JP5758881B2 - ニュートンリング防止シート、その製造方法及びタッチパネル - Google Patents

Description

本発明は、特にＣＲＴやＦＰＤ等の各種ディスプレイ画面上に用いられるタッチパネル等に好適に使用しうるニュートンリング防止シートと、これを用いたタッチパネルに関する。

成形加工によってシート表面に所望の大きさの凹凸形状を付与することで、タッチパネルに組み込んだ際に、ニュートンリング現象の発生を防止し、さらにスパークルと呼ばれるギラつき現象の発生をも防止しうるニュートンリング防止シートが知られている（特許文献１，２）。

特開２００４−３６２４０６号公報（特許請求の範囲） 特開２００５−１８７２６号公報（特許請求の範囲）

しかしながら、ＣＲＴやＦＰＤ等の各種ディスプレイのカラー化と、そのカラーの高精細化が一層進んできている中、単に、シート表面に成形加工によって所望の大きさの凹凸形状を付与しただけでは、必ずしもニュートンリング現象の防止とギラつき現象の防止の両立が図れない。また、上記ニュートンリング防止シートをタッチパネルに用いた場合、繰り返しのタッチ（押圧）に耐えられるだけの耐久性も十分ではなかった。

本発明の一側面では、より高精細化された各種ディスプレイにおいても、ニュートンリング防止性及びギラつき防止性が発揮され、かつ高い耐久性をも兼ね備えたニュートンリング防止シート、およびこれを用いたタッチパネルを提供する。

本発明者は、シート表面に特殊な凹凸形状を成形加工することによって付与したものが、ニュートンリング防止性及びギラつき防止性の両立が図れ、かつ高い耐久性をも兼ね備えることを見出し、本発明に至ったものである。

即ち、本発明のニュートンリング防止シートは特殊形状の凹凸層を有し、この凹凸層は実質的に高分子樹脂で構成され、ピークを備えた構造物を格子状に複数配列して構成されている。ここで、本発明のニュートンリング防止シートを平面視した場合に、各構造物の一方の配列方向に延びる軸を「ｘ軸」とし、このｘ軸に直交する方向に延びる軸を「ｙ軸」とする。また、凹凸層を構成するすべての構造物の中の、いずれか任意の構造物を「基準構造物」とし、この基準構造物を起点として両軸（ｘ軸及びｙ軸）上に隣接する構造物を「他の構造物」とする。
本発明ではこうした条件下で、凹凸層の垂直断面の高さが、基準構造物のピークと他の構造物のピークとを結ぶ直線の方向に沿って周期的に変動するように構成されていることを特徴とする。

本発明では、凹凸層の高さの変動周期を２５μｍ〜１０００μｍの範囲内で設定することが好ましい。本発明では、各構造物のピーク高さを０．８μｍ〜２０μｍの範囲内で設定することが好ましい。

本発明では、構造物の基底面と構造物の稜線の任意の点に接する面とが交差する位置での交差角の絶対値を４度以内に設定することが好ましい。

本発明において、凹凸層を構成する各構造物は、実質的に高分子樹脂で構成されていればよく、微粒子などの種々の添加剤が含有されていてもよい。ただし、ここでいう微粒子とは、ナノメーター（ｎｍ）単位の粒径を持つものを意味し、マイクロメーター（μｍ）単位の粒径を持つものは除かれる。
本発明では、こうした微粒子（ナノメーター単位の粒径を持つもの）を含まず高分子樹脂のみで構造物を形成することが好ましい。

本発明のニュートンリング防止シートは、凹凸層が形成された面とは反対面にハードコート層を備えることが好ましい。このような凹凸層とハードコート層を備えたニュートンリング防止シートを製造する方法において、凹凸層及びハードコート層の両層を構成する樹脂として電離放射線硬化型樹脂を用い、一方の層を半硬化させた状態で他方の層を形成し、両者を一括して全硬化させるようにしてもよい。

本発明のタッチパネルは、導電性膜を有する一対のパネル板の前記導電性膜同士が対向するようにスペーサを介して配置してなる抵抗膜方式のものであって、導電性膜の何れか一方または両方が、本発明のニュートンリング防止シートの凹凸層が形成された面上に形成されてなることを特徴とする。

従来、写真製版分野、液晶分野および光学機器分野などでは、プラスチックフィルムやガラス板等の部材同士の密着により、ニュートンリングと呼ばれる現象が生じていた。このニュートンリングは、部材同士が密着する際に両者の間に生じる隙間を一定以上に維持することによって防止することが可能となる。このため、部材上にバインダー成分、および微粒子からなるニュートンリング防止層をコーティング液の塗布、乾燥の方式で形成して、部材の片面あるいは両面を凹凸処理したニュートンリング防止シートが提案されている。ところが、ＣＲＴやＦＰＤ等のカラー化が進むと共に、各種ディスプレイのカラーの高精細化が進んだ結果、このような従来のニュートンリング防止シートをタッチパネルに使用すると、ニュートンリング防止層中の微粒子が形成した凸部形状により光源光が意図しない方向に屈折され、スパークルと呼ばれるギラつき現象が発生し、高精細化されたカラー画面がぎらついて見えるという問題が生じていた。

そこで近年、成形加工によってシート表面に所望の大きさの凹凸形状を付与したニュートンリング防止シートが提案されたのは上述した通りである。しかし、ＣＲＴやＦＰＤ等の各種ディスプレイのカラー化と、そのカラーの高精細化が一層進んできている中、単に、シート表面に成形加工によって所望の大きさの凹凸形状を付与しただけでは、必ずしもニュートンリング防止性及びギラつき防止性の両立が図れるわけではなく、しかもこの構成ではタッチパネルに用いた場合の、繰り返しの押圧に耐えられるだけの耐久性が十分ではなかった。

本発明のニュートンリング防止シートによれば、上記構成を備えているため、ニュートンリング防止性に優れ、より高精細化されたカラーディスプレイを用いたタッチパネルで使用した際にも、スパークルが発生しにくく、カラー画面のギラつきを目立ち難くすることができる。本発明のニュートンリング防止シートは、上記構成を備えているため、ニュートンリング防止性とギラつき防止性の両立を図ることができ、さらに高い耐久性をも兼備することが可能である。

