で反射される光と、表示装置側から出射
され、上側透明電極５６表面で反射される光の双方を低
減することができる。
【００７６】また、凸部６１、６２を一方向にのみ略周
期的に形成した場合には、周期構造を有する方向に対し
て直交する偏光については凸部６１、６２の周期構造を
認識することができないため、空気層１３と下側透明電
極５５（上側透明電極５６）との界面での反射や回折を
低減することができないが、本実施形態では、凸部６
１、６２を直交する二方向を含む三方向に向けて略周期
的に配列させる構成を採用したので、すべての可視光線
について空気層１３と下側透明電極５５（上側透明電極
５６）との界面での反射や回折を低減することができ
る。
【００７７】さらに、本実施形態では、各凸部６１（６
２）の、下側基板５１（上側基板５２）の表面に対して
水平方向の断面積を、各凸部６１（６２）の底部６１Ａ
（６２Ａ）側から頭部６１Ｂ（６２Ｂ）側に向けて連続
的に小さくなるように設定した。このように各凸部６１
（６２）の形状を規定することより、空気層１３と下側
基板５１（上側基板５２）の外表面との間において、実
効的な屈折率をなだらかに変化させることができるの
で、より空気層１３と下側透明電極５５（上側透明電極
５６）との界面での反射や回折を低減することができ
る。
【００７８】なお、凸部６１、６２の形状やパターンは
本実施形態で説明したものに限定されるものではなく、
第１実施形態の凸部と同様に、種々の形状やパターンに
より構成することができる。
【００７９】［第３実施形態］次に、本発明に係る第３
実施形態のデジタル方式の抵抗接触方式を用いたタッチ
パネルの構造について説明する。
【００８０】図１０に基づいて、本実施形態のタッチパ
ネルの全体構造、及び位置検出の原理について簡単に説
明する。図１０は本実施形態のタッチパネルの全体構造
を示す平面図であって、下側基板と上側基板とを水平方
向にずらし、上側基板側から見たときの平面図であり、
第１実施形態の図２に対応する図である。
【００８１】本実施形態のデジタル方式の抵抗接触方式
を用いたタッチパネル７０の基本構造は第１、第２実施
形態のアナログ式の抵抗接触方式を用いたタッチパネル
と同一であるので説明は省略し、相違点についてのみ簡
単に説明する。アナログ方式の抵抗接触方式を用いたタ
ッチパネルでは、下側基板、上側基板の内表面のほぼ全
面に下側透明電極、上側透明電極が形成されていたのに
対し、本実施形態のデジタル方式を用いたタッチパネル
７０では、下側基板７１、上側基板７２の内表面に各々
ストライプ状に下側透明電極７５、上側透明電極７６が
形成されており、かつ、下側透明電極７５、上側透明電
極７６は互いに交差する方向に形成されている。
【００８２】各下側透明電極７５、各上側透明電極７６
はそれぞれ配線８１、８２に接続されており、各下側透
明電極７５、各上側透明電極７６毎に電位が設定される
ようになっている。
【００８３】本実施形態のタッチパネル７０では、第
１、第２実施形態と同様に、抵抗接触方式を用いたもの
であるので、上側基板７２を可撓性を有する基板により
構成し、上側基板７２をその外表面側から指やペン等に
より押圧することにより、押圧した箇所の上側基板７２
を変形させ、下側透明電極７５、上側透明電極７６を接
触させることにより、位置検出を行うことが可能な構造
になっている。
【００８４】以下、本実施形態のタッチパネル７０の位
置検出の原理について簡単に説明する。
【００８５】図示横方向の位置を検出する場合には、下
側透明電極７５をすべて等電位にした状態で、上側基板
７２の各配線８２に所定の電圧を印加することにより、
各上側透明電極７６が異なる電位を有するように設定す
る。そして、指やペン等を用い下側透明電極７５と上側
透明電極７６とを接触させた箇所により、検出される電
圧が異なることから、横方向の位置を検出することがで
きる。
【００８６】一方、図示縦方向の位置を検出する場合
は、図示横方向の位置を検出する場合と同様であり、上
側透明電極７６をすべて等電位にした状態で、下側基板
７１の各配線８１に所定の電圧を印加することにより、
各下側透明電極７５が異なる電位を有するように設定す
る。そして、指やペン等を用い下側透明電極７５と上側
透明電極７６とを接触させた箇所により、検出される電
圧が異なることから、縦方向の位置を検出することがで
きる。
【００８７】以上のようにして横方向と縦方向の位置を