上記構成のニュートンリング防止シートを用いた本発明のタッチパネルによれば、スパークルが発生せず、カラー画面がギラついて見えることがなく、その結果、正面方向への視認性が高められる。使用するニュートンリング防止シートは耐久性が高められているため、タッチパネルを含む装置全体の耐用期間を伸ばすことができ、産業上極めて有益である。

図１は本発明の一実施形態に係るニュートンリング防止シートを示す平面図である。 図２は図１の平面図に対して正面図と右側面図を併記した三面図である。 図３は図１のａ−ａ線（凹凸層３中の構造物２ｂのピークＰｂを通るｘ軸に平行な線）に沿って切断したときの断面図である。 図４は他の実施形態に係るニュートンリング防止シートを図２のａ−ａ線に沿って切断したときの断面図である。 図５は他の実施形態に係るニュートンリング防止シートを図２のａ−ａ線に沿って切断したときの断面図である。 図６は本発明の一実施形態に係るタッチパネルを示す断面図である。 図７は図６のタッチパネルに用いることができる他の態様のニュートンリング防止用凹凸パターンを示す断面図である。

１，１ｂ，１ｃ…ニュートンリング防止シート、１ａ…ニュートンリング防止用凹凸パターン、２…構造物、３…凹凸層、４…支持体、５…基層、５０…タッチパネル、５２…上電極基板、５２２…上透明基板（パネル板）、５２４…上透明導電膜（導電性膜）、５４…下電極基板、５４２…下透明基板（パネル板）、５４４…下透明導電膜（導電性膜）、５６，５８…スペーサ、７…接着層、９…表示素子。

まず、本発明のニュートンリング防止シートの実施の形態を説明する。
図１〜図３に示すように、本発明の一実施形態に係るニュートンリング防止シート１は単層構造であり、基層５自体に賦形された凹凸層３を有する。この凹凸層３は構造物２を格子状に隙間なく複数配列することで構成されている。構造物２は、実質的に高分子樹脂で構成され、ピークＰを備えている。

ここで、シート１を平面視（図１参照）した場合の縦方向（図１のｘ方向。「各構造物の一方の配列方向」の一例）に延びる軸を「ｘ軸」とし、このｘ軸に直交する方向（図１のｙ方向）に延びる軸をｙ軸とする。また、凹凸層３を構成するすべての構造物２の中の、いずれか任意の構造物を「基準構造物２ａ」とし、この基準構造物２ａを起点として両軸（ｘ軸及びｙ軸）上に隣接する構造物を「他の構造物２ｂ，２ｃ」とする。

このとき、本実施形態の凹凸層３は、基準構造物２ａに備えられたピークＰａと、他の構造物２ｂ，２ｃに備えられたピークＰｂ，Ｐｃとの、それぞれを結ぶ直線の方向（ｘ方向、ｙ方向に相当する）に沿って、垂直断面の高さが周期的に変動するように形成されている。ここで、垂直断面の高さとは、構造物２の基底部分からの垂直距離を意味する。ピークＰ位置での「垂直断面の高さ」は図３の符号αに相当する距離である。

本実施形態のニュートンリング防止シート１は、第１に、実質的に高分子樹脂で構成される構造物２を複数配列した凹凸層３を備えている。このため、従来のニュートンリング防止シートのように、マイクロメーター単位の粒径を持つ微粒子による凸部形状によって発生していたギラつきを防止することができる。
第２に、基準構造物２ａのピークＰａと、他の構造物２ｂ，２ｃのピークＰｂ，Ｐｃとを結ぶ直線の方向に沿って、垂直断面の高さが周期的に変動するように、凹凸層３を構成している。このため、ニュートンリング防止シート１の構造物２，２ａ，２ｂ，２ｃなどを有する面（凹凸層３の面）に対向する部材に対して接地する部位が散在した状態とされる。その結果、ニュートンリングの発生を効果的に防止することができる。
第３に、複数の構造物２を格子状に隙間なく配列して凹凸層３を構成している。その結果、ニュートンリング防止シートとしての構造安定性が高められ、耐久性に優れたものとすることができる。

また、本実施形態のニュートンリング防止シート１は、構造物２を格子状に隙間なく複数配列して凹凸層３を構成しているため、仮にニュートンリング防止シート１に直径１０〜１００μｍ程度の傷や異物等が付着しても、その凹凸層３の表面形状により当該傷や異物等を視認し難くさせる作用を発揮しうる。さらに、格子状に配列してなるため、構造物２の縦横方向を気にせずに使い勝手良くニュートンリング防止シート１を用いることもできる。

なお、図１〜図３では、基層５自体に凹凸層３が賦形された単層構造の例を示したが、本発明のニュートンリング防止シートはこの構造に限定されない。例えば図４に示すように、支持体４の表面に、構造物２を格子状に複数配列した凹凸層３を積層した積層構造のニュートンリング防止シート１ｂであってもよい。或いは図５に示すように、図１〜図３に示す単層構造のニュートンリング防止シート１が支持体４の表面に積層されたニュートンリング防止シート１ｃであってもよい。

凹凸層３を構成する構造物２は、主に高分子樹脂により構成することができる。従来のニュートンリング防止シートでは、凹凸層を形成するために高分子樹脂に、マイクロメーター単位の粒径からなる微粒子等を添加して用いていた。これに対し、本実施形態では、２Ｐ法や２Ｔ法、エンボス加工法等に代表される転写賦形技術により凹凸層３を形成するため、上記微粒子を用いずに高分子樹脂のみで構成することができる。

微粒子を用いずにニュートンリング防止シートを構成することにより、タッチパネルの部材として使用した際に、シート中に微粒子を含んでいないことに起因して、それだけで、スパークルと呼ばれるギラつきの発生を防止することができる。また、微粒子により凹凸層を形成するのではなく、転写賦形技術により凹凸層を形成するため、内部及び外部ヘーズ値の上昇を抑え、従来のニュートンリング防止シートに比べ透明性が良好なものとなる。なお、上述したように、複数の構造物２が配列されてなる凹凸層３が基層５上に形成されてなる場合（図３，５参照）には、基層５においてもこのような高分子樹脂により構成することができる。

高分子樹脂としては、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、湿気硬化性樹脂等が挙げられる。２Ｐ法により構造物２を形成する場合には、電離放射線硬化性樹脂を用い、２Ｔ法やエンボス加工法により構造物２を形成する場合には、熱硬化性樹脂或いは熱可塑性樹脂を用いる。湿気硬化型樹脂は、２Ｐ法、２Ｔ法のいずれにも採用することができるが、２Ｔ法による構造物２の形成に適している。

電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線（紫外線または電子線）の照射によって架橋硬化することができる光重合性プレポリマーを用いることができ、この光重合性プレポリマーとしては、１分子中に２個以上のアクリロイル基を有し、架橋硬化することにより３次元網目構造となるアクリル系プレポリマーが特に好ましく使用される。このアクリル系プレポリマーとしては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、ポリフルオロアルキルアクリレート、シリコーンアクリレート等が使用できる。さらにこれらのアクリル系プレポリマーは単独でも使用可能であるが、架橋硬化性を向上させ構造物２の硬度をより向上させるために、光重合性モノマーを加えることが好ましい。

光重合性モノマーとしては、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート等の単官能アクリルモノマー、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等の２官能アクリルモノマー、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等の多官能アクリルモノマー等の１種若しくは２種以上が使用される。

構造物２は、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの他、紫外線照射によって硬化させる場合には、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を用いることが好ましい。

光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等が挙げられる。

また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合障害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等が挙げられる。

また、電離放射線硬化型樹脂として、電離放射線硬化型有機無機ハイブリッド樹脂を用いることも好ましい。なお、本発明でいう電離放射線硬化型有機無機ハイブリッド樹脂とは、ガラス繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）で代表される昔からの複合体と異なり、有機物と無機物の混ざり方が緊密であり、また分散状態が分子レベルかそれに近いもので、電離放射線の照射により、無機成分と有機成分が反応して、被膜を形成することができるものである。このような電離放射線硬化型有機無機ハイブリッド樹脂の無機成分としては、シリカ、チタニア等の金属酸化物が挙げられるが、なかでもシリカを用いたものが好ましい。

熱硬化性樹脂としては、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、フラン系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、グアナミン系樹脂、ケトン系樹脂、アミノアルキッド系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が挙げられる。これらは単独でも使用可能であるが、架橋性、架橋硬化塗膜（構造物２）の硬度をより向上させるためには、硬化剤を加えることが望ましい。

硬化剤としては、ポリイソシアネート、アミノ樹脂、エポキシ樹脂、カルボン酸などの化合物を、適合する樹脂に合わせて適宜使用することができる。

熱可塑性樹脂としては、ＡＢＳ樹脂、ノルボルネン樹脂、シリコーン系樹脂、ナイロン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、スルフォン系樹脂、イミド系樹脂、フッ素系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ナイロン系樹脂、ゴム系樹脂、ポリビニルエーテル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール等が挙げられる。

なお、これら熱硬化性樹脂或いは熱可塑性樹脂のうち、構造物２とした際の塗膜強度や、良好な透明性が得られる観点から、アクリル系樹脂の熱硬化性樹脂或いは熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。また、これら熱硬化性樹脂或いは熱可塑性樹脂は、それぞれ熱硬化性樹脂どうし或いは熱可塑性樹脂どうしを複数種組み合わせた複合樹脂として用いることもできる。

湿気硬化型樹脂は空気中の水分と反応して硬化が進行する樹脂であり、例えば、１液型シリコーン樹脂、１液型変成シリコーン樹脂、１液型ポリウレタン樹脂、２液型変成シリコーン樹脂等が挙げられる。このような湿気硬化性樹脂は、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を用いる場合に必要な光や熱等の外部エネルギーを用いることなく構造物２を形成することができるという利点がある。

構造物２を構成する高分子樹脂としては、上述した樹脂以外の樹脂を併用することもできるが、高分子樹脂が２種以上の樹脂により構成される場合の樹脂の含有割合としては、転写賦形技術により凹凸層３を精度良く作製する観点から、２Ｐ法の場合には、電離放射線硬化性樹脂が全高分子樹脂成分中３０重量％以上含まれることが好ましい。２Ｔ法やエンボス加工法の場合では、熱硬化性樹脂或いは熱可塑性樹脂が全高分子樹脂成分中３０重量％以上含まれることが好ましい。

なお、構造物２には、高分子樹脂の他、これらの効果を阻害しない範囲であれば、滑剤、蛍光増白剤、微粒子、帯電防止剤、難燃剤、抗菌剤、防カビ剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、可塑剤、レベリング剤、流動調整剤、消泡剤、分散剤、離型剤、架橋剤等の種々の添加剤を含ませることもできる。なお、上述したが、ここでいう微粒子とは、従来のニュートンリング防止シートで用いられるようなマイクロメーター単位の粒径のものではなく、ナノメーター単位の粒径のものを指す。

本実施形態の構造物２は、四角錐及び、垂直断面が略半円（略半真円と略半楕円を含む）の回転体、の何れか、又はこれらを組み合わせて形成することが好ましい。構造物２をこうした四角錐または回転体で構成することにより、ニュートンリング防止シートとした際の構造的な強度を高めることができる。なお、四角錐は、その基底部の形状が方形であればよく、正方形でもよいし、長方形でも構わない。

本実施形態のニュートンリング防止シート１は、上述した四角錐や回転体などで構成される構造物２が複数混在したものであっても良く、何れか一種の構造物により構成されたものでも良い。これらの構造物のうち、四角錐のみで構成することにより、構造物２（引いては凹凸層３）を効率良く製造することができる。