検出することにより、指やペン等を用い下側透明電極７
５と上側透明電極７６とを接触させた箇所の位置（座
標）を検出することができる。ただし、アナログ方式と
異なり、下側透明電極７５と上側透明電極７６との交差
した部分に対してのみ位置検出が可能となっている。
【００８８】本発明はこのようなデジタル方式の抵抗接
触方式を用いたタッチパネル７０にも適用することがで
き、第１実施形態と同様に、下側基板７１、上側基板７
２の内表面に所定のパターンの微細な凸部を形成し、凸
部を形成した下側基板７１、上側基板７２の内表面の形
状に沿って、ストライプ状に下側透明電極７５、上側透
明電極７６を形成する構成、あるいは第２実施形態と同
様に、平坦な下側基板７１、上側基板７２の表面に、所
定のパターンの微細な凸部を具備するストライプ状の下
側透明電極７５、上側透明電極７６を形成する構成のい
ずれかを採用すればよい。
【００８９】そして、このような構成を採用することに
より、第１、第２実施形態と同様の効果を得ることがで
きる。すなわち、空気層と下側透明電極７５（上側透明
電極７６）との界面における光の反射を低減することが
でき、光透過率の高い、デジタル方式の抵抗接触方式を
用いたタッチパネル７０を提供することができる。
【００９０】なお、下側透明電極７５、上側透明電極７
６の線幅はμｍオーダーであるのに対し、下側基板７
１、上側基板７２の内表面、あるいは下側透明電極７
５、上側透明電極７６の内表面に形成する凸部の大きさ
はｎｍオーダーであり、下側透明電極７５、上側透明電
極７６の線幅に対して非常に微細なものとなっている。
【００９１】以上、第１〜第３実施形態においては抵抗
接触方式を用いたタッチパネルについてのみ説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明は
空気層と透明電極とが接している構造のタッチパネルで
あれば、いかなる構造のタッチパネルに適用することが
できる。空気層と透明電極とが接している構造の抵抗接
触方式以外のタッチパネルとしては具体的には静電容量
方式のタッチパネルを挙げることができる。
【００９２】以下、静電容量方式を用いたタッチパネル
の構造と位置検出の原理について簡単に説明する。静電
容量方式を用いたタッチパネルの構造は、デジタル方式
の抵抗接触方式を用いたタッチパネルと同様の構造を有
するものであり、空気層を挟持して対向配置された下側
基板、上側基板の内表面に各々ストライプ状の下側透明
電極、上側透明電極が形成され、下側透明電極と上側透
明電極とは互いに交差する方向に形成されている。
【００９３】静電容量方式のタッチパネルでは、下側透
明電極と上側透明電極との間に一定の静電容量が保持さ
れており、上側基板の表面を指で触れると、人体がアー
スとなって電荷を引き込み、静電容量が変化する。この
静電容量を検出することによって、位置検出を行うこと
を特徴としており、抵抗接触方式では、指やペン等を用
いて上側基板を変形させて入力を行う必要があったのに
対し、静電容量方式では上側基板を変形させることなく
位置検出を行うことができるため、専用のペンなどが不
要であるとともに、指等を画面上で連続的に移動させた
場合にその軌跡も検出することが可能である。
【００９４】本発明はこのような静電容量方式のタッチ
パネルにも適用することができ、第１〜第３実施形態で
説明したように、下側基板、上側基板の内表面に所定の
パターンの微細な凸部を形成し、凸部を形成した下側基
板、上側基板の内表面の形状に沿って、ストライプ状に
下側透明電極、上側透明電極を形成する構成、あるいは
平坦な下側基板、上側基板の表面に、所定のパターンの
微細な凸部を具備するストライプ状の下側透明電極、上
側透明電極を形成する構成のいずれかを採用すればよ
い。
【００９５】そして、このような構成を採用することに
より、第１〜第３実施形態と同様の効果を得ることがで
きる。すなわち、空気層と下側透明電極（上側透明電
極）との界面における光の反射を低減することができ、
光透過率の高い、静電容量方式のタッチパネルを提供す
ることができる。
【００９６】また、一枚の基板上の四隅に透明電極を具
備する構造を有し、四隅に設けた各透明電極に電圧を印
加し、電極に指等が接触すると、電極間に指等の位置に
応じた電流が流れることを利用して位置検出を行うアナ
ログタイプの静電容量結合方式についても、透明電極と
空気層の界面における光の反射率を低減することがで