本実施形態では、上述したように、基準構造物２ａのピークＰａと、他の構造物２ｂ，２ｃのピークＰｂ，Ｐｃとを結ぶ直線の方向に沿って、垂直断面の高さが変動し、その変動に周期性を持たせてある。凹凸層３において、垂直断面の高さの変動に周期性を持たせることで、ニュートンリング防止性を発揮しつつ、ギラつきをより好適に防止することができる。

凹凸層３の、垂直断面の高さの変動周期は２５μｍ〜１０００μｍの範囲内で設定されることが好ましい。変動周期を２５μｍ以上とすることにより、より高精細化された各種ディスプレイに対してもギラつきをより効果的に防止することができる。また、変動周期を１０００μｍ以下とすることにより、ニュートンリング防止性がより効果的に発揮される。この中でも特に、高さの変動周期を、１００μｍ〜７００μｍの範囲内とし、さらには２００μｍ〜５００μｍの範囲内とすることで、上述の効果が顕著に発揮される。なお、本実施形態の「高さの変動周期」とは、基準構造物２ａのピークＰａから、他の構造物（例えば２ｂ又は２ｃ）のピーク（例えばＰｂ又はＰｃ）までの、ピーク高さの変動する周期（ピーク間の距離）を意味する。上記範囲での高さの変動周期は、凹凸層３中の、少なくともｘ軸上の高さ及びｙ軸上の高さのいずれか一方が満たすものであれば、本実施形態での射程内にある。ただし、ニュートンリング防止性、ギラつき防止性及び耐久性のバランスに優れるものとする観点からいえば、ｘ軸上の高さ及びｙ軸上の高さの両方を上述した好適な変動周期範囲内に設定することが好ましい。

構造物２のピーク高さは０．８μｍ〜２０μｍの範囲内で設定されることが好ましく、より好ましくは１μｍ〜１０μｍの範囲内で設定する。ピーク高さを０．８μｍ以上とすることにより、ニュートンリング防止性を良好なものとすることができる。また、ピーク高さを２０μｍ以下とすることにより、ギラつきを効果的に抑えつつ、ニュートンリング防止シートとしての耐久性やハンドリング性が高められる。なお、構造物２のピーク高さとは、構造物２の基底部分からピーク位置までの垂直距離（図３の符号α）を意味し、凹凸層３が賦形されていない部分（図３の符号５の部分）の厚みは考慮されない。

構造物２の基底面と構造物２の稜線の任意の点に接する面とが交差する点（例えば図３の符号Ｑ）での交差角β（図３参照）の絶対値は４度以内であることが好ましい。このような範囲とすることにより、ギラつきを効果的に抑えつつ、ニュートンリング防止シートとしての耐久性に特に優れたものとすることができる。好適には、絶対値が０．００１度〜４度の範囲とすることがより好ましい。

以上の構成の凹凸層３は、当該凹凸層３を構成する凹凸パターンに対して相補的な構造体を備えた型により形成することができる。こうした型を作製する方法としては、特に限定されないが、例えば、微細穴開け加工技術を用い、先端に特定の断面形状をもつ切削工具により、切削深さを制御して平板上に凹みを形成し、これを成形用の型（雌型）とすることができる。或いは、レーザー微細加工技術により、特定形状の凸部を平板上に形成し、これを雄型として成形用の型（雌型）を作製することができる。

図４及び図５に示すように、支持体４を用いる場合には、支持体４として、ガラス板やプラスチックフィルム等の透明性の高いものを用いることができる。ガラス板としては、例えばケイ酸塩ガラス、リン酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラス等の酸化ガラスを板ガラス化したものを使用することができ、特にケイ酸ガラス、ケイ酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリ石灰ガラス、鉛ガラス、バリウムガラス、ホウケイ酸ガラス等のケイ酸塩ガラスを板ガラス化したものが好ましい。プラスチックフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、アクリル、ポリ塩化ビニル、ノルボルネン化合物等が使用でき、延伸加工、特に二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムが機械的強度、寸法安定性に優れているために好適に使用される。支持体４としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、遠紫外線照射処理、下引き易接着層の形成等の易接着処理が施されたものを用いることが好ましい。

支持体４の厚みは、特に限定されず適用される材料に対して適宜選択することができるが、ニュートンリング防止シートとしての取扱い性等を考慮すると、一般に２５〜５００μｍ程度であり、好ましくは５０〜３００μｍ程度である。

本実施形態のニュートンリング防止シート１，１ｂ，１ｃを形成する方法としては、２Ｐ法、２Ｔ法やエンボス加工法等のような転写賦形技術を用いることができる。例えば、上述したような構造物２を構成する高分子樹脂等を、要求する凸状パターンとは相補的な凹状パターンを有する型内に充填し、パターンを転写賦形させた後、当該高分子樹脂等を硬化させ、型から剥離することで、凸状パターンが賦形されたニュートンリング防止シート１が得られる。支持体４を用いる場合には、型内に高分子樹脂等を充填し、その上に支持体４を重ね合わせた後、当該高分子樹脂等を硬化させ、型から剥離することで、支持体４上に、凹凸パターンを備えたニュートンリング防止シート１ｂ，１ｃが得られる（図４，５参照）。

上述した転写賦形技術のうち、ニュートンリング防止シートを比較的短時間で作製でき、加熱冷却が不要であるため構成部材の熱による変形を少なく抑えられる観点からは、２Ｐ法を採用することが好ましい。一方、構成部材の材料選択性の自由度が高く、プロセスコストを削減可能な観点からは、２Ｔ法を採用することが好ましい。

また、常温にて形成するエンボス加工法であると、形成時の高分子樹脂の弾性により、版（エンボスロール）の凹凸形状に比べ、角がなだらかな形状となってしまい、所望のサイズの凹凸形状を得ることが難しくなる。このため、所望の凹凸形状を正確に形成できるという観点からは、２Ｐ法および２Ｔ法を採用することがより好ましい。