き、光透過率の高いタッチパネルを提供することができ
る。
【００９７】
【実施例】（実施例）一方の表面に微細な多数の凸部が
形成されたポリカーボネート（ＰＣ）からなる基板を作
製し、多数の凸部が形成された基板の表面に沿ってほぼ
全面に膜厚が約７０ｎｍのインジウム錫酸化物からなる
透明電極を形成し、透明電極付き基板を作製した。
【００９８】各凸部の形状は四角錐台状とし、底部は一
辺の長さが１００ｎｍの正方形、頭部は一辺の長さが４
０ｎｍの正方形、高さは１００ｎｍとした。基板の表面
において、凸部を直交する二方向に同じピッチで周期的
に形成し、全体としてマトリクス状に凸部を配列させ
た。凸部のピッチは１２０ｎｍとした。
【００９９】（従来例）平坦な基板を用い、その一方の
表面に平坦な透明電極を形成した以外は実施例と同様に
して、透明電極付き基板を作製した。
【０１００】実施例、従来例において得られた透明電極
付き基板について評価を行った。４００〜７００ｎｍの
波長の光を、得られた各透明電極付き基板に対して透明
電極側から照射したときの透明電極表面における光の反
射率を測定したところ、実施例では６％であったのに対
し、従来例では１２％であり、透明電極表面に可視光の
波長よりも小さいピッチで所定の形状の凹凸を形成する
ことにより、空気と透明電極との界面における光の反射
を低減することができることが判明した。
【０１０１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のタッチパ
ネルでは、一対の透明電極のうち少なくとも一方の表面
は、可視光領域の波長より小さいピッチで略周期的に形
成された複数の凸部で形成されている構成とした。
【０１０２】以上のような構成を採用することにより、
空気層と透明電極との界面における光の反射や回折を低
減することができ、光透過率の高い、抵抗接触方式ある
いは静電容量方式のタッチパネルを提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、本発明に係る第１実施形態のタッチ
パネルの全体構造を示す分解斜視図である。
【図２】 図２は、本発明に係る第１実施形態のタッチ
パネルの全体構造を示す平面図である。
【図３】 図３は、本発明に係る第１実施形態のタッチ
パネルを拡大した部分分解斜視図である。
【図４】 図４は、本発明に係る第１実施形態のタッチ
パネルを拡大した部分断面図である。
【図５】 図５は、本発明に係る第１実施形態におい
て、透明電極の内表面に凹凸を形成することにより、空
気層と基板の外表面との間の実効的な屈折率の変化が緩
和されることを説明するための図である。
【図６】 図６は、本発明に係る第１実施形態におい
て、凸部のその他のパターンを示す平面図である。
【図７】 図７（ａ）〜（ｈ）は、本発明に係る第１実
施形態において、凸部のその他の形状の例を示す斜視図
である。
【図８】 図８は、本発明に係る第２実施形態のタッチ
パネルを拡大した部分分解斜視図である。
【図９】 図９は、本発明に係る第２実施形態のタッチ
パネルの構造を示す部分断面図である。
【図１０】 図１０は、本発明に係る第３実施形態のタ
ッチパネルの全体構造を示す平面図である。
【図１１】 図１１は、従来のタッチパネルの構造を示
す分解斜視図である。
【符号の説明】
１０、５０、７０ タッチパネル １１、５１、７１ 下側基板 １２、５２、７２ 上側基板 １３ 空気層 １４ スペーサー １５、５５、７５ 下側透明電極 １６、５６、７６ 上側透明電極 ２１、２２ 凸部 ２１Ａ、２２Ａ 凸部の底部 ２１Ｂ、２２Ｂ 凸部の頭部 ６１、６２ 凸部 ６１Ａ、６２Ａ 凸部の底部 ６１Ｂ、６２Ｂ 凸部の頭部 Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３ 凸部のピッチ Ｐ４、Ｐ５、Ｐ６ 凸部のピッチ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０６Ｆ 3/03 ３３５ Ｇ０６Ｆ 3/03 ３３５Ｅ (72)発明者 飯坂 英仁 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 吉田 昇平 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 5B068 AA21 BB04 BB08 BC07 5B087 AC09 CC12 CC32 CC36