なお、高分子樹脂を硬化させる方法としては、高分子樹脂が電離放射線硬化性樹脂の場合には電離放射線を照射することで硬化させることができる。また、高分子樹脂が熱硬化性樹脂の場合には、熱を加えることで硬化させることができる。ここで、電離放射線としては、例えば超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、メタルハライドランプなどから発せられる１００〜４００ｎｍ、好ましくは２００〜４００ｎｍの波長領域の紫外線や、走査型・カーテン型の電子線加速器から発せられる１００ｎｍ以下の波長領域の電子線を利用することができる。熱硬化性樹脂の加熱温度は、樹脂の種類やニュートンリング防止層の膜厚などを考慮して設計され、通常８０〜２００℃の範囲である。

高分子樹脂の硬化後における構造物２の塗膜強度に関しては、構造物２の表面にタックがない程度の塗膜強度を備えたものであることが好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００：１９９０に基づく鉛筆硬度がＨＢ以上であることが好ましい。構造物２が上述した程度の塗膜強度を備えることで、当該構造物２を備えたニュートンリング防止シートをタッチパネルに用いた際、構造物２が容易には変形せず耐久性に優れたものとすることができる。

また、本実施形態では、ニュートンリング防止シート１の凹凸層３が形成された面とは反対面にハードコート層を設けてもよい。一方の面に凹凸層３、他方の面にハードコート層を設けた構成とすることにより、ハードコート層による傷付き防止効果に加えて、ニュートンリング防止シートの「そり」を防止することができ、ニュートンリング防止シートを組み込んだ製品、例えばタッチパネルの品質を良好に保つことができる。

ハードコート層は、電離放射線硬化型樹脂や熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、湿気硬化型樹脂等の樹脂により構成される。これらの中でも電離放射線硬化型樹脂は、ハードコート性を発揮させ易いことから好ましく用いられる。これらの樹脂は、上述した構造物２として用いることができる電離放射線硬化型樹脂や熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、湿気硬化型樹脂等の樹脂と同様のものにより構成することができる。

ハードコート層は、３００ｇの荷重、好ましくは５００ｇの荷重によるスチールウール＃００００を１０往復させたときに傷を生じることがないように調整されていることが望ましい。このように調整することで、必要なハードコート性を確保することが可能となる。

また、ハードコート層は、さらに鉛筆引っかき値（鉛筆硬度）が、Ｈ以上、より好ましくは、２Ｈ以上、さらに好ましくは３Ｈ以上に調整されていることが望ましい。鉛筆引っかき値が所定値以上に調整されていることにより、ハードコート層の表面が傷つくことを効果的に防止することができる。なお、鉛筆引っかき値は、ＪＩＳ Ｋ５４００：１９９０に準拠した方法で測定した値である。ハードコート層の擦傷性や硬度は、ハードコート層を構成する樹脂の種類や硬化の条件などにより調整することができる。

ハードコート層の厚みとしては、好ましくは０．１μｍ〜３０μｍ、より好ましくは０．５μｍ〜１５μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜１０μｍである。ハードコート層の厚みを０．１μｍ以上にすることにより、ハードコート性を十分なものにすることができる。また、ハードコート層の厚みを３０μｍ以下とすることにより、カールの発生や硬化不足となるのを防止し易くすることができる。

以上のようなハードコート層は、本発明のニュートンリング防止シートの凹凸層３が形成された面とは反対面に、上述した電離放射線硬化型樹脂等の樹脂や必要に応じ用いた添加剤および希釈溶媒などを混合してハードコート層用塗布液を調整し、従来公知のコーティング方法、例えば、バーコーター、ダイコーター、ブレードコーター、スピンコーター、ロールコーター、グラビアコーター、フローコーター、スプレー、スクリーン印刷などによって塗布し、必要に応じて乾燥後、電離放射線の照射により電離放射線硬化型樹脂を硬化させることにより形成される。

ハードコート層の形成は、例えば、支持体４上に凹凸層３を形成する場合には、ハードコート層と凹凸層３のいずれを先に形成しても良いが、ニュートンリング防止シートとしたときに良好な平面性を得るためには、凹凸層３を先に形成することが好ましい。

また、ハードコート層と凹凸層３が共に電離放射線硬化型樹脂の場合には、一方の層を半硬化としておき、この状態で他方の層を形成し、その後、両者を一括して全硬化させることも可能である。このような手法を採用することで、生産効率を向上させることができる。

以上、本発明のニュートンリング防止シート１について説明したが、別の実施形態として図７に示すように、基層５や支持体４の存在しない本発明の凹凸層３のみで形成されたニュートンリング防止用凹凸パターン１ａとして用いることもできる。かかるニュートンリング防止用凹凸パターン１ａは、例えば図４に示すようなニュートンリング防止シート１ｂの支持体４を剥離することで作製することができる。

次に、本発明のタッチパネルの実施の形態を説明する。
図６に示すように、本発明の一実施形態に係るタッチパネル５０は、各種電子機器（例えば携帯電話やカーナビ等）に設けられる液晶等の表示素子９の前面に装着される抵抗膜方式のタッチパネルである。このタッチパネル５０を通して背面の表示素子９に表示された文字や記号、絵柄等の視認や選択を行い、指や専用ペン等で押圧操作することによって、機器の各機能の切換えを行うことができる。

本実施形態のタッチパネル５０は、上電極基板５２と、下電極基板５４とを有する。上電極基板５２は、上透明基板５２２（パネル板）を有し、上透明基板５２２の下面には、上透明導電膜（導電性膜）５２４が形成されている。下電極基板５４は、下透明基板５４２（パネル板）を有し、下透明基板５４２の上面には、下透明導電膜（導電性膜）５４４が形成されている。

タッチパネル５０は、上電極基板５２側と下電極基板５４側の何れかが可動電極であってもよいが、この実施形態では、上電極基板５２を可動電極とし、下電極基板５４を固定（非可動）電極とする場合を例示する。

上下透明導電膜５２４，５４４は、Ｉｎ、Ｓｎ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｒｈなどの金属や、酸化インジウム、酸化スズ、及びこれらの複合酸化物であるＩＴＯなどの金属酸化物からなる透明性および導電性を有する無機の薄膜や、ポリパラフェニレン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリピロール、ポリフラン、ポリセレノフェン、ポリピリジン等のアロマティック導電性高分子からなる有機の薄膜があげられる。

上透明基板５２２及び／又は下透明基板５４２としては、上述したニュートンリング防止シート１の説明で詳述した支持体４と同様のもの、または上述したニュートンリング防止シート１を用いることができる。この場合、支持体４の一方の面、またはニュートンリング防止シート１上に、上述した透明導電膜５２４，５４４を、無機の薄膜については真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空製膜法で、有機の薄膜については従来公知のコーティング方法によって形成することにより得られる。このようなパネル板としての上透明基板５２２及び／又は下透明基板５４２はタッチされる方の面には、任意のハードコート処理を施しておくことが好ましい。

本実施形態では、上電極基板５２の下面と下電極基板５４の上面のそれぞれの外周部分は、略額縁状のスペーサ５６を介して貼り合わされている。また、上電極基板５２の上透明導電膜５２４と、下電極基板５４の下透明導電膜５４４とが、所定の間隙を空けて対向するように配置されている。下透明導電膜５４４の上面には、必要に応じてドット状のスペーサ５８が所定間隔で複数配置される。なお、スペーサ５８は必要に応じて配置すれば良く、スペーサ５８を配置しない構成にすることも可能である。

ドット状のスペーサ５８は、一対のパネル板とした時のパネル板同士間の空隙を確保したり、タッチ時の荷重を制御したり、またタッチ後の各パネル板との離れを良くしたりするために形成される。このようなスペーサ５８は、一般に透明な電離放射線硬化性樹脂が用いられ、フォトプロセスで微細なドット状に形成して得ることができる。また、ウレタン系樹脂などを用いて、シルクスクリーン等の印刷法により微細なドットを多数印刷することにより形成することもできる。また、無機物や有機物からなる粒子の分散液を噴霧、または塗布し乾燥することによっても得ることができる。スペーサ５８の大きさは、タッチパネルの大きさによって異なるので一概にいえないが、一般に直径３０〜１００μｍ、高さ１〜１５μｍのドット状に形成され、０．１〜１０ｍｍの一定の間隔で配列される。

上下透明導電膜５２４，５４４の両端には、それぞれ一対の電極（図示省略）が形成されている。この実施形態では、上透明導電膜５２４に形成される一対の上電極（図示省略）と、下透明導電膜５４４に形成される一対の下電極（図示省略）とは、互いに交差する方向に配置されている。

なお、本実施形態では、下電極基板５４の下面には、接着層７を介してセパレータ（図示省略）が貼付してあってもよい。

本実施形態のタッチパネル５０を、例えばカラー液晶等の表示素子９の前面に搭載するには、まずこの実施形態のタッチパネル５０のセパレータ（図示省略）を剥がして接着層７を露出させ、表示素子９の前面に対向するように接触させる。これにより、タッチパネル付きカラー液晶表示素子を形成することができる。

このタッチパネル付き液晶表示素子では、ユーザがタッチパネル５０の背面に配置される表示素子９の表示を視認しながら、指やペン等で上電極基板５２の上面を押圧操作すると、上電極基板５２が撓み、押圧された箇所の上透明導電膜５２４が下透明導電膜５４４に接触する。この接触を上述した一対の上下電極を介して電気的に検出することにより、押圧された位置が検出される。

本実施形態では、可動電極としての上電極基板５２の上透明基板５２２を、本実施形態のニュートンリング防止シート１（図１〜図３）で構成し、かつニュートンリング防止シート１の凹凸層３が形成された面に上透明導電膜５２４が接触するようにしてある。

なお、上透明基板５２２は、他の形態のニュートンリング防止シート（例えば図４，５，７に示すもの）で構成することもできる。この場合、同様に、ニュートンリング防止シートの凹凸層３が形成された面に上透明導電膜５２４が接触するようにすればよい。

本実施形態では、固定電極としての下電極基板５４の下透明基板５４２は、例えばガラスなどで構成される。

なお、本実施形態では、下電極基板５４についても、上電極基板５２と同様に、本実施形態のニュートンリング防止シート１で下透明基板５４２を構成し、かつニュートンリング防止シート１の凹凸層３が形成された面に下透明導電膜５４４が接触するようにすることもできる。

このように、本実施形態のニュートンリング防止シート１を用いたタッチパネル５０は、スパークルが発生せず、近年さらに高精細化した各種ディスプレイに対してもカラー画面がギラついて見えてしまうようなことがない。このため、ディスプレイの視認性を低下させることのないタッチパネルとすることができる。また、ニュートンリング防止シートが高い耐久性をも備えたものであるため、タッチパネルとして耐用期間に優れたものとなる。

なお、タッチパネル５０にニュートンリング防止シート１を組み込むにあたり、当該ニュートンリング防止シート１の凹凸層３中の構造物２のピーク稜線の流れ方向と、規則構造を有する液晶パネル等の当該規則構造の配列方向とが平行となることなく、両者にずれ（両者の方向の延長線上に交差点があり、当該交差点における角度が５〜９５°の範囲内）を持たせたものであっても構わない。このような構造とすることにより、ニュートンリング防止シート１と規則構造を有する液晶パネル等との組み合わせにより発生しうるモアレを好適に防止することができる。

以下、実施例により本発明を更に説明する。なお、「部」、「％」は特に示さない限り、重量基準とする。

１．ニュートンリング防止シートの作製
［実施例１］
滑らかな表面を有する厚み４ｍｍの銅板に対し、ダイヤモンド製の彫刻用バイトを用いて切削し、金型を作製した。作製した金型へ、紫外線硬化型樹脂としてアクリルモノマー（メタクリル酸メチル：和光純薬社）５０部及び多官能性アクリルモノマー（ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ：新中村化学工業社）４５部、光重合開始剤（イルガキュア１８４：チバ・ジャパン社）５部からなる混合液を滴下し、厚み１００μｍのポリエステルフィルム（コスモシャインＡ４３００：東洋紡績社）をかぶせ、気泡が残らないようにローラーで樹脂を均一に押し広げて樹脂とポリエステルフィルムを密着させた。