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 所定の間隔をあけて対向配置された一対
    の基板と、 前記一対の基板の内表面に各々所定のパターンを有した
    一対の透明電極と、 前記一対の透明電極のうち少なくとも一方の表面は、可
    視光領域の波長より小さいピッチで略周期的に形成され
    た複数の凸部で形成されていることを特徴とするタッチ
    パネル。
  2. 【請求項２】 前記一対の透明電極間に空気層が形成さ
    れていることを特徴とする請求項１記載のタッチパネ
    ル。
  3. 【請求項３】 前記凸部は、前記凸部の底面から頭部に
    かけて細くなることを特徴とする請求項１記載のタッチ
    パネル。
  4. 【請求項４】 前記凸部は、前記凸部の底面から頭部に
    かけて連続的に細くなることを特徴とする請求項３記載
    のタッチパネル。
  5. 【請求項５】 前記凸部は、前記凸部の底面から頭部に
    かけて段階的に細くなることを特徴とする請求項３記載
    のタッチパネル。
  6. 【請求項６】 前記凸部は、錐台状あるいは錐状である
    ことを特徴とする請求項３記載のタッチパネル。
  7. 【請求項７】 前記複数の凸部は、少なくとも二方向に
    略周期的に配列されていることを特徴とする請求項１記
    載のタッチパネル。
  8. 【請求項８】 前記複数の凸部のピッチは、１０ｎｍ〜
    ２００ｎｍであることを特徴とする請求項１記載のタッ
    チパネル。
  9. 【請求項９】 前記複数の凸部は、前記一対の透明電極
    の表面に形成されていることを特徴とする請求項１記載
    のタッチパネル。
  10. 【請求項１０】 前記一対の透明電極の表面に形成され
    た複数の凸部は、同一パターンで形成されていることを
    特徴とする請求項９記載のタッチパネル。
  11. 【請求項１１】 前記一対の透明電極の表面に形成され
    た複数の凸部は、互いに異なるパターンで形成されてい
    ることを特徴とする請求項９記載のタッチパネル。
  12. 【請求項１２】 前記凸部は、前記基板表面を凸状に形
    成し、前記透明電極が前記基板の凸状の形状に沿って形
    成されることを特徴とする請求項１記載のタッチパネ
    ル。
  13. 【請求項１３】 前記凸部は、前記透明電極を凸状に形
    成してなることを特徴とする請求項１記載のタッチパネ
    ル。
  14. 【請求項１４】 前記一対の透明電極間に、前記一対の
    透明電極間の間隔を保持するスペーサーを設けることを
    特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
  15. 【請求項１５】 アナログ方式あるいはデジタル方式の
    抵抗接触方式のタッチパネル、または静電容量方式のタ
    ッチパネルであることを特徴とする請求項１記載のタッ
    チパネル。
  16. 【請求項１６】 タッチパネルを有する電子機器であっ
    て、 前記タッチパネルは、 下地基板と、 前記下地基板に所定の間隔をあけて対向配置され可撓性
    の入力側基板と、 前記下地基板の内表面に所定のパターンを有した下地側
    透明電極と、 前記入力側基板の内表面に、前記下地側透明電極に対し
    て所定の間隔をあけて対向配置され所定のパターンを有
    した前記入力側透明電極とを備え、 前記下地側透明電極と前記入力側透明電極のうち少なく
    とも一方の表面は、可視光領域の波長より小さいピッチ
    で略周期的に形成された複数の凸部で形成されているこ
    とを特徴とする電子機器。
JP2001344943A 2001-01-17 2001-11-09 タッチパネル及び電子機器 Pending JP2002287902A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001344943A JP2002287902A (ja) 2001-01-17 2001-11-09 タッチパネル及び電子機器
TW090132907A TW563067B (en) 2001-01-17 2001-12-28 Touch panel and electronic machine
KR1020020002422A KR20020061538A (ko) 2001-01-17 2002-01-16 터치 패널 및 전자기기
US10/046,233 US7034808B2 (en) 2001-01-17 2002-01-16 Touch panel and electronic device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001-9423 2001-01-17
JP2001009423 2001-01-17
JP2001344943A JP2002287902A (ja) 2001-01-17 2001-11-09 タッチパネル及び電子機器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002287902A true JP2002287902A (ja) 2002-10-04

Family

ID=26607854

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001344943A Pending JP2002287902A (ja) 2001-01-17 2001-11-09 タッチパネル及び電子機器

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7034808B2 (ja)
JP (1) JP2002287902A (ja)
KR (1) KR20020061538A (ja)
TW (1) TW563067B (ja)

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008302601A (ja) * 2007-06-08 2008-12-18 Tdk Corp インモールド用金型、タッチパネル用中間体製造方法、タッチパネル用中間体およびタッチパネル
JP2010033499A (ja) * 2008-07-31 2010-02-12 Casio Comput Co Ltd タッチパネル
JP2010177601A (ja) * 2009-01-30 2010-08-12 Casio Computer Co Ltd 表示装置
JP2010205222A (ja) * 2009-03-06 2010-09-16 Hitachi Displays Ltd 入力機能付き表示装置
JP2010205611A (ja) * 2009-03-04 2010-09-16 Casio Computer Co Ltd タッチパネル
JP2010257181A (ja) * 2009-04-24 2010-11-11 Panasonic Corp 位置検出装置
CN102096539A (zh) * 2009-12-14 2011-06-15 卡西欧计算机株式会社 触摸面板
JP2011154674A (ja) * 2009-09-02 2011-08-11 Sony Corp タッチパネル、情報入力装置、および表示装置
JP2011175678A (ja) * 2011-06-01 2011-09-08 Casio Computer Co Ltd タッチパネル
US8054390B2 (en) 2002-10-16 2011-11-08 Alps Electric Co., Ltd. Transparent coordinate input device having a ridge portion formed in transparent resistance film
JP2011233412A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Mitsubishi Rayon Co Ltd 透明導電性積層体およびその製造方法
WO2011148690A1 (ja) * 2010-05-24 2011-12-01 シャープ株式会社 液晶表示パネル
JP2011248324A (ja) * 2010-04-28 2011-12-08 Sony Corp 導電性素子およびその製造方法、配線素子、情報入力装置、表示装置、ならびに電子機器
US8188983B2 (en) 2008-09-09 2012-05-29 Epson Imaging Devices Corporation Touch panel, and electro-optic apparatus and electronic device having the touch panel
WO2012098693A1 (ja) * 2011-01-19 2012-07-26 ソニー株式会社 透明導電性素子、入力装置、および表示装置
JP2013077214A (ja) * 2011-09-30 2013-04-25 Shoei:Kk タッチパネル
JP2013152619A (ja) * 2012-01-25 2013-08-08 Sharp Corp タッチパネル
KR101402883B1 (ko) 2009-03-03 2014-06-03 티피케이 터치 솔루션스 인코포레이션 용량성 및 저항성 센싱 작동이 통합된 터치 장치
KR101422214B1 (ko) * 2008-01-28 2014-07-22 삼성전자 주식회사 자력 유체를 이용하여 입력 지점을 감지할 수 있는 화면표시 장치 및 방법
US8823653B2 (en) 2007-06-14 2014-09-02 Japan Display West Inc. Capacitive input device
JP5758881B2 (ja) * 2010-03-29 2015-08-05 株式会社きもと ニュートンリング防止シート、その製造方法及びタッチパネル
JP2015197299A (ja) * 2014-03-31 2015-11-09 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 感圧素子およびその製造方法、並びに感圧素子を備えたタッチパネルおよびその製造方法
JP2015197300A (ja) * 2014-03-31 2015-11-09 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 感圧素子およびその製造方法、並びに感圧素子を備えたタッチパネルおよびその製造方法