この状態のままポリエステルフィルム側からメタルハライドランプにより１５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、紫外線硬化型樹脂を硬化させたのちポリエステルフィルム及び樹脂を金型から剥離することで、金型の形状を忠実に転写させた実施例１のニュートンリング防止シート（図５の構造のもの）を作製した。実施例１のニュートンリング防止シートの凹凸層中の構造物の構造について表１に示す。

［実施例２〜１０］
実施例１とは異なる切削条件により銅板を切削した以外は実施例１と同様にして、実施例２〜１０のニュートンリング防止シートを作製した。実施例２〜１０のニュートンリング防止シートの凹凸層中の構造物の構造について表１に示す。

［比較例１］
支持体として実施例１と同様のポリエステルフィルムの一方の面に、下記処方のニュートンリング防止層用塗布液を塗布、乾燥し、高圧水銀灯で紫外線を照射して厚み２μｍの凹凸層（ニュートンリング防止層）を形成し、比較例１のニュートンリング防止シートを作製した。

＜比較例１のニュートンリング防止層用塗布液の処方＞
・電離放射線硬化性樹脂（固形分１００％） ５０部
（ビームセット５７５：荒川化学工業社）
・微粒子（アクリル系樹脂粒子） ０．４部
（平均粒子径３μｍ）
・光重合開始剤 １．５部
（イルガキュア６５１：チバ・ジャパン社）
・イソプロピルアルコール ２００部

［比較例２〜４］
実施例１とは異なる切削条件により銅板を切削した以外は実施例１と同様にして、比較例２のニュートンリング防止シートを作製した。比較例２〜４のニュートンリング防止シートの凹凸層中の構造物の構造について表１に示す。
なお、比較例２〜４の構造物は、垂直断面が四角形または三角形である、ピーク高さの変動しない四角柱形状または三角柱形状よりなるものであり、構造物間に隙間（距離）が存在している。

表中の「回転体」とは、垂直断面が略半真円の回転体をいう。また、「交差角の絶対値」とは、構造物の基底面と構造物の稜線の任意の点に接する面とが交差する位置での交差角（図３のβ）の絶対値をいう。

また、「構造物間の距離」とは、実施例１〜１０に関しては、構造物を格子状に配列した際のｘ軸上及びｙ軸上で隣接する構造物間の距離をいい、比較例２〜４に関しては、構造列間の距離をいう。また、「実質的に０」とは、金型切削作業上で入りうる数μｍ程度の隙間（誤差）を除いた、実質的に０となるものをいう。

２．タッチパネルの作製
（１）上部電極のパネル板の作製
上記各例のニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層（凹凸層）上に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、他方の面に接着剤を介してハードコートフィルム（ＫＢフィルムＮ０５Ｓ：きもと社）を貼合し、４型の大きさ（縦８７．３ｍｍ、横６４．０ｍｍの長方形）に切り取り、上部電極のパネル板をそれぞれ作製した。

（２）下部電極のパネル板の作製
支持体として、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、４型の大きさ（縦８７．３ｍｍ、横６４．０ｍｍの長方形）に切り取り、下部電極のパネル板を作製した。

（３）スペーサの作製
上記下部電極のパネル板の導電性膜を有する面に、スペーサ用塗布液として電離放射線硬化性樹脂（Ｄｏｔ Ｃｕｒｅ ＴＲ５９０３：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサを１ｍｍの間隔で配列させた。

（４）タッチパネルの作製
上記上部電極のパネル板と下部電極のパネル板とを、各パネル板の導電性膜同士を対向するように配置させ、接着部分が表示面の領域外となるよう、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、各例のタッチパネルを作製した。

３．評価
（１）ニュートンリング防止シートのニュートンリング防止性
各例で得られたニュートンリング防止シートの凹凸層が形成された面を、表面が平滑なガラス板の上に密着するように載せて指で押しつけ、ニュートンリングが発生するかどうかを目視にて評価した。評価は、ニュートンリングがまったく発生しなかったものを「◎」、ニュートンリングがごくわずかに発生したが視認性に何ら影響を及ぼすものでなかったものを「○」、ニュートンリングがわずかに発生したが視認性を低下させるには至らなかったものを「△」、ニュートンリングが発生し視認性が低下したものを「×」とした。評価結果を表２に示す。

（２）タッチパネルのギラつき防止性
各例のタッチパネルについて、ＣＲＴディスプレイの表示画面をグリーン１００％に画像表示させ、タッチパネルの下部電極側を表示画面に密着させて、目視にて評価した。評価は、ギラつきがないものを「◎」、ギラつきがほとんどないものを「○」、ギラつきが若干あるものを「△」、ギラつきがはっきりと確認できるものを「×」、ギラつきが著しいものを「××」とした。評価結果を表２に示す。

（３）タッチパネルの耐久性
各例のタッチパネルについて、２．５Ｎ／ｍｍ^２の圧力でスライタスペンにより押圧を１０万回繰り返した。その後、当該タッチパネルを目視にて確認し、ニュートンリングの発生の有無を確認した。評価は、ニュートンリングがまったく発生しなかったものを「◎」、ニュートンリングがごくわずかに発生したが視認性に何ら影響を及ぼすものでなかったものを「○」、ニュートンリングがわずかに発生したが視認性を低下させるには至らなかったものを「△」、ニュートンリングが発生し視認性が低下したものを「×」、ニュートンリングが発生し、特に視認性が低下したものを「××」とした。評価結果を表２に示す。