Families Citing this family (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7663607B2 (en) 2004-05-06 2010-02-16 Apple Inc. Multipoint touchscreen
US6977646B1 (en) * 2001-11-30 2005-12-20 3M Innovative Properties Co. Touch screen calibration system and method
TWI326040B (en) * 2002-05-23 2010-06-11 Nissha Printing Touch panel with supporting board
US7151532B2 (en) * 2002-08-09 2006-12-19 3M Innovative Properties Company Multifunctional multilayer optical film
JP2004078613A (ja) * 2002-08-19 2004-03-11 Fujitsu Ltd タッチパネル装置
JPWO2004031815A1 (ja) * 2002-10-07 2006-03-23 ナルックス株式会社 反射防止用回折格子
KR100451773B1 (ko) * 2002-11-20 2004-10-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 디지털 저항막 방식의 터치 패널
TW200417929A (en) * 2002-12-10 2004-09-16 Nissha Printing Narrow frame type touch panel
US7362313B2 (en) * 2003-01-17 2008-04-22 3M Innovative Properties Company Touch simulation system and method
US8264466B2 (en) * 2006-03-31 2012-09-11 3M Innovative Properties Company Touch screen having reduced visibility transparent conductor pattern
US8243027B2 (en) 2006-06-09 2012-08-14 Apple Inc. Touch screen liquid crystal display
CN104965621B (zh) 2006-06-09 2018-06-12 苹果公司 触摸屏液晶显示器及其操作方法
EP3805907A1 (en) 2006-06-09 2021-04-14 Apple Inc. Touch screen liquid crystal display
TWI331237B (en) * 2006-09-04 2010-10-01 Au Optronics Corp Liquid crystal display panels and realted display devices
WO2008069221A1 (en) * 2006-12-05 2008-06-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Plasma display panel and field emission display
WO2008069223A1 (en) * 2006-12-05 2008-06-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Anti-reflection film and display device
WO2008069162A1 (en) 2006-12-05 2008-06-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Anti-reflection film and display device
US7973771B2 (en) * 2007-04-12 2011-07-05 3M Innovative Properties Company Touch sensor with electrode array
WO2008079596A1 (en) * 2006-12-19 2008-07-03 3M Innovative Properties Company Touch sensor with electrode array
US8493330B2 (en) 2007-01-03 2013-07-23 Apple Inc. Individual channel phase delay scheme
US9710095B2 (en) 2007-01-05 2017-07-18 Apple Inc. Touch screen stack-ups
JP4967780B2 (ja) * 2007-04-20 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 座標入力装置及び表示装置
TWI541568B (zh) * 2008-02-29 2016-07-11 Ｌｇ電子股份有限公司 可攜式終端機
KR101432592B1 (ko) * 2008-02-29 2014-08-21 엘지전자 주식회사 휴대 단말기
FR2928470B1 (fr) * 2008-03-04 2010-08-13 Young Fast Optoelectronics Co Panneau tactile duplex
CN101526864B (zh) * 2008-03-04 2012-01-11 胜华科技股份有限公司 触控面板
JP5117279B2 (ja) * 2008-05-20 2013-01-16 富士通コンポーネント株式会社 座標検出装置及び座標検出方法
US20090310367A1 (en) * 2008-06-17 2009-12-17 Shih-Yuan Kuo Composite light guide structure
TWI378374B (en) * 2008-08-04 2012-12-01 Au Optronics Corp Touch substrate of embedded touch display panel and manufacturing method thereof
TWI514421B (zh) * 2008-12-31 2015-12-21 Ind Tech Res Inst 抗反射透明導電複合膜
JP2010205610A (ja) * 2009-03-04 2010-09-16 Casio Computer Co Ltd タッチパネル
JP2010267132A (ja) * 2009-05-15 2010-11-25 Toppoly Optoelectronics Corp 液晶表示装置及び電子装置
KR101667801B1 (ko) * 2009-06-19 2016-10-20 삼성전자주식회사 터치 패널 및 이를 구비한 전자 기기
KR101658991B1 (ko) * 2009-06-19 2016-09-22 삼성전자주식회사 터치 패널 및 이를 구비한 전자 기기
KR101191117B1 (ko) * 2009-09-28 2012-10-15 주식회사 엘지화학 터치 패널
TWI398693B (zh) * 2009-10-21 2013-06-11 Inventec Appliances Corp 觸控式顯示裝置及其製造方法
TWI426426B (zh) * 2009-12-31 2014-02-11 Au Optronics Corp 觸控式顯示裝置及其包含之觸控模組
KR101616875B1 (ko) * 2010-01-07 2016-05-02 삼성전자주식회사 터치 패널 및 이를 구비한 전자기기
KR101631892B1 (ko) 2010-01-28 2016-06-21 삼성전자주식회사 터치 패널 및 이를 구비한 전자기기
TWI424349B (zh) * 2010-02-12 2014-01-21 Au Optronics Corp 感應結構及觸控顯示面板
KR101710523B1 (ko) 2010-03-22 2017-02-27 삼성전자주식회사 터치 패널 및 이를 구비한 전자기기
KR101661728B1 (ko) 2010-05-11 2016-10-04 삼성전자주식회사 사용자 입력 장치 및 이를 구비한 전자 기기
JP5625669B2 (ja) * 2010-09-17 2014-11-19 ソニー株式会社 センサ装置および情報処理装置
KR101809191B1 (ko) 2010-10-11 2018-01-18 삼성전자주식회사 터치 패널
KR101735715B1 (ko) 2010-11-23 2017-05-15 삼성전자주식회사 입력 감지 소자 및 이를 구비한 터치 패널
US8804056B2 (en) 2010-12-22 2014-08-12 Apple Inc. Integrated touch screens
JP5071563B2 (ja) * 2011-01-19 2012-11-14 ソニー株式会社 透明導電性素子、入力装置、および表示装置
US8866758B2 (en) * 2011-02-23 2014-10-21 Honeywell International Inc. Resistive touch screen displays and systems
CN102736809A (zh) * 2011-04-08 2012-10-17 宇辰光电股份有限公司 可加速反应时间与防止干扰的触屏面板
KR101784436B1 (ko) 2011-04-18 2017-10-11 삼성전자주식회사 터치 패널 및 이를 위한 구동 장치
TWI588845B (zh) * 2011-12-01 2017-06-21 創為精密材料股份有限公司 四線電阻式觸控面板用導電基板結構及其製作方法
TWI588844B (zh) * 2011-12-01 2017-06-21 創為精密材料股份有限公司 四線電阻式觸控面板用無蝕刻導電基板結構及其製作方法
TWI588846B (zh) * 2011-12-01 2017-06-21 創為精密材料股份有限公司 五線電阻式觸控面板用導電基板結構及其製作方法
TWI616901B (zh) * 2011-12-01 2018-03-01 創為精密材料股份有限公司 五線電阻式觸控面板用介電基板結構及其製作方法
TWI616900B (zh) * 2011-12-01 2018-03-01 創為精密材料股份有限公司 四線電阻式觸控面板用介電基板結構及其製作方法
KR20130067730A (ko) * 2011-12-14 2013-06-25 삼성전기주식회사 터치패널
JP5955074B2 (ja) * 2012-04-23 2016-07-20 富士通コンポーネント株式会社 タッチパネル
JP2015088332A (ja) * 2013-10-30 2015-05-07 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 感圧スイッチおよびその製造方法、並びに感圧スイッチを備えたタッチパネルおよびその製造方法
JP2015088331A (ja) * 2013-10-30 2015-05-07 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 感圧スイッチおよびその製造方法、並びに感圧スイッチを備えたタッチパネルおよびその製造方法
KR102544560B1 (ko) * 2015-10-22 2023-06-19 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널 및 이의 형성 방법
US10386567B2 (en) * 2016-05-16 2019-08-20 Keiwa Inc. Optical sheet for liquid crystal display device, backlight unit for liquid crystal display device and production method of optical sheet for liquid crystal display device
JP6815173B2 (ja) * 2016-11-17 2021-01-20 株式会社ジャパンディスプレイ タッチセンサ及び表示装置
TWI704411B (zh) 2017-04-25 2020-09-11 友達光電股份有限公司 光罩、對應之間隔物結構及應用其之液晶面板

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6438701A (en) 1987-08-05 1989-02-09 Hitachi Ltd Non-reflection treated substrate
JP3166328B2 (ja) * 1992-07-17 2001-05-14 松下電器産業株式会社 突起の形成方法
JPH06325657A (ja) 1993-05-13 1994-11-25 Hitachi Aic Inc 透明タッチパネル
JP3015647B2 (ja) * 1993-12-14 2000-03-06 グンゼ株式会社 抵抗膜式透明タッチパネル
JPH07219697A (ja) 1994-02-01 1995-08-18 Seiko Epson Corp タッチパネル及びその製造法
CN1051634C (zh) * 1994-12-28 2000-04-19 和泉电气株式会社 薄型开关装置及带开关的显示装置
JPH08281856A (ja) * 1995-04-12 1996-10-29 Nippon Paper Ind Co Ltd 透明導電性フィルム又はシート
US6078274A (en) * 1996-12-27 2000-06-20 Sharp Kabushiki Kaisha Touch panel
JPH11109103A (ja) 1997-10-02 1999-04-23 Nikon Corp 光学部材
JPH11250764A (ja) * 1998-02-27 1999-09-17 Gunze Ltd 抵抗膜型透明タッチパネル
CN1154038C (zh) * 1998-04-24 2004-06-16 日本写真印刷株式会社 触摸面板装置
US6583935B1 (en) * 1998-05-28 2003-06-24 Cpfilms Inc. Low reflection, high transmission, touch-panel membrane
JP3946371B2 (ja) * 1999-01-12 2007-07-18 日本写真印刷株式会社 タッチパネル
US6326723B1 (en) * 1999-05-25 2001-12-04 Intel Corporation Display screen
JP3654059B2 (ja) 1999-06-25 2005-06-02 松下電工株式会社 赤外線センサーの製造方法
US6495253B1 (en) * 1999-09-17 2002-12-17 Kimoto Co., Ltd. Support film for a transparent conductive thin film
US6424339B1 (en) * 2000-06-16 2002-07-23 The Bergquist Company Touch screen assembly
JP4497782B2 (ja) * 2001-03-08 2010-07-07 日本製紙株式会社 ニュートンリングが防止されたタッチパネル及び該タッチパネル用透明電極