表２の結果からも明らかなように、実施例１〜１０のニュートンリング防止シートは、格子状に隙間なく配列した複数の構造物からなる凹凸層を有してなり、構造物は実質的に高分子樹脂により構成されてなり、構造物はピークを備えており、任意の前記構造物のピークと当該任意の構造物のｘ軸上及びｙ軸上に存在する他の構造物のピークとを結んだ直線上の前記凹凸層の垂直断面の高さが変動し、その高さの変動に周期性があることから、ニュートンリング防止性に優れ、これを用いた実施例１〜１０のタッチパネルは、ＣＲＴカラーディスプレイに用いてもスパークルが発生せず、カラー画面がギラついて見えてしまうようなことがなく、ディスプレイの視認性を低下させないタッチパネルとすることができた。また、耐久性に優れるものとなった。

特に、実施例１〜４及び７〜９のニュートンリング防止シートは、前記垂直断面の高さの変動周期が２５〜１０００μｍの範囲内にあることから、実施例７のニュートンリング防止シートのギラつき防止性を除き、ニュートンリング防止性およびギラつき防止性のバランスに特に優れたものとなった。この中でも、実施例１〜２及び７〜８のニュートンリング防止シートは、前記変動周期が２００〜５００μｍの範囲内にあることから、実施例７のニュートンリング防止シートのギラつき防止性を除き、ニュートンリング防止性およびギラつき防止性の両方が際立って優れたものとなった。

また、実施例１０のニュートンリング防止シートは、ｘ軸上に関する断面高さの変動周期が２００〜５００μｍの範囲内にあることから、ギラつき防止性に特に優れたものとなった。ただし、ｙ軸上に関する断面高さの変動周期が１０００μｍを超えていたため、ニュートンリング防止性に関しては実施例６と同程度のものとなった。つまり、実施例１のニュートンリング防止シートに比べると、ニュートンリング防止性及びギラつき防止性のバランスに劣るものであった。

実施例１０と実施例６のニュートンリング防止シートを対比すると、両者ともｙ軸上に関する断面高さの変動周期が同じであったが、実施例１０の方がｘ軸上に関する断面高さの変動周期が短いものであった。よって、実施例１０の方がｘ軸上に存在するピーク数が多く、対向部材への支点が多いものであった。したがって、実施例６および１０は、共に耐久性の評価に優れるものであったが、実施例６に比べて実施例１０の方が特に耐久性に優れるものであった。

また、実施例１〜６及び８〜１０のニュートンリング防止シートは、構造物の基底面と構造物の稜線の任意の点に接する面とが交差する位置での交差角の絶対値が４度以内であったことから、当該ニュートンリング防止シートを用いた実施例１〜６及び８〜９のタッチパネルは耐久性に特に優れたものとなった。

一方、比較例１のニュートンリング防止シートは、ニュートンリング防止層中に高分子樹脂だけでなく微粒子を含有し、微粒子によりニュートンリング防止層表面の凹凸を形成したものであるため、ニュートンリング防止性は発揮するものの、当該ニュートンリング防止シートをタッチパネル部材として使用した際に、ニュートンリング防止層中に存在する微粒子が輝点となってスパークルが発生し、ギラつき防止性に非常に乏しいものとなった。

また、比較例２〜４のニュートンリング防止シートは、凹凸層を構成する構造物の垂直断面が四角形または三角形である、ピーク稜線の流れ方向に沿ってピーク高さが変動しない四角柱形状または三角柱形状よりなるものであった。また、当該構造物が隙間なく形成されているのではなく、構造物が所定の間隔で形成されていたため、当該ニュートンリング防止シートを用いた比較例２〜４のタッチパネルは、繰り返しの使用によってニュートンリングが発生してしまい、耐久性に乏しいものであった。

Claims (8)

1. 凹凸層を有するニュートンリング防止シートであって、
   前記凹凸層は、実質的に高分子樹脂で構成され、ピークを備えた構造物を隙間なく格子状に複数配列して構成されており、
   前記シートを平面視した場合に、各構造物の一方の配列方向に延びる軸をｘ軸とし、このｘ軸に直交する方向に延びる軸をｙ軸とするとともに、前記凹凸層を構成するすべての構造物の中の、何れか任意の構造物を基準構造物とし、この基準構造物を起点として前記ｘ軸及び前記ｙ軸の両軸上に隣接する構造物を他の構造物としたとき、
   前記凹凸層は、垂直断面の高さが、前記基準構造物のピークと前記他の構造物のピークとを結ぶ直線方向に沿って周期的に変動するように構成されていることを特徴とするニュートンリング防止シート。
2. 請求項１に記載のニュートンリング防止シートであって、前記構造物のそれぞれは、前記ピークを１つ備えていることを特徴とするニュートンリング防止シート。
3. 請求項１又は２に記載のニュートンリング防止シートであって、前記高さの変動周期が、２５μｍ〜１０００μｍであることを特徴とするニュートンリング防止シート。
4. 請求項１〜３の何れか一項に記載のニュートンリング防止シートであって、前記構造物の基底面と前記構造物の稜線の任意の点に接する面とが交差する位置での交差角の絶対値が、４度以内であることを特徴とするニュートンリング防止シート。
5. 請求項１〜４の何れか一項に記載のニュートンリング防止シートであって、前記構造物は、微粒子を含まず高分子樹脂のみで構成されていることを特徴とするニュートンリング防止シート。
6. 請求項１〜５の何れか一項に記載のニュートンリング防止シートであって、前記凹凸層が形成された面とは反対面にハードコート層を備えたことを特徴とするニュートンリング防止シート。
7. 請求項６に記載のニュートンリング防止シートを製造する方法において、前記凹凸層及びハードコート層の両層を構成する樹脂として電離放射線硬化型樹脂を用い、一方の層を半硬化させた状態で他方の層を形成し、両者を一括して全硬化させることを特徴とするニュートンリング防止シートの製造方法。
8. 導電性膜を有する一対のパネル板の前記導電性膜同士が対向するようにスペーサを介して配置してなる抵抗膜方式のタッチパネルであって、
   前記導電性膜の何れか一方または両方が、請求項１〜６の何れか一項に記載のニュートンリング防止シートの凹凸層が形成された面上に形成されてなることを特徴とするタッチパネル。

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