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8054390B2 (en) 2002-10-16 2011-11-08 Alps Electric Co., Ltd. Transparent coordinate input device having a ridge portion formed in transparent resistance film
US8054392B2 (en) 2002-10-16 2011-11-08 Alps Electric Co., Ltd. Transparent composite material having ridge portion formed in transparent resistance film for transparent coordinate input device
JP2008302601A (ja) * 2007-06-08 2008-12-18 Tdk Corp インモールド用金型、タッチパネル用中間体製造方法、タッチパネル用中間体およびタッチパネル
US8823653B2 (en) 2007-06-14 2014-09-02 Japan Display West Inc. Capacitive input device
KR101422214B1 (ko) * 2008-01-28 2014-07-22 삼성전자 주식회사 자력 유체를 이용하여 입력 지점을 감지할 수 있는 화면표시 장치 및 방법
JP2010033499A (ja) * 2008-07-31 2010-02-12 Casio Comput Co Ltd タッチパネル
TWI400519B (zh) * 2008-07-31 2013-07-01 Casio Computer Co Ltd 觸控面板及具備觸控面板之電子機器
US8310465B2 (en) 2008-07-31 2012-11-13 Casio Computer Co., Ltd. Touch panel and electronic device including touch panel
JP4720868B2 (ja) * 2008-07-31 2011-07-13 カシオ計算機株式会社 タッチパネル
US8188983B2 (en) 2008-09-09 2012-05-29 Epson Imaging Devices Corporation Touch panel, and electro-optic apparatus and electronic device having the touch panel
JP2010177601A (ja) * 2009-01-30 2010-08-12 Casio Computer Co Ltd 表示装置
KR101402883B1 (ko) 2009-03-03 2014-06-03 티피케이 터치 솔루션스 인코포레이션 용량성 및 저항성 센싱 작동이 통합된 터치 장치
JP2010205611A (ja) * 2009-03-04 2010-09-16 Casio Computer Co Ltd タッチパネル
JP2010205222A (ja) * 2009-03-06 2010-09-16 Hitachi Displays Ltd 入力機能付き表示装置
JP2010257181A (ja) * 2009-04-24 2010-11-11 Panasonic Corp 位置検出装置
JP2011154674A (ja) * 2009-09-02 2011-08-11 Sony Corp タッチパネル、情報入力装置、および表示装置
TWI468721B (zh) * 2009-09-02 2015-01-11 Dexerials Corp 導電光學器件，其製造方法，觸控面板器件，顯示器件，及液晶顯示裝置
JP2011123843A (ja) * 2009-12-14 2011-06-23 Casio Computer Co Ltd タッチパネル
CN102096539A (zh) * 2009-12-14 2011-06-15 卡西欧计算机株式会社 触摸面板
US8624869B2 (en) 2009-12-14 2014-01-07 Casio Computer Co., Ltd. Touch panel
JP5758881B2 (ja) * 2010-03-29 2015-08-05 株式会社きもと ニュートンリング防止シート、その製造方法及びタッチパネル
JP2011248324A (ja) * 2010-04-28 2011-12-08 Sony Corp 導電性素子およびその製造方法、配線素子、情報入力装置、表示装置、ならびに電子機器
US8928106B2 (en) 2010-04-28 2015-01-06 Sony Corporation Electroconductive element, electroconductive element manufacturing method, wiring element, information input device, display device, and electronic apparatus
JP2011233412A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Mitsubishi Rayon Co Ltd 透明導電性積層体およびその製造方法
WO2011148690A1 (ja) * 2010-05-24 2011-12-01 シャープ株式会社 液晶表示パネル
JP2012151012A (ja) * 2011-01-19 2012-08-09 Sony Corp 透明導電性素子、入力装置、および表示装置
WO2012098693A1 (ja) * 2011-01-19 2012-07-26 ソニー株式会社 透明導電性素子、入力装置、および表示装置
JP2011175678A (ja) * 2011-06-01 2011-09-08 Casio Computer Co Ltd タッチパネル
JP2013077214A (ja) * 2011-09-30 2013-04-25 Shoei:Kk タッチパネル
JP2013152619A (ja) * 2012-01-25 2013-08-08 Sharp Corp タッチパネル
JP2015197299A (ja) * 2014-03-31 2015-11-09 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 感圧素子およびその製造方法、並びに感圧素子を備えたタッチパネルおよびその製造方法
JP2015197300A (ja) * 2014-03-31 2015-11-09 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 感圧素子およびその製造方法、並びに感圧素子を備えたタッチパネルおよびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW563067B (en) 2003-11-21
US7034808B2 (en) 2006-04-25
KR20020061538A (ko) 2002-07-24
US20020101410A1 (en) 2002-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002287902A (ja) タッチパネル及び電子機器
US9965106B2 (en) Touch screen with electrodes positioned between pixels
TWI559197B (zh) 觸控螢幕面板及其製造方法
US20080117183A1 (en) Touch screen using image sensor
JP2009009249A (ja) 静電容量式タッチパネル及びこれを用いた２方式併用タッチパネル
US10209841B2 (en) Position inputting device and display device with position inputting function
JP2012520495A (ja) 静電容量式タッチ装置と一体化された液晶ディスプレイ
JPH09258893A (ja) 座標入力装置、およびこれを備えた入力表示装置
TWI506503B (zh) 觸控面板及液晶顯示裝置
US20100117988A1 (en) Optical element and touch sensor
US8896573B1 (en) Line spacing in mesh designs for touch sensors
JP2007280101A (ja) タッチパネル装置及び表示装置
US20170308194A1 (en) Touch Sensor Mesh Designs
JP2013246734A (ja) 視認性と耐久性に優れた静電容量透明タッチシート
JPH07261907A (ja) 入力パネル
CN110794979A (zh) 一种触控板及触控显示面板
EP3500915B1 (en) Touch substrate, touch panel and touch apparatus having the same, and fabricating method thereof
JP2002149085A (ja) タッチパネル
KR101219597B1 (ko) 터치스크린 패널 및 그 제조방법
US11474651B1 (en) Touch sensor and display device including same
KR102131778B1 (ko) 플렉서블 터치 스크린 패널
JP6568537B2 (ja) 静電容量式タッチパネル
JP2000207127A (ja) タッチパネル
WO2021076192A1 (en) Optically transparent pressure sensor
CN111625126A (zh) 显示装置、触控基板及触控电极层

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040324

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20040324

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050405

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20050509

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050527

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20050609

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20060609